RESPIRATORY MASK THAT INCLUDES AN ADJUSTMENT UNIT.
Номер патента: ES2398293B2
Опубликовано: 15-10-2013
Автор(ы): Eric Chang
Принадлежит: Hsiner Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 15-10-2013
Автор(ы): Eric Chang
Принадлежит: Hsiner Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Respiratory mask
Номер патента: US20200086071A1. Автор: Chun-Hung Chen,Yu-Chen Liu,Sheng-Wei Lin,Chih-Tsan CHIEN,Shu-Chi Lin,Chia-Wei Huang,Pi-Kai Lee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-03-19.