大面积基板上沉积的装置和方法
Номер патента: CN101642001A
Опубликовано: 03-02-2010
Автор(ы): 崔寿永, 桑杰伊·雅达夫, 王伟杰, 王群华, 约翰·M·怀特
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 03-02-2010
Автор(ы): 崔寿永, 桑杰伊·雅达夫, 王伟杰, 王群华, 约翰·M·怀特
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Compositions and methods using same for deposition of silicon-containing film
Номер патента: EP3802913A1. Автор: Madhukar B. Rao,Robert G. Ridgeway,Raymond N. Vrtis. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2021-04-14.