Electrostatic chuck with concentric cooling base .

Electrostatic chuck with concentric cooling base

Номер патента: US9659803B2
Опубликовано: 23-05-2017
Автор(ы): Dmitry Lubomirsky, Kyle TANTIWONG, Samer Banna
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Electrostatic chuck

Номер патента: TWI646628B. Автор: 岐部太一. Владелец: 日商日本特殊陶業股份有限公司. Дата публикации: 2019-01-01.

Method of diagnosing electrostatic chuck, vacuum treatment device and storage medium

Номер патента: TW200836286A. Автор: Yasuharu Sasaki,Taketoshi Okajo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-09-01.

Electrostatic chuck with LED heating

Номер патента: US09728430B2. Автор: William T. Weaver,Jason M. Schaller,Robert Brent Vopat,Ala Moradian,Julian G. Blake,Paul E. Pergande,Morgan D. Evans,David Blahnik. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2017-08-08.

Electrostatic chuck device

Номер патента: US20160240422A1. Автор: Kentaro Takahashi,Megumi Ootomo. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2016-08-18.

Method of and an apparatus for regulating the temperature of an electrostatic chuck

Номер патента: US20020174667A1. Автор: Jin-Man Kim,Yun-sik Yang,Young-min Min,Sang-jun Chun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2002-11-28.

Electrostatic Chuck

Номер патента: US20240266200A1. Автор: Cheng-Hsiung Tsai,Ananthkrishna Jupudi,Ross Marshall,Sarath Babu,Mukund Sundararajan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Electrostatic chuck

Номер патента: WO2024167642A1. Автор: Cheng-Hsiung Tsai,Ananthkrishna Jupudi,Ross Marshall,Sarath Babu,Mukund Sundararajan. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-15.

Electrostatic chuck assembly, semiconductor manufacturing apparatus having the same, and method of measuring temperature of electrostatic chuck

Номер патента: US09812372B2. Автор: Jeong Hyoun Sung,Sang Yoon Soh,Youn Sok CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-11-07.

Electrostatic chuck apparatus

Номер патента: US09837296B2. Автор: Yoshiaki Moriya,Shinichi Maeta,Kei Furuuchi. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2017-12-05.

De-clamping wafers from an electrostatic chuck

Номер патента: US20100142113A1. Автор: William D. Lee,Ashwin M. Purohit,Marvin R. LaFontaine,Richard J. Rzeszut. Владелец: Axcelis Technologies Inc. Дата публикации: 2010-06-10.

Electrostatic chuck and chuck base having cooling path for cooling wafer

Номер патента: EP1700334A1. Автор: Kyu Ha Lee,Jin Tai KIM,Hee Yong PARK,Hwi Gon Jang,Kwan Tae Park,Sang Young Oh. Владелец: Adaptive Plasma Technology Corp. Дата публикации: 2006-09-13.

Electrostatic chuck device

Номер патента: US20210305918A1. Автор: Yoshiaki Moriya. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-09-30.

Electrostatic chuck with a charge dissipation strucutre

Номер патента: WO2023164128A1. Автор: Carlo Waldfried,Yan Liu,Jakub Rybczynski,Steven Donnell,Chandra Venkatraman,Caleb MINSKY. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2023-08-31.

Electrostatic chuck with led heating

Номер патента: WO2017003868A1. Автор: William T. Weaver,Jason M. Schaller,Robert Brent Vopat,Ala Moradian,Julian G. Blake,Paul E. Pergande,Morgan D. Evans,David Blahnik. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2017-01-05.

Substrate fixing device, electrostatic chuck and method of manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: US12125733B2. Автор: Aya Uchiyama. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Electrostatic chuck with internal flow adjustments for improved temperature distribution

Номер патента: US09520315B2. Автор: Vijay D. Parkhe,Masanori Ono,Senh Thach,Konstantin Makhratchev,Matthew J. Busche,Wendell Boyd, JR.. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-12-13.

Methods and apparatus for processing an electrostatic chuck

Номер патента: EP4395957A1. Автор: Yan Liu,Steven Donnell,Chiranjeevi Pydi,Nathan RICHARD,Sara MERCHEL,Caleb MINSKY,Cerel MUNOZ. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-07-10.

Electrostatic chuck assemblies capable of bidirectional flow of coolant and semiconductor fabricating apparatus having the same

Номер патента: US09912258B2. Автор: Sangkyu Park,Kye Hyun Baek,Haejoong Park,Hongmyoung KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-03-06.

Methods and apparatus for processing an electrostatic chuck

Номер патента: US20240286398A1. Автор: Yan Liu,Steven Donnell,Chiranjeevi Pydi,Nathan RICHARD,Sara MERCHEL,Caleb MINSKY,Cerel MUNOZ. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

High temperature micro-zone electrostatic chuck

Номер патента: US11784080B2. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-10.

Electrostatic chuck with halogen modulated silicone dike

Номер патента: WO2024129283A1. Автор: LEI Liu,LIN Xu,John Daugherty,Satish Srinivasan,Robin Koshy,Jeremiah Michael DEDERICK. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-06-20.

Electrostatic chuck and temperature-control method for the same

Номер патента: US09870934B2. Автор: YI Chang. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2018-01-16.

Reaction apparatus for processing wafer, electrostatic chuck and wafer temperature control method

Номер патента: US20130126509A1. Автор: QIYANG He,YIYING Zhang. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Beijing Corp. Дата публикации: 2013-05-23.

Electrostatic chuck with radiative heating

Номер патента: US20140061180A1. Автор: James Carroll,Klaus Petry. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2014-03-06.

Electrostatic chuck and semiconductor equipment

Номер патента: US20200312692A1. Автор: Mengxin Zhao,Jinrong ZHAO,Quanyu SHI,Shuaitao SHI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Method for diagnosing electrostatic chuck, vacuum processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US20080102209A1. Автор: Yasuharu Sasaki,Taketoshi Okajo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-05-01.

Electrostatic chuck assembly

Номер патента: US20240145220A1. Автор: Rajinder Dhindsa,Jaeyong Cho,Vladimir KNYAZIK,Daniel Sang BYUN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Electrostatic chuck assembly

Номер патента: WO2024091261A1. Автор: Rajinder Dhindsa,Jaeyong Cho,Vladimir KNYAZIK,Daniel Sang BYUN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-02.

Electrostatic chuck with variable pixelated heating

Номер патента: WO2015034728A1. Автор: Vijay D. Parkhe,Jr. Wendell Boyd. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2015-03-12.

Replaceable electrostatic chuck outer ring for edge arcing mitigation

Номер патента: US20230118651A1. Автор: Kartik Ramaswamy,Steven E. Babayan,Timothy Joseph Franklin,Jaeyong Cho,Anwar Husain,Xue CHANG,David Coumou,Alexander SULYMAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-04-20.

Rotatable heated electrostatic chuck

Номер патента: US09853579B2. Автор: Ashish Goel,Vijay D. Parkhe,Xiaoxiong Yuan,Anantha K. Subramani,Bharath Swaminathan,Wei W. Wang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

Electrostatic chuck with a charge dissipation structure

Номер патента: US20230274967A1. Автор: Carlo Waldfried,Yan Liu,Jakub Rybczynski,Steven Donnell,Chandra Venkatraman,Caleb MINSKY. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2023-08-31.

Electrostatic chuck assemblies capable of bidirectional flow of coolant and semiconductor fabricating apparatus having the same

Номер патента: US20160071755A1. Автор: Sangkyu Park,Kye Hyun Baek,Haejoong Park,Hongmyoung KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-03-10.

Electrostatic chuck and substrate fixing device

Номер патента: US20180096870A1. Автор: Tatsuro Yoshida,Yoji Asahi. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-05.

Electrostatic chuck design for cooling-gas light-up prevention

Номер патента: US20170110356A1. Автор: Alexei Marakhtanov,Alexander Matyushkin,John Patrick Holland,Felix Kozakevich,Keith Gaff. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-04-20.

Electrostatic chuck

Номер патента: US09960067B2. Автор: Yuichi Yoshii,Kazuki Anada. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2018-05-01.

Electrostatic chuck and wafer etching device including the same

Номер патента: US11728198B2. Автор: Masashi Kikuchi,Michio Ishikawa,SIQING Lu,Myoung-Soo Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-08-15.

Multilayered electrostatic chuck and method of manufacture thereof

Номер патента: US5880922A. Автор: Anwar Husain. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 1999-03-09.

Multilayered electrostatic chuck and method of manufacture thereof

Номер патента: US5671116A. Автор: Anwar Husain. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 1997-09-23.

Multilayered electrostatic chuck and method of manufacture thereof

Номер патента: WO1996028842A1. Автор: Anwar Husain. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1996-09-19.

Cold edge low temperature electrostatic chuck

Номер патента: US20230395359A1. Автор: Dan Marohl,Ambarish CHHATRE,Patrick Chung,Craig A. Rosslee,David A. Setton,Mohammad Sohail SHAIK. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Cold edge low temperature electrostatic chuck

Номер патента: EP4233096A1. Автор: Dan Marohl,Ambarish CHHATRE,Patrick Chung,Craig A. Rosslee,David A. Setton,Mohammad Sohail SHAIK. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-08-30.

Rotatable heated electrostatic chuck

Номер патента: WO2015094750A1. Автор: Ashish Goel,Vijay D. Parkhe,Xiaoxiong Yuan,Anantha K. Subramani,Bharath Swaminathan,Wei W. Wang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2015-06-25.

Rotatable heated electrostatic chuck

Номер патента: EP3084819A1. Автор: Ashish Goel,Vijay D. Parkhe,Xiaoxiong Yuan,Anantha K. Subramani,Bharath Swaminathan,Wei W. Wang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-10-26.

Electrostatic chuck and semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20230260817A1. Автор: Jian Liu. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Electrostatic chuck assembly

Номер патента: US20240105488A1. Автор: Mitsuru Kojima,Hiroshi Takebayashi,Jyunya Waki. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Electrostatic chuck and substrate fixing device

Номер патента: US10886154B2. Автор: Tatsuro Yoshida,Yoji Asahi. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-05.

Electrostatic chuck and substrate fixing device

Номер патента: US10593573B2. Автор: Tatsuro Yoshida,Yoji Asahi. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-17.

Electrostatic chuck and substrate fixing device

Номер патента: US20180096869A1. Автор: Tatsuro Yoshida,Yoji Asahi. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-05.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20200203207A1. Автор: Shuichiro Saigan,Jun SHIRAISHI,Tetsuro ITOYAMA,Masafumi IKEGUCHI. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2020-06-25.

Electrostatic chuck with porous plug

Номер патента: WO2023150006A1. Автор: Arvinder CHADHA,Tomoaki KOHZU. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-08-10.

Electrostatic chuck with porous plug

Номер патента: US20230241731A1. Автор: Arvinder CHADHA,Tomoaki KOHZU. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-08-03.

Electrostatic Chuck Assembly Having A Dielectric Filler

Номер патента: US20180308736A1. Автор: HAITAO Wang,Kartik Ramaswamy,Sergio Fukuda Shoji,Hamid Noorbakhsh,Kenny L. Doan,Chunlei Zhang,Jaeyong Cho,Anwar Husain,Evans Yip Lee. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-10-25.

Aluminum nitride electrostatic chuck used in high temperature and high plasma power density semiconductor manufacturing process

Номер патента: US09972520B2. Автор: Yi-Hsiuan Yu,Yang-Kuao Kuo,Jian-Long Ruan. Владелец: National Chung Shan Institute of Science and Technology NCSIST. Дата публикации: 2018-05-15.

Electrostatic chuck to limit particle deposits thereon

Номер патента: WO2007136809A2. Автор: Scott Pietzsch. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2007-11-29.

Control systems employing deflection sensors to control clamping forces applied by electrostatic chucks, and related methods

Номер патента: US09875923B2. Автор: Vijay D. Parkhe,Masanori Ono,Senh Thach,Matthew James Busche,Konstantin Makhratchev,Wendell Boyd, JR.. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-01-23.

Control systems employing deflection sensors to control clamping forces applied by electrostatic chucks, and related methods

Номер патента: US09558981B2. Автор: Vijay D. Parkhe,Masanori Ono,Senh Thach,Konstantin Makhratchev,Wendell Boyd, JR.,Matthew Busche. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Method and system for balancing the electrostatic chucking force on a substrate

Номер патента: US20180330977A1. Автор: LEI Jing,Michael W. Johnson,Michael D. Armacost,Chong JIANG,Adolph Miller Allen,Pallavi ZHANG,Mingte Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-11-15.

Electrostatic chuck, substrate support, plasma processing apparatus, and method of manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: US20230064309A1. Автор: Atsushi Kawabata,Masanori Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-03-02.

Electrostatic chuck assembly for cryogenic applications

Номер патента: US12033837B2. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-09.

System and method for residual voltage control of electrostatic chucking assemblies

Номер патента: US20190311933A1. Автор: John M. White,Shreesha Y. RAO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-10-10.

Electrostatic chuck assembly for cryogenic applications

Номер патента: US20240331987A1. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Reduced localized force in electrostatic chucking

Номер патента: US12033881B2. Автор: Sumanth Banda,Vladimir KNYAZIK,Stephen D. Prouty. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-09.

Electrostatic chuck heater and manufacturing method therefor

Номер патента: US12040209B2. Автор: Jin Young Choi,Chul Ho Jung. Владелец: Mico Ceramics Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Bipolar electrostatic chuck to limit DC discharge

Номер патента: US12057339B2. Автор: JIAN Li,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Paul L. Brillhart,Dmitry A. Dzilno,Zheng J. Ye. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-06.

Electrostatic Chuck Assembly for Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20240282614A1. Автор: Maolin Long. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Method of holding wafer, method of removing wafer and electrostatic chucking device

Номер патента: US6084763A. Автор: Shinsuke Hirano,Tomohide Jozaki. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2000-07-04.

Detachable high-temperature electrostatic chuck assembly

Номер патента: US09666467B2. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2017-05-30.

Electrostatic chuck with porous plug

Номер патента: US20240051075A1. Автор: Arvinder CHADHA,Tomoaki KOHZU. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-15.

Bipolar electrostatic chuck for etch chamber

Номер патента: WO2024076767A1. Автор: Yuji Aoki,Shinichi Oki,Trishul BYREGOWDA SHIVALINGAIAH. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-11.

Electrostatic chuck and related methods and structures

Номер патента: EP4402716A1. Автор: Jakub Rybczynski,Florentina POPA,Murat YALDIZLI,Carlo WALFRIED. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-07-24.

Electrostatic chuck assembly for plasma processing apparatus

Номер патента: US12119254B2. Автор: Maolin Long,Weimin Zeng. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

Thin substrate electrostatic chuck system and method

Номер патента: US09601363B2. Автор: Peter Zupan,Ewald Wiltsche. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2017-03-21.

Spiraling polyphase electrodes for electrostatic chuck

Номер патента: WO2022132570A1. Автор: Yan Liu,Jakub Rybczynski,Chun Wang CHAN. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2022-06-23.

Electrostatic chuck with porous plug

Номер патента: US11794296B2. Автор: Arvinder CHADHA,Tomoaki KOHZU. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-24.

Spiraling polyphase electrodes for electrostatic chuck

Номер патента: US20220189811A1. Автор: Yan Liu,Jakub Rybczynski,Chun Wang CHAN. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2022-06-16.

Spiraling polyphase electrodes for electrostatic chuck

Номер патента: EP4264664A1. Автор: Yan Liu,Jakub Rybczynski,Chun Wang CHAN. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2023-10-25.

Electrostatic chuck and method for manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: US20130321974A1. Автор: Akihiro Kuribayashi. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2013-12-05.

Method of operating electrostatic chuck of plasma processing apparatus

Номер патента: US20180350568A1. Автор: Shin Yamaguchi,Akiyoshi MITSUMORI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-12-06.

Heated electrostatic chuck and semiconductor wafer heater and methods for manufacturing same

Номер патента: US09543183B2. Автор: John R. Miller,Mahmood Naim,Jae Yong Cho,Kevin Argabright,James E. LaRoche, III,David R. Hammerich. Владелец: FM Industries Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Apparatus and method for inspecting electrostatic chuck for substrate processing

Номер патента: US20230213483A1. Автор: Mi Young JO,Choong Moo SHIM,Young Ran KO. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-06.

High temperature bipolar electrostatic chuck

Номер патента: US11901209B2. Автор: JIAN Li,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Dmitry A. Dzilno,Zheng J. Ye. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-13.

Structure for automatic in-situ replacement of a part of an electrostatic chuck

Номер патента: US20210384060A1. Автор: Atsushi Kawabata,Daisuke Hayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-12-09.

Power supply signal conditioning for an electrostatic chuck

Номер патента: US11776835B2. Автор: Deenesh Padhi,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Xinhai Han,Edward P. Hammond,Zheng John Ye,Rana HOWLADER,Dmitry A. Dzilno,Daemian Raj BENJAMIN RAJ,Shailendra Srivastava,Abhigyan KESHRI,Sanjay G. KAMATH,Kristopher R. Enslow. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Electrostatic chuck assembly for cryogenic applications

Номер патента: US11776794B2. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Electrostatic chuck assembly for cryogenic applications

Номер патента: WO2022177632A1. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-08-25.

Electrostatic chuck assembly for cryogenic applications

Номер патента: US20230402267A1. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-14.

Electrostatic chuck and substrate fixing device

Номер патента: US20180315634A1. Автор: Shigeaki Suganuma,Tomotake Minemura,Masaya Tsuno. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-01.

Electrostatic chuck

Номер патента: US12106994B2. Автор: Tatsuya Kuno. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

System and method for residual voltage control of electrostatic chucking assemblies

Номер патента: WO2019194884A1. Автор: John M. White,Shreesha Y. RAO. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2019-10-10.

Wet cleaning of electrostatic chuck

Номер патента: US11776822B2. Автор: Vijay D. Parkhe,Tuochuan Huang,David W. Groechel,Gang Peng,David Benjaminson,Shinnosuke KAWAGUCHI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Reduced localized force in electrostatic chucking

Номер патента: WO2022197518A1. Автор: Sumanth Banda,Vladimir KNYAZIK,Stephen D. Prouty. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-09-22.

Electrostatic chuck assembly for plasma processing apparatus

Номер патента: US12002701B2. Автор: Maolin Long. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

Electrostatic chuck heater and manufacturing method therefor

Номер патента: US20210242062A1. Автор: Jin Young Choi,Chul Ho Jung. Владелец: Mico Ceramics Ltd. Дата публикации: 2021-08-05.

Electrostatic chuck having radial temperature control capability

Номер патента: MY144813A. Автор: Robert J Steger. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2011-11-15.

Wafer placement error detection based on measuring a current through an electrostatic chuck and solution for intervention

Номер патента: US20200388518A1. Автор: Ganesh Balasubramanian,Hemant Mungekar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-12-10.

Vacuum seal for electrostatic chuck

Номер патента: US12125734B2. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-22.

Forming mesas on an electrostatic chuck

Номер патента: US12074052B2. Автор: Stanley Wu,Matthew Boyd,Wendell Glenn Boyd, JR.. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-27.

Electrostatic chuck with metal bond

Номер патента: EP4292127A1. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-20.

Electrostatic chuck with metal bond

Номер патента: US11881423B2. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-23.

Electrostatic chuck and method of manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: US11869797B2. Автор: Naomi Okamoto,Ryuji Takahashi. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-09.

Electrostatic chuck

Номер патента: WO1995024070A1. Автор: Arthur Sherman. Владелец: Arthur Sherman. Дата публикации: 1995-09-08.

Electrostatic chuck and method of manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: US20220367227A1. Автор: Naomi Okamoto,Ryuji Takahashi. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-17.

Electrostatic chuck (esc) pedestal voltage isolation

Номер патента: US20240266202A1. Автор: Vincent Burkhart,Miguel Benjamin Vasquez. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-08.

Electrostatic chuck assembly for plasma processing apparatus

Номер патента: US20240096680A1. Автор: Maolin Long,Weimin Zeng. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Electrostatic chuck having a gas flow feature, and related methods

Номер патента: US11837492B2. Автор: Yan Liu,Jakub Rybczynski,Steven Donnell,Chun Wang CHAN,Caleb MINSKY. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

Electrostatic chuck prepared by additive manufacturing, and related methods and structures

Номер патента: WO2022146845A1. Автор: Carlo Waldfried,Montray Leavy,Yan Liu,Jakub Rybczynski,Chandra Venkatraman,Subhash Guddati,Thines Kumar PERUMAL,Scott Sirignano. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2022-07-07.

Bipolar electrostatic chuck for etch chamber

Номер патента: US20240120229A1. Автор: Yuji Aoki,Shinichi Oki,Trishul BYREGOWDA SHIVALINGAIAH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-11.

Electrostatic chuck apparatus

Номер патента: US20230339059A1. Автор: Yoshiaki Moriya. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-10-26.

Thin substrate electrostatic chuck system and method

Номер патента: US20130321973A1. Автор: Peter Zupan,Ewald Wiltsche. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2013-12-05.

Thin substrate electrostatic chuck system and method

Номер патента: US20150318199A1. Автор: Peter Zupan,Ewald Wiltsche. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2015-11-05.

Electrostatic chuck prepared by additive manufacturing, and related methods and structures

Номер патента: EP4272246A1. Автор: Carlo Waldfried,Montray Leavy,Yan Liu,Jakub Rybczynski,Chandra Venkatraman,Subhash Guddati,Thines Kumar PERUMAL,Scott Sirignano. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2023-11-08.

Electrostatic chuck with improved temperature control

Номер патента: US20220005723A1. Автор: Sean M. Seutter,Wendell Glenn Boyd, JR.,Hanish Kumar PANAVALAPPIL KUMARANKUTTY,Sudhir R. Gondhalekar,Shekhar ATHANI,Anil Kumar Kalal,Badri Ramamurthi,II Jay Dee Pinson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-01-06.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20230019439A1. Автор: Tatsuya Kuno. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2023-01-19.

Electrostatic chuck heater

Номер патента: US11837490B2. Автор: Hiroshi Takebayashi,Takahiro Ando,Kenichiro AIKAWA,Yuji Akatsuka. Владелец: Ngl Insulators Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Electrostatic chuck and semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US11830755B2. Автор: Tatsuya Hayakawa,Akihito Ono,Jumpei UEFUJI,Tomoki UMETSU. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2023-11-28.

Bond protection for an electrostatic chuck in a plasma processing chamber

Номер патента: WO2024039717A1. Автор: Slobodan Mitrovic,Eric SAMULON,Yixuan Yu,Kadthala R. Narendrnath,Neha KONDEKAR,Moreshwar Narayan PURANDARE. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-02-22.

정전 척 (electrostatic chuck, ESC) 페데스탈 전압 분리

Номер патента: KR20240050466A. Автор: 빈센트 부르카르트,미구엘 벤자민 바스케즈. Владелец: 램 리써치 코포레이션. Дата публикации: 2024-04-18.

Electrostatic chuck and substrate fixing device

Номер патента: US11909335B2. Автор: Takashi Onuma,Keiichi Takemoto. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Vacuum seal for electrostatic chuck

Номер патента: US20240055289A1. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-15.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20230317495A1. Автор: Akihito Ono,Jumpei UEFUJI,Tomoki UMETSU,Tetsuro ITOYAMA. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2023-10-05.

정전 척 (electrostatic chuck, ESC) 페데스탈 전압 분리

Номер патента: KR102655866B1. Автор: 빈센트 부르카르트,미구엘 벤자민 바스케즈. Владелец: 램 리써치 코포레이션. Дата публикации: 2024-04-05.

Vacuum seal for electrostatic chuck

Номер патента: WO2024035589A1. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-02-15.

Electrostatic chuck and method for manufacturing same

Номер патента: US11923227B2. Автор: Yoshihiro Okawa,Yasunori Kawanabe. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-03-05.

Encapsulated compression washer for bonding ceramic plate and metal baseplate of electrostatic chucks

Номер патента: WO2023172434A1. Автор: Eric A. Pape. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-09-14.

Forming mesas on an electrostatic chuck

Номер патента: US20230326780A1. Автор: Stanley Wu,Matthew Boyd,Wendell Glenn Boyd, JR.. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-12.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20230317493A1. Автор: Tatsuya Hayakawa,Akihito Ono,Jumpei UEFUJI. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2023-10-05.

Electrostatic chuck (ESC) pedestal voltage isolation

Номер патента: US11990360B2. Автор: Vincent Burkhart,Miguel Benjamin Vasquez. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-05-21.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20230317494A1. Автор: Akihito Ono,Jumpei UEFUJI. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2023-10-05.

Forming mesas on an electrostatic chuck

Номер патента: WO2022186913A4. Автор: Stanley Wu,Matthew Boyd,Jr. Wendell Glenn Boyd. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-12-29.

Forming mesas on an electrostatic chuck

Номер патента: WO2022186913A2. Автор: Stanley Wu,Matthew Boyd,Jr. Wendell Glenn Boyd. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-09-09.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20200035468A1. Автор: Hitoshi Sasaki,Yutaka Momiyama. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2020-01-30.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20210074521A1. Автор: Minoru Suzuki,Hitoshi Sasaki,Yutaka Momiyama,Tsukasa Shigezumi. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2021-03-11.

Electrostatic chuck wafer port and top plate with edge shielding and gas scavenging

Номер патента: WO2004038766A2. Автор: Peter L. Kellerman,Robert J. Mitchell,Kevin T. Ryan. Владелец: AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2004-05-06.

Electrostatic chuck wafer port and top plate with edge shielding and gas scavenging

Номер патента: WO2004038766A3. Автор: Robert J Mitchell,Peter L Kellerman,Kevin T Ryan. Владелец: Axcelis Tech Inc. Дата публикации: 2004-07-22.

Electrostatic chuck wafer port and top plate with edge shielding and gas scavenging

Номер патента: EP1556884A2. Автор: Peter L. Kellerman,Robert J. Mitchell,Kevin T. Ryan. Владелец: Axcelis Technologies Inc. Дата публикации: 2005-07-27.

Method and apparatus for repairing an electrostatic chuck device, and the electrostatic chuck device

Номер патента: US9017786B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Ken Yoshioka,Syuichi Takahashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-04-28.

Substrate fixing device, electrostatic chuck and method of manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: US20220367228A1. Автор: Aya Uchiyama. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-17.

Plasma processing apparatus and electrostatic chuck

Номер патента: US20240047182A1. Автор: Makoto Kato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

De-clamping wafers from an electrostatic chuck

Номер патента: TW201025496A. Автор: Marvin Lafontaine,Ashwin Purohit,William D Lee,Richard Rzeszut. Владелец: Axcelis Tech Inc. Дата публикации: 2010-07-01.

Method and apparatus for conditioning an electrostatic chuck

Номер патента: TW529116B. Автор: Karl Brown. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-04-21.

Electrostatic chucking apparatus and method for manufacturing the same

Номер патента: TW201032313A. Автор: Chang-Kil Nam. Владелец: Jusung Eng Co Ltd. Дата публикации: 2010-09-01.

Substrate holding system including an electrostatic chuck

Номер патента: US6048434A. Автор: Kazue Takahashi,Tsunehiko Tsubone,Naoyuki Tamura,Yoshifumi Ogawa,Hiroyuki Shichida,Youichi Ito. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2000-04-11.

High temperature electrostatic chuck with radial thermal chokes

Номер патента: TWI536492B. Автор: 萱布Ｎ羅伊,文森Ｅ柏克哈特,史考特Ｊ費爾德茲. Владелец: 諾菲勒斯系統公司. Дата публикации: 2016-06-01.

Electrostatic chuck with thermal choke

Номер патента: US9805963B2. Автор: Alex Paterson,Maolin Long,Ying Wu,Quan Chau. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Ceramic electrostatic chuck with V-shaped seal band

Номер патента: JP7225093B2. Автор: ハミドノールバクシュ. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-02-20.

High power electrostatic chuck with features preventing he hole light-up/arcing

Номер патента: US20220223387A1. Автор: Alexander Matyushkin,Darrell EHRLICH,Eric SAMULON,Keith Comendant. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2022-07-14.

Electrostatic chuck with thermal blocker

Номер патента: JP6930826B2. Автор: アレックス・パターソン,マオリン・ロング,イン・ウー,チュエン・チャウ. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2021-09-01.

Electrostatic chuck with features to prevent arc discharge and ignition and improve process uniformity

Номер патента: JP7062383B2. Автор: アレクセイ・マラクタノフ,ハーミート・シン,アレクサンダー・マチュシキン,ジョン・パトリック・ホランド,キース・ギャフ,ジーガン・チェン. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2022-05-06.

Electrostatic chuck having a plurality of heater coils

Номер патента: US20120285619A1. Автор: Theodoros Panagopoulos,John Holland,Alexander Matyushkin,Dennis Koosau. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-11-15.

Electrostatic chuck device

Номер патента: US20140008880A1. Автор: Yukio Miura,Takashi Satou,Shinichi Maeta,Kei Furuuchi. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2014-01-09.

ELECTROSTATIC CHUCK AND TEMPERATURE-CONTROL METHOD FOR THE SAME

Номер патента: US20170032989A1. Автор: Chang Yi. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-02.

Electrostatic chuck system and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus by using the electrostatic chuck system

Номер патента: US09530988B2. Автор: Duckjung Lee,Jungsun PARK,Kiyoung Yun. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Treating an electrostatic chuck pedestal

Номер патента: WO2024137314A1. Автор: Ahmet Kucuk,Karl Frederick Leeser,Joel Hollingsworth,Sergey Georgiyevich BELOSTOTSKIY,Mahmoud VAHIDI. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-06-27.

Electrostatic chuck for wafer metrology and inspection equipment

Номер патента: WO2004082015A8. Автор: Alon Litman,Igor Krivts. Владелец: Igor Krivts. Дата публикации: 2004-10-28.

E-chuck with automated clamped force adjustment and calibration

Номер патента: US8685759B2. Автор: Sunny Wu,Jo Fei Wang,Jong-I Mou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-04-01.

High temperature electrostatic chuck

Номер патента: US20020075625A1. Автор: Alan Schoepp,Mark Kennard,Greg Sexton. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-06-20.

Common Electrostatic Chuck For Differing Substrates

Номер патента: US20210074523A1. Автор: Ananthkrishna Jupudi,Sarath Babu,Vinodh RAMACHANDRAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-03-11.

Electrostatic chuck and electrostatic adsorption apparatus

Номер патента: US10601346B2. Автор: Yun Soo KIM,Byung-Moo KIM,Min Ho BAE,Tae-Ho YOUN. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-24.

Electrostatic chuck

Номер патента: US09543187B2. Автор: Richard A. Cooke. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Methods for electrostatic chuck ceramic surfacing

Номер патента: WO2023146808A1. Автор: Thomas Brezoczky,Siamak Salimian,Stanley Wu,Wendell Boyd,Ramesh Gopalan,Robert Toshiharu HIRAHARA,Michael Prestoza DECENA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-08-03.

Electrostatic chuck support mechanism, support stand device and plasma processing equipment

Номер патента: US6977804B2. Автор: Hisashi Yanagida. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2005-12-20.

Electrostatic chuck system and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus by using the electrostatic chuck system

Номер патента: US20160285052A1. Автор: Duckjung Lee,Jungsun PARK,Kiyoung Yun. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-29.

Electrostatic chuck and method for manufacturing the same

Номер патента: US20090243235A1. Автор: Keiichi Nakamura,Yutaka Mori,Kazuhiro Nobori. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2009-10-01.

Electrostatic chuck

Номер патента: US10418266B2. Автор: Masahiko Horiuchi. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2019-09-17.

Electrostatic chuck device

Номер патента: US20230100462A1. Автор: Jun Tochihira,Tomoya Hagihara. Владелец: Tomoegawa Paper Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

E-chuck with automated clamped force adjustment and calibration

Номер патента: US20110042006A1. Автор: Sunny Wu,Jo Fei Wang,Jong-I Mou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2011-02-24.

Electrostatic chuck and electrostatic adsorption apparatus

Номер патента: US20180123486A1. Автор: Yun Soo KIM,Byung-Moo KIM,Min Ho BAE,Tae-Ho YOUN. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-03.

Plasma processing apparatus, electrostatic chuck, and plasma processing method

Номер патента: US20240258078A1. Автор: Takahiko Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Electrostatic chucking mechanism

Номер патента: US5948165A. Автор: Takahiro Tamura. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1999-09-07.

Fabricating an electrostatic chuck having plasma resistant gas conduits

Номер патента: US20020095782A1. Автор: Shamouil Shamouilian,Dennis Grimard,Kadthala Narendrnath. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-07-25.

Erosion resistant electrostatic chuck

Номер патента: US5528451A. Автор: Yuh-Jia Su. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1996-06-18.

Electrostatic chuck with photo-patternable soft protrusion contact surface

Номер патента: EP2915189A1. Автор: Richard A. Cooke,Jakub Rybczynski,I-Kuan Lin. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2015-09-09.

Electrostatic chuck and processing apparatus

Номер патента: US11955360B2. Автор: Yutaka Omoto,Akira Itoh,Hiroho Kitada,Takeshi Takabatake,Tomohiro NAKASUJI,Kentaro SETO,Kazuumi Tanaka. Владелец: Tocalo Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-09.

Electrostatic chuck assembly for plasma processing apparatus

Номер патента: US11837493B2. Автор: Maolin Long,Weimin Zeng. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Conductive seal ring electrostatic chuck

Номер патента: EP2380187A1. Автор: Glyn Reynolds. Владелец: Plasma Therm LLC. Дата публикации: 2011-10-26.

Electrostatic chuck, substrate fixing device and paste

Номер патента: US20240047259A1. Автор: Michio Horiuchi,Ryosuke Hori. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Corrosion resistant electrostatic chuck

Номер патента: US5486975A. Автор: Shamouil Shamouilian,Yoshi Tanase. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1996-01-23.

Automatic electrostatic chuck bias compensation during plasma processing

Номер патента: US11948780B2. Автор: James Rogers,Leonid Dorf,Linying CUI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-02.

Electrostatic chuck, placing table and plasma processing apparatus

Номер патента: US20150311106A1. Автор: Tomoyuki Takahashi,Katsuyuki Koizumi,Dai Kitagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-10-29.

Embossed electrostatic chuck

Номер патента: WO2009064974A3. Автор: Julian G Blake,Lyudmila Stone,D Jeffrey Lischer,David Suuronen,Dale K Stone. Владелец: Dale K Stone. Дата публикации: 2009-08-06.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20180005860A1. Автор: Kazunori Shimizu,Kazuyoshi Miyamoto. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-04.

Electrostatic chuck ground punch

Номер патента: US20100110604A1. Автор: David B. Smith,William D. Lee,Ashwin M. Purohit,Marvin R. LaFontaine. Владелец: Axcelis Technologies Inc. Дата публикации: 2010-05-06.

Electrostatic chuck and production method therefor

Номер патента: US20040196614A1. Автор: Shinji Saito,Shinya Miyaji,Xinwei Chen. Владелец: NHK Spring Co Ltd. Дата публикации: 2004-10-07.

Temperature control system for electrostatic chucks and electrostatic chuck for same

Номер патента: US09679792B2. Автор: Boris Atlas. Владелец: Noah Precision LLC. Дата публикации: 2017-06-13.

Wireless in-situ real-time measurement of electrostatic chucking force in semiconductor wafer processing

Номер патента: US12033875B2. Автор: Ramesh Gopalan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-09.

Wireless in-situ real-time measurement of electrostatic chucking force in semiconductor wafer processing

Номер патента: US20200194290A1. Автор: Wendell Glenn Boyd, JR.,Govinda Raj,Robert Hirahara,Ramesh Gopalan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-06-18.

Low frequency rf generator and associated electrostatic chuck

Номер патента: US20230274914A1. Автор: Bing Ji,Alexander Matyushkin,John Patrick Holland,Felix Leib Kozakevich,Ranadeep BHOWMICK,Alexei M. Marakhtanov. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-08-31.

ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE

Номер патента: US20210074570A1. Автор: Watanabe Takeshi,Takahashi Kentaro,KUGIMOTO Hironori,OZAKI Masaki. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-11.

SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS, CONTROL METHOD OF ELECTROSTATIC CHUCK, AND ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE

Номер патента: US20160079106A1. Автор: TAKEUCHI Masakatsu. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2016-03-17.

ELECTROSTATIC CHUCK ASSEMBLY, ELECTROSTATIC CHUCK, AND FOCUS RING

Номер патента: US20200251371A1. Автор: KUNO Tatsuya,AIKAWA Kenichiro,Morioka Ikuhisa. Владелец: NGK Insulators, Ltd.. Дата публикации: 2020-08-06.

COMPOSITE SINTERED BODY, ELECTROSTATIC CHUCK MEMBER, AND ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE

Номер патента: US20190385884A1. Автор: HIDAKA Nobuhiro,KUGIMOTO Hironori. Владелец: . Дата публикации: 2019-12-19.

Composite sintered body, electrostatic chuck member, and electrostatic chuck device

Номер патента: KR102543049B1. Автор: 노부히로 히다카,히로노리 구기모토. Владелец: 스미토모 오사카 세멘토 가부시키가이샤. Дата публикации: 2023-06-14.

Composite sintered body, electrostatic chuck member, electrostatic chuck device, and method for manufacturing composite sintered body

Номер патента: WO2020235651A1. Автор: 宣浩日▲高▼,純有川,恵大友. Владелец: 住友大阪セメント株式会社. Дата публикации: 2020-11-26.

Composite sinter, electrostatic chuck component and electrostatic chuck apparatus

Номер патента: CN110248910A. Автор: 钉本弘训,日高宣浩. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2019-09-17.

Composite sintered body, electrostatic chuck member, and electrostatic chuck device

Номер патента: US11842914B2. Автор: Nobuhiro Hidaka,Hironori Kugimoto. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2023-12-12.

Composite sintered body, electrostatic chuck member, electrostatic chuck device, and method for manufacturing composite sintered body

Номер патента: US11990362B2. Автор: Nobuhiro Hidaka,Jun Arikawa,Megumi Ootomo. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2024-05-21.

ELECTROSTATIC CHUCKS WITH COOLANT GAS ZONES AND CORRESPONDING GROOVE AND MONOPOLAR ELECTROSTATIC CLAMPING ELECTRODE PATTERNS

Номер патента: US20210005494A1. Автор: Holland John Patrick,Matyushkin Alexander,COMENDANT Keith Laurence. Владелец: . Дата публикации: 2021-01-07.

Electrostatic chuck with electrostatic fluid seal for containing backside gas

Номер патента: US20170047867A1. Автор: John M. White,Zuoqian WANG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-02-16.

Multi-zone electrostatic chuck

Номер патента: WO2021126857A1. Автор: Deenesh Padhi,Sanjay Kamath,Madhu Santosh Kumar Mutyala. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-06-24.

Electrostatic chuck

Номер патента: US11842915B2. Автор: Naoki Furukawa. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2023-12-12.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20240063046A1. Автор: Naoki Furukawa. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-02-22.

ELECTROSTATIC CHUCK HAVING A HEATING AND CHUCKING CAPABILITIES

Номер патента: US20220093439A1. Автор: YEDLA Srinivasa Rao,SAVANDAIAH Kirankumar Neelasandra,BREZOCZKY Thomas,PRASAD Bhaskar,SATYAVOLU Nitin Bharadwaj,SHIRAHATTI Lakshmikanth Krishnamurthy,RAJENDRAN Hari Prasath. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-24.

Soft chucking and dechucking for electrostatic chucking substrate supports

Номер патента: US20190080949A1. Автор: Wendell Glenn Boyd, JR.,Jim Zhongyi He. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-03-14.

Method and apparatus for direct measurement of chucking force on an electrostatic chuck

Номер патента: US11054317B2. Автор: Charles G. Potter,Wendell Glenn Boyd, JR.,Govinda Raj,Robert Hirahara. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-07-06.

Electrostatic chuck having a heating and chucking capabilities

Номер патента: US11610799B2. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Bhaskar PRASAD,Srinivasa Rao Yedla,Nitin Bharadwaj SATYAVOLU,Hari Prasath RAJENDRAN,Lakshmikanth Krishnamurthy SHIRAHATTI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-03-21.

저 주파수 RF 생성기 및 연관된 정전 척 (electrostatic chuck)

Номер патента: KR20230114184A. Автор: 알렉산더 마티슈킨,빙 지,라나딥 보우믹,펠릭스 레이브 코자케비치,존 패트릭 홀랜드,알렉세이 엠. 마라크타노브. Владелец: 램 리써치 코포레이션. Дата публикации: 2023-08-01.

Matched tcr joule heater designs for electrostatic chucks

Номер патента: US20170148657A1. Автор: Eric A. Pape. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-05-25.

Electrostatic chuck having a gas flow feature, and related methods

Номер патента: EP4150665A4. Автор: Yan Liu,Jakub Rybczynski,Steven Donnell,Chun Wang CHAN,Caleb MINSKY. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-06-26.

Electrostatic chuck having thermally isolated zones with minimal crosstalk

Номер патента: US09991148B2. Автор: Vijay D. Parkhe,Douglas A. Buchberger, Jr.,Hamid Noorbakhsh,Jason Della ROSA,Konstantin Makhratchev,Brad L. MAYS. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-06-05.

Electrostatic chuck having thermally isolated zones with minimal crosstalk

Номер патента: US09666466B2. Автор: Vijay D. Parkhe,Douglas A. Buchberger, Jr.,Hamid Noorbakhsh,Jason Della ROSA,Konstantin Makhratchev,Brad L. MAYS. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-30.

Constant mass flow multi-level coolant path electrostatic chuck

Номер патента: US09847240B2. Автор: William Davis Lee. Владелец: Axcelis Technologies Inc. Дата публикации: 2017-12-19.

ELECTROSTATIC CHUCK WITH FEATURES FOR PREVENTING ELECTRICAL ARCING AND LIGHT-UP AND IMPROVING PROCESS UNIFORMITY

Номер патента: US20180012785A1. Автор: Chen Zhigang,Singh Harmeet,Gaff Keith,Holland John Patrick,Matyushkin Alexander,Marakhtanov Alexi,Kozakevich Fleix. Владелец: . Дата публикации: 2018-01-11.

Alignment of an electrostatic chuck with a substrate support

Номер патента: US20220076978A1. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Bhaskar PRASAD,Srinivasa Rao Yedla,Nitin Bharadwaj SATYAVOLU. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-03-10.

ELECTROSTATIC CHUCK WITH VARIABLE PIXILATED HEATING

Номер патента: US20150070814A1. Автор: Boyd,JR. Wendell,PARKHE Vijay D.. Владелец: . Дата публикации: 2015-03-12.

Electrostatic chuck with thermal choke

Номер патента: US20170098566A1. Автор: Alex Paterson,Maolin Long,Ying Wu,Quan Chau. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-04-06.

Electrostatic chuck with metal shaft

Номер патента: US20220282371A1. Автор: Vijay D. Parkhe,Ashutosh Agarwal. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-09-08.

ELECTROSTATIC CHUCK WITH VARIABLE PIXELATED MAGNETIC FIELD

Номер патента: US20150155193A1. Автор: GUNG TZA-JING,Agarwal Ankur,Schwarz Benjamin,Rauf Shahid,Willwerth Michael D.,Guo Zhiqiang,PARKHE Vijay D.,HSU CHIH-HSUN. Владелец: . Дата публикации: 2015-06-04.

Electrostatic chuck with external flow adjustments for improved temperature distribution

Номер патента: US20150187625A1. Автор: Masanori Ono,Senh Thach,Konstantin Makhratchev,Matthew J. Busche,Wendell Boyd, JR.,Vijay De. Parkhe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-07-02.

PHYSICAL VAPOR DEPOSITION (PVD) ELECTROSTATIC CHUCK WITH IMPROVED THERMAL COUPLING FOR TEMPERATURE SENSITIVE PROCESSES

Номер патента: US20200185247A1. Автор: Tsai Cheng-Hsiung,MATSUSHITA Tomoharu,MARSHALL Ross,CHIA BONNIE T. Владелец: . Дата публикации: 2020-06-11.

ELECTROSTATIC CHUCK WITH MAGNETIC CATHODE LINER FOR CRITICAL DIMENSION (CD) TUNING

Номер патента: US20150221481A1. Автор: Willwerth Michael D.,TODOROW Valentin N.,HSU CHIH-HSUN. Владелец: . Дата публикации: 2015-08-06.

ELECTROSTATIC CHUCK WITH EXTERNAL FLOW ADJUSTMENTS FOR IMPROVED TEMPERATURE DISTRIBUTION

Номер патента: US20170213754A1. Автор: Thach Senh,Boyd,JR. Wendell,PARKHE Vijay D.,Makhratchev Konstantin,Busche Matthew J.,Ono Masanori. Владелец: . Дата публикации: 2017-07-27.

ELECTROSTATIC CHUCK WITH RADIO FREQUENCY ISOLATED HEATERS

Номер патента: US20180213608A1. Автор: LUBOMIRSKY DMITRY,Benjaminson David,Schatz Ken. Владелец: . Дата публикации: 2018-07-26.

MULTI-PLATE ELECTROSTATIC CHUCKS WITH CERAMIC BASEPLATES

Номер патента: US20190267218A1. Автор: Wang Feng,Gaff Keith,Kimball Christopher. Владелец: . Дата публикации: 2019-08-29.

ELECTROSTATIC CHUCK WITH FLEXIBLE WAFER TEMPERATURE CONTROL

Номер патента: US20180286642A1. Автор: Comendant Keith,Holland John Patrick,Matyushkin Alexander,HAO Fangli,Wilcoxson Mark H.,OZEL Taner. Владелец: . Дата публикации: 2018-10-04.

ELECTROSTATIC CHUCK WITH INDEPENDENT ZONE COOLING AND REDUCED CROSSTALK

Номер патента: US20150340255A1. Автор: Makhratchev Konstantin,Parkhe Vijay. Владелец: . Дата публикации: 2015-11-26.

Electrostatic chuck with embossed top plate and cooling channels

Номер патента: US20150348813A1. Автор: Jeonghoon Oh,Chethan Mangalore,Arumuga Balan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2015-12-03.

Electrostatic Chuck With LED Heating

Номер патента: US20160379853A1. Автор: BLAKE Julian G.,Evans Morgan D.,Weaver William T.,Moradian Ala,Schaller Jason M.,Vopat Robert Brent,BLAHNIK David,Pergande Paul E.. Владелец: . Дата публикации: 2016-12-29.

ELECTROSTATIC CHUCK WITH INDEPENDENT ZONE COOLING AND REDUCED CROSSTALK

Номер патента: US20180374724A1. Автор: Makhratchev Konstantin,Parkhe Vijay. Владелец: . Дата публикации: 2018-12-27.

Electrostatic chuck with external flow adjustments for improved temperature distribution

Номер патента: US9622375B2. Автор: Vijay D. Parkhe,Masanori Ono,Senh Thach,Konstantin Makhratchev,Matthew J. Busche,Wendell Boyd, JR.. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-11.

Electrostatic chuck with the thermal isolation area containing minimum crosstalk

Номер патента: CN105122439B. Автор: H·诺巴卡施,V·D·帕科,K·马赫拉切夫,J·德拉罗萨,B·L·梅斯,小道格拉斯·A·布齐伯格. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-07-03.

Electrostatic chuck with metal shaft

Номер патента: TW202249167A. Автор: 維傑Ｄ帕克,亞瑟多瑟雅加爾瓦. Владелец: 美商應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2022-12-16.

Electrostatic chuck with gas flow feature, and related methods

Номер патента: KR20230006574A. Автор: 얀 리우,스티븐 도넬,야쿱 립진스키,케일럽 민스키,춘 왕 찬. Владелец: 엔테그리스, 아이엔씨.. Дата публикации: 2023-01-10.

Ceramic electrostatic chuck with V-shaped seal band

Номер патента: JP2023030013A. Автор: NOORBAKHSH HAMID,ハミドノールバクシュ. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-03-07.

Electrostatic Chuck with Bush Type DC Port and Manufacturing Thereof

Номер патента: KR20220127744A. Автор: 김영호,이승호,이명호,이세진,이준용. Владелец: (주)아이씨디 머트리얼즈. Дата публикации: 2022-09-20.

Electrostatic chuck with heating function and preparation method thereof

Номер патента: CN112259490A. Автор: 张巨先. Владелец: Beijing Juci Technology Co ltd. Дата публикации: 2021-01-22.

Method for inspecting electrostatic chucks with kelvin probe analysis

Номер патента: WO2009110980A2. Автор: Hong Shih,Armen Avoyan,John Daugherty. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2009-09-11.

Long-life extended temperature range embedded diode design for electrostatic chuck with multiplexed heaters array

Номер патента: US11869794B2. Автор: Siyuan Tian. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-01-09.

Long-life extended temperature range embedded diode design for electrostatic chuck with multiplexed heaters array

Номер патента: US20240136214A1. Автор: Siyuan Tian. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-04-25.

METHOD FOR REDUCING TEMPERATURE TRANSITION IN AN ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20180005859A1. Автор: Zhang Tao,WALDMANN Ole,PAPE Eric A.. Владелец: . Дата публикации: 2018-01-04.

ELECTROSTATIC CHUCK DESIGN FOR COOLING-GAS LIGHT-UP PREVENTION

Номер патента: US20190006225A1. Автор: Marakhtanov Alexei,Gaff Keith,Holland John Patrick,Matyushkin Alexander,Kozakevich Felix. Владелец: . Дата публикации: 2019-01-03.

Electrostatic chuck system and semiconductor fabrication device

Номер патента: US20150009602A1. Автор: Masakazu Adachi. Владелец: Nissin Ion Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2015-01-08.

ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

Номер патента: US20210013082A1. Автор: HIDAKA Nobuhiro,KIMURA Naoto. Владелец: Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.. Дата публикации: 2021-01-14.

ELECTROSTATIC CHUCK AND PLASMA PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20200013595A1. Автор: Lee Yongwoo,SHIM SeungBo,KIM Dowon,NOH Youngjin,NA Donghyeon. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-09.

ELECTROSTATIC CHUCK HEATER

Номер патента: US20220037188A1. Автор: TAKEBAYASHI Hiroshi,KUNO Tatsuya,AIKAWA Kenichiro. Владелец: NGK Insulators, Ltd.. Дата публикации: 2022-02-03.

ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20190019712A1. Автор: Takahashi Hiroyuki,Yamada Tomohiro,YOKOO Susumu,Nishida Yoshiteru,Chito Kenta,Iida Hidekazu,Fujiya Ryoko. Владелец: . Дата публикации: 2019-01-17.

ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE

Номер патента: US20190019714A1. Автор: Miura Yukio,Maeta Shinichi,KOSAKAI Mamoru,MAEDA Keisuke,Ishimura Kazunori,ITO Tomomi,Kouno Hitoshi,KINPARA Yuuki. Владелец: . Дата публикации: 2019-01-17.

ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE, AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING DEVICE

Номер патента: US20180025933A1. Автор: Takahashi Kentaro,Kinpara Yuhki,Maeta Shinichi,Ando Kazuto,KOSAKAI Mamoru,Ishimura Kazunori. Владелец: Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.. Дата публикации: 2018-01-25.

Electrostatic Chuck Including Embedded Faraday Cage for RF Delivery and Associated Methods for Operation, Monitoring, and Control

Номер патента: US20170032935A1. Автор: Ricci Anthony J.,Benjamin Neil Martin Paul,Povolny Henry. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-02.

Electrostatic chuck assemblies having recessed support surfaces, semiconductor fabricating apparatuses having the same, and plasma treatment methods using the same

Номер патента: US20160035610A1. Автор: Jang Gyoo Yang,Myoung Soo Park,Hakyoung Kim,Junho Im. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-02-04.

ELECTROSTATIC CHUCK AND REACTION CHAMBER

Номер патента: US20220051923A1. Автор: SHI Quanyu,Huang Qiwei. Владелец: . Дата публикации: 2022-02-17.

ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE

Номер патента: US20190035668A1. Автор: Miura Yukio,ITO Tomomi. Владелец: Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.. Дата публикации: 2019-01-31.

Ceramic Layer for Electrostatic Chuck Including Embedded Faraday Cage for RF Delivery and Associated Methods

Номер патента: US20200035455A1. Автор: Ricci Anthony J.,Benjamin Neil Martin Paul,Povolny Henry. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-30.

High temperature electrostatic chuck with real-time heat zone regulating capability

Номер патента: US09948214B2. Автор: Xing Lin,Dmitry Lubomirsky,Michael D. Willwerth,Jennifer Y. Sun,Konstantin Makhratchev,Sehn THACH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Electrostatic chuck apparatus

Номер патента: US09721822B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Mamoru Kosakai,Takashi Satou,Kenji Masuzawa,Toshiyuki Makabe,Kazunori Ishimura,Ryuuji Hayahara,Hitoshi Kouno. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Replaceable electrostatic chuck sidewall shield

Номер патента: US09543181B2. Автор: Jiun-Rong Pai,Yeh-Chieh Wang,Hsi-Shui Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Conductive electrostatic chuck lift pin, electrostatic chuck comprising the same, and semiconductor manufacturing method using the same

Номер патента: US20230282507A1. Автор: Joon Ho Lee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-09-07.

Electrostatic chuck having a cooling structure

Номер патента: US11581211B2. Автор: Hankyun YOO,Jeonghun HWANG. Владелец: Mico Ceramics Ltd. Дата публикации: 2023-02-14.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20210143043A1. Автор: Hankyun YOO,Jeonghun HWANG. Владелец: Mico Ceramics Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Electrostatic chuck system and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus by using the same

Номер патента: US09842781B2. Автор: Hyunsung BANG,Duckjung Lee,Jungsun PARK,Jaesik Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-12.

Biasable electrostatic chuck

Номер патента: WO2024151539A1. Автор: Vijay D. Parkhe,Qiwei Liang,Dmitry Lubomirsky,Douglas Buchberger,Paneendra Prakash BHAT,Naveen Kumar NAGARAJA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-07-18.

Biasable electrostatic chuck

Номер патента: US20240234108A1. Автор: Vijay D. Parkhe,Qiwei Liang,Dmitry Lubomirsky,Douglas Buchberger,Paneendra Prakash BHAT,Naveen Kumar NAGARAJA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Electrostatic chuck sheet and electrostatic chuck comprising same

Номер патента: US20240312822A1. Автор: Kihoon Nam,Youngjun AN,Jihyung LEE,Seunggon PARK,Sungbaek DAN,Kyungwhan WOO,Byoungsu JIN. Владелец: Amosense Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Electrostatic chuck with dielectric coating

Номер патента: WO2003008666B1. Автор: Tetsuya Ishikawa,Michael G Chafin,Brad Mays,Arnold V Kholodenko,Amanda H Kumar,Dennis S Grimard. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-03-20.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20240363383A1. Автор: Junhyung Kim,Hyunjoo Jeon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-31.

Electrostatic chuck refurbishment

Номер патента: US09669653B2. Автор: Vijay D. Parkhe,Kadthala Ramaya Narendrnath. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-06-06.

Multi-pressure bipolar electrostatic chucking

Номер патента: US12040210B2. Автор: JIAN Li,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Kwangduk Douglas Lee,Sanjay Kamath,Yubin Zhang,Paul L. Brillhart,Dmitry A. Dzilno,Mayur Govind KULKARNI,Zongbin Wang,Akshay Gunaji,Sandeep Bindgi,Yong Xiang Lim. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-16.

Bipolar electrostatic chuck electrode designs

Номер патента: US20240249924A1. Автор: JIAN Li,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Kallol Bera,Edward P. Hammond,Dmitry A. Dzilno,Xiaopu LI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Bipolar electrostatic chuck electrode designs

Номер патента: WO2024158600A1. Автор: JIAN Li,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Kallol Bera,Edward P. Hammond,Dmitry A. Dzilno,Xiaopu LI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

High temperature electrostatic chuck with real-time heat zone regulating capability

Номер патента: WO2013162820A1. Автор: Xing Lin,Dmitry Lubomirsky,Michael D. Willwerth,Jennifer Y. Sun,Konstantin Makhratchev. Владелец: Thach, Senh. Дата публикации: 2013-10-31.

Electrostatic chuck and method of manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: US9799545B2. Автор: Ryo Yamasaki,Mitsuharu Inaba,Kensuke Taguchi. Владелец: Tocalo Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Electrostatic chuck device

Номер патента: US09466518B2. Автор: Yukio Miura,Takeshi Otsuka,Mamoru Kosakai,Shinichi Maeta. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2016-10-11.

Electrostatic chuck with porous regions

Номер патента: EP1316110A2. Автор: Ramesh Divakar. Владелец: Saint Gobain Ceramics and Plastics Inc. Дата публикации: 2003-06-04.

Electrostatic chuck and plasma processing apparatus including the same

Номер патента: US20200161157A1. Автор: SeungBo SHIM,Myungsun Choi,Yongwoo Lee,Jaehak LEE,Youngjin Noh,Minyoung HUR. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-05-21.

Discharging an electrostatic chuck located within a vacuum chamber

Номер патента: US20240234078A1. Автор: Adam Faust,Yosef Basson. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Electrostatic chuck and method of manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: US09799545B2. Автор: Ryo Yamasaki,Mitsuharu Inaba,Kensuke Taguchi. Владелец: Tocalo Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Method and apparatus to bias an electrostatic chuck

Номер патента: WO2024129472A1. Автор: Ashish Saurabh. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-06-20.

Electrostatic Chuck

Номер патента: US20090273877A1. Автор: Osamu Okamoto,Masami Ando,Jun Miyaji. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2009-11-05.

Slotted electrostatic chuck

Номер патента: EP3811401A1. Автор: Aviv Balan,Haoran Jiang. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2021-04-28.

Slotted electrostatic chuck

Номер патента: WO2019245791A1. Автор: Aviv Balan,Haoran Jiang. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2019-12-26.

Slotted Electrostatic Chuck

Номер патента: US20190385882A1. Автор: Aviv Balan,Haoran Jiang. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2019-12-19.

Method of fixing substrate using electrostatic chuck and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20170098567A1. Автор: Chang-Oh Jeong,Su-Kyoung YANG,Gyung-Min Baek,Yoon-Yong Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-06.

Real time bias detection and correction for electrostatic chuck

Номер патента: US12080584B2. Автор: JIAN Li,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Dmitry A. Dzilno. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

High conductivity electrostatic chuck

Номер патента: US09692325B2. Автор: Richard A. Cooke,Steven Donnell,Chandra Venkatraman,Lyudmila Stone,Dale K. Stone,David Suuronen,Julian Blake. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2017-06-27.

Electrostatic chuck with mesas

Номер патента: US20240242997A1. Автор: Vijay D. Parkhe,Ashutosh Agarwal. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Bipolar electrostatic chuck and method for using the same

Номер патента: US20180053676A1. Автор: John M. White,Shreesha Y. RAO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-02-22.

Electrostatic chuck having electrode with rounded edge

Номер патента: EP1501116A3. Автор: Ananda H. Kumar,Kartik Ramaswamy,Hamid Noorbakhsh,Jon M. McChesney. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2005-08-31.

Electrostatic chuck

Номер патента: US09608549B2. Автор: Vijay D. Parkhe,Steven V. Sansoni,Cheng-Hsiung Matthew TSAI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-03-28.

Substrate processing system including electrostatic chuck and method for manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: US11705357B2. Автор: Sang Kee LEE,Dong Mok Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-18.

Electrostatic chuck formed by integral ceramic and metal sintering

Номер патента: EP1076914A1. Автор: Gilbert Hausmann. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-02-21.

Electrostatic chucks with flat film electrode

Номер патента: WO2001043184A3. Автор: Ramesh Divakar,Morteza Zandi. Владелец: Morteza Zandi. Дата публикации: 2001-12-13.

Electrostatic chuck assembly having a dielectric filler

Номер патента: US20200066566A1. Автор: HAITAO Wang,Kartik Ramaswamy,Sergio Fukuda Shoji,Hamid Noorbakhsh,Kenny L. Doan,Chunlei Zhang,Jaeyong Cho,Anwar Husain,Evans Yip Lee. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-02-27.

Methods and apparatus for high voltage electrostatic chuck protection

Номер патента: US20200411353A1. Автор: Yuichi Wada,Ananthkrishna Jupudi,Yueh Sheng Ow,Sarath Babu,Kai Liang Liew,Clinton Goh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-12-31.

Electrostatic chuck, substrate processing apparatus, and manufacturing method of electrostatic chuck

Номер патента: US20240234107A1. Автор: Masato Minami,Tomoya Watanabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Electrostatic chuck and method for manufacturing the same

Номер патента: US20220216085A1. Автор: Yung-Hsiang Huang,Wei-Cheng Tang,Yi-Che Su,Yun-Shan Huang,Su-Mei Chen Wei,Wen-Pin Chuang,Ya-Tin Yu. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2022-07-07.

Method and apparatus for balancing an electrostatic force produced by an electrostatic chuck

Номер патента: US20030053283A1. Автор: Bradley Stimson,David Loo,Jr-Jyan Chen,Kenny Ngan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-03-20.

Electrode pattern structure of concentric-circular-structured electrostatic chuck

Номер патента: US20230386881A1. Автор: Juxian ZHANG. Владелец: Raycer Advanced Materials Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Electrostatic chuck assembly for plasma reactor

Номер патента: US20100110605A1. Автор: Sungyong KO,Hwankook CHAE,Keehyun KIM,Weonmook LEE,Kunjoo PARK,Minshik KIM. Владелец: DMS Co Ltd. Дата публикации: 2010-05-06.

Electrostatic chuck that includes upper ceramic layer that includes a dielectric layer, and related methods and structures

Номер патента: EP4423804A1. Автор: Yan Liu,Jakub Rybczynski,Steven Donnell,Caleb MINSKY. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-09-04.

Electrostatic chuck with mechanism for lifting up the peripheral of a substrate

Номер патента: US5677824A. Автор: Keiichi Harashima,Takeshi Akimoto. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1997-10-14.

Clamping of semiconductor wafers to an electrostatic chuck

Номер патента: WO2005027219A1. Автор: SHU QIN,William DiVergilio,Peter Kellerman. Владелец: Axcelis Technologies Inc.. Дата публикации: 2005-03-24.

In-situ removable electrostatic chuck

Номер патента: US09773692B2. Автор: Lara Hawrylchak,Steven V. Sansoni,Michael S. Cox. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-26.

In-situ removable electrostatic chuck

Номер патента: US09508584B2. Автор: Lara Hawrylchak,Steven V. Sansoni,Michael S. Cox. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-11-29.

Rf electrostatic chuck filter circuit

Номер патента: US20200343123A1. Автор: Adam Fischbach,Edward Haywood,Timothy Joseph Franklin,Zheng John Ye. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-10-29.

Barrier Seal for Electrostatic Chuck

Номер патента: US20160240421A1. Автор: Chun-Yao Huang,Yo-Yu CHANG. Владелец: Mfg Sealing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-18.

Barrier seal for electrostatic chuck

Номер патента: US10529611B2. Автор: Chun-Yao Huang,Yo-Yu CHANG. Владелец: Mfc Sealing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-07.

Electrostatic attraction apparatus, electrostatic chuck and cooling treatment apparatus

Номер патента: US09787222B2. Автор: Kaoru Yamamoto,Naoyuki Suzuki,Shinji Orimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Electrostatic chuck and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09543182B2. Автор: Akira Furuya,Takamitsu Kitamura. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Electrostatic chuck

Номер патента: EP2368263A2. Автор: Mehmet A. Akbas. Владелец: M Cubed Technologies Inc. Дата публикации: 2011-09-28.

Electrostatic chuck assembly and method of using same

Номер патента: US20230298920A1. Автор: Koji Tanaka,Sergei Golovkov. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-09-21.

Method and apparatus for providing an electrostatic chuck with reduced plasma penetration and arcing

Номер патента: SG149791A1. Автор: Dmitry Lubomirsky,Tony Kaushal,Xinglong Chen,Sudhir Gondhalekar,Muhammad Rasheed,Kadthala Ramaya Narendranath. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2009-02-27.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20230290620A1. Автор: Masaki Hirayama,Tetsuro ITAGAKI. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2023-09-14.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20240213071A1. Автор: Yongwoo Kim,Kiseok LEE,Inseok Seo,Younseon Wang,Junho Im,Taehwa Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-27.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20180190527A1. Автор: Tsutomu Nanataki,Morimichi Watanabe. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2018-07-05.

Electrostatic chuck having extended lifetime

Номер патента: WO2024163187A1. Автор: Mitsutoshi Fukada. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-08.

Electrostatic chuck device

Номер патента: US20170229335A1. Автор: Yukio Miura,Tomomi Ito. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2017-08-10.

Multi-pressure bipolar electrostatic chucking

Номер патента: WO2022087573A1. Автор: JIAN Li,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Kwangduk Douglas Lee,Sanjay Kamath,Yubin Zhang,Paul L. Brillhart,Dmitry A. Dzilno,Mayur Govind KULKARNI,Zongbin Wang,Akshay Gunaji,Sandeep Bindgi,Yong Xiang Lim. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-04-28.

Electrostatic chuck design for high temperature RF applications

Номер патента: US09984911B2. Автор: Vijay D. Parkhe,Keith A. Miller,John C. Forster,Ryan Hanson,Manjunatha KOPPA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-29.

Multielectrode electrostatic chuck with fuses

Номер патента: US5751537A. Автор: Ananda H. Kumar,Shamouil Shamouilian. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1998-05-12.

Electrostatic chuck with charge dissipation coating

Номер патента: US11742781B2. Автор: Yan Liu,Jakub Rybczynski,Steven Donnell,Chun Wang CHAN. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2023-08-29.

Electrostatic chuck with embossments that comprise diamond-like carbon and deposited silicon-based material, and related methods

Номер патента: US20220063035A1. Автор: Yan Liu,Jakub Rybczynski,Steven Donnell,Chun Wang CHAN,Caleb MINSKY. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2022-03-03.

Electrostatic chuck device

Номер патента: US20240075575A1. Автор: YUKI Kinpara,Toru Sugamata,Taku ICHIYOSHI,Satoyoshi INUI. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2024-03-07.

Plasma processing apparatus and electrostatic chuck including a dielectric structure and an electrostatic claim electrode inside the dielectric structure

Номер патента: US20240222092A1. Автор: Takahiko Sato,Tetsuo Yoshida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Electrostatic chucking device

Номер патента: US5851641A. Автор: Tadao Matsunaga,Kei Hattori,Takaya Matsushita. Владелец: Tomoegawa Paper Co Ltd. Дата публикации: 1998-12-22.

Real time bias detection and correction for electrostatic chuck

Номер патента: US20230207372A1. Автор: JIAN Li,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Dmitry A. Dzilno. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-06-29.

Electrostatic chuck and electrostatic adsorption apparatus having the same

Номер патента: US20200126835A1. Автор: Min Ho BAE,Hyok Keo Se KWON,Tae Ho Youn. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Electrostatic chuck, substrate processing apparatus, and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20200126827A1. Автор: Dougyong Sung,Minsung Kim,Myoung Soo Park,Dongyun Yeo,Yun-kwang Jeon,Suho LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-04-23.

Tool and method for cleaning electrostatic chuck

Номер патента: US20200058536A1. Автор: Chi-Hung Liao,Yueh-Lin Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-02-20.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20170178944A1. Автор: Hiroki Matsui,Kosuke Yamaguchi,Tatsuya Koga,Kazuki Anada. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2017-06-22.

Electrostatic chuck and method of manufacturing the same

Номер патента: US20240279810A1. Автор: Ikuo Itakura,Yutaka Momiyama,Jun SHIRAISHI,Shunya MIYAZAKI. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20240339351A1. Автор: Hitoshi Sasaki,Yutaka Momiyama. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2024-10-10.

Electrostatic chuck and semiconductor-liquid crystal manufacturing apparatus

Номер патента: US09887117B2. Автор: Yoshifumi Katayama,Jiro Kawai. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Method for forming an electrostatic chuck using film printing technology

Номер патента: US09518326B2. Автор: Karl M. Brown. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-12-13.

Connectors for an electrostatic chuck and combination thereof

Номер патента: US6151203A. Автор: Gerhard Schneider,Ananda Kumar,Senh Thach,Shamouil Shamouilian,Arnold Kholodenko,Alexander Veytser,Dennis S. Grimard,Michael G. Chafin,Liang Guo Wang,Semyon Kats. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-11-21.

Electrostatic chuck and method of its manufacture

Номер патента: US20070201180A1. Автор: Shmulik Nakash. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2007-08-30.

Real time bias detection and correction for electrostatic chuck

Номер патента: US20220122874A1. Автор: JIAN Li,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Dmitry A. Dzilno. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-04-21.

Electrostatic chuck heater and film deposition apparatus

Номер патента: US20240203779A1. Автор: Tomohiro Hara. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20210074525A1. Автор: Minoru Suzuki,Hitoshi Sasaki,Yutaka Momiyama,Tsukasa Shigezumi. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2021-03-11.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20240105489A1. Автор: Wataru Fujita. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-03-28.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20200135528A1. Автор: Tatsuya Mori,Masahiro Watanabe,Shuichiro Saigan,Jun SHIRAISHI. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2020-04-30.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20230402943A1. Автор: Jinwook Kim,Hyunjun Lee,Hyoseung KIM,Sangil NAM,Jaegu JI. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Electrostatic chuck and manufacturing method thereof

Номер патента: EP1837317A3. Автор: Kazuhiro c/o NGK Insulators Ltd. Nobori,Yutaka c/o NGK Insulators Ltd. Mori. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2010-04-21.

Electrostatic chuck and manufacturing method thereof

Номер патента: US20070223174A1. Автор: Yutaka Mori,Kazuhiro Nobori. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2007-09-27.

Electrostatic chuck and method of manufacturing the same

Номер патента: US20240283379A1. Автор: Ikuo Itakura,Yutaka Momiyama,Jun SHIRAISHI,Shunya MIYAZAKI. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Electrostatic chuck and method of manufacturing the same

Номер патента: US20240282612A1. Автор: Ikuo Itakura,Yutaka Momiyama,Jun SHIRAISHI,Shunya MIYAZAKI. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Electrostatic chuck and processing apparatus

Номер патента: US12100610B2. Автор: Yuki Sasaki,Yutaka Momiyama,Jun SHIRAISHI,Reo KAWANO. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2024-09-24.

Electrostatic Chuck and Method of Operation for Plasma Processing

Номер патента: US20240355593A1. Автор: Melvin VERBAAS,Einosuke Tsuda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20240331985A1. Автор: Ikuo Itakura,Keisuke Sano,Yutaka Momiyama,Jun SHIRAISHI,Masafumi IKEGUCHI,Ryosuke Sakurai. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2024-10-03.

Electrostatic chuck and method of operation for plasma processing

Номер патента: WO2024220139A1. Автор: Melvin VERBAAS,Einosuke Tsuda. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-10-24.

High density corrosion resistant layer arrangement for electrostatic chucks

Номер патента: US12125732B2. Автор: Chengtsin Lee. Владелец: Morgan Advanced Ceramics Inc. Дата публикации: 2024-10-22.

Electrostatic chuck

Номер патента: US09543184B2. Автор: Hiroshi Ono. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Electrostatic chuck having a multilayer structure for attracting an object

Номер патента: US5539179A. Автор: Katsuya Okumura,Junichi Arami,Toshihisa Nozawa,Isahiro Hasegawa,Shinji Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1996-07-23.

Electrostatic chuck with advanced rf and temperature uniformity

Номер патента: WO2013163220A1. Автор: Dmitry Lubomirsky,Konstantin Makhratchev,Mark MARKOVSKY,Jennifer Sun,Samer Banna,Douglas A. Buchberger Jr.. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-10-31.

Radially outward pad design for electrostatic chuck surface

Номер патента: EP3254307A1. Автор: Govinda Raj,Robert T. Hirahara. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-12-13.

Electrostatic chuck with detachable shaft

Номер патента: WO2023096719A1. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-06-01.

Radially outward pad design for electrostatic chuck surface

Номер патента: WO2016126360A1. Автор: Govinda Raj,Robert T. Hirahara. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2016-08-11.

Electrostatic chuck

Номер патента: US09905449B2. Автор: Hiroki Matsui,Kosuke Yamaguchi,Tatsuya Koga,Kazuki Anada. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2018-02-27.

Electrostatic chuck with mesas

Номер патента: US11955361B2. Автор: Vijay D. Parkhe,Ashutosh Agarwal. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-09.

Electrostatic chuck and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240222091A1. Автор: Koei ITO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Wet cleaning of electrostatic chucks

Номер патента: WO2006060234A3. Автор: Hong Shih,Bruno Morel,Armen Avoyan,Tuochuan Huang,Paul Mulgrew,Brian McMillin,Catherine Zhou. Владелец: Catherine Zhou. Дата публикации: 2006-07-20.

Electrostatic chuck apparatus and semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US11823872B2. Автор: Yuya Matsubara. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-11-21.

Method for repairing electrostatic chuck device

Номер патента: US20230321968A1. Автор: Keisuke Maeda,Yuuki KINPARA. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2023-10-12.

Electrostatic chuck and method for manufacturing the electrostatic chuck

Номер патента: US20130308244A1. Автор: Jiro Kawai,Norio Shiraiwa. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2013-11-21.

Electrostatic chuck and method for manufacturing the electrostatic chuck

Номер патента: US9660557B2. Автор: Jiro Kawai,Norio Shiraiwa. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Electrostatic chuck

Номер патента: US11574833B2. Автор: Voronov Alexander,Cheollae Roh,Juhee Lee,Myungsoo Huh,Haeyoung YOO,Soo Beom JO,Jiwon Yeon,Yongmun Chang. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-07.

Electrostatic chuck device power supply, electrostatic chuck device, and dechuck control method

Номер патента: EP4117168A1. Автор: Takahiro Tsuchiya. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2023-01-11.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20210358791A1. Автор: Voronov Alexander,Cheollae Roh,Juhee Lee,Myungsoo Huh,Haeyoung YOO,Soo Beom JO,Jiwon Yeon,Yongmun Chang. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-18.

Electrostatic chuck with an impregnated, porous layer that exhibits the Johnson-Rahbeck effect

Номер патента: US5916689A. Автор: Kenneth S. Collins,Joshua Chin-Wing Tsui,Douglas Buchberger. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1999-06-29.

Multi-electrode electrostatic chuck having fuses in hollow cavities

Номер патента: US6055150A. Автор: You Wang,Shamouil Shamouilian,Jon Clinton,Mark Contreras,Anand H. Kumar,Surinder Bedi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-04-25.

Process for cleaning an electrostatic chuck of a plasma etching apparatus

Номер патента: US5746928A. Автор: Po-Tao Chu,Kuang-Hui Chang,Shih Kuei Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 1998-05-05.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20100254065A1. Автор: Keiichi Nakamura,Shunsuke Tanaka. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2010-10-07.

Electrostatic chuck pedestal heater for high bow wafers

Номер патента: US20230352332A1. Автор: Amit MISHRA,Akshay Phadnis,Jaeyong Cho,Shubham Garg. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-11-02.

In-situ removable electrostatic chuck

Номер патента: TWI613752B. Автор: 寇克斯麥可Ｓ,珊索尼史蒂芬Ｖ,華瑞恰克拉拉. Владелец: 應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2018-02-01.

Electrostatic chuck member and a method of producing the same

Номер патента: CA2183709A1. Автор: Yoshio Harada,Junichi Takeuchi. Владелец: Tocalo Co Ltd. Дата публикации: 1997-03-01.

Electrostatic chuck

Номер патента: US5946183A. Автор: Ryusuke Ushikoshi,Naohito Yamada,Masashi Ohno. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 1999-08-31.

Electrostatic chuck and method of making same

Номер патента: TWI663681B. Автор: 理查Ａ庫克,沃弗蘭內夫,卡羅沃弗萊德,雅各萊辛斯基,麥克漢那根,偉德羅歐. Владелец: 美商恩特葛瑞斯股份有限公司. Дата публикации: 2019-06-21.

Electrostatic chuck and its manufacturing method

Номер патента: US20040233609A1. Автор: Hitoshi Sakamoto,Ryuichi Matsuda,Masahiko Inoue,Kazuto Yoshida. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2004-11-25.

Electrostatic chuck and substrate fixing device

Номер патента: US11848224B2. Автор: Kentaro Kobayashi,Kazunori Shimizu,Naoyuki Koizumi. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-19.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20230412096A1. Автор: Jumpei UEFUJI,Tetsuro ITOYAMA. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2023-12-21.

System and method for improved electrostatic chuck clamping performance

Номер патента: US11817340B2. Автор: Donnie Herman. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2023-11-14.

High temperature pedestal with extended electrostatic chuck electrode

Номер патента: US20230369091A1. Автор: Niraj Rana,Yukinori Sakiyama,Pengyi Zhang,David French,Feng Bi,Vincent Burkhart,Timothy Scott Thomas,Simran Shah. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Multi-modal electrostatic chucking

Номер патента: WO2023215284A1. Автор: Ramesh Chandrasekharan,Noah Elliot BAKER,Karl Frederick Leeser. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-11-09.

Methods and apparatus for in-situ cleaning of electrostatic chucks

Номер патента: US20210175107A1. Автор: David Gunther,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Prashant Prabhakar Prabhu,William R. Johanson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-06-10.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20230311258A1. Автор: Akihito Ono,Jumpei UEFUJI,Tomoki UMETSU,Masafumi IKEGUCHI. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2023-10-05.

Electrostatic chuck

Номер патента: US9627240B2. Автор: Hiroki Matsui,Kosuke Yamaguchi,Tatsuya Koga,Kazuki Anada. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2017-04-18.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20150049410A1. Автор: Hiroshi Ono. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2015-02-19.

Electrostatic chuck and a method for supporting a wafer

Номер патента: US20120262834A1. Автор: Guy Eytan,Shmuel Shmulik Nakash,Konstantin Chirko. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2012-10-18.

Unbalanced bipolar electrostatic chuck power supplies and methods therefor

Номер патента: WO1998043291A1. Автор: Canfeng Lai,Charles P. Ross. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1998-10-01.

Micro device electrostatic chuck

Номер патента: US20200144942A1. Автор: Li-Yi Chen. Владелец: Mikro Mesa Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-07.

Methods and apparatus for in-situ cleaning of electrostatic chucks

Номер патента: WO2021118689A1. Автор: David Gunther,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Prashant Prabhakar Prabhu,William R. Johanson. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-06-17.

Electrostatic chuck and semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US20180076080A1. Автор: Makoto Saito,Shinya Ito,Hiroshi Sanda,Eiichi Nagumo. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2018-03-15.

Electrostatic chuck and substrate fixing device

Номер патента: US11862501B2. Автор: Kazuya Takada,Norio Shiraiwa. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20240100639A1. Автор: Minsung Kim,Dasom Lee,Heewon MIN,Dongyun Yeo,Inseok Seo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-28.

Electrostatic chuck

Номер патента: US11309204B2. Автор: Tatsuya Mori,Masahiro Watanabe,Shuichiro Saigan,Jun SHIRAISHI. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2022-04-19.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20200035538A1. Автор: Hitoshi Sasaki,Yutaka Momiyama. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2020-01-30.

Electrostatic chuck

Номер патента: US12014947B2. Автор: Tatsuya Mori,Masahiro Watanabe,Shuichiro Saigan,Jun SHIRAISHI. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2024-06-18.

Electrostatic chuck

Номер патента: EP4287491A1. Автор: Wataru Fujita. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2023-12-06.

Electrostatic chuck device

Номер патента: US20200343125A1. Автор: Kazunori Ishimura,Ryuuji Hayahara,Hitoshi Kouno,Yuuki KINPARA. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2020-10-29.

Method for calculating distance, method for neutralizing electrostatic chuck, and processing apparatus

Номер патента: US09812996B2. Автор: Kenji Nagai,Yoshinobu Ooya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-07.

Electrostatic chuck, assembly including the electrostatic chuck, and method of controlling temperature of the electrostatic chuck

Номер патента: US12062565B2. Автор: Hong Gao,Changmin Lee,Joaquin Aguilar SANTILLAN,Shanker KUTTATH. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-08-13.

Electrostatic chucks with coolant gas zones and corresponding groove and monopolar electrostatic clamping electrode patterns

Номер патента: US20240347366A1. Автор: Alexander Matyushkin,John Patrick Holland,Keith Comendant. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-17.

Method of modifying electrostatic chuck and plasma processing apparatus

Номер патента: US09558919B2. Автор: Takamitsu Kondo,Shingo Shimogama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Electrostatic chuck for high temperature process applications

Номер патента: US09711386B2. Автор: ZHENG Yuan,Michael S. Cox. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-07-18.

Electrostatic chuck assembly

Номер патента: EP2321846A2. Автор: Vijay D. Parkhe,Cheng-Hsiung Tsai,Hari K. Ponnekanti,Steven V. Sansoni,Karl M. Brown,Shambhu N. Roy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-05-18.

Electrostatic chuck, vacuum processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US12014946B2. Автор: Genji Sakata,Hidekazu Yokoo. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Light-up prevention in electrostatic chucks

Номер патента: WO2011014328A2. Автор: Tom Stevenson,Rajinder Dhindsa,Daniel Byun,Saurabh Ullal,Babak Kadkhodayan. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2011-02-03.

Method and apparatus for dechucking a workpiece from an electrostatic chuck

Номер патента: EP1118425A3. Автор: Karl F. Lesser. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-02-04.

Light-up prevention in electrostatic chucks

Номер патента: EP2460179A2. Автор: Tom Stevenson,Rajinder Dhindsa,Daniel Byun,Saurabh Ullal,Babak Kadkhodayan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2012-06-06.

High power electrostatic chuck design with radio frequency coupling

Номер патента: WO2017213715A1. Автор: HAITAO Wang,Vijay D. Parkhe,Kartik Ramaswamy,Chunlei Zhang,Jaeyong Cho. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2017-12-14.

Electrostatic chuck, assembly including the electrostatic chuck, and method of controlling temperature of the electrostatic chuck

Номер патента: EP4113585A1. Автор: Hong Gao,Changmin Lee,Joaquin Aguilar SANTILLAN,Shanker KUTTATH. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-01-04.

Electrostatic chuck device

Номер патента: US20180269097A1. Автор: Yukio Miura,Mamoru Kosakai,Hitoshi Kouno,Shinichi Maeta. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2018-09-20.

Multi-plate electrostatic chucks with ceramic baseplates

Номер патента: US11848177B2. Автор: Feng Wang,Keith Gaff,Christopher Kimball. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-12-19.

Multi-plate electrostatic chucks with ceramic baseplates

Номер патента: US20240112893A1. Автор: Feng Wang,Keith Gaff,Christopher Kimball. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-04-04.

Electrostatic chucks with coolant gas zones and corresponding groove and monopolar electrostatic clamping electrode patterns

Номер патента: US11942351B2. Автор: Alexander Matyushkin,John Patrick Holland,Keith Laurence COMENDANT. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-03-26.

Electrostatic chuck mechanism and semiconductor processing device having the same

Номер патента: US10985045B2. Автор: Haiying Liu,Yulin Peng. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-20.

Electrostatic chuck with high insulation performance and electrostatic attraction force

Номер патента: US11951583B2. Автор: Hiroshi Takebayashi,Kenichiro AIKAWA,Tatsuya Kuno. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2024-04-09.

Electrostatic chuck with independent zone cooling and reduced crosstalk

Номер патента: US20180374724A1. Автор: Vijay Parkhe,Konstantin Makhratchev. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-12-27.

Gas cooled electrostatic chuck (ESC) having a gas channel formed therein and coupled to a gas box on both ends of the gas channel

Номер патента: US10781518B2. Автор: Brian T. West,Soundarrajan JEMBULINGAM,Manoj A. Gajendra. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-09-22.

Substrate processing apparatus having electrostatic chuck and substrate processing method

Номер патента: US11929251B2. Автор: Toshihisa Nozawa. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-03-12.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20240195332A1. Автор: Kenichi Akabane. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Increasing the gas efficiency for an electrostatic chuck

Номер патента: US11747834B2. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-05.

Increasing the gas efficiency for an electrostatic chuck

Номер патента: US09753463B2. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-05.

High efficiency electrostatic chuck assembly for semiconductor wafer processing

Номер патента: WO2012082188A1. Автор: Ashish Bhatnagar,Daniel Martin,Monika Agarwal,Padma Gopalakrishnan. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-06-21.

Electrostatic chucking stage and substrate processing apparatus

Номер патента: US7220319B2. Автор: Kazuaki Kaneko,Masayoshi Ikeda,Takuji Okada,Takashi Kayamoto,Yasumi Sago,Tadashi Inokuchi,Toshihiro Tachikawa. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2007-05-22.

High power electrostatic chuck design with radio frequency coupling

Номер патента: US11948826B2. Автор: HAITAO Wang,Vijay D. Parkhe,Kartik Ramaswamy,Chunlei Zhang,Jaeyong Cho. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-02.

Electrostatic chuck, support platform, and plasma processing apparatus

Номер патента: US11894218B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Masato Takayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-06.

Electrostatic chuck, method of manufacturing electrostatic chuck, and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210118716A1. Автор: Jie Liang,Tuqiang Ni,Manus Wong,Dee Wu,Leyi Tu,Rubin Ye,Hanyi ZHAO. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2021-04-22.

Electrostatic chuck and substrate holding device

Номер патента: US11942350B2. Автор: Tomohiro Inoue,Mizuki Watanabe,Masakuni Miyazawa. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-26.

Electrostatic chuck and processing apparatus

Номер патента: US20200286768A1. Автор: Tatsuya Mori,Masahiro Watanabe,Yuki Sasaki,Shuichiro Saigan,Jun SHIRAISHI. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2020-09-10.

Increasing the gas efficiency for an electrostatic chuck

Номер патента: WO2016039899A1. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2016-03-17.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20190287839A1. Автор: Kosuke Yamaguchi,Ikuo Itakura,Shuichiro Saigan,Yutaka Momiyama,Jun SHIRAISHI. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2019-09-19.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20200286766A1. Автор: Jumpei UEFUJI,Tetsuro ITOYAMA. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2020-09-10.

Ceramic electrostatic chuck including embedded faraday cage for rf delivery and associated methods for operation, monitoring, and control

Номер патента: SG10201707559TA. Автор: Povolny Henry,Martin Paul Benjamin Neil,J Ricci Anthony. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2018-06-28.

Electrostatic chuck device

Номер патента: US20210006182A1. Автор: Shinichi Maeta. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2021-01-07.

Increasing the gas efficiency for an electrostatic chuck

Номер патента: US20230350435A1. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-02.

Electrostatic chuck wafer port and top plate with edge shielding and gas scavenging

Номер патента: TW200409274A. Автор: Robert J Mitchell,Peter L Kellerman,Kevin T Ryan. Владелец: Axcelis Tech Inc. Дата публикации: 2004-06-01.

Electrostatic chuck wafer port and top plate with edge shielding and gas scavenging

Номер патента: AU2003274407A1. Автор: Peter L. Kellerman,Robert J. Mitchell,Kevin T. Ryan. Владелец: Axcelis Technologies Inc. Дата публикации: 2004-05-13.

Manufacturing method of Electrostatic Chuck with Multi-Layer Electrode Structure and Electrostatic Chuck with Multi-Layer Electrode Structure manufactured by the same

Номер патента: KR101541051B1. Автор: 김봉수,송해근. Владелец: (주)보부하이테크. Дата публикации: 2015-07-31.

Electrostatic chuck with smart lift-pin mechanism for plasma reactor

Номер патента: WO2006116577A2. Автор: Kartik Ramaswamy,Hiroji Hanawa,Amir Al-Bayati,Biagio Gallo,Kenneth S. Collins,Andrew Nguyen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2006-11-02.

Electrostatic chuck, etching apparatus, and method of manufacturing display device

Номер патента: US11990361B2. Автор: Tae Hun Kim,Do Hwan Kim,Jae Han Kim,Seung Ho MYOUNG,Gyeong Hee HAN,Hee Sun JANG,Dae Young OH. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-21.

Electrostatic chuck, etching apparatus, and method of manufacturing display device

Номер патента: US20220037186A1. Автор: Tae Hun Kim,Do Hwan Kim,Jae Han Kim,Seung Ho MYOUNG,Gyeong Hee HAN,Hee Sun JANG,Dae Young OH. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-03.

Electrostatic chuck, etching apparatus, and method of manufacturing display device

Номер патента: US20240274458A1. Автор: Tae Hun Kim,Do Hwan Kim,Jae Han Kim,Seung Ho MYOUNG,Gyeong Hee HAN,Hee Sun JANG,Dae Young OH. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate carrier system utilizing electrostatic chucking to accommodate substrate size heterogeneity

Номер патента: US09845533B2. Автор: Sriskantharajah Thirunavukarasu,Mingwei Zhu,Jen Sern Lew,Karthik Elumalai. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-12-19.

ELECTROSTATIC CHUCK, PLACING TABLE, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20150243541A1. Автор: Hayashi Daisuke. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2015-08-27.

Method of hydrating a ceramic spray-coating layer, method of manufacturing a electrostatic chuck using the method and substrate structure and electrostatic chuck having the ceramic spray-coating layer manufactured by the hydrating method

Номер патента: KR100863932B1. Автор: 장경익,예경환,김삼웅,육현미. Владелец: 주식회사 코미코. Дата публикации: 2008-11-18.

Electrostatic chuck, reticle, and electrostatic chucking method

Номер патента: JP2014167963A. Автор: Yosuke Okamoto,陽介岡本,Nobuhiro Komine,信洋小峰. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2014-09-11.

Manufacturing method of Large Size Bipolar Electrostatic chuck and Large Size Electrostatic chuck manufactured by the same

Номер патента: KR101605704B1. Автор: 남배송,엄정식. Владелец: (주)제니스월드. Дата публикации: 2016-03-23.

Electrostatic chuck, placing table, plasma processing apparatus, and method of manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: KR102353796B1. Автор: 다이스케 하야시. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-01-19.

A manufacturing method of a high purity electrostatic chuck using glass bonding process and an electrostatic chuck using the same

Номер патента: KR101103821B1. Автор: 김원일,김성환,이두로. Владелец: 코리아세미텍 주식회사. Дата публикации: 2012-01-06.

Workpiece holding device including electrostatic chuck and method of manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: KR100513569B1. Автор: 아놀드 콜로덴코,알렉산더 베이저. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2005-11-22.

Electrostatic chuck and manufacturing process for electrostatic chuck

Номер патента: KR20100080054A. Автор: 손형규. Владелец: 엘아이지에이디피 주식회사. Дата публикации: 2010-07-08.

Ceramic composition for electrostatic chuck heater sintered body and method for manufacturing silicon nitride sintered body for electrostatic chuck using the same

Номер патента: KR20230109114A. Автор: 정훈,오창우,우경환. Владелец: 주식회사 아모센스. Дата публикации: 2023-07-19.

Electrostatic chuck, mounting table, plasma processing device, and manufacturing method of electrostatic chuck

Номер патента: TWI667730B. Автор: 林大輔. Владелец: 日商東京威力科創股份有限公司. Дата публикации: 2019-08-01.

Electrostatic chuck support mechanism and support platform device and plasma treatment device

Номер патента: TW200403355A. Автор: Hisashi Yanagida. Владелец: Mitsubishi Heavy Ind Ltd. Дата публикации: 2004-03-01.

Electrostatic chuck loading

Номер патента: GB8403547D0. Автор: . Владелец: Philips Electronic and Associated Industries Ltd. Дата публикации: 1984-03-14.

Spray-coated electrostatic chuck design

Номер патента: US20240258076A1. Автор: Yuichi Wada,Sarath Babu,Tuck Foong Koh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Electrostatic chuck

Номер патента: TW201103101A. Автор: Terry Bluck,Dennis Grimard,Terry Pederson. Владелец: Intevac Inc. Дата публикации: 2011-01-16.

Improved multilayer electrostatic chuck wafer platen

Номер патента: TW201005870A. Автор: Roger B Fish. Владелец: Varian Semiconductor Equipment. Дата публикации: 2010-02-01.

Spray-coated electrostatic chuck design

Номер патента: WO2024163134A1. Автор: Yuichi Wada,Sarath Babu,Tuck Foong Koh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-08.

Electrostatic Chuck With Photo-Patternable Soft Protrusion Contact Surface

Номер патента: US20150294891A1. Автор: Cooke Richard A.,RYBCZYNSKI Jakub,LIN I-Kuan. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2015-10-15.

Electrostatic chuck with fine electrode structure

Номер патента: KR101319765B1. Автор: 정광호,최명운,박창선,정인승. Владелец: 주식회사 야스. Дата публикации: 2013-10-17.

Electrostatic chuck with heater and manufacturing method thereof

Номер патента: EP1892756A2. Автор: Ikuhisa c/o NGK Insulators Ltd. Morioka,Kazuhiro c/o NGK Insulators Ltd. Nobori,Tetsuya c/o NGK Insulators Ltd. Kawajiri,Akiyoshi c/o NGK Insulators Ltd. Hattori. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2008-02-27.

Electrostatic chuck with built-in heater

Номер патента: EP1675160A1. Автор: Waichi Yamamura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2006-06-28.

Electrostatic chuck with plasma-assisted dechuck on wafer backside

Номер патента: JP6173313B2. Автор: シング・ハーミート. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-08-02.

Electrostatic chuck with smart lift-pin mechanism for plasma reactor

Номер патента: KR101300689B1. Автор: 카르틱 라마스와미,아미르 알-바야티,히로지 한아와,앤드류 니구옌,케니쓰 에스. 콜린스,비아지오 갈로. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2013-08-26.

ELECTROSTATIC CHUCK WITH CONFORMAL INSULATOR FILM

Номер патента: KR960702171A. Автор: 사무일리안 샤무일,비랭 마누쳐,소멕 사손,셔스틴스키 세미온,르빈스타인 히맨,에프. 카메론 죤. Владелец: 제임스 조셉 드롱. Дата публикации: 1996-03-28.

Electrostatic chuck with heater and manufacturing method thereof

Номер патента: TW200816364A. Автор: Akiyoshi Hattori,Kazuhiro Nobori,Tetsuya Kawajiri,Ikuhisa Morioka. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2008-04-01.

Electrostatic chuck with conformal insulator film

Номер патента: WO1995020838A1. Автор: Manoocher Birang,Sasson Somekh,Semyon Sherstinsky,Shamouil Shamouilian,John F. Cameron,Hyman Levinstein. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 1995-08-03.

Electrostatic chuck with smart lift-pin mechanism for a plasma reactor

Номер патента: US7292428B2. Автор: Kartik Ramaswamy,Hiroji Hanawa,Amir Al-Bayati,Biagio Gallo,Kenneth S. Collins,Andrew Nguyen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2007-11-06.

Electrostatic chuck with heater

Номер патента: TW200811989A. Автор: Akiyoshi Hattori,Kazuhiro Nobori,Tetsuya Kawajiri. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2008-03-01.

Electrostatic chuck with heater

Номер патента: TWI352399B. Автор: NOBORI Kazuhiro,KAWAJIRI Tetsuya,HATTORI Akiyoshi. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2011-11-11.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20130107415A1. Автор: Dmitry Lubomirsky,Samer Banna,Valentin Todorow. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2013-05-02.

ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20130229746A1. Автор: WATANABE Morimichi,JINDO Asumi,KATSUDA Yuji,SATO Yosuke,ISODA Yoshinori,AIKAWA Kenichiro. Владелец: NGK Insulators, Ltd.. Дата публикации: 2013-09-05.

ELECTROSTATIC CHUCK APPARATUS

Номер патента: US20130265690A1. Автор: Maeta Shinichi,Furuuchi Kei,Moriya Yoshiaki. Владелец: Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.. Дата публикации: 2013-10-10.

Centering fixture for electrostatic chuck system

Номер патента: US09966292B2. Автор: Donald R. Boyea, Jr.,Matthew J. Bombardier. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-05-08.

Electrostatic chuck for semiconductor workpieces

Номер патента: WO2006115731A1. Автор: Tetsuya Ishikawa,Brian Lue. Владелец: SOKUDO CO., LTD.. Дата публикации: 2006-11-02.

Electrostatic chuck and electrode sheet for electrostatic chuck

Номер патента: HK1119294A1. Автор: Hiroshi Fujisawa,Riichiro Harano,Kinya Miyashita. Владелец: Creative Tech Corp. Дата публикации: 2009-02-27.

Electrostatic chuck and electrode sheet for electrostatic chuck

Номер патента: EP1909308A4. Автор: Hiroshi Fujisawa,Riichiro Harano,Kinya Miyashita. Владелец: Creative Technology Corp. Дата публикации: 2010-11-10.

Process for increasing the compactness of a dielectric layer of an electrostatic chuck, process for manufacturing an electrostatic chuck, electrostatic chuck

Номер патента: CN114959547A. Автор: 赵凯,张立祥,顾众. Владелец: Suzhou Zhongxinlian Electronic Materials Co ltd. Дата публикации: 2022-08-30.

Electrostatic chuck, method for forming structure for supplying heat transfer fluid to upper surface of electrostatic chuck, structure for providing flow of heat transfer fluid to upper surface of electrostatic chuck, and method for reducing arc generation

Номер патента: JP4145371B2. Автор: ルーブライアン,ジェイ．ステガーロバート. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2008-09-03.

Electrostatic chuck member, electrostatic chuck device, and method for manufacturing electrostatic chuck member

Номер патента: JP2023095058A. Автор: Takashi Otsuka,剛史大塚,敏祥乾,拓一由,Taku ICHIYOSHI,Binsho Inui. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Electrostatic chuck member, electrostatic chuck device, and method for manufacturing electrostatic chuck member

Номер патента: WO2023120254A1. Автор: 剛史大塚,敏祥乾,拓一由. Владелец: 住友大阪セメント株式会社. Дата публикации: 2023-06-29.

Electrostatic chuck, tiled electrostatic chuck comprising the same, and method of manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: KR20220000026A. Автор: 김용현,조철래,김종협,나흥열,오원희. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2022-01-03.

Electrostatic chuck, chuck assembly and method of securing an electrostatic chuck

Номер патента: CN111326471A. Автор: 郑宇现. Владелец: Xia Tai Xin Semiconductor Qing Dao Ltd. Дата публикации: 2020-06-23.

Method and apparatus for providing an electrostatic chuck with reduced plasma penetration and arcing

Номер патента: TW200921838A. Автор: Dmitry Lubomirsky,Tony Kaushal,Sudhir Gondhalekar,xing-long Chen,Muhammad Rasheed,Kadthala Ramaya Narendranath. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2009-05-16.

Rf electrode contact assembly for a detachable electrostatic chuck

Номер патента: WO2000007264A1. Автор: Peter Satitpunwaycha,Joseph Stevens. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2000-02-10.

Electrostatic chuck with embossments that comprise diamond-like carbon and deposited silicon-based material, and related methods

Номер патента: EP4208890A4. Автор: Yan Liu,Jakub Rybczynski,Steven Donnell,Chun Wang CHAN,Caleb MINSKY. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-10-09.

Electrostatic Attraction Apparatus, Electrostatic Chuck And Cooling Treatment Apparatus

Номер патента: SG10201504222SA. Автор: Kaoru Yamamoto,Naoyuki Suzuki,Shinji Orimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-12-30.

Annulus clamping and backside gas cooled electrostatic chuck

Номер патента: EP2095414A1. Автор: William Lee,Marvin Lafontaine,Ashwin Purohit,Teng Chao Tao. Владелец: Axcelis Technologies Inc. Дата публикации: 2009-09-02.

Method for cleaning electrostatic chuck

Номер патента: US20230343628A1. Автор: Chi-Hung Liao,Yueh-Lin Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

ELECTROSTATIC CHUCK AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20130321974A1. Автор: Kuribayashi Akihiro. Владелец: SHINKO ELECTRIC INDUSTRIES CO., LTD.. Дата публикации: 2013-12-05.

MEMBER FOR ELECTROSTATIC CHUCK AND ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20220037187A1. Автор: Horiuchi Michio,Tsuno Masaya. Владелец: . Дата публикации: 2022-02-03.

DIELECTRIC LAYER FOR ELECTROSTATIC CHUCK AND ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20140103612A1. Автор: TSUTSUMI Kouta,NAGANO Mitsuyoshi,SHIRAIWA Norio,Tamagawa Koki,Yoshikawa Tadayoshi,Saito Miki,Uehara Toshio,Matsubara Hideaki,Matsuda Tetsushi. Владелец: . Дата публикации: 2014-04-17.

ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE

Номер патента: US20190019713A1. Автор: KOSAKAI Mamoru,HIDAKA Nobuhiro,KUGIMOTO Hironori. Владелец: . Дата публикации: 2019-01-17.

ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE AND PRODUCTION METHOD FOR ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE

Номер патента: US20210020489A1. Автор: KUGIMOTO Hironori,MORISHITA Norito. Владелец: Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.. Дата публикации: 2021-01-21.

COMPOSITE SINTERED BODY, ELECTROSTATIC CHUCK MEMBER, ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE, AND METHOD FOR PRODUCING COMPOSITE SINTERED BODY

Номер патента: US20200027770A1. Автор: HIDAKA Nobuhiro,KIMURA Naoto. Владелец: Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.. Дата публикации: 2020-01-23.

ELECTROSTATIC CHUCK, MOUNT PLATE SUPPORT, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20150043122A1. Автор: Nojiri Yasuhiro,Saito Makoto,ETO Hideo. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2015-02-12.

Lift pin assembly, an electrostatic chuck and a processing apparatus where the electrostatic chuck is located

Номер патента: US20200083087A1. Автор: Jie Liang,Tuqiang Ni,Manus Wong,Leyi Tu,Rubin Ye,Ziyang Wu. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2020-03-12.

Electrostatic chuck and method of manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: US20150116889A1. Автор: Ryo Yamasaki,Mitsuharu Inaba,Kensuke Taguchi. Владелец: Tocalo Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-30.

Electrostatic chuck, reticle, and electrostatic chuck method

Номер патента: US20140240892A1. Автор: Yosuke Okamoto,Nobuhiro Komine. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2014-08-28.

ELECTROSTATIC CHUCK ASSEMBLY, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS HAVING THE SAME, AND METHOD OF MEASURING TEMPERATURE OF ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20170178978A1. Автор: SUNG Jeong Hyoun,Soh Sang Yoon,CHOI Youn Sok. Владелец: . Дата публикации: 2017-06-22.

COMPOSITE SINTERED BODY, ELECTROSTATIC CHUCK MEMBER, AND ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE

Номер патента: US20200211884A1. Автор: HIDAKA Nobuhiro,KUGIMOTO Hironori. Владелец: Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.. Дата публикации: 2020-07-02.

ELECTROSTATIC CHUCK AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20160233121A1. Автор: Kim Ok Ryul,Kim Ok Min. Владелец: . Дата публикации: 2016-08-11.

ELECTROSTATIC CHUCK AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20210257243A1. Автор: Ono Hiroshi. Владелец: KYOCERA CORPORATION. Дата публикации: 2021-08-19.

ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE AND ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20210308812A1. Автор: Watanabe Takeshi,MAEDA Keisuke,OZAKI Masaki,KINPARA Yuuki,SHIOJIRI Masayuki,MAETA Shinchi. Владелец: . Дата публикации: 2021-10-07.

ELECTROSTATIC CHUCK SYSTEM AND METHOD OF MANUFACTURING ORGANIC LIGHT-EMITTING DISPLAY APPARATUS BY USING THE ELECTROSTATIC CHUCK SYSTEM

Номер патента: US20160285052A1. Автор: PARK JUNGSUN,Lee Duckjung,Yun Kiyoung. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-29.

ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE

Номер патента: US20200303229A1. Автор: MORISHITA Norito,OZAKI Masaki. Владелец: Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.. Дата публикации: 2020-09-24.

Electrostatic chuck and method of manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: KR20220124872A. Автор: 김영훈,신동욱,박종훈. Владелец: 주식회사 예리코코리아. Дата публикации: 2022-09-14.

Electrode sheet for electrostatic chuck apparatus, electrostatic chuck apparatus, and adsorption method

Номер патента: KR100614021B1. Автор: 도찌히라준,시마다께시,하세가와유우이찌,가와세리쯔. Владелец: 가부시키가이샤 도모에가와 세이시쇼. Дата публикации: 2006-08-23.

Electrostatic chuck and wafer processing apparatus having the electrostatic chuck

Номер патента: KR101272013B1. Автор: 윤성호,김영준,오승배,박지군,박생만,우치야마 마사히코,김헌민. Владелец: 로체 시스템즈(주). Дата публикации: 2013-06-07.

Electrostatic chuck assembly used for plasma processing chamber and manufacturing method of electrostatic chuck assembly

Номер патента: CN103794445A. Автор: 倪图强,贺小明. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc Shanghai. Дата публикации: 2014-05-14.

A lift pin assembly, an electrostatic chuck and a processing apparatus where the electrostatic chuck is located

Номер патента: KR102289162B1. Автор: 투치앙 니,지에 리앙,루빈 예,마누스 옹,레이 투,지양 우. Владелец: 어드밴스드 마이크로 패브리케이션 이큅먼트 인코퍼레이티드. 차이나. Дата публикации: 2021-08-17.

Electrostatic chuck device and method of manufacturing electrostatic chuck device

Номер патента: JP6627936B1. Автор: 徳人森下,雅樹尾▲崎▼. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2020-01-08.

Electrostatic chuck member, method of manufacturing the same, and electrostatic chuck device

Номер патента: US20090056112A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2009-03-05.

Electrostatic chuck device and method of manufacturing electrostatic chuck device

Номер патента: JPWO2017122716A1. Автор: 守小坂井,宣浩日▲高▼,弘訓釘本,小坂井　守. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2018-08-16.

Electrostatic chuck device and method of manufacturing electrostatic chuck device

Номер патента: US11328948B2. Автор: Masaki OZAKI,Norito MORISHITA. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2022-05-10.

Regeneration method for side of electrostatic chuck using aerosol coating and electrostatic chuck regenerated by the same

Номер патента: KR101323645B1. Автор: 전영재. Владелец: 주식회사 템네스트. Дата публикации: 2013-11-05.

The Method Making Electrostatic Chuck And That's Electrostatic Chuck

Номер патента: KR20010063395A. Автор: 조규태,배규호,오세태,방철용. Владелец: 고석태. Дата публикации: 2001-07-09.

The preparation method of plasma processing apparatus and electrostatic chuck and electrostatic chuck

Номер патента: CN104752135B. Автор: 左涛涛,吴狄. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc Shanghai. Дата публикации: 2018-01-23.

Composite sintered body, electrostatic chuck member, electrostatic chuck device, and method for producing composite sintered body

Номер патента: WO2019182107A1. Автор: 宣浩日▲高▼,木村　直人. Владелец: 住友大阪セメント株式会社. Дата публикации: 2019-09-26.

Composite sintered body, electrostatic chuck member, electrostatic chuck device, and method for producing composite sintered body

Номер патента: CN111886213B. Автор: 日高宣浩,木村直人. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2022-12-09.

Electrostatic Chuck and manufacturing process for Electrostatic Chuck

Номер патента: KR102235765B1. Автор: 조준희,정재욱,황영주. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2021-04-01.

Dc port for high voltage electrostatic chuck and electrostatic chuck having the same

Номер патента: KR102036689B1. Автор: 송석원,이재흥,손민규,정창오,이윤용. Владелец: 와이엠씨 주식회사. Дата публикации: 2019-10-25.

Electrostatic chuck device and method for manufacturing electrostatic chuck device

Номер патента: CN116364634A. Автор: 钉本弘训,日高宣浩,小坂井守. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2023-06-30.

Method for inspecting electrostatic chuck, and electrostatic chuck apparatus

Номер патента: KR101612091B1. Автор: 히로시 후지사와. Владелец: 가부시키가이샤 크리에이티브 테크놀러지. Дата публикации: 2016-04-12.

Electrode piece for electrostatic chuck, electrostatic chuck device and its adsorptiong method

Номер патента: CN1581460A. Автор: 长谷川雄一,栃平顺,岛武志,川濑律. Владелец: Tomoegawa Paper Co Ltd. Дата публикации: 2005-02-16.

Composite sintered body, electrostatic chuck member, electrostatic chuck device, and method for producing composite sintered body

Номер патента: CN111886213A. Автор: 日高宣浩,木村直人. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2020-11-03.

Regeneration method of electrostatic chuck and electrostatic chuck

Номер патента: TW202027211A. Автор: 喜多川大. Владелец: 日商東京威力科創股份有限公司. Дата публикации: 2020-07-16.

Method for inspecting electrostatic chuck, and electrostatic chuck apparatus

Номер патента: US20110199093A1. Автор: Hiroshi Fujisawa. Владелец: Creative Technology Corp. Дата публикации: 2011-08-18.

Composite sintered body, electrostatic chuck member, and electrostatic chuck device

Номер патента: CN110709367A. Автор: 钉本弘训,日高宣浩. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2020-01-17.

Power supply for electrostatic chuck device, electrostatic chuck device, and dechuck control method

Номер патента: JP2021141120A. Автор: Takahiro Tsuchiya,貴裕土屋. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2021-09-16.

Electrostatic chuck sheet and electrostatic chuck comprising same

Номер патента: WO2022191676A1. Автор: 이지형,남기훈,안영준,우경환,단성백,박승곤,진병수. Владелец: 주식회사 아모센스. Дата публикации: 2022-09-15.

Electrostatic chuck and method of treating substrate using electrostatic chuck

Номер патента: US20030165044A1. Автор: Kouichi Yamamoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2003-09-04.

Electrostatic chuck and method for manufacturing the electrostatic chuck

Номер патента: TW201409604A. Автор: Jiro Kawai,Norio Shiraiwa. Владелец: Shinko Electric Ind Co. Дата публикации: 2014-03-01.

Composite sintered body, electrostatic chuck member, and electrostatic chuck device

Номер патента: US11784079B2. Автор: Nobuhiro Hidaka,Hironori Kugimoto. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2023-10-10.

Electrostatic chuck device power supply, electrostatic chuck device, and dechuck control method

Номер патента: EP4117168A4. Автор: Takahiro Tsuchiya. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2024-04-03.

Electrostatic chuck for ion injector

Номер патента: EP1146546A3. Автор: Kazuhiko Silicone E.M. Research Center Tomaru,Ryuichi Silicone E.M. Research Center Handa,Tautomu Silicone E.M. Research Center Yoneyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2006-03-15.

METHOD TO PROVIDE CONSISTENT ELECTROSTATIC CLAMPING THROUGH REAL TIME CONTROL OF ELECTROSTATIC CHARGE DEPOSITION IN AN ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20190172743A1. Автор: Reynolds William P.,McIntyre Edward K.. Владелец: . Дата публикации: 2019-06-06.

METHOD OF MANUFACTURING ELECTROSTATIC CHUCK AND ELECTROSTSATIC CHUCK

Номер патента: US20190013230A1. Автор: KOBAYASHI Yoshiyuki,TAGA Satoshi,NAGASEKI Kazuya. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2019-01-10.

METHOD AND APPARATUS FOR DIRECT MEASUREMENT OF CHUCKING FORCE ON AN ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20200103294A1. Автор: Boyd,RAJ Govinda,JR. Wendell Glenn,Hirahara Robert,POTTER Charles G.. Владелец: . Дата публикации: 2020-04-02.

ELECTROSTATIC CHUCK DESIGN WITH IMPROVED CHUCKING AND ARCING PERFORMANCE

Номер патента: US20200176296A1. Автор: KULSHRESHTHA Prashant Kumar,PRABHAKAR Vinay K.,KHAJA Abdul Aziz,Parimi Venkata Sharat Chandra,BOBEK Sarah Michelle. Владелец: . Дата публикации: 2020-06-04.

CHUCK ASSEMBLY AND METHOD OF SECURING ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20200219748A1. Автор: JEONG WOOHYUN. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-09.

METHOD TO REMOVE RESIDUAL CHARGE ON A ELECTROSTATIC CHUCK DURING THE DE-CHUCKING STEP

Номер патента: US20170263487A1. Автор: Boyd,JR. Wendell Glen,CHO Tom K.,HIRAHARA Robert T.. Владелец: . Дата публикации: 2017-09-14.

Method for processing electrostatic chuck by using ALD (atomic layer deposition) process

Номер патента: CN112553592B. Автор: 倪图强,陈星建,郭盛. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc Shanghai. Дата публикации: 2023-03-31.

Electrostatic chuck and substrate treating apparatus including the chuck

Номер патента: KR101951369B1. Автор: 김형준. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2019-02-25.

Method of manufacturing chuck plate for use in electrostatic chuck

Номер патента: US20110256810A1. Автор: Masahiko Ishida,Naoki Morimoto,Takahiro Nanba,Kouji SOGABE. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-10-20.

Ceramic heater for semiconductor manufacturing / inspection equipment, electrostatic chuck for semiconductor manufacturing / inspection equipment and chuck top for wafer prober

Номер патента: JP3273773B2. Автор: 靖二平松,康隆伊藤. Владелец: Ibiden Co Ltd. Дата публикации: 2002-04-15.

Electrostatic chuck, and method of and apparatus for processing sample using the chuck

Номер патента: US6373681B2. Автор: Saburo Kanai,Ken Yoshioka,Youichi Itou,Seiichiro Kanno,Tatehito Usui. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2002-04-16.

Electrostatic chuck, and method of and apparatus for processing sample using the chuck

Номер патента: US20010019472A1. Автор: Saburo Kanai,Ken Yoshioka,Youichi Itou,Seiichiro Kanno,Tatehito Usui. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-09-06.

Method for manufacturing chuck plate for electrostatic chuck

Номер патента: TW201032943A. Автор: Masahiko Ishida,Naoki Morimoto,Takahiro Nanba,Kouji SOGABE. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2010-09-16.

Method and apparatus for controlling chucking force in an electrostatic chuck

Номер патента: EP1047126A2. Автор: Karl P. Leeser. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-10-25.

Manufacturing method of Bipolar Electrostatic chuck using Ceramic Paste Composition

Номер патента: KR101967424B1. Автор: 정경선,김보균. Владелец: (주)제니스월드. Дата публикации: 2019-08-19.

De-chucking apparatus of electrostatic chuck for semiconductor equipment

Номер патента: KR100500471B1. Автор: 김종준. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2005-07-12.

A placing mechanism, a plasma processing apparatus using the same, and a voltage applying method for the electrostatic chuck

Номер патента: TWI466226B. Автор: Atsuki Furuya,Toshihiro Tojo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-12-21.

Method for optimized removal of wafer from electrostatic chuck

Номер патента: TW201041079A. Автор: Terry Bluck,Dennis Grimard,Hizam Sahibudeen. Владелец: Intevac Inc. Дата публикации: 2010-11-16.

Tripolar electrode arrangement for electrostatic chucks

Номер патента: US20240234106A9. Автор: Karl Frederick Leeser,Richard Blank,Jacob L. Hiester. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Electrostatic chuck and manufacturing method thereof

Номер патента: SG136869A1. Автор: Waichi Yamamura,Hideki Fuji. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2007-11-29.

Electrostatic chuck containing double buffer layer for reducing thermal stress

Номер патента: TW201021153A. Автор: Jin-Sik Choi,Jeong-Duck Choi. Владелец: Komico Ltd. Дата публикации: 2010-06-01.

Electrostatic chuck apparatus

Номер патента: TW200644148A. Автор: Yoshikazu Ohtani. Владелец: Shinetsu Eng Co Ltd. Дата публикации: 2006-12-16.

Method for using an RC circuit to model trapped charge in an electrostatic chuck

Номер патента: TW200945086A. Автор: Brian McMillin,Konstantin Makhratchev. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2009-11-01.

Electrostatic chuck

Номер патента: TW577861B. Автор: Shinji Yamaguchi. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2004-03-01.

Apparatus and method for ex-situ testing of performance parameters on an electrostatic chuck

Номер патента: TW442664B. Автор: Gilbert Hausmann. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-06-23.

Dry etching using electrostatic chucking device

Номер патента: IE812268L. Автор: . Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1982-03-30.

Method and apparatus for dry etching and electrostatic chucking device used therein

Номер патента: DE3171924D1. Автор: Naomichi Abe. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1985-09-26.

High-purity low-resistivity electrostatic chucks

Номер патента: AU4516201A. Автор: Ramesh Divakar. Владелец: Saint Gobain Ceramics and Plastics Inc. Дата публикации: 2001-06-18.

Electrostatic chuck and manufacturing method thereof

Номер патента: TWI335636B. Автор: NOBORI Kazuhiro,MORI Yutaka. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2011-01-01.

Electrostatic chuck and manufacturing method thereof

Номер патента: EP1837317B1. Автор: Kazuhiro c/o NGK Insulators Ltd. Nobori,Yutaka c/o NGK Insulators Ltd. Mori. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2014-08-20.

Slotted electrostatic chuck

Номер патента: IL279285B1. Автор: . Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-03-01.

Slotted electrostatic chuck

Номер патента: IL279285B2. Автор: . Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-07-01.

Slotted electrostatic chuck

Номер патента: EP3811401A4. Автор: Aviv Balan,Haoran Jiang. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2022-03-23.

Permanent secondary erosion containment for electrostatic chuck bonds

Номер патента: US12074049B2. Автор: Eric A. Pape. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Rotating biasable pedestal and electrostatic chuck in semiconductor process chamber

Номер патента: US12112972B2. Автор: Qiwei Liang,Dmitry Lubomirsky,Gautam PISHARODY,Douglas Arthur BUCHBERGER, Jr.,Shekhar ATHANI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-08.

Method for reducing temperature transition in an electrostatic chuck

Номер патента: US09922855B2. Автор: Tao Zhang,Eric A. Pape,Ole Waldmann. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-20.

System and method for reducing temperature transition in an electrostatic chuck

Номер патента: US09779974B2. Автор: Tao Zhang,Eric A. Pape,Ole Waldmann. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Deposition ring and electrostatic chuck for physical vapor deposition chamber

Номер патента: US09689070B2. Автор: Rongjun Wang,Keith A. Miller,Muhammad Rasheed. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-06-27.

ELECTROSTATIC CHUCK AND ELECTROSTATIC ADSORPTION APPARATUS

Номер патента: US20180123486A1. Автор: BAE Min Ho,KIM Yun Soo,KIM Byung-Moo,YOUN Tae-Ho. Владелец: . Дата публикации: 2018-05-03.

Electrostatic chuck and electrostatic adsorption apparatus having the same

Номер патента: US20200126835A1. Автор: Min Ho BAE,Hyok Keo Se KWON,Tae Ho Youn. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

ELECTROSTATIC ATTRACTION APPARATUS, ELECTROSTATIC CHUCK AND COOLING TREATMENT APPARATUS

Номер патента: US20150349668A1. Автор: SUZUKI Naoyuki,YAMAMOTO Kaoru,Orimoto Shinji. Владелец: . Дата публикации: 2015-12-03.

Electrostatic sheet and electrostatic chuck including the same

Номер патента: KR20220128163A. Автор: 이지형,남기훈,안영준,우경환,단성백,박승곤,진병수. Владелец: 주식회사 아모센스. Дата публикации: 2022-09-20.

Electrostatic chuck improved in electrostatic plate structure

Номер патента: KR101829227B1. Автор: 황정훈,안호갑. Владелец: 이지스코 주식회사. Дата публикации: 2018-02-14.

Electrostatic chucks and electrostatically attracting structures

Номер патента: US20040070916A1. Автор: Naohito Yamada,Hideyoshi Tsuruta. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2004-04-15.

Substrate carrier system utilizing electrostatic chucking to accommodate substrate size heterogeneity

Номер патента: US20160133782A1. Автор: Sriskantharajah Thirunavukarasu,Mingwei Zhu,Jen Sern Lew,Karthik Elumalai. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-05-12.

Electrostatic chuck for use in semiconductor processing

Номер патента: US11817341B2. Автор: Troy Alan Gomm. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-11-14.

Electrostatic chuck for use in semiconductor processing

Номер патента: EP4258332A2. Автор: Troy Alan Gomm. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-10-11.

Electrostatic chuck for use in semiconductor processing

Номер патента: EP3631846A1. Автор: Troy Alan Gomm. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2020-04-08.

Electrostatic chuck for use in semiconductor processing

Номер патента: US20240038568A1. Автор: Troy Alan Gomm. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-02-01.

Electrostatic chuck for use in semiconductor processing

Номер патента: EP4258332A3. Автор: Troy Alan Gomm. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-01-03.

Improved plasma resistant coatings for electrostatic chucks

Номер патента: WO2022117746A8. Автор: Matthew Paul KIRK. Владелец: Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon. Дата публикации: 2023-05-25.

Electrostatic chuck with advanced rf and temperature uniformity

Номер патента: US20130279066A1. Автор: Dmitry Lubomirsky,Douglas A. Buchberger, Jr.,Jennifer Y. Sun,Konstantin Makhratchev,Mark MARKOVSKY,Samer Banna. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-10-24.

ELECTROSTATIC CHUCK WITH SEAL SURFACE

Номер патента: US20210013080A1. Автор: LaVoie Adrien,Chandrasekharan Ramesh,Karim Ishtak,Baldasseroni Chloe,Roberts Michael Philip,Breiling Patrick G.. Владелец: . Дата публикации: 2021-01-14.

ELECTROSTATIC CHUCK WITH VARIABLE PIXELATED MAGNETIC FIELD

Номер патента: US20200013661A1. Автор: GUNG TZA-JING,Agarwal Ankur,Schwarz Benjamin,Rauf Shahid,Willwerth Michael D.,Guo Zhiqiang,PARKHE Vijay D.,HSU CHIH-HSUN. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-09.

Electrostatic chuck with embossments that comprise diamond-like carbon and deposited silicon-based material, and related methods

LONG-LIFE EXTENDED TEMPERATURE RANGE EMBEDDED DIODE DESIGN FOR ELECTROSTATIC CHUCK WITH MULTIPLEXED HEATERS ARRAY

Номер патента: US20220068691A1. Автор: Tian Siyuan. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-03.

HIGH TEMPERATURE ELECTROSTATIC CHUCKING WITH DIELECTRIC CONSTANT ENGINEERED IN-SITU CHARGE TRAP MATERIALS

Номер патента: US20160064264A1. Автор: Kim Bok Hoen,Balasubramanian Ganesh,Rocha-Alvarez Juan Carlos,LEE Kwangduk Douglas,Chen Jian J.,YE Zheng John,KULSHRESHTHA Prashant,BEHERA Swayambhu Prasad. Владелец: . Дата публикации: 2016-03-03.

ELECTROSTATIC CHUCK WITH CERAMIC MONOLITHIC BODY

Номер патента: US20220148903A1. Автор: Wang Feng,Gaff Keith,Ehrlich Darrell,Kimball Christopher. Владелец: . Дата публикации: 2022-05-12.

ELECTROSTATIC CHUCK WITH DIFFERENTIATED CERAMICS

Номер патента: US20220270906A1. Автор: PARKHE Vijay D.. Владелец: . Дата публикации: 2022-08-25.

ELECTROSTATIC CHUCK WITH MULTIPLE RADIO FREQUENCY MESHES TO CONTROL PLASMA UNIFORMITY

Номер патента: US20210166915A1. Автор: Baek Jonghoon,Hammond,IV Edward P.. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-03.

Electrostatic chuck with reduced current leakage for hybrid laser scribing and plasma etch wafer singulation process

Номер патента: US20210175086A1. Автор: James S. Papanu,Cheng Sun,Eng Sheng Peh,Michael Sorensen,Gaurav Mehta,Karthik Elumalai,Dimantha Rajapaksa,Sai Abhinand,Sri Thirunavukarasu,Onkara Korasiddaramaiah. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-06-10.

ELECTROSTATIC CHUCK WITH CHARGE DISSIPATION COATING

Номер патента: US20200161158A1. Автор: Donnell Steven,Liu Yan,RYBCZYNSKI Jakub,CHAN Chun Wang. Владелец: . Дата публикации: 2020-05-21.

ELECTROSTATIC CHUCK WITH INTERNAL FLOW ADJUSTMENTS FOR IMPROVED TEMPERATURE DISTRIBUTION

Номер патента: US20150187626A1. Автор: Thach Senh,Boyd,JR. Wendell,PARKHE Vijay D.,Makhratchev Konstantin,Busche Matthew J.,Ono Masanori. Владелец: . Дата публикации: 2015-07-02.

HIGH POWER ELECTROSTATIC CHUCK WITH APERTURE-REDUCING PLUG IN A GAS HOLE

Номер патента: US20170352568A1. Автор: Ramaswamy Kartik,ZHANG CHUNLEI,WANG Haitao,Cho Jaeyong,PARKHE Vijay D.. Владелец: . Дата публикации: 2017-12-07.

HIGH TEMPERATURE ELECTROSTATIC CHUCKING WITH DIELECTRIC CONSTANT ENGINEERED IN-SITU CHARGE TRAP MATERIALS

Номер патента: US20190355609A1. Автор: Kim Bok Hoen,Balasubramanian Ganesh,Rocha-Alvarez Juan Carlos,LEE Kwangduk Douglas,Chen Jian J.,YE Zheng John,KULSHRESHTHA Prashant,BEHERA Swayambhu Prasad. Владелец: . Дата публикации: 2019-11-21.

Electrostatic chuck with charge dissipative coating

Номер патента: CN113056816A. Автор: 刘研,J·莱辛斯基,S·唐奈,陈俊泓. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2021-06-29.

Electrostatic chuck with embedded flat device for plasma diagnostics

Номер патента: KR102193694B1. Автор: 김정형,성대진,이효창. Владелец: 한국표준과학연구원. Дата публикации: 2020-12-21.

Electrostatic chuck with charge dissipation coating

Номер патента: WO2020106521A1. Автор: Yan Liu,Jakub Rybczynski,Steven Donnell,Chun Wang CHAN. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2020-05-28.

Electrostatic chuck with photo-patternable soft protrusion contact surface

Номер патента: US9721821B2. Автор: Richard A. Cooke,Jakub Rybczynski,I-Kuan Lin. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2017-08-01.

Electrostatic chuck with polymer protrusions

Номер патента: KR101680787B1. Автор: 얀 리우,리차드 에이 쿡,네이트 리차드,스티븐 도넬,마크 보스. Владелец: 엔테그리스, 아이엔씨.. Дата публикации: 2016-11-29.

Electrostatic chuck with polymer protrusions

Номер патента: US8879233B2. Автор: Yan Liu,Richard A. Cooke,Steven Donnell,Nate Richard,Mark Vose. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2014-11-04.

Electrostatic chuck with powder coating

Номер патента: US20220130705A1. Автор: Slobodan Mitrovic,Jeremy George SMITH,Oleksandr MIKHNENKO. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2022-04-28.

Electrostatic chuck with high-resistivity ceramic coating materials

Номер патента: WO2008010632A1. Автор: Kyeong-Ho Baik. Владелец: University-Industry Collaboration Foundation Chungnam National University. Дата публикации: 2008-01-24.

Electrostatic chuck with reduced arcing

Номер патента: US20110157760A1. Автор: Michael D. Willwerth,Douglas A. Buchberger, Jr.,Michael G. Chafin,David Palagashvili. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-06-30.

Electrostatic chuck with improved adhesion

Номер патента: KR20220135059A. Автор: 김덕기,신용욱,임완규,박수찬,김순훈,손세헌,송하승. Владелец: 주식회사 아이앤티. Дата публикации: 2022-10-06.

Systems and methods of seasoning electrostatic chucks with dielectric seasoning films

Номер патента: TW202225451A. Автор: 迪尼斯帕奇,葛尼斯巴拉蘇拔馬尼安,艾克希爾辛哈爾,亞利森姚,趙澤瓊,相辰金,志鈞蔣. Владелец: 美商應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2022-07-01.

Systems and methods of seasoning electrostatic chucks with dielectric seasoning films

Номер патента: US11646216B2. Автор: Deenesh Padhi,Ganesh Balasubramanian,Akhil Singhal,Sang-Jin Kim,Zhijun Jiang,Allison YAU,Zeqiong ZHAO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-05-09.

Electrostatic chuck with metal shaft

Номер патента: WO2022187029A1. Автор: Vijay D. Parkhe,Ashutosh Agarwal. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-09-09.

Electrostatic chuck with porous regions

Номер патента: KR100557695B1. Автор: 라메쉬 디바카. Владелец: 생-고뱅 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2006-03-07.

Electrostatic chuck with mesas

Номер патента: TW202249190A. Автор: 維傑Ｄ帕克,亞瑟多瑟雅加爾瓦. Владелец: 美商應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2022-12-16.

Electrostatic chuck with reduced current leakage for hybrid laser scribing and plasma etch wafer singulation process

Номер патента: GB202208230D0. Автор: . Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-07-20.

Electrostatic chuck with variable pixelated magnetic field

Номер патента: US10460968B2. Автор: Vijay D. Parkhe,Shahid Rauf,Michael D. Willwerth,Ankur Agarwal,Benjamin Schwarz,Zhiqiang Guo,Tza-Jing Gung,Chih-Hsun Hsu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-10-29.

Electrostatic chuck with charge dissipation coating

Номер патента: TWI740278B. Автор: 雅各萊辛斯基,劉研,史蒂芬唐納,俊泓陳. Владелец: 美商恩特葛瑞斯股份有限公司. Дата публикации: 2021-09-21.

Electrostatic chuck with reduced arcing

Номер патента: WO2011063084A2. Автор: Michael D. Willwerth,Michael G. Chafin,David Palagashvili,Jr. Douglas A. Buchberger. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2011-05-26.

Electrostatic chuck with an insulating layer

Номер патента: EP1156522B1. Автор: Naohito Yamada,Hideyoshi Tsuruta. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2014-11-19.

Electrostatic chuck with powder coating

Номер патента: WO2020172070A1. Автор: Slobodan Mitrovic,Jeremy George SMITH,Oleksandr MIKHNENKO. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2020-08-27.

An electrostatic chuck with an angled sidewall

Номер патента: TW201125068A. Автор: Rajinder Dhindsa,Pratik Mankidy,Chris Kimball. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2011-07-16.

Electrostatic chuck and a method for supporting a wafer

Electrostatic chuck apparatus

Номер патента: US20120281334A1. Автор: Yasuharu Sasaki,Mamoru Kosakai,Takashi Satou,Kenji Masuzawa,Toshiyuki Makabe,Kazunori Ishimura,Ryuuji Hayahara,Hitoshi Kouno. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-11-08.

ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20130093145A1. Автор: Hori Hiroaki,Itakura Ikuo,MATSUI Hiroki. Владелец: TOTO LTD.. Дата публикации: 2013-04-18.

Deposition ring and electrostatic chuck for physical vapor deposition chamber

Номер патента: US20130112554A1. Автор: Rongjun Wang,Keith A. Miller,Muhammad Rasheed. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2013-05-09.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20130120896A1. Автор: Hiroshi Ono. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2013-05-16.

ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20130201597A1. Автор: Ishikawa Kaduko,Yonezawa Junji,Aoshima Toshihiro,Hayashida Yoshihide. Владелец: TOTO LTD.. Дата публикации: 2013-08-08.

ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20130235507A1. Автор: WATANABE Morimichi,JINDO Asumi,KATSUDA Yuji,SATO Yosuke,ISODA Yoshinori,AIKAWA Kenichiro. Владелец: NGK Insulators, Ltd.. Дата публикации: 2013-09-12.

ELECTROSTATIC CHUCK HAVING REDUCED POWER LOSS

Номер патента: US20130284709A1. Автор: Sun Jennifer Y.,Makhratchev Konstantin. Владелец: . Дата публикации: 2013-10-31.

ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20130286531A1. Автор: SHIRAIWA Norio,KAWAI Jiro. Владелец: SHINKO ELECTRIC INDUSTRIES CO., LTD.. Дата публикации: 2013-10-31.

ELECTROSTATIC CHUCK AND MANUFACTURING METHOD THEREOF

Номер патента: US20130306593A1. Автор: Yamamoto Takashi,Hida Tsuyoshi. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2013-11-21.

ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE

Номер патента: US20140042716A1. Автор: Miura Yukio,KOSAKAI Mamoru,Ishimura Kazunori. Владелец: Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.. Дата публикации: 2014-02-13.

ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20140063681A1. Автор: Anada Kazuki,WADA Takuma. Владелец: TOTO LTD.. Дата публикации: 2014-03-06.

ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20140063682A1. Автор: Anada Kazuki,WADA Takuma. Владелец: TOTO LTD.. Дата публикации: 2014-03-06.

PORTABLE ELECTROSTATIC CHUCK CARRIER FOR THIN SUBSTRATES

Номер патента: US20140071581A1. Автор: Haas Dieter,Hofmann Ralf,FOAD MAJEED A.. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-03-13.

CERAMIC STRUCTURE, ELECTROSTATIC CHUCK AND SUBSTRATE FIXING DEVICE

Номер патента: US20220013341A1. Автор: MINEMURA Tomotake. Владелец: . Дата публикации: 2022-01-13.

ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20180005860A1. Автор: Shimizu Kazunori,MIYAMOTO Kazuyoshi. Владелец: SHINKO ELECTRIC INDUSTRIES CO., LTD.. Дата публикации: 2018-01-04.

ELECTROSTATIC CHUCK AND METHOD FOR MANUFACTURING PROTRUSIONS THEREOF

Номер патента: US20210005496A1. Автор: SHI Quanyu,YE HUA,WANG Hougong,ZHENG Jinguo. Владелец: . Дата публикации: 2021-01-07.

ELECTROSTATIC CHUCK SIDEWALL GAS CURTAIN

Номер патента: US20200006109A1. Автор: Liu Yan-Hong,Chen Che-Fu,HSIEH Ian. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.. Дата публикации: 2020-01-02.

ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE

Номер патента: US20210006182A1. Автор: Maeta Shinichi. Владелец: Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.. Дата публикации: 2021-01-07.

Electrostatic chuck, substrate processing apparatus, and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20190013222A1. Автор: Dougyong Sung,Minsung Kim,Myoung Soo Park,Dongyun Yeo,Yun-kwang Jeon,Suho LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-01-10.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20190013231A1. Автор: Hitoshi Sasaki,Kosuke Yamaguchi,Yuichi Yoshii,Kengo Maehata. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2019-01-10.

ELECTROSTATIC CHUCK UNIT AND THIN FILM DEPOSITION APPARATUS INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20200013658A1. Автор: LEE Seungjin,SONG Minchul,MIN Soohyun,KIM EUIGYU,KO JUNHYEUK,HONG SEUNGJU,Moon Jaesuk,Kong Byungik. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-09.

ELECTROSTATIC CHUCK, ETCHING APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING DISPLAY DEVICE

Номер патента: US20220037186A1. Автор: KIM Tae Hun,Kim Do Hwan,KIM Jae Han,JANG Hee Sun,MYOUNG Seung Ho,OH Dae Young,HAN Gyeong Hee. Владелец: . Дата публикации: 2022-02-03.

CENTERING FIXTURE FOR ELECTROSTATIC CHUCK SYSTEM

Номер патента: US20180019147A1. Автор: JR. Donald R.,Boyea,Bombardier Matthew J.. Владелец: . Дата публикации: 2018-01-18.

ELECTROSTATIC CHUCK TABLE

Номер патента: US20180019168A1. Автор: Furuta Kenji,Matsuzaki Sakae,Ito Noriko,Togashi Ken. Владелец: . Дата публикации: 2018-01-18.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20140104743A1. Автор: Seong-Su Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-04-17.

ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20190019715A1. Автор: Sasaki Hitoshi,Yoshii Yuichi,YAMAGUCHI Kosuke,MAEHATA Kengo,UEFUJI Jumpei. Владелец: . Дата публикации: 2019-01-17.

ELECTROSTATIC CHUCK FOR HIGH TEMPERATURE PROCESS APPLICATIONS

Номер патента: US20150022936A1. Автор: Cox Michael S.,Yuan Zheng. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-22.

GROUNDING MECHANISM FOR MULTI-LAYER FOR ELECTROSTATIC CHUCK, AND RELATED METHODS

Номер патента: US20210028046A1. Автор: Donnell Steven,Liu Yan,RYBCZYNSKI Jakub,CHAN Chun Wang. Владелец: . Дата публикации: 2021-01-28.

System and method for electrostatically chucking a substrate to a carrier

Номер патента: US20210028726A1. Автор: Alexander N. Lerner,Kim Ramkumar VELLORE,Steven Trey TINDEL. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-01-28.

IN-SITU REMOVABLE ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20150036259A1. Автор: HAWRYLCHAK LARA,Cox Michael S.,SANSONI STEVEN V.. Владелец: . Дата публикации: 2015-02-05.

CERAMIC MIXTURE PASTE, POROUS BODY, ELECTROSTATIC CHUCK, AND SUBSTRATE FIXING DEVICE

Номер патента: US20190035667A1. Автор: MINEMURA Tomotake. Владелец: . Дата публикации: 2019-01-31.

ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20200035468A1. Автор: Sasaki Hitoshi,MOMIYAMA Yutaka. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-30.

ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20200035469A1. Автор: Sasaki Hitoshi,MOMIYAMA Yutaka. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-30.

Electrostatic chuck with separated electrodes

Номер патента: US20080239614A1. Автор: Lyudmila Stone,Dale K. Stone,Julian G. Blake,David Suuronen. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2008-10-02.

Electrostatic chuck and electrostatic chuck apparatus including the same

Номер патента: US20200227300A1. Автор: Yoshiaki Moriya,Sang Kee LEE. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-16.

Electrostatic chuck assembly and method for controlling temperature of electrostatic chuck

Номер патента: KR100798813B1. Автор: 김영한. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2008-01-28.

Method for producing electrostatic chuck and electrostatic chuck

Номер патента: US9394206B2. Автор: Takuji Kimura,Kazuhiro Nobori,Masahito Eguchi. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2016-07-19.

Method for producing electrostatic chuck and electrostatic chuck

Номер патента: TW201243996A. Автор: Takuji Kimura,Kazuhiro Nobori,Masahito Eguchi. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2012-11-01.

Electrostatic chuck assembly, electrostatic chuck and focus ring

Номер патента: KR102387008B1. Автор: 다츠야 구노,이쿠히사 모리오카,겐이치로 아이카와. Владелец: 엔지케이 인슐레이터 엘티디. Дата публикации: 2022-04-18.

Electrostatic chuck and electrostatic chuck apparatus including the same

Номер патента: US11367646B2. Автор: Yoshiaki Moriya,Sang Kee LEE. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-21.

Electrostatic chuck and manufacturing method of electrostatic chuck capable of maintaining an adsorption force relative to a workpiece more satisfactorily after stopping the electric power supply to an electrode

Номер патента: TW201824729A. Автор: 松崎榮. Владелец: 日商迪思科股份有限公司. Дата публикации: 2018-07-01.

Electrostatic chuck assembly and electrostatic chuck

Номер патента: JP6894000B2. Автор: 達也久野,育久森岡,賢一郎相川. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2021-06-23.

Electrostatic chuck and manufacturing method of electrostatic chuck

Номер патента: KR20230063980A. Автор: 김형준,이재경,이제희. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2023-05-10.

Method to remove residual charge on a electrostatic chuck during the de-chucking step

Номер патента: US20170263487A1. Автор: Tom K. Cho,Robert T. Hirahara,Wendell Glen BOYD, JR.. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-14.

Electrostatic chuck with cooling gas region and corresponding grooves and monopolar electrostatic clamping electrode mode

Номер патента: CN110914971B. Автор: 约翰·帕特里克·霍兰德,亚历山大·马丘什金,基思·劳伦斯·科芒丹特. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-04-28.

Electrostatic chuck with cooling gas compartment and corresponding grooves and unipolar electrostatic clamp electrode pattern

Номер патента: JP6903135B2. Автор: マチュシキン・アレクサンダー,コメンダント・キース・ロレンス,ホランド・ジョン・パトリック. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2021-07-14.

Electrostatic chuck design with improved chucking and arcing performance

Номер патента: TW202027217A. Автор: 芬卡塔莎瑞特山卓帕瑞米,艾比杜亞西斯克哈嘉,莎拉蜜雪兒博貝克,派瑞尚特庫馬庫許魯須薩,維納Ｋ普拉博哈卡爾. Владелец: 美商應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2020-07-16.

Electrostatic chuck design with improved chucking and arcing performance

Номер патента: US20230298922A1. Автор: Prashant Kumar KULSHRESHTHA,Abdul Aziz KHAJA,Sarah Michelle Bobek,Venkata Sharat Chandra PARIMI,Vinay K. PRABHAKAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-21.

Light-up prevention in electrostatic chucks

Номер патента: TW201118979A. Автор: Tom Stevenson,Rajinder Dhindsa,Daniel Byun,Saurabh Ullal,Babak Kadkhodayan. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2011-06-01.

Light-up prevention in electrostatic chucks

Номер патента: EP2460179A4. Автор: Tom Stevenson,Rajinder Dhindsa,Daniel Byun,Saurabh Ullal,Babak Kadkhodayan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2012-06-06.

Ceramic substrate, electrostatic chuck, substrate fixing device, and package for semiconductor device

Номер патента: US20230307282A1. Автор: Akira Goto. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Electrostatic chucking stage and substrate processing apparatus

Номер патента: TWI222155B. Автор: Kazuaki Kaneko,Masayoshi Ikeda,Takuji Okada,Yasumi Sago,Toshihiro Tachikawa. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 2004-10-11.

Ceramic assembly and electrostatic chuck device

Номер патента: US20240312769A1. Автор: Yukio Miura,Nobuhiro Hidaka,Jun Arikawa. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2024-09-19.

Dielectric material and electrostatic chucking device

Номер патента: US09944561B2. Автор: Masayuki Ishizuka,Hiroaki Nagatomo. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2018-04-17.

Electrostatic chuck and apparatus for processing a substrate including the same

Номер патента: US09583371B2. Автор: Sang-Young Lee,Jin-Man Kim,Jong-Bum Park,Kwang-Bo Sim,Jea-Eun Jess Shim,Hee-Sam Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-02-28.

Electrostatic chuck device and electrostatic adsorption method

Номер патента: CN108242421B. Автор: 松崎荣. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2022-10-04.

Electrostatic chuck apparatus and Electrostatic Absorption method

Номер патента: CN108242421A. Автор: 松崎荣. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2018-07-03.

Electrostatic chuck mechanism and semiconductor processing device

Номер патента: SG11201805094RA. Автор: Haiying Liu,Yulin Peng. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-30.

Electrostatic chuck with spatially tunable rf coupling to a wafer

Номер патента: US20220199378A1. Автор: John Drewery. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2022-06-23.

Electrostatic chuck with spatially tunable rf coupling to a wafer

Номер патента: TW202105565A. Автор: 約翰朱爾瑞. Владелец: 美商蘭姆研究公司. Дата публикации: 2021-02-01.

Electrostatic chuck with plasma diagnostics

Номер патента: KR20230007899A. Автор: 김정형,이효창. Владелец: 한국표준과학연구원. Дата публикации: 2023-01-13.

Electrostatic chuck with separated electrodes

Номер патента: TW200839933A. Автор: Julian G Blake,Lyudmila Stone,David Suuronen,Dale K Stone. Владелец: Varian Semiconductor Equipment. Дата публикации: 2008-10-01.

Electrostatic chuck and semiconductor/liquid crystal manufacturing equipment

Номер патента: US20130048217A1. Автор: Norio Shiraiwa. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2013-02-28.

Charged particle beam apparatus and electrostatic chuck apparatus

Номер патента: US20140091232A1. Автор: Naoya Ishigaki,Tetsuji Ohsawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2014-04-03.

DEPOSITION RING AND ELECTROSTATIC CHUCK FOR PHYSICAL VAPOR DEPOSITION CHAMBER

Номер патента: US20180010242A1. Автор: Wang Rongjun,Miller Keith A.,RASHEED MUHAMMAD. Владелец: . Дата публикации: 2018-01-11.

ELECTROSTATIC CHUCK, METHOD OF MANUFACTURING ELECTROSTATIC CHUCK, AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20210366696A1. Автор: Lee Je Hee,LEE Sang Kee. Владелец: SEMES CO., LTD.. Дата публикации: 2021-11-25.

Electrostatic chuck device

Номер патента: US11887877B2. Автор: Mamoru Kosakai,Keisuke Maeda,Masaki OZAKI. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2024-01-30.

Electrostatic chuck device and electrostatic chuck device manufacturing method

Номер патента: US20210308812A1. Автор: Takeshi Watanabe,Keisuke Maeda,Yuuki KINPARA,Masaki OZAKI,Masayuki Shiojiri,Shinchi MAETA. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2021-10-07.

Electrostatic chucking process

Номер патента: US12100609B2. Автор: Kwangduk Douglas Lee,Prashant Kumar KULSHRESHTHA,Sarah Michelle Bobek,Venkata Sharat Chandra PARIMI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-24.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20210175109A1. Автор: Masaki Sato,Ikuo Itakura,Shuichiro Saigan,Yutaka Momiyama,Jun SHIRAISHI,Kouta Kobayashi. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2021-06-10.

Systems and methods for calibrating scalar field contribution values for a limited number of sensors including a temperature value of an electrostatic chuck and estimating temperature distribution profiles based on calibrated values

Номер патента: US20190332094A1. Автор: Andrew D. Bailey, III,Marcus Musselman. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2019-10-31.

Electrostatic chuck device and production method for electrostatic chuck device

Номер патента: US11837489B2. Автор: Hironori Kugimoto,Norito MORISHITA. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2023-12-05.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20200035469A1. Автор: Hitoshi Sasaki,Yutaka Momiyama. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2020-01-30.

Plasma guard for chamber equipped with electrostatic chuck

Номер патента: US5762714A. Автор: Kenneth S. Collins,Jon Mohn,Joshua Chiu-Wing Tsui. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1998-06-09.

Electrostatic chuck device and method for producing electrostatic chuck device

Номер патента: US11848223B2. Автор: Takeshi Watanabe,Kentaro Takahashi,Hironori Kugimoto,Masaki OZAKI. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2023-12-19.

Electrostatic chuck and plasma apparatus for processing substrates having the same

Номер патента: US20170358475A1. Автор: Jae-hoon Kim,Kyung-Sun Kim,Ohyung Kwon,Doug-Yong Sung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-12-14.

Electrostatic chuck device, pressure calculation method and program

Номер патента: US20230274966A1. Автор: Lei Ma,Tadahiro Yasuda,Andrew Price. Владелец: Horiba Stec Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Method and equipment for leakage testing of electrostatic chuck

Номер патента: US20230204448A1. Автор: Mi Young JO,Young Ran KO,Da-Som BAE,Kyeong Hee KANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Electrostatic chuck, electrostatic chuck heater comprising same, and semiconductor holding device

Номер патента: US20240239716A1. Автор: Ji Hyung Lee. Владелец: Amosense Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Electrostatic chuck, electrostatic chuck heater comprising same, and semiconductor holding device

Номер патента: US20240290583A1. Автор: Ji Hyung Lee. Владелец: Amosense Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Hybrid electrostatic chuck

Номер патента: WO2011083751A1. Автор: Micheal Sogard. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2011-07-14.

Electrostatic chuck having reduced power loss

Номер патента: US20160163577A1. Автор: Jennifer Y. Sun,Konstantin Makhratchev. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-06-09.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20240297063A1. Автор: Hong Gao,Joaquin Aguilar SANTILLAN,Shanker KUTTATH. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-09-05.

Method for producing electrostatic chuck and electrostatic chuck

Номер патента: US09650302B2. Автор: Takuji Kimura,Takahiro Takahashi,Hirokazu Nakanishi. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Electrostatic chuck and method for manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: US12125731B2. Автор: Hiroshi Ono. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-10-22.

Electrostatic chuck, glass substrate processing method, and said glass substrate

Номер патента: US09866151B2. Автор: Toshifumi Sugawara,Yoshiaki Tatsumi. Владелец: Creative Technology Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Method of refurbishing bipolar electrostatic chuck

Номер патента: WO2010042907A2. Автор: Hong Shih. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2010-04-15.

Electrostatic chuck manufacturing method, electrostatic chuck, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230268217A1. Автор: Masato Takayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Methods of Manufacturing Electrostatic Chucks

Номер патента: US20200290081A1. Автор: Jason Wright,Angus Mcfadden. Владелец: Technetics Group LLC. Дата публикации: 2020-09-17.

Method of manufacturing electrostatic chuck having electrode layer made of heterogeneous composite material, and electrostatic chuck manufactured thereby

Номер патента: US11908726B2. Автор: Hansang KWON. Владелец: lndustry University Cooperation Foundation of Pukyong National University. Дата публикации: 2024-02-20.

Electrostatic chuck and plasma processing apparatus

Номер патента: US10825660B2. Автор: Shin Yamaguchi,Akiyoshi MITSUMORI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-11-03.

Electrostatic chuck and thin film deposition apparatus including the same

Номер патента: US20240322713A1. Автор: Mingoo KANG,Minchul SONG,Junhyeuk KO,Sukha RYU,Sangheon Jeon,Eui Gyu Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Electrostatic chuck system and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus by using the same

Номер патента: US20160161865A1. Автор: Hyunsung BANG,Duckjung Lee,Jungsun PARK,Jaesik Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Method of refurbishing bipolar electrostatic chuck

Номер патента: US20100088872A1. Автор: Hong Shih. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-04-15.

Methods of manufacturing electrostatic chucks

Номер патента: EP3939157A1. Автор: Jason Wright,Angus Mcfadden. Владелец: Technetics Group LLC. Дата публикации: 2022-01-19.

Electrostatic chucks and process for producing the same

Номер патента: US20020109954A1. Автор: Hideyoshi Tsuruta. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2002-08-15.

Protective cover for electrostatic chuck

Номер патента: US09887121B2. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-02-06.

Electrostatic chuck and reaction chamber

Номер патента: US11837491B2. Автор: Qiwei Huang,Quanyu SHI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Method and tool for electrostatic chucking

Номер патента: WO2020163073A1. Автор: Lu Xu,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Kwangduk Douglas Lee,Prashant Kumar KULSHRESHTHA,Sarah Michelle Bobek,Venkata Sharat Chandra PARIMI,Byung Seok Kwon. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-08-13.

Substrate architecture for enhanced electrostatic chucking

Номер патента: US20240186197A1. Автор: Srinivas PIETAMBARAM,Ao WANG,Whitney Bryks,Nicholas Haehn,Aaditya Anand CANDADAI. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-06-06.

Electrostatic chuck, electrostatic chuck heater comprising same, and semiconductor holding device

Номер патента: US20240178039A1. Автор: Ji Hyung Lee,Young Jun An,Kyung Whan Woo,Byoung Su JIN. Владелец: Amosense Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Electrostatic chuck having reduced power loss

Номер патента: US20130284709A1. Автор: Jennifer Y. Sun,Konstantin Makhratchev. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-10-31.

Electrostatic chuck and method of manufacturing the same

Номер патента: US20230377934A1. Автор: Jae Hyun Lee,Young Jae Jeon,Hae Ran Kim. Владелец: TEMNEST Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Electrostatic chuck having reduced power loss

Номер патента: WO2013162792A1. Автор: Jennifer Y. Sun,Konstantin Makhratchev. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-10-31.

Electrostatic chuck

Номер патента: US11996312B2. Автор: Hong Gao,Joaquin Aguilar SANTILLAN,Shanker KUTTATH. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-05-28.

Electrostatic chuck and method for manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: US20160233121A1. Автор: Ok Min Kim,Ok Ryul Kim. Владелец: FEMVIX CORP. Дата публикации: 2016-08-11.

Substrate fixing device, electrostatic chuck and electrostatic chuck manufacturing method

Номер патента: US20220157636A1. Автор: Hiroyuki Asakawa,Keiichi Takemoto,Yoichi Harayama,Takahiro Rokugawa. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-19.

Substrate fixing device, electrostatic chuck, and method of manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: US11830752B2. Автор: Keiichi Takemoto,Yoichi Harayama. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-28.

Electrostatic chuck

Номер патента: US5600530A. Автор: Peter C. Smith. Владелец: Morgan Crucible Co PLC. Дата публикации: 1997-02-04.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20230356342A1. Автор: Jung Hyun Park,Jun Sung Lee,Sang Bum CHO. Владелец: Mico Ceramics Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Electrostatic chuck heater and manufacturing method therefor

Номер патента: US11908725B2. Автор: Jun Won Seo,Jin Young Choi,Ju Sung LEE. Владелец: Mico Ceramics Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Electrostatic chuck heater and manufacturing method therefor

Номер патента: US20240112940A1. Автор: Jun Won Seo,Jin Young Choi,Ju Sung LEE. Владелец: Mico Ceramics Ltd. Дата публикации: 2024-04-04.

Protective cover for electrostatic chuck

Номер патента: US20180102275A1. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-04-12.

Method for manufacturing electrostatic chuck having electrode layer including clad member and electrostatic chuck manufactured thereby

Номер патента: US11904390B2. Автор: Hansang KWON. Владелец: lndustry University Cooperation Foundation of Pukyong National University. Дата публикации: 2024-02-20.

Electrostatic chuck, focus ring, support base, plasma processing apparatus, and plasma processing method

Номер патента: US12046457B2. Автор: Yohei Uchida,Yasuharu Sasaki,Shoichiro Matsuyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Electrostatic chuck, focus ring, support base, plasma processing apparatus, and plasma processing method

Номер патента: US20240347322A1. Автор: Yohei Uchida,Yasuharu Sasaki,Shoichiro Matsuyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

High temperature electrostatic chuck bonding adhesive

Номер патента: US09520314B2. Автор: Jennifer Y. Sun,Senh Thach,Ren-Guan Duan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-12-13.

Electrostatic chuck

Номер патента: US09300229B2. Автор: Kazuki Anada,Takuma Wada. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2016-03-29.

Electrostatic chuck with ceramic monolithic body

Номер патента: US11967517B2. Автор: Feng Wang,Darrell EHRLICH,Keith Gaff,Christopher Kimball. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-04-23.

Cryogenically cooled rotatable electrostatic chuck

Номер патента: EP3724914A1. Автор: Robert Mitchell,Shardul Patel. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-10-21.

Electrostatic chuck with differentiated ceramics

Номер патента: US20220270906A1. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-08-25.

Electrostatic chuck and substrate fixing device

Номер патента: US11869793B2. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Akihiro Kuribayashi. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-09.

Electrostatic chuck with differentiated ceramics

Номер патента: EP4295391A1. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-27.

Electrostatic chuck and substrate fixing device

Номер патента: US20210242066A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-05.

Electrostatic chuck and substrate fixing device

Номер патента: US20210242065A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Akihiro Kuribayashi. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-05.

Member for electrostatic chuck and electrostatic chuck

Номер патента: US20220037187A1. Автор: Michio Horiuchi,Masaya Tsuno. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-03.

Member for electrostatic chuck and electrostatic chuck

Номер патента: US11721574B2. Автор: Michio Horiuchi,Masaya Tsuno. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-08.

Electrostatic chuck member

Номер патента: US20150070815A1. Автор: Kazuto Ando,Hironori Kugimoto. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2015-03-12.

Electrostatic chuck and substrate fixing device

Номер патента: US20200402829A1. Автор: Michio Horiuchi,Masaya Tsuno. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-24.

Electrostatic chuck manufacturing method, electrostatic chuck, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20210272834A1. Автор: Masato Takayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-09-02.

Electrostatic chuck unit and thin film deposition apparatus including the same

Номер патента: US20200013658A1. Автор: Seungjin LEE,Byungik Kong,Minchul SONG,Euigyu Kim,Junhyeuk KO,Seungju HONG,Jaesuk MOON,Soohyun MIN. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-09.

Electrostatic chuck heater

Номер патента: US20210242064A1. Автор: Joyo Ito. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2021-08-05.

Electrostatic chuck device and method for manufacturing same

Номер патента: US11817339B2. Автор: Nobuhiro Hidaka,Naoto Kimura. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2023-11-14.

Method for manufacturing a flat polymer coated electrostatic chuck

Номер патента: US20190086816A1. Автор: Mark Francis Krol,John Stephen PEANASKY. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2019-03-21.

Thermal Shield For Electrostatic Chuck

Номер патента: US20160379861A1. Автор: Dale K. Stone,David J. Chipman. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2016-12-29.

Protective coating for electrostatic chucks

Номер патента: US11835868B2. Автор: Vincent Burkhart,Stephen TOPPING. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-12-05.

Protective coating for electrostatic chucks

Номер патента: US20190294050A1. Автор: Vincent Burkhart,Stephen TOPPING. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2019-09-26.

Protective coating for electrostatic chucks

Номер патента: WO2019182833A1. Автор: Vincent Burkhart,Stephen TOPPING. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2019-09-26.

Protective coating for electrostatic chucks

Номер патента: US20240045344A1. Автор: Vincent E. Burkhart,Stephen TOPPING. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-02-08.

Semiconductor processing equipment including electrostatic chuck for plasma processing

Номер патента: US11862440B2. Автор: Jongwoo SUN,Jinyoung Park,Hyungjoo Lee,Jeongil MUN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-02.

Electrostatic chuck filter box and mounting bracket

Номер патента: WO2019222047A1. Автор: Damien Martin SLEVIN,Miguel Benjamin Vasquez,Jeremy Jerome POOL. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2019-11-21.

Electrostatic chuck and manufacturing method therefor

Номер патента: US11823940B2. Автор: Saeng Hyun Cho. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Electrostatic chuck system and control method thereof

Номер патента: US20180040496A1. Автор: Janghwan Kim,Kwanghyun Cho,Chunghun LEE,Youngho HWANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-02-08.

Electrostatic chuck and semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US11776836B2. Автор: Akihito Ono,Jumpei UEFUJI. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2023-10-03.

Electrostatic chuck and semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US11756820B2. Автор: Akihito Ono,Jumpei UEFUJI. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2023-09-12.

Electrostatic chuck filter box and mounting bracket

Номер патента: US20200321934A1. Автор: Damien Martin SLEVIN,Miguel Benjamin Vasquez,Jeremy Jerome POOL. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2020-10-08.

Electrostatic chuck, substrate support, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240186917A1. Автор: Yasuharu Sasaki,Masashi Shimoda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

ELECTROSTATIC CHUCK WITH CONCENTRIC COOLING BASE

Номер патента: US20140209596A1. Автор: BANNA SAMER,LUBOMIRSKY DMITRY,TANTIWONG KYLE. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-07-31.

Composite sintered body, electrostatic chuck member, electrostatic chuck device, and method for producing composite sintered body

Номер патента: US12074050B2. Автор: Nobuhiro Hidaka,Naoto Kimura. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2024-08-27.

Composite sintered body, electrostatic chuck member, electrostatic chuck device, and manufacturing method of composite sintered body

Номер патента: KR102582566B1. Автор: 노부히로 히다카,나오토 기무라. Владелец: 스미토모 오사카 세멘토 가부시키가이샤. Дата публикации: 2023-09-26.

High temperature detachable very high frequency (VHF) electrostatic chuck (ESC) for PVD chamber

Номер патента: US12014906B2. Автор: Cheng-Hsiung Matthew TSAI,Keith A. Miller,John C. Forster,William R. Johanson,Mukund Sundararajan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Electrostatic chuck shielding mechanism

Номер патента: US09611540B2. Автор: Stanley W. Stone,Kan Ota,Steve T. Drummond. Владелец: Axcelis Technologies Inc. Дата публикации: 2017-04-04.

High temperature detachable very high frequency (vhf) electrostatic chuck (esc) for pvd chamber

Номер патента: EP4433622A1. Автор: Cheng-Hsiung Matthew TSAI,Keith A. Miller,John C. Forster,William R. Johanson,Mukund Sundararajan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-25.

Electrostatic chuck and processing apparatus

Номер патента: US12074014B2. Автор: Yuki Sasaki,Yutaka Momiyama,Jun SHIRAISHI,Reo KAWANO. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2024-08-27.

Electrical and optical system and methods for monitoring erosion of electrostatic chuck edge bead materials

Номер патента: WO2009143350A3. Автор: Bradley J. Howard,Eric Pape,Siwen Li. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2010-03-04.

Electrical and optical system and methods for monitoring erosion of electrostatic chuck edge bead materials

Номер патента: WO2009143350A2. Автор: Bradley J. Howard,Eric Pape,Siwen Li. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2009-11-26.

Optical system and methods for monitoring erosion of electrostatic chuck edge bead materials

Номер патента: US7952694B2. Автор: Bradley J. Howard,Eric Pape,Siwen Li. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2011-05-31.

Vacuum sealing integrity of cryogenic electrostatic chucks using non-contact surface temperature measuring probes

Номер патента: US20240110836A1. Автор: Stephen Donald PROUTY,Andrew Antoine NOUJAIM,Alvaro Garcia,Martin Perez GUZMAN,Sankaranarayanan Ravi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-04.

Improved vacuum sealing integrity of cryogenic electrostatic chucks using non-contact surface temperature measuring probes

Номер патента: WO2024072646A1. Автор: Stephen Donald PROUTY,Andrew Antoine NOUJAIM,Suresh Gupta,Tony Jefferson GNANAPRAKASA,Alvaro Garcia,Gautham BAMMANAHALLI,Tatsuichiro INOUE,Martin Perez GUZMAN,Sankaranarayanan Ravi. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-04.

Automatic electrostatic chuck bias compensation during plasma processing

Номер патента: US11791138B2. Автор: James Rogers,Leonid Dorf,Linying CUI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-17.

Electrostatic chuck and method of manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: TWI296431B. Автор: NOBORI Kazuhiro,KAWAJIRI Tetsuya,Matsuda Hiroto,Imai Yasuyoshi. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2008-05-01.

Electrostatic chuck with multiple radio frequency meshes to control plasma uniformity

Номер патента: US12136536B2. Автор: Edward P. Hammond, IV,Jonghoon Baek. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-11-05.

Method to provide consistent electrostatic clamping through real time control of electrostatic charge deposition in an electrostatic chuck

Номер патента: WO2019113078A1. Автор: William Reynolds,Edward McIntyre. Владелец: AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2019-06-13.

Electrostatic chuck with improved RF power distribution

Номер патента: TW466539B. Автор: Shamouil Shamouilian,Arnold Kholodenko,Ananda H Kumar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-12-01.

Method for producing electrostatic chuck and electrostatic chuck

Номер патента: US20120250212A1. Автор: Takuji Kimura,Takahiro Takahashi,Hirokazu Nakanishi. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2012-10-04.

Electrostatic chuck, electrostatic chuck heater and semiconductor holding device comprising the same

Номер патента: KR20220131187A. Автор: 이지형,안영준,우경환,진병수. Владелец: 주식회사 아모센스. Дата публикации: 2022-09-27.

Electrostatic chuck dielectric layer and electrostatic chuck

Номер патента: KR102126872B1. Автор: 노리오 시라이와,고타 츠츠미,미츠요시 나가노,고키 다마가와,다다요시 요시카와,미키 사이토,도시오 우에하라,히데아키 마츠바라,데츠시 마츠다. Владелец: 잇빤자이단호진 화인 세라믹스 센터. Дата публикации: 2020-06-25.

Method for producing electrostatic chuck and electrostatic chuck

Номер патента: KR101982446B1. Автор: 가즈히로 노보리,마사히토 에구치,다쿠지 기무라. Владелец: 엔지케이 인슐레이터 엘티디. Дата публикации: 2019-05-27.

Electrostatic chuck dielectric layer and electrostatic chuck

Номер патента: KR20140048048A. Автор: 노리오 시라이와,고타 츠츠미,미츠요시 나가노,고키 다마가와,다다요시 요시카와,미키 사이토,도시오 우에하라,히데아키 마츠바라,데츠시 마츠다. Владелец: 잇빤자이단호진 화인 세라믹스 센터. Дата публикации: 2014-04-23.

Substrate fixing device, electrostatic chuck and manufacturing method of electrostatic chuck

Номер патента: CN114496886A. Автор: 原山洋一,竹元启一,浅川浩行,六川贵博. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-13.

Electrostatic chuck assembly

Номер патента: US5838528A. Автор: Ron van Os,Eric D. Ross. Владелец: Watkins Johnson Co. Дата публикации: 1998-11-17.

Electrostatic chuck and method of manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: JP4976915B2. Автор: 直人渡部,則雄白岩,裕一秦,猛志小林. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2012-07-18.

Electrostatic chuck and method of manufacturing the electrostatic chuck

Номер патента: KR102494447B1. Автор: 히로시 오노. Владелец: 교세라 가부시키가이샤. Дата публикации: 2023-02-06.

Method for manufacturing electrostatic chuck having electrode layer consisting of clad material and electrostatic chuck manufactured thereby

Номер патента: KR102548445B1. Автор: 권한상. Владелец: 부경대학교 산학협력단. Дата публикации: 2023-06-28.

Power feed structure and manufacturing method of electrostatic chuck, and method for regeneration of power feed structure of electrostatic chuck

Номер патента: CN101512749B. Автор: 宫下欣也,渡边喜裕. Владелец: Creative Technology Corp. Дата публикации: 2010-07-28.

Regeneration method of electrostatic chuck and electrostatic chuck

Номер патента: KR20200041259A. Автор: 다이 키타가와. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2020-04-21.

Electrostatic chuck and method of manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: TW200711028A. Автор: Hiroto Matsuda,Kazuhiro Nobori,Yasuyoshi Imai,Tetsuya Kawajiri. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2007-03-16.

Method for producing electrostatic chuck and electrostatic chuck

Номер патента: KR101813289B1. Автор: 다쿠지 기무라,히로카즈 나카니시,다카히로 다카하시. Владелец: 엔지케이 인슐레이터 엘티디. Дата публикации: 2017-12-28.

Manufacturing method of electrostatic chuck and electrostatic chuck

Номер патента: JPWO2020045432A1. Автор: 浩司小野,小野　浩司. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2021-08-26.

Substrate fixing device, electrostatic chuck, and method of manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: US20210391203A1. Автор: Keiichi Takemoto,Yoichi Harayama. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-16.

Electrostatic chuck with multiple radio frequency meshes to control plasma uniformity

Номер патента: WO2019169102A1. Автор: Jonghoon Baek,Iv Edward P. Hammond. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2019-09-06.

Electrostatic chuck with multiple radio frequency meshes to control plasma uniformity

Номер патента: US20240222081A1. Автор: Edward P. Hammond, IV,Jonghoon Baek. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-04.

Method of manufacturing electrostatic chuck and electrostsatic chuck

Номер патента: KR102549291B1. Автор: 요시유키 고바야시,사토시 다가,가즈야 나가세키. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2023-06-28.

Methods of manufacturing electrostatic chucks

Номер патента: EP3939157A4. Автор: Jason Wright,Angus Mcfadden. Владелец: Technetics Group LLC. Дата публикации: 2023-01-18.

Electrostatic chuck

Номер патента: TW200845288A. Автор: Takeshi Kobayashi,Naoto Watanabe,Yuichi Hata,Norio Shiraiwa. Владелец: Shinko Electric Ind Co. Дата публикации: 2008-11-16.

Method of real-time plasma charging voltage measurement on powered electrode with electrostatic chuck in plasma process chambers

Номер патента: TWI264249B. Автор: Shaw-Ming Ma. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2006-10-11.

Methods of manufacturing electrostatic chucks

Номер патента: SG11202109712UA. Автор: Jason Wright,Angus Mcfadden. Владелец: Technetics Group LLC. Дата публикации: 2021-10-28.

Ceramics substrate, method of manufacturing the same, electrostatic chuck, substrate fixing device, and semiconductor device package

Номер патента: US11417558B2. Автор: Tomotake Minemura. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2022-08-16.

Electrostatic chuck and showerhead with enhanced thermal properties and methods of making thereof

Номер патента: US09597734B2. Автор: Ren-Guan Duan,Sumanth Banda,Jennifer Sun. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-03-21.

Methods of manufacturing electrostatic chucks

Номер патента: IL286108A. Автор: . Владелец: Technetics Group LLC. Дата публикации: 2021-10-31.

Method and tool for electrostatic chucking

Номер патента: SG11202107929RA. Автор: Lu Xu,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Kwangduk Douglas Lee,Prashant Kumar KULSHRESHTHA,Sarah Michelle Bobek,Venkata Sharat Chandra PARIMI,Byung Seok Kwon. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-08-30.

SEMICONDUCTOR STRUCTURE FOR EXTREME ULTRAVIOLET ELECTROSTATIC CHUCK WITH REDUCED CLAMPING EFFECT

Номер патента: US20140284604A1. Автор: Hsu Chia-Hao,Chen Chia-Chen,FU Tzung-Chi,KAO Tzu-Wei,LIN Yu Chao. Владелец: . Дата публикации: 2014-09-25.

Electrostatic chuck with ceramic monolithic body

Номер патента: TW202044458A. Автор: 達瑞爾艾爾利奇,鳳王,凱伊斯高夫,克利斯多夫肯伯. Владелец: 美商蘭姆研究公司. Дата публикации: 2020-12-01.

Multi-zoned plasma processing electrostatic chuck with improved temperature uniformity

Номер патента: US8822876B2. Автор: Xiaoping Zhou,Douglas A. Buchberger, Jr.,Surajit Kumar,Kallol Bera,Hamid Tavassoli,Shane C. NEVIL. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-09-02.

Electrostatic chuck with fluid flow regulator

Номер патента: KR970008470A. Автор: 에프. 카메론 존,쉬에스틴스키 셈욘,샤물리언 샤모일,비랑그 마노쳐,마크 알프레드,더블유. 탐 시몬,이. 리얀 로베르트. Владелец: 제임스 조셉 드롱. Дата публикации: 1997-02-24.

SOLAR WAFER ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20130105087A1. Автор: BLUCK Terry,JANAKIRAMAN Karthik,Cho Young Kyu,Kedlaya Diwakar. Владелец: INTEVAC, INC.. Дата публикации: 2013-05-02.

ELECTROSTATIC CHUCK AND PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20210005432A1. Автор: Yamaguchi Shin,Mitsumori Akiyoshi. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2021-01-07.

RF TUNING SYSTEMS INCLUDING TUNING CIRCUITS HAVING IMPEDANCES FOR SETTING AND ADJUSTING PARAMETERS OF ELECTRODES IN ELECTROSTATIC CHUCKS

Номер патента: US20220044909A1. Автор: French David,Burkhart Vincent E.,Leeser Karl Frederick,Meng Liang. Владелец: . Дата публикации: 2022-02-10.

Programmable electrostatic chuck to enhance aluminum film morphology

Номер патента: US12046460B1. Автор: YAOYING ZHONG,Siew Kit Hoi,Bridger Earl HOERNER. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-23.

Process kit having tall deposition ring and smaller diameter electrostatic chuck (esc) for pvd chamber

Номер патента: US20220406573A1. Автор: David Gunther,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Siew Kit Hoi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-12-22.

Electrical and optical system and methods for monitoring erosion of electrostatic chuck edge bead materials

Номер патента: TW201005857A. Автор: Eric Pape,Bradley J Howard,Si-Wen Li. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2010-02-01.

Programmable Electrostatic Chuck to Enhance Aluminum Film Morphology

Номер патента: US20240222093A1. Автор: YAOYING ZHONG,Siew Kit Hoi,Bridger Earl HOERNER. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-04.

Electrostatic chucks

Номер патента: CA2251586C. Автор: Hoi Cheong Steve Sun,Timothy Allen Pletcher. Владелец: Delsys Pharmaceutical Corp. Дата публикации: 2002-09-10.

TEMPERATURE ENHANCED ELECTROSTATIC CHUCKING IN PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20140034241A1. Автор: Palagashvili David,Chafin Michael G.,LIU Jingbao,Belostotskiy Sergy G.. Владелец: . Дата публикации: 2014-02-06.

ELECTROSTATIC CHUCKING OF COVER GLASS SUBSTRATES IN A VACUUM COATING PROCESS

Номер патента: US20190010603A1. Автор: Boughton Daniel Robert,Fagan James Gerard. Владелец: CORNING INCORPORATED. Дата публикации: 2019-01-10.

ELECTROSTATIC CHUCK FOR DAMAGE-FREE SUBSTRATE PROCESSING

Номер патента: US20210025056A1. Автор: Prabhakar Vinay,Rocha-Alvarez Juan Carlos,LEE Kwangduk Douglas,KULSHRESHTHA Prashant Kumar,YE Zheng John,LEE Dong Hyung,MIN Xiaoquan. Владелец: . Дата публикации: 2021-01-28.

ELECTROSTATIC CHUCK AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20140116622A1. Автор: LEE Won Haeng. Владелец: . Дата публикации: 2014-05-01.

Method of and apparatus for applying voltage to electrostatic chuck

Номер патента: US5117121A. Автор: Toshiya Watanabe,Tetsuo Kitabayashi. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 1992-05-26.

Electrostatic Chuck Having Extended Lifetime

Номер патента: US20240258940A1. Автор: Mitsutoshi Fukada. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Electrostatic chuck employing thermoelectric cooling

Номер патента: WO1999028950A9. Автор: Joseph S Logan,Robert E Tompkins. Владелец: Dorsey Gage Inc. Дата публикации: 1999-09-16.

Electrostatic chuck and method of manufacturing the same

Номер патента: US20080315536A1. Автор: Masashi Ono,Takashi Oonuma,Masakuni Miyazawa. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-25.

Electrostatic chuck employing thermoelectric cooling

Номер патента: WO1999028950A3. Автор: Joseph S Logan,Robert E Tompkins. Владелец: Dorsey Gage Inc. Дата публикации: 1999-08-05.

Electrostatic chuck employing thermoelectric cooling

Номер патента: WO1999028950A2. Автор: Robert E. Tompkins,Joseph S. Logan. Владелец: Dorsey Gage, Inc.. Дата публикации: 1999-06-10.

Electrostatic chuck unit and depositing apparatus including the same

Номер патента: US20240146214A1. Автор: Mingoo KANG,Minchul SONG,Euigyu Kim,Junhyeuk KO,Youngsun CHO,Sukha RYU. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Solar module with concentrator

Номер патента: RU2700655C1. Автор: Дмитрий Семенович Стребков,Наталья Сергеевна Филиппченкова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный научный агроинженерный центр ВИМ" (ФГБНУ ФНАЦ ВИМ). Дата публикации: 2019-09-18.

Solar module with concentrator

Номер патента: RU2599076C2. Автор: Дмитрий Семенович Стребков. Владелец: Федеральное агентство научных организаций Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Всероссийский научно-исследовательский институт электрификации сельского хозяйства" (ФГБНУ ВИЭСХ). Дата публикации: 2016-10-10.

Asynchronous low-current engine with concentrated poles and power supply from electronic controlled source of current special trapezoidal form

Номер патента: RU2672032C1. Автор: Владимир Михайлович Стексов,Анатолий Михайлович Стексов,Иван Михайлович Стексов. Владелец: Иван Михайлович Стексов. Дата публикации: 2018-11-08.

Solar module with concentrator

Номер патента: RU2763117C1. Автор: Дмитрий Семенович Стребков,Наталья Сергеевна Филиппченкова,Имран Парвизович Гаджиев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное научное учреждение «Федеральный научный агроинженерный центр ВИМ» (ФГБНУ ФНАЦ ВИМ). Дата публикации: 2021-12-27.

Selective rack cooling based on external temperature

Номер патента: EP3863390A1. Автор: Jian Wang,Jun Chen,Jie Du,Guanglin Zhu. Владелец: Schneider Electric IT Corp. Дата публикации: 2021-08-11.

Electrostatic chuck cleaner, cleaning method, and exposure apparatus

Номер патента: US09599909B2. Автор: Yoshihito Kobayashi,Takashi Kamo. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Monitoring device, electrostatic chuck and monitoring method

Номер патента: US20210223304A1. Автор: Bei Zhou Huang. Владелец: HKC Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-22.

System and method for analyzing voltage breakdown in electrostatic chucks

Номер патента: US09417280B2. Автор: David E. Suuronen,Scott E. Peitzsch. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2016-08-16.

Electrostatic chuck with laser-machined mesas

Номер патента: WO2023183107A1. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-09-28.

Electrostatic chuck cover piece to enable processing of dielectric substrates

Номер патента: US20240011147A1. Автор: Kazuya DAITO,Andrew Ceballos,Suraj Yadav. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-11.

Electrostatic chuck cover piece to enable processing of dielectric substrates

Номер патента: WO2024010939A1. Автор: Kazuya DAITO,Andrew Ceballos,Suraj Yadav. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-01-11.

Electrostatic chuck with laser-machined mesas

Номер патента: US20230294208A1. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-09-21.

Solar module with concentrator (versions) and method of its manufacturing

Номер патента: RU2503895C2. Автор: Дмитрий Семенович Стребков,Дарья Дмитриевна Розанцева,Михаил Валентинович Розанцев,Анастасия Дмитриевна Стребкова. Владелец: Дарья Дмитриевна Розанцева. Дата публикации: 2014-01-10.

Solar module with concentrator

Номер патента: RU2502024C2. Автор: Дмитрий Семенович Стребков,Анатолий Евгеньевич Иродионов,Всеволод Павлович Тарасов. Владелец: Государственное научное учреждение Всероссийский научно-исследовательский институт электрификации сельского хозяйства Российской Академии Сельскохозяйственных наук (ГНУ ВИЭСХ РОССЕЛЬХОЗАКАДЕМИИ). Дата публикации: 2013-12-20.

Composition of cooling liquid for automotive engine, composition of concentrated cooling liquid for automotive engine and method of operation of internal combustion engine

Номер патента: RU2697363C1. Автор: Ясуаки КОДАМА,Сёго КАМЭНОУЭ,Томоюки НАКАНО,Масаюки НАГАСАВА,Такато САКУРАИ,Кадзухито ЯЭДА,Ёитиро ЁСИИ,Ёсукэ КИСИНО. Владелец: Тойота Дзидося Кабусики Кайся. Дата публикации: 2019-08-13.

Shelf stable, concentrated, liquid flavorings and methods of preparing beverages with concentrated liquid flavorings

Номер патента: RU2649605C2. Автор: Карл РАГНАРССОН,Дана Мари БРАУН. Владелец: Крафт Фудс Груп Брэндс Ллк. Дата публикации: 2018-04-04.

Solar photovoltaic module with concentrator

Номер патента: RU2444809C2. Автор: Дмитрий Семенович Стребков,Владимир Александрович Майоров. Владелец: Российская академия сельскохозяйственных наук Государственное научное учреждение Всероссийский научно-исследовательский институт электрификации сельского хозяйства Российской академии сельскохозяйственных наук (ГНУ ВИЭСХ РОССЕЛЬХОЗАКАДЕМИИ). Дата публикации: 2012-03-10.

Solar module with concentrator and method of its production

Номер патента: RU2520803C2. Автор: Дмитрий Семенович Стребков,Дарья Дмитриевна Розанцева,Михаил Валентинович Розанцев,Анастасия Дмитриевна Стребкова. Владелец: Розанцова Дарья Дмитриевна. Дата публикации: 2014-06-27.

Solar station with concentrator

Номер патента: RU2338128C1. Автор: Дмитрий Семенович Стребков,Ирина Валерьевна Митина. Владелец: Российская Академия Сельскохозяйственных наук Государственное научное учреждение Всероссийский научно-исследовательский институт электрификации сельского хозяйства (ГНУ ВИЭСХ). Дата публикации: 2008-11-10.

Electric modular heater with concentric arrangement of sections

Номер патента: RU2718092C2. Автор: Эрнест Вачикович Агаджанов. Владелец: Эрнест Вачикович Агаджанов. Дата публикации: 2020-03-30.

Solar photoelectric module with concentrator

Номер патента: RU2277679C1. Автор: Дмитрий Семенович Стребков,Абдул-Гамид Ахмедович Абдуллаев. Владелец: Государственное научное учреждение Всероссийский научно-исследовательский институт электрификации сельского хозяйства (ГНУ ВИЭСХ). Дата публикации: 2006-06-10.

Solar module with concentrator

Номер патента: RU2252371C2. Автор: Б.И. Содномов,Д.С. Стребков,И.И. Тюхов. Владелец: Государственное научное учреждение Всероссийский научно-исследовательский институт электрификации сельского хозяйства (ГНУ ВИЭСХ). Дата публикации: 2005-05-20.

Solar photoelectric module with concentrator

Номер патента: RU2292003C1. Автор: Дмитрий Семенович Стребков,Абдул-Гамид Ахмедович Абдуллаев,нович Эдуард Владимирович Тверь,Эдуард Владимирович Тверьянович,Александр Николаевич Плотников. Владелец: Государственное научное учреждение Всероссийский научно-исследовательский институт электрификации сельского хозяйства (ГНУ ВИЭСХ). Дата публикации: 2007-01-20.

Solar photoelectric module with concentrator

Номер патента: RU2466490C2. Автор: Дмитрий Семенович Стребков,Абдул-Гамид Ахмедович Абдуллаев,Леонид Дмитриевич Сагинов,Анатолий Иванович Автоненко. Владелец: Российская академия сельскохозяйственных наук Государственное научное учреждение Всероссийский научно-исследовательский институт электрификации сельского хозяйства Российской академии сельскохозяйственных наук (ГНУ ВИЭСХ РОССЕЛЬХОЗАКАДЕМИИ). Дата публикации: 2012-11-10.

Solar module with concentrator

Номер патента: RU2576752C2. Автор: Дмитрий Семенович Стребков,Анатолий Евгеньевич Иродионов,Наталья Сергеевна Филиппченкова,Владимир Анатольевич Панченко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Всероссийский научно-исследовательский институт электрификации сельского хозяйства"(ФГБНУ ВИЭСХ). Дата публикации: 2016-03-10.

Solar photoelectric module with concentrator

Номер патента: RU2277680C1. Автор: Дмитрий Семенович Стребков,Абдул-Гамид Ахмедович Абдуллаев,нович Эдуард Владимирович Тверь,Эдуард Владимирович Тверьянович. Владелец: Государственное научное учреждение Всероссийский научно-исследовательский институт электрификации сельского хозяйства (ГНУ ВИЭСХ). Дата публикации: 2006-06-10.

Solar module with concentrator

Номер патента: RU2576739C2. Автор: Дмитрий Семенович Стребков,Анатолий Евгеньевич Иродионов,Наталья Сергеевна Филиппченкова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное научное учреждение"Всероссийский научно-исследовательский институт электрификации сельского хозяйства" (ФГБНУ ВИЭСХ). Дата публикации: 2016-03-10.

Modular level wind-driven power plant with concentrators, electric heaters and silencers

Номер патента: RU2589583C1. Автор: Михаил Николаевич Кондратьев. Владелец: Михаил Николаевич Кондратьев. Дата публикации: 2016-07-10.

Smoking product with concentric filter

Номер патента: RU2634879C2. Автор: Хелен Бланджи,Надин Лакруа ОЖЖЬЕ. Владелец: ФИЛИП МОРРИС ПРОДАКТС С.А.. Дата публикации: 2017-11-07.

A stonecast product reinforced and accentuated with concentrically wound strips

Номер патента: WO2003053645A1. Автор: Pedro Delantar. Владелец: Pedro Delantar. Дата публикации: 2003-07-03.

Solar module with concentrator (versions)

Номер патента: RU2456515C2. Автор: Дмитрий Семенович Стребков,Анатолий Евгеньевич Иродионов,Всеволод Павлович Тарасов. Владелец: Российская академия сельскохозяйственных наук Государственное научное учреждение Всероссийский научно-исследовательский институт электрификации сельского хозяйства Российской академии сельскохозяйственных наук (ГНУ ВИЭСХ РОССЕЛЬХОЗАКАДЕМИИ). Дата публикации: 2012-07-20.

Photovoltaic module with concentrator

Номер патента: RU2279017C1. Автор: Дмитрий Семенович Стребков,Абдул-Гамид Ахмедович Абдуллаев. Владелец: Государственное научное учреждение Всероссийский научно-исследовательский институт электрификации сельского хозяйства (ГНУ ВИЭСХ). Дата публикации: 2006-06-27.

Water-tube boiler with concentric heat-exchange coils with ash-removal system

Номер патента: CA3099210A1. Автор: Xavier MAS SANZ. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-11-14.

Water-tube boiler with concentric heat-exchange coils with ash-removal system

Номер патента: CA3099210C. Автор: Xavier MAS SANZ. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-02-21.

RUBBER MIXTURE FOR A PACKER DEVICE CUFF, WHICH SWELLS IN AN AQUEOUS SOLUTION OF NaCl OR CaCl2 WITH CONCENTRATION OF NOT MORE THAN 25 %

Номер патента: RU2700606C1. Автор: Александр Федорович Пучков,Александр Николаевич Куцов,Дмитрий Александрович Куцов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Интов Эласт" (ООО "Интов Эласт"). Дата публикации: 2019-09-18.

Solar module with concentrator and method of making same

Номер патента: RU2576072C2. Автор: Дмитрий Семенович Стребков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Всероссийский научно-исследовательский институт электрификации сельского хозяйства" (ФГБНУ ВИЭСХ). Дата публикации: 2016-02-27.

Three-zone multiblade rotary internal combustion engine with concentric arrangement of working zones in engine rotor

Номер патента: RU2688046C1. Автор: Алексей Маратович Рогульченко. Владелец: Алексей Маратович Рогульченко. Дата публикации: 2019-05-17.

Solar module with concentrator (versions)

Номер патента: RU2572167C1. Автор: Дмитрий Семенович Стребков,Анатолий Евгеньевич Иродионов,Анатолий Иванович Кирсанов,Владимир Анатольевич Панченко. Владелец: Анатолий Иванович Кирсанов. Дата публикации: 2015-12-27.

Solar module with concentrator

Номер патента: RU2252373C1. Автор: Б.И. Содномов,Д.С. Стребков. Владелец: Государственное научное учреждение Всероссийский научно-исследовательский институт электрификации сельского хозяйства (ГНУ ВИЭСХ). Дата публикации: 2005-05-20.

Downhole drilling motor with concentric rotary drive system

Номер патента: RU2626476C2. Автор: Джонатан Райан ПРИЛЛ,Николас Райан МАРЧЭНД,Джеффри Роналд КЛОЗЕН. Владелец: Грейстоун Текнолоджиз Пти Лтд. Дата публикации: 2017-07-28.

Method for preparing main hydrolysate by hydrolyzing plant fiber materials with concentrated sulfuric acid

Номер патента: NZ584479A. Автор: Peihao Chen. Владелец: Peihao Chen. Дата публикации: 2011-01-28.

Solar module with concentrator

Номер патента: RU2172903C1. Автор: Д.С. Стребков,Э.В. Тверьянович,А.Г. Ананенков,В.Ф. Семененко,З.Г. Якупов,Ю.В. Неелов,Д.С.Стребков Д.С. Стребков,ЭТверьянович Э.В..В. Тверьянович,А.Е.Иродионов А.Е. Иродионов,А.Е. Иродионов,Ю.К.Кидяшев Ю.К. Кидяшев,Ю.К. Кидяшев,В.Ф.Семененко В.Ф. Семененко,А.Г.Ананенков А.Г. Ананенков,Ю.В.Неелов Ю.В. Неелов,З.Г.Якупов З.Г. Якупов,А.Н.Исаева А.Н. Исаева,А.Н. Исаева,Е.М.Данько Е.М. Данько,Е.М. Данько. Владелец: Тверьянович Эдуард Владимирович. Дата публикации: 2001-08-27.

Aqueous concentrated cooling lubricant for the mechanical working of aluminium and process

Номер патента: CA1285548C. Автор: Rolf Sköld,Elina Sandberg. Владелец: Berol Nobel Suisse SA. Дата публикации: 1991-07-02.

Eccentric counterweight with concentrated dual density for conical stone crusher

Номер патента: RU2538809C2. Автор: Дарси А. ФЛЭТ,Эндрю Дж. ЛИНГЕНФЕЛТЕР. Владелец: Метсо Минералз Индастриз, Инк.. Дата публикации: 2015-01-10.

Linear sensor with concentric slider and housing

Номер патента: CA2033686A1. Автор: James A. Hansen. Владелец: Borg Warner Automotive Inc. Дата публикации: 1991-09-06.

Power swivel for use with concentric pipe strings

Номер патента: US3623558A. Автор: Cicero C Brown. Владелец: Cicero C Brown. Дата публикации: 1971-11-30.

Dehumidification/evaporative cooling-based 100% outdoor air conditioning system and controlling method

Номер патента: US20200018500A1. Автор: Joon Young Park,Sung Joon Lee,Jae Weon JEONG,Dong Seob YOON. Владелец: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU. Дата публикации: 2020-01-16.

Refroidissement par évaporation (pad cooling) à base de faux palmier doum (chamaerops humilis l.)

Номер патента: MA40800A1. Автор: Azzeddine LAKNIZI,Abdellatif BENABDELLAH,Mohsine Bouya,Kamal Anoune,Mokhtar Ghazouani. Владелец: Univ Int Rabat. Дата публикации: 2019-05-31.

A cooling machine for cooling bases of conveyed bottles

Номер патента: WO2024156341A1. Автор: Pierluigi Quagliarella,Jonas TONGA. Владелец: SIDEL PARTICIPATIONS. Дата публикации: 2024-08-02.

Shrink fit chuck with expansion grooves

Номер патента: RU2504457C2. Автор: Франц ХАЙМЕР,Йозеф ХАЙМЕР,Бернхард РЕГАУ. Владелец: Франц Хаймер Машиненбау Кг. Дата публикации: 2014-01-20.

Chuck with integrated wafer support

Номер патента: WO2005067445A2. Автор: Peter Andrews,John Dunklee,Brad Froemke. Владелец: Cascade Microtech, Inc.. Дата публикации: 2005-07-28.

Chuck with integrated wafer support

Номер патента: US20070115013A1. Автор: Peter Andrews,John Dunklee,Brad Froemke. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-05-24.

Chuck with four differential jaws

Номер патента: US5143686A. Автор: Tokichi Shimizu. Владелец: Individual. Дата публикации: 1992-09-01.

Chuck with an integrated rotary union for fluid flow

Номер патента: GB2307430A. Автор: Stephan Ott,Jurgen Gobell. Владелец: Glyco Antriebstechnik GmbH. Дата публикации: 1997-05-28.

Chuck with locking device

Номер патента: CA2998990C. Автор: Antoni ORTIZ BATALLE. Владелец: Stryker Corp. Дата публикации: 2023-09-05.

Chuck with jaw member position detecting means.

Номер патента: GB2367803A. Автор: Satoru Ito,Koichiro Kanda,Seiji Takanashi. Владелец: SMC Corp. Дата публикации: 2002-04-17.

Chuck with diaphragm-action clamping

Номер патента: GB1478785A. Автор: . Владелец: Tobler SAS. Дата публикации: 1977-07-06.

Diaphragm chuck with locking ring

Номер патента: CA1120247A. Автор: Merle Felker. Владелец: Sheffer Collet Co. Дата публикации: 1982-03-23.

Chuck with anti-centrifugal force feature

Номер патента: CA1048766A. Автор: George J. Ovanin. Владелец: S-P MANUFACTURING Corp (THE). Дата публикации: 1979-02-20.

Vacuum chuck with integrated electrical testing points

Номер патента: EP1292429A1. Автор: Boris Moldavsky,Jaime Araya,David Mincemeyer. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2003-03-19.

Vacuum chuck with integrated electrical testing points

Номер патента: WO2002000394A1. Автор: Boris Moldavsky,Jaime Araya,David Mincemeyer. Владелец: HONEYWELL INTERNATIONAL INC.. Дата публикации: 2002-01-03.

ELECTROSTATIC CHUCK AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20130201598A1. Автор: Ishikawa Kaduko,Yonezawa Junji,Aoshima Toshihiro. Владелец: TOTO LTD.. Дата публикации: 2013-08-08.

ELECTROSTATIC CHUCK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20130308244A1. Автор: SHIRAIWA Norio,KAWAI Jiro. Владелец: SHINKO ELECTRIC INDUSTRIES CO., LTD.. Дата публикации: 2013-11-21.

ELECTROSTATIC CHUCK WITH TEMPERATURE CONTROL

Номер патента: US20130088809A1. Автор: SANSONI STEVEN V.,PARKHE Vijay D.,TSAI CHENG-HSIUNG MATTHEW. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-04-11.

Electrostatic Chuck with Photo-Patternable Soft Protrusion Contact Surface

Номер патента: US20130120897A1. Автор: Cooke Richard A.,RYBCZYNSKI Jakub,LIN I-Kuan. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2013-05-16.

HIGH TEMPERATURE ELECTROSTATIC CHUCK WITH REAL-TIME HEAT ZONE REGULATING CAPABILITY

Номер патента: US20130284374A1. Автор: Sun Jennifer Y.,Thach Senh,LUBOMIRSKY DMITRY,Willwerth Michael D.,Lin Xing,Makhratchev Konstantin. Владелец: . Дата публикации: 2013-10-31.

High Surface Resistivity Electrostatic Chuck

Номер патента: US20130070384A1. Автор: Cooke Richard A.,Blake Julian,Stone Lyudmila,Suuronen David,Stone Dale K.. Владелец: . Дата публикации: 2013-03-21.

ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20130088808A1. Автор: SANSONI STEVEN V.,PARKHE Vijay D.,TSAI CHENG-HSIUNG MATTHEW. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-04-11.

High Conductivity Electrostatic Chuck

Номер патента: US20130155569A1. Автор: Cooke Richard A.,Donnell Steven,Blake Julian,Stone Lyudmila,VENKATRAMAN Chandra,Suuronen David,Stone Dale K.. Владелец: . Дата публикации: 2013-06-20.

ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20140071582A1. Автор: Anada Kazuki,WADA Takuma. Владелец: TOTO LTD.. Дата публикации: 2014-03-13.

ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE

Номер патента: US20160036355A1. Автор: Ando Kazuto,Moriya Yoshiaki. Владелец: . Дата публикации: 2016-02-04.

Electrode sheet for electrostatic chuck devices and electrostatic chuck device comprising the same

Номер патента: TWI240350B. Автор: Takeshi Shima,Toshiyuki Yamamoto,Masatoshi Hori,Yuuichi Hasegawa,Jun Tochihira. Владелец: Tomoegawa Paper Co Ltd. Дата публикации: 2005-09-21.

Thermal spray coating method, method of manufacturing a electrostatic chuck using the thermal spray coating method and electrostatic chuck

Номер патента: KR100982649B1. Автор: 박용균,윤인수,오치원. Владелец: 주식회사 코미코. Дата публикации: 2010-09-16.

Thermal spray coating method, method of manufacturing a electrostatic chuck using the thermal spray coating method and electrostatic chuck

Номер патента: KR20090020031A. Автор: 박용균,윤인수,오치원. Владелец: 주식회사 코미코. Дата публикации: 2009-02-26.

Aluminum nitride composite base, aluminum nitride composite heat generating body using the same, aluminum nitride composite electrostatic chuck, and same chuck with heater

Номер патента: JPH1160356A. Автор: Toshimi Kobayashi,Atsuo Kawada,敦雄川田,Yoshikazu Otani,義和大谷,Hiroshi Mogi,弘茂木,Kazuyoshi Tamura,和義田村,利美小林. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1999-03-02.

MULTI-ZONED PLASMA PROCESSING ELECTROSTATIC CHUCK WITH IMPROVED TEMPERATURE UNIFORMITY

Номер патента: US20140346743A1. Автор: BERA KALLOL,ZHOU XIAOPING,BUCHBERGER,JR. DOUGLAS A.,TAVASSOLI Hamid,KUMAR SURAJIT,Nevil Shane C.. Владелец: . Дата публикации: 2014-11-27.

ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE AND CONTROL METHOD THEREOF

Номер патента: US20130224675A1. Автор: PARK Myoung Soo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2013-08-29.

Arc-resistant electrostatic chucks and arc-reducing plugs for electrostatic chucks

Номер патента: WO2024186529A1. Автор: Alexander Matyushkin,Darrell EHRLICH,Eric SAMULON,Keith Comendant. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-09-12.

High-speed switched reluctance motor with concentric windings controlled by two-phase sinusoidal current

Номер патента: RU2559811C1. Автор: Яков Борисович Тубис,Владимир Алексеевич Шабаев,Олег Валерьевич Кругликов. Владелец: Открытое Акционерное Общество "Научно-Исследовательский Проектно-Конструкторский и Технологический Институт Электромашиностроения". Дата публикации: 2015-08-10.

Method of production of the water solution of disodium or dipotassium salt of zinc oxyethylidene phosphonate with concentration of fifteen - twenty three percent

Номер патента: RU2305102C1. Автор: Владимир Александрович Иванов,Валерий Михайлович Филиппов,Сергей Германович Тарасов,Альбина Геннадьевна Степанова,Ирина Рафкатовна Андреева. Владелец: Открытое акционерное общество "Химпром". Дата публикации: 2007-08-27.

Solar wax melter with concentrator

Номер патента: RU2483533C1. Автор: Виктор Петрович Усов,Адий Георгиевич Крупнов,Елена Владимировна Усова,Галина Сергеевна Андреева. Владелец: Галина Сергеевна Андреева. Дата публикации: 2013-06-10.

Method of deactivating large underground storage with concentrated salt precipitates of highly active liquid radioactive wastes

Номер патента: RU2388083C2. Автор: Николай Иванович Александров,Павел Леонидович Лямин,Станислав Александрович Митрофанов,Владимир Дмитриевич Горбач,Вадим Александрович Старченко. Владелец: Открытое акционерное общество "Центр технологии судостроения и судоремонта" (ОАО "ЦТСС"). Дата публикации: 2010-04-27.

Six-phase thyratron inductor motor with concentric windings controlled by three-phase sine current

Номер патента: RU2540104C1. Автор: Яков Борисович Тубис,Владимир Алексеевич Шабаев,Олег Валерьевич Кругликов. Владелец: Открытое Акционерное Общество "Научно-Исследовательский Проектно-Конструкторский и Технологический Институт Электромашиностроения". Дата публикации: 2015-02-10.

Low-speed switched reluctance motor with concentric windings controlled by two-phase sinusoidal current

Номер патента: RU2559810C1. Автор: Яков Борисович Тубис,Владимир Алексеевич Шабаев,Олег Валерьевич Кругликов. Владелец: Открытое Акционерное Общество "Научно-Исследовательский Проектно-Конструкторский и Технологический Институт Электромашиностроения". Дата публикации: 2015-08-10.

Six-phase thyratron inductor motor with concentric windings controlled by three-phase current of sinusoidal form

Номер патента: RU2540957C1. Автор: Яков Борисович Тубис,Владимир Алексеевич Шабаев,Олег Валерьевич Кругликов. Владелец: Открытое Акционерное Общество "Научно-Исследовательский Проектно-Конструкторский и Технологический Институт Электромашиностроения". Дата публикации: 2015-02-10.

Chuck with radial displacement of cutter tip

Номер патента: RU2509631C1. Автор: Юрий Евгеньевич Петухов,Николай Викторович Колесов,Николай Николаевич Петросян. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный технологический университет "СТАНКИН" (ФГБОУ ВПО МГТУ "СТАНКИН"). Дата публикации: 2014-03-20.

Electrostatic chuck device, plasma processing apparatus and manufacturing method for electrostatic chuck

Номер патента: TW201041082A. Автор: Arami Junichi,Xue Yu Qian,Zhi-You Dui,Liang Ouyang,Jin-Yuan Chen,zhi-yao Yin. Владелец: Advanced Micro Fab Equip Inc. Дата публикации: 2010-11-16.

METHOD FOR PRODUCING ELECTROSTATIC CHUCK AND ELECTROSTATIC CHUCK

Номер патента: US20120248716A1. Автор: . Владелец: NGK Insulators, Ltd.. Дата публикации: 2012-10-04.

ELECTROSTATIC CHUCK, THIN FILM DEPOSITION APPARATUS INCLUDING THE ELECTROSTATIC CHUCK, AND METHOD OF MANUFACTURING ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY APPARATUS BY USING THE THIN FILM DEPOSITION APPARATUS

Номер патента: US20120288619A1. Автор: Kim Mu-Hyun,Choi Young-Mook,Kim Jong-Heon,CHOI Beohm Rock. Владелец: . Дата публикации: 2012-11-15.

Electrostatic chuck with concentric cooling base

Вам могут быть интересны следующие патенты

Главная

Проекты и услуги

Контакты