Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Lift pin assembly, an electrostatic chuck and a processing apparatus where the electrostatic chuck is located

Lift pin assembly, an electrostatic chuck and a processing apparatus where the electrostatic chuck is located

Номер патента: US20200083087A1
Опубликовано: 12-03-2020
Автор(ы): Jie Liang, Leyi Tu, Manus Wong, Rubin Ye, Tuqiang Ni, Ziyang Wu
Принадлежит: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Mounting table and plasma processing apparatus

Номер патента: US09589823B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Tadashi Aoto,Takeshi Sugamata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-07.

Plasma processing apparatus and substrate support body

Номер патента: US20240266154A1. Автор: Shinya Ishikawa,Daiki HARIU,Haruka ENDO,Miyuki AOYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Plasma processing apparatus and method therefor

Номер патента: US09620336B2. Автор: Shogo Okita. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Method of processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US09530657B2. Автор: Masahiro Ogasawara,Rui Takahashi,Masafumi Urakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12125672B2. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11830751B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Takashi Nishijima,Shoichiro Matsuyama,Jinyoung Park,Daiki Satoh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-28.

Electrostatic chuck apparatus

Номер патента: US09721822B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Mamoru Kosakai,Takashi Satou,Kenji Masuzawa,Toshiyuki Makabe,Kazunori Ishimura,Ryuuji Hayahara,Hitoshi Kouno. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11923229B2. Автор: Yusuke Aoki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Plasma Processing Apparatus and Plasma Processing Method

Номер патента: US20120145323A1. Автор: Hitoshi Tamura,Seiichi Watanabe,Naoki Yasui. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-06-14.

Maintenance method of plasma processing apparatus

Номер патента: US10541142B2. Автор: Takashi Yamamoto,Kazuya Matsumoto,Mitsunori Ohata,Yuki Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-01-21.

Maintenance method of plasma processing apparatus

Номер патента: US20190131137A1. Автор: Takashi Yamamoto,Kazuya Matsumoto,Mitsunori Ohata,Yuki Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-05-02.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230360882A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Electrostatic chuck and plasma processing apparatus including the same

Номер патента: US20200161157A1. Автор: SeungBo SHIM,Myungsun Choi,Yongwoo Lee,Jaehak LEE,Youngjin Noh,Minyoung HUR. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-05-21.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240339305A1. Автор: Hajime Tamura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240339303A1. Автор: Makoto Kato,Takashi Kanazawa,Shin Yamaguchi,Daiki Satoh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Plasma processing apparatus and electrostatic chuck including a dielectric structure and an electrostatic claim electrode inside the dielectric structure

Номер патента: US20240222092A1. Автор: Takahiko Sato,Tetsuo Yoshida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09911638B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-06.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09941132B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240282555A1. Автор: Yuki Tanaka,Shintarou Nakatani,Kazunori Nakamoto,Takamasa ICHINO,Kyohei Horikawa. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20160293469A1. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-06.

Plasma processing apparatus and method therefor

Номер патента: US20150126038A1. Автор: Shogo Okita. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2015-05-07.

Electrostatic chuck, substrate processing apparatus, and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20200126827A1. Автор: Dougyong Sung,Minsung Kim,Myoung Soo Park,Dongyun Yeo,Yun-kwang Jeon,Suho LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-04-23.

Electrostatic chuck and chuck base having cooling path for cooling wafer

Номер патента: EP1700334A1. Автор: Kyu Ha Lee,Jin Tai KIM,Hee Yong PARK,Hwi Gon Jang,Kwan Tae Park,Sang Young Oh. Владелец: Adaptive Plasma Technology Corp. Дата публикации: 2006-09-13.

De-chuck control method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09966291B2. Автор: Junichi Sasaki,Masaaki Miyagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Methods for electrostatic chuck ceramic surfacing

Номер патента: WO2023146808A1. Автор: Thomas Brezoczky,Siamak Salimian,Stanley Wu,Wendell Boyd,Ramesh Gopalan,Robert Toshiharu HIRAHARA,Michael Prestoza DECENA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing apparatus and method for removing substrate from table of substrate processing apparatus

Номер патента: US10991615B2. Автор: HAIYANG Xu,Koji Maeda,Mitsuhiko Inaba. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-04-27.

Substrate processing apparatus and method for removing substrate from table of substrate processing apparatus

Номер патента: US12020976B2. Автор: HAIYANG Xu,Koji Maeda,Mitsuhiko Inaba. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-06-25.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US09653334B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Atsushi Harikai,Mitsuru Hiroshima. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Electrostatic chuck and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240222091A1. Автор: Koei ITO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Method for repairing electrostatic chuck device

Номер патента: US20230321968A1. Автор: Keisuke Maeda,Yuuki KINPARA. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2023-10-12.

Electrostatic chuck, vacuum processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US12014946B2. Автор: Genji Sakata,Hidekazu Yokoo. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Lower electrode and plasma processing apparatus

Номер патента: US20150206722A1. Автор: Takashi Yamamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-07-23.

Electrostatic chuck refurbishment

Номер патента: US09669653B2. Автор: Vijay D. Parkhe,Kadthala Ramaya Narendrnath. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-06-06.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US12062563B2. Автор: Itsuki Kobata,Keita Yagi,Nobuyuki Takahashi,Yoichi Shiokawa,Toru Maruyama,Katsuhide Watanabe. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Electrostatic chuck device

Номер патента: US20200343125A1. Автор: Kazunori Ishimura,Ryuuji Hayahara,Hitoshi Kouno,Yuuki KINPARA. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2020-10-29.

Liquid processing method, liquid processing apparatus and storage medium

Номер патента: US20140048109A1. Автор: Hiromitsu Namba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-02-20.

Electrostatic chuck device

Номер патента: US20210006182A1. Автор: Shinichi Maeta. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2021-01-07.

System And Method For Reduced Workpiece Adhesion Due To Electrostatic Charge During Removal From A Processing Station

Номер патента: US20190057835A1. Автор: David E. Suuronen,Julian G. Blake,Michael W. Osborne,Eric D. Wilson. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2019-02-21.

Plasma guard for chamber equipped with electrostatic chuck

Номер патента: US5762714A. Автор: Kenneth S. Collins,Jon Mohn,Joshua Chiu-Wing Tsui. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1998-06-09.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09660182B2. Автор: Takashi Sone,Eiichi Nishimura,Fumiko Yamashita,Masato Kushibiki,Daisuke Urayama,Nao Koizumi,Wataru Kume. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11923171B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Hidetoshi Hanaoka,Junichi Sasaki,Tomohiko Akiyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12033872B2. Автор: Hiroshi Yoshida,Takashi Nagai,Koji Ogura,Takumi Honda,Jun Nonaka,Keita Hirase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and storage medium

Номер патента: US9299540B2. Автор: Tatsuya Ogi,Kimihiro Fukasawa,Kazuhiro Kanaya,Wataru Ozawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-03-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230241636A1. Автор: Yoko TAKAKITA. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2023-08-03.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and storage medium

Номер патента: US8864934B2. Автор: Tatsuya Ogi,Kimihiro Fukasawa,Kazuhiro Kanaya,Wataru Ozawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-10-21.

Substrate liquid processing apparatus and method, and computer-readable storage medium storing substrate liquid processing program

Номер патента: US10811266B2. Автор: Hiromi Hara,Fumihiro Kamimura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-10-20.

Electrostatic chuck system and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus by using the electrostatic chuck system

Номер патента: US09530988B2. Автор: Duckjung Lee,Jungsun PARK,Kiyoung Yun. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Method and apparatus for balancing an electrostatic force produced by an electrostatic chuck

Номер патента: US20030053283A1. Автор: Bradley Stimson,David Loo,Jr-Jyan Chen,Kenny Ngan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-03-20.

Electrostatic chuck system and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus by using the electrostatic chuck system

Номер патента: US20160285052A1. Автор: Duckjung Lee,Jungsun PARK,Kiyoung Yun. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-29.

Method of reducing leakage of heat transfer gas and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240274412A1. Автор: Akira Takahashi,Shinsuke Oka,Daisuke Tamura,Tsubasa SHIMOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US5868848A. Автор: Yuji Tsukamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1999-02-09.

Plasma processing apparatus and semiconductor device manufacturing method using the same

Номер патента: US11929239B2. Автор: Sejin Oh,Jongwoo SUN,Jewoo HAN,Taemin EARMME,Iksu Byun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-12.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240014011A1. Автор: Hyun Kim,Kang Hee KIM,Yong Taek Eom. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Method of producing processing condition of plasma processing apparatus, and plasma processing apparatus

Номер патента: US09870901B2. Автор: Takashi Dokan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20130045547A1. Автор: Kenji Nakata,Atsushi Itou,Kouichi Yamamoto,Masaru Izawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-02-21.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20210175109A1. Автор: Masaki Sato,Ikuo Itakura,Shuichiro Saigan,Yutaka Momiyama,Jun SHIRAISHI,Kouta Kobayashi. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2021-06-10.

Data processing method, data processing apparatus and processing apparatus

Номер патента: US20180341625A1. Автор: Seiichi Watanabe,Satomi Inoue,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-11-29.

Data processing method, data processing apparatus and processing apparatus

Номер патента: US10073818B2. Автор: Seiichi Watanabe,Satomi Inoue,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-09-11.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240212996A1. Автор: Naoyuki Satoh,Shu KUSANO,Toshiyuki ARAKANE,Hikaru KIKUCHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Discharging an electrostatic chuck located within a vacuum chamber

Номер патента: US20240234078A1. Автор: Adam Faust,Yosef Basson. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20210267042A1. Автор: Yohei Uchida,Tetsuji Sato,Taira Takase,Shojiro Yahata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-08-26.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20200107429A1. Автор: Yohei Uchida,Tetsuji Sato,Taira Takase,Shojiro Yahata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11032899B2. Автор: Yohei Uchida,Tetsuji Sato,Taira Takase,Shojiro Yahata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-06-08.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11825589B2. Автор: Yohei Uchida,Tetsuji Sato,Taira Takase,Shojiro Yahata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Lift apparatus and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20210159112A1. Автор: Sangwook Park,Seungwon SHIN,Keonwoo KIM,Byeongsang KIM,Eungsu Kim,Heewon MIN,Dongyun Yeo,Hyanjung LEE,Wooram KIM,Geunsik Oh. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-05-27.

Lift apparatus and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US11984344B2. Автор: Sangwook Park,Seungwon SHIN,Keonwoo KIM,Byeongsang KIM,Eungsu Kim,Heewon MIN,Dongyun Yeo,Hyanjung LEE,Wooram KIM,Geunsik Oh. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-14.

Barrier Seal for Electrostatic Chuck

Номер патента: US20160240421A1. Автор: Chun-Yao Huang,Yo-Yu CHANG. Владелец: Mfg Sealing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-18.

Barrier seal for electrostatic chuck

Номер патента: US10529611B2. Автор: Chun-Yao Huang,Yo-Yu CHANG. Владелец: Mfc Sealing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-07.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240006165A1. Автор: Tong Wu,Hiroki Endo,Yoshihiro Yanagi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180185885A1. Автор: Akio Hashizume,Junichi Ishii,Takayuki Nishida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-05.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20230311258A1. Автор: Akihito Ono,Jumpei UEFUJI,Tomoki UMETSU,Masafumi IKEGUCHI. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2023-10-05.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20230317493A1. Автор: Tatsuya Hayakawa,Akihito Ono,Jumpei UEFUJI. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2023-10-05.

Liquid processing apparatus and liquid processing method

Номер патента: US20230264233A1. Автор: Itaru Kanno,Taisei Inoue,Hiroshi Yano,Masaru Amai,Kazuki Kosai,Takahisa OTSUKA,Yusuke Takamatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Substrate holding method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240258082A1. Автор: Shinsuke Oka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Electrostatic chuck with LED heating

Номер патента: US09728430B2. Автор: William T. Weaver,Jason M. Schaller,Robert Brent Vopat,Ala Moradian,Julian G. Blake,Paul E. Pergande,Morgan D. Evans,David Blahnik. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2017-08-08.

Electrostatic chuck assembly for plasma reactor

Номер патента: US20100110605A1. Автор: Sungyong KO,Hwankook CHAE,Keehyun KIM,Weonmook LEE,Kunjoo PARK,Minshik KIM. Владелец: DMS Co Ltd. Дата публикации: 2010-05-06.

Lift pin mechanism

Номер патента: WO2022192206A1. Автор: Rajinder Dhindsa,James Hugh Rogers,Timothy Joseph Franklin,Anwar Husain,Carlaton WONG,Alexander SULYMAN,Xue Yang CHANG,Steven Babayan. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-09-15.

Electrostatic chuck with led heating

Номер патента: WO2017003868A1. Автор: William T. Weaver,Jason M. Schaller,Robert Brent Vopat,Ala Moradian,Julian G. Blake,Paul E. Pergande,Morgan D. Evans,David Blahnik. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2017-01-05.

Processing apparatus for processing target object

Номер патента: US20180218886A1. Автор: Koichi Murakami,Shin Yamaguchi,Takehiko Arita,Akiyoshi MITSUMORI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-08-02.

Electrostatic Chuck and Method of Operation for Plasma Processing

Номер патента: US20240355593A1. Автор: Melvin VERBAAS,Einosuke Tsuda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Electrostatic chuck and method of operation for plasma processing

Номер патента: WO2024220139A1. Автор: Melvin VERBAAS,Einosuke Tsuda. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-10-24.

Multi-pressure bipolar electrostatic chucking

Номер патента: US12040210B2. Автор: JIAN Li,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Kwangduk Douglas Lee,Sanjay Kamath,Yubin Zhang,Paul L. Brillhart,Dmitry A. Dzilno,Mayur Govind KULKARNI,Zongbin Wang,Akshay Gunaji,Sandeep Bindgi,Yong Xiang Lim. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-16.

Stage, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20210391152A1. Автор: Shingo Koiwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-12-16.

Structure of mounting table and semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20170207110A1. Автор: Yasuharu Sasaki,Naoyuki Satoh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-07-20.

Biasable electrostatic chuck

Номер патента: WO2024151539A1. Автор: Vijay D. Parkhe,Qiwei Liang,Dmitry Lubomirsky,Douglas Buchberger,Paneendra Prakash BHAT,Naveen Kumar NAGARAJA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-07-18.

Biasable electrostatic chuck

Номер патента: US20240234108A1. Автор: Vijay D. Parkhe,Qiwei Liang,Dmitry Lubomirsky,Douglas Buchberger,Paneendra Prakash BHAT,Naveen Kumar NAGARAJA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Wafer lift pin mechanism for preventing local backside deposition

Номер патента: WO2021168025A1. Автор: Xinyi CHEN,Tu Hong,Andrew H. Breninger. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2021-08-26.

Wafer lift pin mechanism for preventing local backside deposition

Номер патента: US20230099332A1. Автор: Xinyi CHEN,Tu Hong,Andrew H. Breninger. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-03-30.

Multi-pressure bipolar electrostatic chucking

Номер патента: WO2022087573A1. Автор: JIAN Li,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Kwangduk Douglas Lee,Sanjay Kamath,Yubin Zhang,Paul L. Brillhart,Dmitry A. Dzilno,Mayur Govind KULKARNI,Zongbin Wang,Akshay Gunaji,Sandeep Bindgi,Yong Xiang Lim. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-04-28.

Processing method, placing pedestal, plasma processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20210013016A1. Автор: Takashi TSUTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-01-14.

Electrostatic chuck device and electrostatic chuck device manufacturing method

Номер патента: US20210308812A1. Автор: Takeshi Watanabe,Keisuke Maeda,Yuuki KINPARA,Masaki OZAKI,Masayuki Shiojiri,Shinchi MAETA. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2021-10-07.

Substrate Processing Apparatus and Method of Manufacturing Semiconductor Device

Номер патента: US20240096597A1. Автор: Takeshi Yasui,Koichiro Harada,Katsunori Funaki,Yasutoshi Tsubota. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Electrostatic chuck device and method for producing electrostatic chuck device

Номер патента: US11848223B2. Автор: Takeshi Watanabe,Kentaro Takahashi,Hironori Kugimoto,Masaki OZAKI. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2023-12-19.

Placing table including heat exchange medium path and substrate processing apparatus thereof

Номер патента: US11791177B2. Автор: Masanori Takahashi,Katsuyuki Koizumi,Shota Ezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Substrate processing apparatus, substrate mounting table cover, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer readable recording medium

Номер патента: US20220415700A1. Автор: Takayuki Sato,Yuichiro Takeshima,Masaki Murobayashi,Tomokazu WAKUI. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-12-29.

Electrostatic chuck device, pressure calculation method and program

Номер патента: US20230274966A1. Автор: Lei Ma,Tadahiro Yasuda,Andrew Price. Владелец: Horiba Stec Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Electrostatic chuck and plasma apparatus for processing substrates having the same

Номер патента: US20170358475A1. Автор: Jae-hoon Kim,Kyung-Sun Kim,Ohyung Kwon,Doug-Yong Sung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-12-14.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US12045037B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Yamamoto,Shinji Shimizu,Hiroshi Horiguchi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11776792B2. Автор: Takashi Uemura,Masahiro Nagatani,Yasushi Sonoda,Kiyohiko Sato,Shengnan Yu,Shunsuke Tashiro. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-03.

Plasma-processing apparatus with upper electrode plate and method for performing plasma treatment process

Номер патента: US09431221B2. Автор: Chih-ching Cheng,Po-Ju Chen,Xiao-Meng Chen,Hsin-Yi Tsai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-08-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20180158650A1. Автор: Hideyuki Kobayashi,Ryota Sakane,Hiroshi Nagahata,Jungwoo Na. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-07.

Electrostatic chuck mechanism and semiconductor processing device having the same

Номер патента: US10985045B2. Автор: Haiying Liu,Yulin Peng. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-20.

Isolated volume seals and method of forming an isolated volume within a processing chamber

Номер патента: US20240332046A1. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Bhaskar PRASAD,Srinivasa Rao Yedla,Nitin Bharadwaj SATYAVOLU. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Isolated volume seals and method of forming an isolated volume within a processing chamber

Номер патента: US11955355B2. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Bhaskar PRASAD,Srinivasa Rao Yedla,Nitin Bharadwaj SATYAVOLU. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-09.

Conductive electrostatic chuck lift pin, electrostatic chuck comprising the same, and semiconductor manufacturing method using the same

Номер патента: US20230282507A1. Автор: Joon Ho Lee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-09-07.

Replaceable electrostatic chuck sidewall shield

Номер патента: US09543181B2. Автор: Jiun-Rong Pai,Yeh-Chieh Wang,Hsi-Shui Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Electrostatic chuck with dielectric coating

Номер патента: WO2003008666B1. Автор: Tetsuya Ishikawa,Michael G Chafin,Brad Mays,Arnold V Kholodenko,Amanda H Kumar,Dennis S Grimard. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-03-20.

Electrostatic chucking device

Номер патента: US5851641A. Автор: Tadao Matsunaga,Kei Hattori,Takaya Matsushita. Владелец: Tomoegawa Paper Co Ltd. Дата публикации: 1998-12-22.

Electrostatic chuck having a gas flow feature, and related methods

Номер патента: US11837492B2. Автор: Yan Liu,Jakub Rybczynski,Steven Donnell,Chun Wang CHAN,Caleb MINSKY. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

ELECTROSTATIC CHUCK SYSTEM AND METHOD OF MANUFACTURING ORGANIC LIGHT-EMITTING DISPLAY APPARATUS BY USING THE ELECTROSTATIC CHUCK SYSTEM

Номер патента: US20160285052A1. Автор: PARK JUNGSUN,Lee Duckjung,Yun Kiyoung. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-29.

Electrostatic chuck for a substrate in a process chamber

Номер патента: EP0693771A1. Автор: Shamouil Shamouilian,John F. Cameron. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1996-01-24.

Lift pin assembly for a plasma processing apparatus

Номер патента: US12009184B2. Автор: Maolin Long,Changle GUAN. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Lift pin assembly

Номер патента: EP4305663A1. Автор: Timothy Joseph Franklin,Anwar Husain,Carlaton WONG,Alexander SULYMAN,Xue Yang CHANG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-17.

Lift pin assembly

Номер патента: US12020977B2. Автор: Timothy Joseph Franklin,Anwar Husain,Carlaton WONG,Alexander SULYMAN,Xue Yang CHANG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-25.

Plasma processing apparatus, electrostatic chuck, and plasma processing method

Номер патента: US20240258078A1. Автор: Takahiko Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09566821B2. Автор: Ryoji Nishio,Takamasa ICHINO,Shinji OBAMA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Stage and plasma processing apparatus

Номер патента: US11694881B2. Автор: Hiroki Endo,Katsuyuki Koizumi,Naohiko Okunishi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-07-04.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240038507A1. Автор: Satoshi Taga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Method of operating electrostatic chuck of plasma processing apparatus

Номер патента: US20180350568A1. Автор: Shin Yamaguchi,Akiyoshi MITSUMORI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-12-06.

Spray-coated electrostatic chuck design

Номер патента: US20240258076A1. Автор: Yuichi Wada,Sarath Babu,Tuck Foong Koh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Spray-coated electrostatic chuck design

Номер патента: WO2024163134A1. Автор: Yuichi Wada,Sarath Babu,Tuck Foong Koh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-08.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20240363383A1. Автор: Junhyung Kim,Hyunjoo Jeon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-31.

Electrostatic Chuck Assembly for Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20240282614A1. Автор: Maolin Long. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Method and apparatus to bias an electrostatic chuck

Номер патента: WO2024129472A1. Автор: Ashish Saurabh. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-06-20.

Power supply signal conditioning for an electrostatic chuck

Номер патента: US11776835B2. Автор: Deenesh Padhi,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Xinhai Han,Edward P. Hammond,Zheng John Ye,Rana HOWLADER,Dmitry A. Dzilno,Daemian Raj BENJAMIN RAJ,Shailendra Srivastava,Abhigyan KESHRI,Sanjay G. KAMATH,Kristopher R. Enslow. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Real time bias detection and correction for electrostatic chuck

Номер патента: US12080584B2. Автор: JIAN Li,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Dmitry A. Dzilno. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09779919B2. Автор: Kenetsu Yokogawa,Masahito Mori,Takao Arase,Takamasa ICHINO,Yuusuke Takegawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Seasoning method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240030014A1. Автор: Naoki Matsumoto,Satoru Nakamura,Yusuke Shimizu,Toshihisa Ozu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Conductive wafer lift pin o-ring gripper with resistor

Номер патента: US20170221750A1. Автор: Michael D. Willwerth,Roberto Cesar COTLEAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-03.

Electrostatic chuck and processing apparatus

Номер патента: US11955360B2. Автор: Yutaka Omoto,Akira Itoh,Hiroho Kitada,Takeshi Takabatake,Tomohiro NAKASUJI,Kentaro SETO,Kazuumi Tanaka. Владелец: Tocalo Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-09.

Stage and plasma processing apparatus

Номер патента: US20180350570A1. Автор: Hiroki Endo,Katsuyuki Koizumi,Naohiko Okunishi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-12-06.

Electrostatic chuck, placing table and plasma processing apparatus

Номер патента: US20150311106A1. Автор: Tomoyuki Takahashi,Katsuyuki Koizumi,Dai Kitagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-10-29.

Electrostatic chuck assembly for plasma processing apparatus

Номер патента: US11837493B2. Автор: Maolin Long,Weimin Zeng. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Wafer placement error detection based on measuring a current through an electrostatic chuck and solution for intervention

Номер патента: US20200388518A1. Автор: Ganesh Balasubramanian,Hemant Mungekar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-12-10.

Bipolar electrostatic chuck to limit DC discharge

Номер патента: US12057339B2. Автор: JIAN Li,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Paul L. Brillhart,Dmitry A. Dzilno,Zheng J. Ye. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-06.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20230290620A1. Автор: Masaki Hirayama,Tetsuro ITAGAKI. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2023-09-14.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20220384154A1. Автор: Kazuya Matsumoto,Atsushi Sasaki,Shingo Takahashi,Koichi Nagami,Yusuke HAYASAKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Electrostatic chuck assembly for plasma processing apparatus

Номер патента: US12002701B2. Автор: Maolin Long. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20240213071A1. Автор: Yongwoo Kim,Kiseok LEE,Inseok Seo,Younseon Wang,Junho Im,Taehwa Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-27.

Real time bias detection and correction for electrostatic chuck

Номер патента: US20230207372A1. Автор: JIAN Li,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Dmitry A. Dzilno. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-06-29.

Real time bias detection and correction for electrostatic chuck

Номер патента: US20220122874A1. Автор: JIAN Li,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Dmitry A. Dzilno. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-04-21.

High temperature bipolar electrostatic chuck

Номер патента: US11901209B2. Автор: JIAN Li,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Dmitry A. Dzilno,Zheng J. Ye. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-13.

Electrostatic chuck and semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US11830755B2. Автор: Tatsuya Hayakawa,Akihito Ono,Jumpei UEFUJI,Tomoki UMETSU. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2023-11-28.

High-pressure container, substrate processing apparatus, and method for manufacturing high-pressure container

Номер патента: US20140145390A1. Автор: Kazuyuki Mitsuoka,Takayuki Toshima,Takehiko Orii,Hiroki Ohno,Gen You,Hiroaki Inadomi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-05-29.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20210074525A1. Автор: Minoru Suzuki,Hitoshi Sasaki,Yutaka Momiyama,Tsukasa Shigezumi. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2021-03-11.

Automatic electrostatic chuck bias compensation during plasma processing

Номер патента: US11948780B2. Автор: James Rogers,Leonid Dorf,Linying CUI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-02.

Measuring method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11854767B2. Автор: Masanori Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Encapsulated compression washer for bonding ceramic plate and metal baseplate of electrostatic chucks

Номер патента: WO2023172434A1. Автор: Eric A. Pape. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-09-14.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20200402778A1. Автор: Takashi Sato,Kazuhito Yamada,Hiroki Endo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-24.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20200035468A1. Автор: Hitoshi Sasaki,Yutaka Momiyama. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2020-01-30.

Low frequency rf generator and associated electrostatic chuck

Номер патента: US20230274914A1. Автор: Bing Ji,Alexander Matyushkin,John Patrick Holland,Felix Leib Kozakevich,Ranadeep BHOWMICK,Alexei M. Marakhtanov. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-08-31.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20070065760A1. Автор: Yoshitake Ito. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-03-22.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240047258A1. Автор: Tomoyuki Tamura,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-02-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230317436A1. Автор: Dukhyun Son,Jihun Kim,Yeonghun WI. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Electrostatic Chuck Assembly Having A Dielectric Filler

Номер патента: US20180308736A1. Автор: HAITAO Wang,Kartik Ramaswamy,Sergio Fukuda Shoji,Hamid Noorbakhsh,Kenny L. Doan,Chunlei Zhang,Jaeyong Cho,Anwar Husain,Evans Yip Lee. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-10-25.

Electrostatic chuck assembly for cryogenic applications

Номер патента: US12033837B2. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-09.

Electrostatic chuck, substrate support, plasma processing apparatus, and method of manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: US20230064309A1. Автор: Atsushi Kawabata,Masanori Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-03-02.

Lift Pin Assembly, Substrate Support Apparatus and Substrate Processing Apparatus Having the Same

Номер патента: US20190080955A1. Автор: Ja-Woo Lee,Su-Ho Lee,Seung-Won Shin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-03-14.

Electrostatic chuck assembly for cryogenic applications

Номер патента: US20240331987A1. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Method and system for monitoring substrate processing apparatus

Номер патента: US12068140B2. Автор: Sejin Oh,Jongwoo SUN,Taemin EARMME,Eunwoo LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-20.

Method and system for monitoring substrate processing apparatus

Номер патента: US20240371611A1. Автор: Sejin Oh,Jongwoo SUN,Taemin EARMME,Eunwoo LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-11-07.

Lift pin assembly

Номер патента: US20240266206A1. Автор: ANAND Kumar,Yogananda SARODE VISHWANATH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Cooled pin lifter paddle for semiconductor substrate processing apparatus

Номер патента: US09859145B2. Автор: Andreas Fischer,Dean Larson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Support unit and substrate processing apparatus comprising same

Номер патента: EP4432337A1. Автор: Jong Chan Lee,Ju Young Park,Jun Young Cho,Hyeon Gyeong Shin. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-09-18.

Electrostatic chuck assembly for plasma processing apparatus

Номер патента: US12119254B2. Автор: Maolin Long,Weimin Zeng. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

Electrostatic chuck to limit particle deposits thereon

Номер патента: WO2007136809A2. Автор: Scott Pietzsch. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2007-11-29.

Method and system for balancing the electrostatic chucking force on a substrate

Номер патента: US20180330977A1. Автор: LEI Jing,Michael W. Johnson,Michael D. Armacost,Chong JIANG,Adolph Miller Allen,Pallavi ZHANG,Mingte Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-11-15.

Electrostatic chuck assembly having a dielectric filler

Номер патента: US20200066566A1. Автор: HAITAO Wang,Kartik Ramaswamy,Sergio Fukuda Shoji,Hamid Noorbakhsh,Kenny L. Doan,Chunlei Zhang,Jaeyong Cho,Anwar Husain,Evans Yip Lee. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-02-27.

Lift pin assembly and substrate processing apparatus having same

Номер патента: US20230207378A1. Автор: Jun Hyeak Choi,Wan Hee JEONG,Kuk Saeng KIM,Do Youn LIM. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09570272B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-14.

Semiconductor reaction chamber and semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20230223280A1. Автор: Jian Liu. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Electrostatic chuck heater and manufacturing method therefor

Номер патента: US12040209B2. Автор: Jin Young Choi,Chul Ho Jung. Владелец: Mico Ceramics Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Structure for automatic in-situ replacement of a part of an electrostatic chuck

Номер патента: US20210384060A1. Автор: Atsushi Kawabata,Daisuke Hayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-12-09.

Electrostatic chuck assembly for cryogenic applications

Номер патента: US20230402267A1. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-14.

Aluminum nitride electrostatic chuck used in high temperature and high plasma power density semiconductor manufacturing process

Номер патента: US09972520B2. Автор: Yi-Hsiuan Yu,Yang-Kuao Kuo,Jian-Long Ruan. Владелец: National Chung Shan Institute of Science and Technology NCSIST. Дата публикации: 2018-05-15.

Electrostatic chuck assembly for cryogenic applications

Номер патента: US11776794B2. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230268216A1. Автор: Takahiko Sato,Tsutomu Nagai,Shinya Ishikawa,Keigo TOYODA,Daiki HARIU,Takafumi TSUDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Substrate processing system including electrostatic chuck and method for manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: US11705357B2. Автор: Sang Kee LEE,Dong Mok Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-18.

Substrate support unit and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230215708A1. Автор: Dongchan Lee,Jaekyung LEE,Jiseok Kim,Jehee Lee,Kiryong Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-06.

Electrostatic chuck assembly for cryogenic applications

Номер патента: WO2022177632A1. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-08-25.

Coin-slot and ball-lock ceramic lift pin holders

Номер патента: US20220406645A1. Автор: Aleksey V. ALTECOR,Andrew H. Breninger. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2022-12-22.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20230402258A1. Автор: Dougyong Sung,Minsung Kim,Yunhwan Kim,Namkyun Kim,Youngjin Noh. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-14.

Lift pin assembly

Номер патента: US12002703B2. Автор: ANAND Kumar,Yogananda SARODE VISHWANATH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-04.

Electrostatic chuck, substrate processing apparatus, and manufacturing method of electrostatic chuck

Номер патента: US20240234107A1. Автор: Masato Minami,Tomoya Watanabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

High temperature micro-zone electrostatic chuck

Номер патента: US11784080B2. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-10.

Plasma processing apparatus and substrate support

Номер патента: US20240087857A1. Автор: Makoto Kato,Shoichiro Matsuyama,Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20230317494A1. Автор: Akihito Ono,Jumpei UEFUJI. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2023-10-05.

Lift pin holder

Номер патента: WO2019084235A1. Автор: Khiem K. Nguyen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2019-05-02.

Electrostatic chuck

Номер патента: US12106994B2. Автор: Tatsuya Kuno. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Cold edge low temperature electrostatic chuck

Номер патента: US20230395359A1. Автор: Dan Marohl,Ambarish CHHATRE,Patrick Chung,Craig A. Rosslee,David A. Setton,Mohammad Sohail SHAIK. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Rf electrostatic chuck filter circuit

Номер патента: US20200343123A1. Автор: Adam Fischbach,Edward Haywood,Timothy Joseph Franklin,Zheng John Ye. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-10-29.

Cold edge low temperature electrostatic chuck

Номер патента: EP4233096A1. Автор: Dan Marohl,Ambarish CHHATRE,Patrick Chung,Craig A. Rosslee,David A. Setton,Mohammad Sohail SHAIK. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-08-30.

Plasma processing apparatus and storage medium

Номер патента: US20230268165A1. Автор: Yusuke Aoki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Electrostatic chuck and substrate fixing device

Номер патента: US20180315634A1. Автор: Shigeaki Suganuma,Tomotake Minemura,Masaya Tsuno. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-01.

Bipolar electrostatic chuck electrode designs

Номер патента: US20240249924A1. Автор: JIAN Li,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Kallol Bera,Edward P. Hammond,Dmitry A. Dzilno,Xiaopu LI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Bipolar electrostatic chuck electrode designs

Номер патента: WO2024158600A1. Автор: JIAN Li,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Kallol Bera,Edward P. Hammond,Dmitry A. Dzilno,Xiaopu LI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

Electrostatic chuck design for cooling-gas light-up prevention

Номер патента: US20170110356A1. Автор: Alexei Marakhtanov,Alexander Matyushkin,John Patrick Holland,Felix Kozakevich,Keith Gaff. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-04-20.

Rotatable heated electrostatic chuck

Номер патента: US09853579B2. Автор: Ashish Goel,Vijay D. Parkhe,Xiaoxiong Yuan,Anantha K. Subramani,Bharath Swaminathan,Wei W. Wang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

Electrostatic chuck assembly for plasma processing apparatus

Номер патента: US20240096680A1. Автор: Maolin Long,Weimin Zeng. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Reduced localized force in electrostatic chucking

Номер патента: US12033881B2. Автор: Sumanth Banda,Vladimir KNYAZIK,Stephen D. Prouty. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-09.

Electrostatic chuck device

Номер патента: US09466518B2. Автор: Yukio Miura,Takeshi Otsuka,Mamoru Kosakai,Shinichi Maeta. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2016-10-11.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20240339351A1. Автор: Hitoshi Sasaki,Yutaka Momiyama. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2024-10-10.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20240331985A1. Автор: Ikuo Itakura,Keisuke Sano,Yutaka Momiyama,Jun SHIRAISHI,Masafumi IKEGUCHI,Ryosuke Sakurai. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2024-10-03.

Radio frequency electrode assembly for plasma processing apparatus, and plasma processing apparatus

Номер патента: US11875970B2. Автор: Jie Liang,Weina Wang,Leyi Tu,Longbao Chen. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2024-01-16.

Electrostatic chuck (esc) pedestal voltage isolation

Номер патента: US20240266202A1. Автор: Vincent Burkhart,Miguel Benjamin Vasquez. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-08.

Methods, systems, and apparatus for conducting chucking operations using an adjusted chucking voltage if a process shift occurs

Номер патента: US11854911B2. Автор: Matthew Boyd,Wendell Glenn Boyd, JR.. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Electrostatic chuck heater and manufacturing method therefor

Номер патента: US20210242062A1. Автор: Jin Young Choi,Chul Ho Jung. Владелец: Mico Ceramics Ltd. Дата публикации: 2021-08-05.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09941097B2. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Kazuki Denpoh,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09899191B2. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Kazuki Denpoh,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Plasma processing apparatus and method for releasing sample

Номер патента: US20180040491A1. Автор: Masaki Ishiguro,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-02-08.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20240063046A1. Автор: Naoki Furukawa. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-02-22.

Plasma processing apparatus and temperature controlling method

Номер патента: US20240030009A1. Автор: Kazuhito Yamada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Substrate support and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220254671A1. Автор: Shinya Ishikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-11.

Electrostatic chuck

Номер патента: US11842915B2. Автор: Naoki Furukawa. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2023-12-12.

Substrate support and substrate processing apparatus

Номер патента: US11961755B2. Автор: Shinya Ishikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-16.

Electrostatic chuck and substrate fixing device

Номер патента: US11909335B2. Автор: Takashi Onuma,Keiichi Takemoto. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Rotatable heated electrostatic chuck

Номер патента: WO2015094750A1. Автор: Ashish Goel,Vijay D. Parkhe,Xiaoxiong Yuan,Anantha K. Subramani,Bharath Swaminathan,Wei W. Wang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2015-06-25.

Reduced localized force in electrostatic chucking

Номер патента: WO2022197518A1. Автор: Sumanth Banda,Vladimir KNYAZIK,Stephen D. Prouty. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-09-22.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20230019439A1. Автор: Tatsuya Kuno. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2023-01-19.

Rotatable heated electrostatic chuck

Номер патента: EP3084819A1. Автор: Ashish Goel,Vijay D. Parkhe,Xiaoxiong Yuan,Anantha K. Subramani,Bharath Swaminathan,Wei W. Wang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-10-26.

Vacuum seal for electrostatic chuck

Номер патента: US12125734B2. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-22.

High temperature pedestal with extended electrostatic chuck electrode

Номер патента: US20230369091A1. Автор: Niraj Rana,Yukinori Sakiyama,Pengyi Zhang,David French,Feng Bi,Vincent Burkhart,Timothy Scott Thomas,Simran Shah. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20230317495A1. Автор: Akihito Ono,Jumpei UEFUJI,Tomoki UMETSU,Tetsuro ITOYAMA. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2023-10-05.

Methods and apparatus for in-situ cleaning of electrostatic chucks

Номер патента: US20210175107A1. Автор: David Gunther,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Prashant Prabhakar Prabhu,William R. Johanson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-06-10.

Electrostatic chuck apparatus and semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US11823872B2. Автор: Yuya Matsubara. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-11-21.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20230326725A1. Автор: Shuichi Takahashi,Takaaki Kikuchi,Atsushi Ogata,Takashi Taira,Nobutaka Sasaki,Takaharu MIYADATE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Methods and apparatus for in-situ cleaning of electrostatic chucks

Номер патента: WO2021118689A1. Автор: David Gunther,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Prashant Prabhakar Prabhu,William R. Johanson. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-06-17.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20200203207A1. Автор: Shuichiro Saigan,Jun SHIRAISHI,Tetsuro ITOYAMA,Masafumi IKEGUCHI. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2020-06-25.

Wireless in-situ real-time measurement of electrostatic chucking force in semiconductor wafer processing

Номер патента: US20200194290A1. Автор: Wendell Glenn Boyd, JR.,Govinda Raj,Robert Hirahara,Ramesh Gopalan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-06-18.

Wireless in-situ real-time measurement of electrostatic chucking force in semiconductor wafer processing

Номер патента: US12033875B2. Автор: Ramesh Gopalan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-09.

Electrostatic chuck (ESC) pedestal voltage isolation

Номер патента: US11990360B2. Автор: Vincent Burkhart,Miguel Benjamin Vasquez. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-05-21.

Electrostatic chuck, substrate fixing device and paste

Номер патента: US20240047259A1. Автор: Michio Horiuchi,Ryosuke Hori. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Plasma processing apparatus, substrate bonding system including the same, and substrate bonding method using the same

Номер патента: US20230215698A1. Автор: Ho Kim,Youngho Kim,SeungDae SEOK,Yongin LEE,Se-Hoon Jang,Donggap Shin,Siwoong Woo,Inhwa Baek. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Method of modifying electrostatic chuck and plasma processing apparatus

Номер патента: US09558919B2. Автор: Takamitsu Kondo,Shingo Shimogama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Method of controlling adherence of microparticles to substrate to be processed, and processing apparatus

Номер патента: US09892951B2. Автор: Kazuki Moyama,Takehiro Tanikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

High power electrostatic chuck design with radio frequency coupling

Номер патента: WO2017213715A1. Автор: HAITAO Wang,Vijay D. Parkhe,Kartik Ramaswamy,Chunlei Zhang,Jaeyong Cho. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2017-12-14.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20240195332A1. Автор: Kenichi Akabane. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Light-up prevention in electrostatic chucks

Номер патента: WO2011014328A2. Автор: Tom Stevenson,Rajinder Dhindsa,Daniel Byun,Saurabh Ullal,Babak Kadkhodayan. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2011-02-03.

Method and apparatus for dechucking a workpiece from an electrostatic chuck

Номер патента: EP1118425A3. Автор: Karl F. Lesser. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-02-04.

Light-up prevention in electrostatic chucks

Номер патента: EP2460179A2. Автор: Tom Stevenson,Rajinder Dhindsa,Daniel Byun,Saurabh Ullal,Babak Kadkhodayan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2012-06-06.

Substrate processing apparatus having electrostatic chuck and substrate processing method

Номер патента: US11929251B2. Автор: Toshihisa Nozawa. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-03-12.

Substrate processing apparatus and method of fabricating same

Номер патента: US20220139680A1. Автор: Dong Mok Lee,Jin Il SUNG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

Substrate lift mechanism and substrate processing apparatus including same

Номер патента: US20220415701A1. Автор: Kazuhiro Nishiwaki. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-12-29.

Electrostatic chucks with coolant gas zones and corresponding groove and monopolar electrostatic clamping electrode patterns

Номер патента: US20240347366A1. Автор: Alexander Matyushkin,John Patrick Holland,Keith Comendant. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-17.

Gas cooled electrostatic chuck (ESC) having a gas channel formed therein and coupled to a gas box on both ends of the gas channel

Номер патента: US10781518B2. Автор: Brian T. West,Soundarrajan JEMBULINGAM,Manoj A. Gajendra. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-09-22.

Electrostatic chuck, method of manufacturing electrostatic chuck, and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210118716A1. Автор: Jie Liang,Tuqiang Ni,Manus Wong,Dee Wu,Leyi Tu,Rubin Ye,Hanyi ZHAO. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2021-04-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US11600511B2. Автор: Jinseok Lee,Kihong CHO,Kyuchul SHIM,Chungho CHO,Jiho Uh,Namki Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-07.

High power electrostatic chuck design with radio frequency coupling

Номер патента: US11948826B2. Автор: HAITAO Wang,Vijay D. Parkhe,Kartik Ramaswamy,Chunlei Zhang,Jaeyong Cho. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-02.

Stage and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200402777A1. Автор: Yasuharu Sasaki,Hajime Tamura,Shin Yamaguchi,Tsuguto SUGAWARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-24.

Electrostatic chuck device

Номер патента: US20180269097A1. Автор: Yukio Miura,Mamoru Kosakai,Hitoshi Kouno,Shinichi Maeta. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2018-09-20.

Direct lift process apparatus

Номер патента: US09978632B2. Автор: Saravjeet Singh,Khiem Nguyen,Amitabh Sabharwal. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-22.

Electrostatic chuck and processing apparatus

Номер патента: US20200286768A1. Автор: Tatsuya Mori,Masahiro Watanabe,Yuki Sasaki,Shuichiro Saigan,Jun SHIRAISHI. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2020-09-10.

Multi-plate electrostatic chucks with ceramic baseplates

Номер патента: US11848177B2. Автор: Feng Wang,Keith Gaff,Christopher Kimball. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-12-19.

Multi-plate electrostatic chucks with ceramic baseplates

Номер патента: US20240112893A1. Автор: Feng Wang,Keith Gaff,Christopher Kimball. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-04-04.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US11908664B2. Автор: Tomoyuki Takahashi,Naohiko Okunishi,Nozomu Nagashima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Electrostatic chuck, support platform, and plasma processing apparatus

Номер патента: US11894218B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Masato Takayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-06.

Deposition method and processing apparatus

Номер патента: US20230282457A1. Автор: Takehiro Tanikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Substrate processing apparatus, cleaning method, substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240321597A1. Автор: Kaoru Yamamoto. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Electrostatic chucks with coolant gas zones and corresponding groove and monopolar electrostatic clamping electrode patterns

Номер патента: US11942351B2. Автор: Alexander Matyushkin,John Patrick Holland,Keith Laurence COMENDANT. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-03-26.

Electrostatic chuck and substrate holding device

Номер патента: US11942350B2. Автор: Tomohiro Inoue,Mizuki Watanabe,Masakuni Miyazawa. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-26.

Increasing the gas efficiency for an electrostatic chuck

Номер патента: US11747834B2. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-05.

Increasing the gas efficiency for an electrostatic chuck

Номер патента: US09753463B2. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-05.

Stage, substrate processing apparatus and substrate attraction method

Номер патента: US20220084800A1. Автор: Takehiro Tanikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-17.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20200286766A1. Автор: Jumpei UEFUJI,Tetsuro ITOYAMA. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2020-09-10.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230101475A1. Автор: Hiroki Tajiri,Masayuki ORISAKA,Takashi Izuta. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Electrostatic chuck, assembly including the electrostatic chuck, and method of controlling temperature of the electrostatic chuck

Номер патента: US12062565B2. Автор: Hong Gao,Changmin Lee,Joaquin Aguilar SANTILLAN,Shanker KUTTATH. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-08-13.

Vacuum processing apparatus and method for controlling vacuum processing apparatus

Номер патента: US12080523B2. Автор: Kiyoshi Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Control method of substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240153748A1. Автор: Morihito Inagaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Self-aligning process method and self-aligning process apparatus for reducing critical dimension variation of sic trench gate mosfet structure

Номер патента: US20230326992A1. Автор: Sang Woo Kim,Min Seok Jang,Ho Jun Lee,Jee Hun Jeong,O Gyun Seok. Владелец: University Industry Cooperation Foundation of Pusan National University. Дата публикации: 2023-10-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240178047A1. Автор: Yungi Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Cooling processing apparatus and method for operating the same

Номер патента: US9673078B2. Автор: Kaoru Yamamoto,Masamichi Hara,Naoyuki Suzuki,Tetsuya Miyashita,Kouji Maeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Cooling processing apparatus and method for operating the same

Номер патента: US09673078B2. Автор: Kaoru Yamamoto,Masamichi Hara,Naoyuki Suzuki,Tetsuya Miyashita,Kouji Maeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Electrostatic chuck having electrode with rounded edge

Номер патента: EP1501116A3. Автор: Ananda H. Kumar,Kartik Ramaswamy,Hamid Noorbakhsh,Jon M. McChesney. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2005-08-31.

De-chuck control method and control device for plasma processing apparatus

Номер патента: US09466519B2. Автор: Atsushi Kawabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-11.

Method of and an apparatus for regulating the temperature of an electrostatic chuck

Номер патента: US20020174667A1. Автор: Jin-Man Kim,Yun-sik Yang,Young-min Min,Sang-jun Chun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2002-11-28.

Electrostatic chuck and method of manufacturing the same

Номер патента: US20240282612A1. Автор: Ikuo Itakura,Yutaka Momiyama,Jun SHIRAISHI,Shunya MIYAZAKI. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Electrostatic chuck heater and film deposition apparatus

Номер патента: US20240203779A1. Автор: Tomohiro Hara. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Electrostatic chuck and processing apparatus

Номер патента: US12100610B2. Автор: Yuki Sasaki,Yutaka Momiyama,Jun SHIRAISHI,Reo KAWANO. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2024-09-24.

Method of fixing substrate using electrostatic chuck and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20170098567A1. Автор: Chang-Oh Jeong,Su-Kyoung YANG,Gyung-Min Baek,Yoon-Yong Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-06.

Electrostatic chuck and method for manufacturing the same

Номер патента: US20220216085A1. Автор: Yung-Hsiang Huang,Wei-Cheng Tang,Yi-Che Su,Yun-Shan Huang,Su-Mei Chen Wei,Wen-Pin Chuang,Ya-Tin Yu. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2022-07-07.

Electrostatic chuck with mechanism for lifting up the peripheral of a substrate

Номер патента: US5677824A. Автор: Keiichi Harashima,Takeshi Akimoto. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1997-10-14.

Electrostatic chuck assembly, semiconductor manufacturing apparatus having the same, and method of measuring temperature of electrostatic chuck

Номер патента: US09812372B2. Автор: Jeong Hyoun Sung,Sang Yoon Soh,Youn Sok CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-11-07.

Electrostatic chuck with smart lift-pin mechanism for plasma reactor

Номер патента: WO2006116577A2. Автор: Kartik Ramaswamy,Hiroji Hanawa,Amir Al-Bayati,Biagio Gallo,Kenneth S. Collins,Andrew Nguyen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2006-11-02.

Substrate mounting table and substrate processing apparatus

Номер патента: US20130342952A1. Автор: Tsutomu Nagai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-12-26.

Electrostatic chuck and method of manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: US9799545B2. Автор: Ryo Yamasaki,Mitsuharu Inaba,Kensuke Taguchi. Владелец: Tocalo Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Method of adsorbing target object on mounting table and plasma processing apparatus

Номер патента: US09953854B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Akihito FUSHIMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Electrostatic chuck system and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus by using the same

Номер патента: US09842781B2. Автор: Hyunsung BANG,Duckjung Lee,Jungsun PARK,Jaesik Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-12.

Electrostatic chuck and method of manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: US09799545B2. Автор: Ryo Yamasaki,Mitsuharu Inaba,Kensuke Taguchi. Владелец: Tocalo Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Cooling processing apparatus and method for operating the same

Номер патента: US20150357222A1. Автор: Kaoru Yamamoto,Masamichi Hara,Naoyuki Suzuki,Tetsuya Miyashita,Kouji Maeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-12-10.

Electrostatic chuck and electrostatic adsorption apparatus

Номер патента: US10601346B2. Автор: Yun Soo KIM,Byung-Moo KIM,Min Ho BAE,Tae-Ho YOUN. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-24.

Electrostatic chuck for wafer metrology and inspection equipment

Номер патента: WO2004082015A8. Автор: Alon Litman,Igor Krivts. Владелец: Igor Krivts. Дата публикации: 2004-10-28.

Electrostatic chuck and manufacturing method thereof

Номер патента: US20070223174A1. Автор: Yutaka Mori,Kazuhiro Nobori. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2007-09-27.

Substrate processing apparatus and abnormality detection method

Номер патента: US20220285197A1. Автор: Yasuhiko Kojima,Tetsuya Miyashita,Einstein Noel Abarra,Hiroaki Chihaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Electrostatic chuck and manufacturing method thereof

Номер патента: EP1837317A3. Автор: Kazuhiro c/o NGK Insulators Ltd. Nobori,Yutaka c/o NGK Insulators Ltd. Mori. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2010-04-21.

Electrostatic Chuck

Номер патента: US20240266200A1. Автор: Cheng-Hsiung Tsai,Ananthkrishna Jupudi,Ross Marshall,Sarath Babu,Mukund Sundararajan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Electrostatic chuck sheet and electrostatic chuck comprising same

Номер патента: US20240312822A1. Автор: Kihoon Nam,Youngjun AN,Jihyung LEE,Seunggon PARK,Sungbaek DAN,Kyungwhan WOO,Byoungsu JIN. Владелец: Amosense Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

High temperature electrostatic chuck

Номер патента: US20020075625A1. Автор: Alan Schoepp,Mark Kennard,Greg Sexton. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-06-20.

Electrostatic chuck formed by integral ceramic and metal sintering

Номер патента: EP1076914A1. Автор: Gilbert Hausmann. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-02-21.

Electrostatic chuck

Номер патента: WO2024167642A1. Автор: Cheng-Hsiung Tsai,Ananthkrishna Jupudi,Ross Marshall,Sarath Babu,Mukund Sundararajan. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-15.

Reaction apparatus for processing wafer, electrostatic chuck and wafer temperature control method

Номер патента: US20130126509A1. Автор: QIYANG He,YIYING Zhang. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Beijing Corp. Дата публикации: 2013-05-23.

Electrostatic attraction apparatus, electrostatic chuck and cooling treatment apparatus

Номер патента: US09787222B2. Автор: Kaoru Yamamoto,Naoyuki Suzuki,Shinji Orimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Electrostatic chuck and method for manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: US20130321974A1. Автор: Akihiro Kuribayashi. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2013-12-05.

Electrostatic chuck and method for manufacturing the same

Номер патента: US20090243235A1. Автор: Keiichi Nakamura,Yutaka Mori,Kazuhiro Nobori. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2009-10-01.

Electrostatic chuck and semiconductor equipment

Номер патента: US20200312692A1. Автор: Mengxin Zhao,Jinrong ZHAO,Quanyu SHI,Shuaitao SHI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Substrate fixing device, electrostatic chuck and method of manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: US12125733B2. Автор: Aya Uchiyama. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Control systems employing deflection sensors to control clamping forces applied by electrostatic chucks, and related methods

Номер патента: US09875923B2. Автор: Vijay D. Parkhe,Masanori Ono,Senh Thach,Matthew James Busche,Konstantin Makhratchev,Wendell Boyd, JR.. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-01-23.

Electrostatic chuck apparatus

Номер патента: US09837296B2. Автор: Yoshiaki Moriya,Shinichi Maeta,Kei Furuuchi. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2017-12-05.

Control systems employing deflection sensors to control clamping forces applied by electrostatic chucks, and related methods

Номер патента: US09558981B2. Автор: Vijay D. Parkhe,Masanori Ono,Senh Thach,Konstantin Makhratchev,Wendell Boyd, JR.,Matthew Busche. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Electrostatic chuck with internal flow adjustments for improved temperature distribution

Номер патента: US09520315B2. Автор: Vijay D. Parkhe,Masanori Ono,Senh Thach,Konstantin Makhratchev,Matthew J. Busche,Wendell Boyd, JR.. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-12-13.

Method for diagnosing electrostatic chuck, vacuum processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US20080102209A1. Автор: Yasuharu Sasaki,Taketoshi Okajo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-05-01.

Substrate mounting table for plasma processing apparatus, plasma processing apparatus and insulating film forming method

Номер патента: US7913987B2. Автор: Takashi Suzuki,Ryo Yamasaki,Kaname Yasuda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-03-29.

Substrate processing apparatus and abnormality detection method

Номер патента: US20220285182A1. Автор: Yasuhiko Kojima,Tetsuya Miyashita,Einstein Noel Abarra,Hiroaki Chihaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Electrostatic chuck device

Номер патента: US20210305918A1. Автор: Yoshiaki Moriya. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-09-30.

Electrostatic chuck and substrate fixing device

Номер патента: US20180096870A1. Автор: Tatsuro Yoshida,Yoji Asahi. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-05.

Electrostatic chuck having a cooling structure

Номер патента: US11581211B2. Автор: Hankyun YOO,Jeonghun HWANG. Владелец: Mico Ceramics Ltd. Дата публикации: 2023-02-14.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20210143043A1. Автор: Hankyun YOO,Jeonghun HWANG. Владелец: Mico Ceramics Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Electrostatic chuck and method of manufacturing the same

Номер патента: US20240283379A1. Автор: Ikuo Itakura,Yutaka Momiyama,Jun SHIRAISHI,Shunya MIYAZAKI. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Electrostatic chuck and method of manufacturing the same

Номер патента: US20240279810A1. Автор: Ikuo Itakura,Yutaka Momiyama,Jun SHIRAISHI,Shunya MIYAZAKI. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

High temperature electrostatic chuck with real-time heat zone regulating capability

Номер патента: US09948214B2. Автор: Xing Lin,Dmitry Lubomirsky,Michael D. Willwerth,Jennifer Y. Sun,Konstantin Makhratchev,Sehn THACH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Electrostatic chuck assemblies capable of bidirectional flow of coolant and semiconductor fabricating apparatus having the same

Номер патента: US09912258B2. Автор: Sangkyu Park,Kye Hyun Baek,Haejoong Park,Hongmyoung KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-03-06.

Electrostatic chuck and semiconductor-liquid crystal manufacturing apparatus

Номер патента: US09887117B2. Автор: Yoshifumi Katayama,Jiro Kawai. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

High conductivity electrostatic chuck

Номер патента: US09692325B2. Автор: Richard A. Cooke,Steven Donnell,Chandra Venkatraman,Lyudmila Stone,Dale K. Stone,David Suuronen,Julian Blake. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2017-06-27.

Bipolar electrostatic chuck and method for using the same

Номер патента: US20180053676A1. Автор: John M. White,Shreesha Y. RAO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-02-22.

Electrostatic chuck

Номер патента: US09608549B2. Автор: Vijay D. Parkhe,Steven V. Sansoni,Cheng-Hsiung Matthew TSAI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-03-28.

Electrostatic chuck

Номер патента: US09543187B2. Автор: Richard A. Cooke. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Electrostatic chuck and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09543182B2. Автор: Akira Furuya,Takamitsu Kitamura. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Electrostatic chuck and semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20230260817A1. Автор: Jian Liu. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Electrode pattern structure of concentric-circular-structured electrostatic chuck

Номер патента: US20230386881A1. Автор: Juxian ZHANG. Владелец: Raycer Advanced Materials Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Electrostatic chuck with radiative heating

Номер патента: US20140061180A1. Автор: James Carroll,Klaus Petry. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2014-03-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240153796A1. Автор: Yusuke Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Methods and apparatus for high voltage electrostatic chuck protection

Номер патента: US20200411353A1. Автор: Yuichi Wada,Ananthkrishna Jupudi,Yueh Sheng Ow,Sarath Babu,Kai Liang Liew,Clinton Goh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-12-31.

Electrostatic chuck and temperature-control method for the same

Номер патента: US09870934B2. Автор: YI Chang. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2018-01-16.

Method of holding wafer, method of removing wafer and electrostatic chucking device

Номер патента: US6084763A. Автор: Shinsuke Hirano,Tomohide Jozaki. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2000-07-04.

Wet cleaning of electrostatic chuck

Номер патента: US11776822B2. Автор: Vijay D. Parkhe,Tuochuan Huang,David W. Groechel,Gang Peng,David Benjaminson,Shinnosuke KAWAGUCHI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Electrostatic chuck device

Номер патента: US20160240422A1. Автор: Kentaro Takahashi,Megumi Ootomo. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2016-08-18.

Wafer processing apparatus

Номер патента: US20020002950A1. Автор: Minoru Hanazaki,Hideki Oura,Masaaki Tsuchihashi. Владелец: Mitsubishi Electric Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2002-01-10.

Apparatus and method for measurement of the thermal performance of an electrostatic wafer chuck

Номер патента: US09831111B2. Автор: Vijay D. Parkhe,Michael R. Rice,Matthew J. Busche. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

In-situ removable electrostatic chuck

Номер патента: US09773692B2. Автор: Lara Hawrylchak,Steven V. Sansoni,Michael S. Cox. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-26.

In-situ removable electrostatic chuck

Номер патента: US09508584B2. Автор: Lara Hawrylchak,Steven V. Sansoni,Michael S. Cox. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-11-29.

Substrate processing apparatus and driving method thereof

Номер патента: US11984345B2. Автор: Ilyoung Han,Nohsung KWAK,Hunyong PARK,Sohee HAN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-14.

Method of electrostatic chuck motion control for wafer breakage prevention

Номер патента: US20240105494A1. Автор: Junguo Li,Yosuke TSUMITA,Andy Der Kae MA,Andrew Eunbeom CHOI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-28.

Method of electrostatic chuck motion control for wafer breakage prevention

Номер патента: WO2024063873A1. Автор: Junguo Li,Yosuke TSUMITA,Andy Der Kae MA,Andrew Eunbeom CHOI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-28.

De-clamping wafers from an electrostatic chuck

Номер патента: US20100142113A1. Автор: William D. Lee,Ashwin M. Purohit,Marvin R. LaFontaine,Richard J. Rzeszut. Владелец: Axcelis Technologies Inc. Дата публикации: 2010-06-10.

Treating an electrostatic chuck pedestal

Номер патента: WO2024137314A1. Автор: Ahmet Kucuk,Karl Frederick Leeser,Joel Hollingsworth,Sergey Georgiyevich BELOSTOTSKIY,Mahmoud VAHIDI. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-06-27.

Electrostatic chuck having extended lifetime

Номер патента: WO2024163187A1. Автор: Mitsutoshi Fukada. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-08.

Electrostatic chuck with porous regions

Номер патента: EP1316110A2. Автор: Ramesh Divakar. Владелец: Saint Gobain Ceramics and Plastics Inc. Дата публикации: 2003-06-04.

Electrostatic chucks with flat film electrode

Номер патента: WO2001043184A3. Автор: Ramesh Divakar,Morteza Zandi. Владелец: Morteza Zandi. Дата публикации: 2001-12-13.

Electrostatic chuck and method for manufacturing same

Номер патента: US11923227B2. Автор: Yoshihiro Okawa,Yasunori Kawanabe. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-03-05.

Heat flow control in a processing tool

Номер патента: WO2024091389A1. Автор: Sudhir Srivastava,Harish Kumar,Ramesh Chandrasekharan,Ashish Saurabh,Sairam Sundaram,Noah Elliot BAKER,Christopher Gage,Aaron Blake MILLER,Timothy Scott Thomas,Patrick G. Breiling,Nitin Kadam,Naveen Kumar NAGAMALLAPPA. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-05-02.

Method and apparatus for providing an electrostatic chuck with reduced plasma penetration and arcing

Номер патента: SG149791A1. Автор: Dmitry Lubomirsky,Tony Kaushal,Xinglong Chen,Sudhir Gondhalekar,Muhammad Rasheed,Kadthala Ramaya Narendranath. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2009-02-27.

Electrostatic chuck with halogen modulated silicone dike

Номер патента: WO2024129283A1. Автор: LEI Liu,LIN Xu,John Daugherty,Satish Srinivasan,Robin Koshy,Jeremiah Michael DEDERICK. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-06-20.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20200135528A1. Автор: Tatsuya Mori,Masahiro Watanabe,Shuichiro Saigan,Jun SHIRAISHI. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2020-04-30.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20170178944A1. Автор: Hiroki Matsui,Kosuke Yamaguchi,Tatsuya Koga,Kazuki Anada. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2017-06-22.

Slotted Electrostatic Chuck

Номер патента: US20190385882A1. Автор: Aviv Balan,Haoran Jiang. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2019-12-19.

Wafer lift pin and sic film-coated glassy carbon material

Номер патента: EP4451313A1. Автор: Yoshihiro Yamaguchi,Takeshi Tokunaga. Владелец: Tokai Carbon Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Electrostatic chuck and electrostatic adsorption apparatus having the same

Номер патента: US20200126835A1. Автор: Min Ho BAE,Hyok Keo Se KWON,Tae Ho Youn. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Electrostatic chuck and electrostatic adsorption apparatus

Номер патента: US20180123486A1. Автор: Yun Soo KIM,Byung-Moo KIM,Min Ho BAE,Tae-Ho YOUN. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-03.

Fabricating an electrostatic chuck having plasma resistant gas conduits

Номер патента: US20020095782A1. Автор: Shamouil Shamouilian,Dennis Grimard,Kadthala Narendrnath. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-07-25.

Electrostatic Chuck

Номер патента: US20090273877A1. Автор: Osamu Okamoto,Masami Ando,Jun Miyaji. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2009-11-05.

Slotted electrostatic chuck

Номер патента: EP3811401A1. Автор: Aviv Balan,Haoran Jiang. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2021-04-28.

Slotted electrostatic chuck

Номер патента: WO2019245791A1. Автор: Aviv Balan,Haoran Jiang. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2019-12-26.

Methods and apparatus for processing an electrostatic chuck

Номер патента: US20240286398A1. Автор: Yan Liu,Steven Donnell,Chiranjeevi Pydi,Nathan RICHARD,Sara MERCHEL,Caleb MINSKY,Cerel MUNOZ. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Methods and apparatus for processing an electrostatic chuck

Номер патента: EP4395957A1. Автор: Yan Liu,Steven Donnell,Chiranjeevi Pydi,Nathan RICHARD,Sara MERCHEL,Caleb MINSKY,Cerel MUNOZ. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-07-10.

Forming mesas on an electrostatic chuck

Номер патента: US12074052B2. Автор: Stanley Wu,Matthew Boyd,Wendell Glenn Boyd, JR.. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-27.

Electrostatic chuck

Номер патента: US09960067B2. Автор: Yuichi Yoshii,Kazuki Anada. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2018-05-01.

Electrostatic chuck

Номер патента: US09905449B2. Автор: Hiroki Matsui,Kosuke Yamaguchi,Tatsuya Koga,Kazuki Anada. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2018-02-27.

Heated electrostatic chuck and semiconductor wafer heater and methods for manufacturing same

Номер патента: US09543183B2. Автор: John R. Miller,Mahmood Naim,Jae Yong Cho,Kevin Argabright,James E. LaRoche, III,David R. Hammerich. Владелец: FM Industries Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Erosion resistant electrostatic chuck

Номер патента: US5528451A. Автор: Yuh-Jia Su. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1996-06-18.

Electrostatic chuck and method of its manufacture

Номер патента: US20070201180A1. Автор: Shmulik Nakash. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2007-08-30.

Lift pin assembly

Номер патента: WO2015187453A1. Автор: Jallepally Ravi,Cheng-Hsiung Matthew TSAI,Manjunatha KOPPA,Vinod Konda Purathe,Aravind Miyar Kamath,Bonnie T. Chia. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2015-12-10.

Electrostatic chuck and method of manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: US11869797B2. Автор: Naomi Okamoto,Ryuji Takahashi. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-09.

Electrostatic chuck device

Номер патента: US20170229335A1. Автор: Yukio Miura,Tomomi Ito. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2017-08-10.

Electrostatic chuck and method of manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: US20220367227A1. Автор: Naomi Okamoto,Ryuji Takahashi. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-17.

Electrostatic chuck

Номер патента: EP2368263A2. Автор: Mehmet A. Akbas. Владелец: M Cubed Technologies Inc. Дата публикации: 2011-09-28.

Electrostatic chuck device

Номер патента: US20240075575A1. Автор: YUKI Kinpara,Toru Sugamata,Taku ICHIYOSHI,Satoyoshi INUI. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2024-03-07.

Clamping of semiconductor wafers to an electrostatic chuck

Номер патента: WO2005027219A1. Автор: SHU QIN,William DiVergilio,Peter Kellerman. Владелец: Axcelis Technologies Inc.. Дата публикации: 2005-03-24.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20230402943A1. Автор: Jinwook Kim,Hyunjun Lee,Hyoseung KIM,Sangil NAM,Jaegu JI. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Electrostatic chuck

Номер патента: US10418266B2. Автор: Masahiko Horiuchi. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2019-09-17.

Electrostatic chuck assemblies capable of bidirectional flow of coolant and semiconductor fabricating apparatus having the same

Номер патента: US20160071755A1. Автор: Sangkyu Park,Kye Hyun Baek,Haejoong Park,Hongmyoung KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-03-10.

Electrostatic chuck and method for manufacturing the electrostatic chuck

Номер патента: US20130308244A1. Автор: Jiro Kawai,Norio Shiraiwa. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2013-11-21.

Electrostatic chuck and method for manufacturing the electrostatic chuck

Номер патента: US9660557B2. Автор: Jiro Kawai,Norio Shiraiwa. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Electrostatic chuck and wafer etching device including the same

Номер патента: US11728198B2. Автор: Masashi Kikuchi,Michio Ishikawa,SIQING Lu,Myoung-Soo Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-08-15.

Electrostatic chuck support mechanism, support stand device and plasma processing equipment

Номер патента: US6977804B2. Автор: Hisashi Yanagida. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2005-12-20.

High temperature electrostatic chuck with real-time heat zone regulating capability

Номер патента: WO2013162820A1. Автор: Xing Lin,Dmitry Lubomirsky,Michael D. Willwerth,Jennifer Y. Sun,Konstantin Makhratchev. Владелец: Thach, Senh. Дата публикации: 2013-10-31.

Electrostatic chuck device

Номер патента: US20230100462A1. Автор: Jun Tochihira,Tomoya Hagihara. Владелец: Tomoegawa Paper Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Detachable high-temperature electrostatic chuck assembly

Номер патента: US09666467B2. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2017-05-30.

Thin substrate electrostatic chuck system and method

Номер патента: US09601363B2. Автор: Peter Zupan,Ewald Wiltsche. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2017-03-21.

Electrostatic chuck having radial temperature control capability

Номер патента: MY144813A. Автор: Robert J Steger. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2011-11-15.

Apparatus and method for measurement of the thermal performance of an electrostatic wafer chuck

Номер патента: US20180047607A1. Автор: Vijay D. Parkhe,Michael R. Rice,Matthew J. Busche. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-02-15.

Radially outward pad design for electrostatic chuck surface

Номер патента: EP3254307A1. Автор: Govinda Raj,Robert T. Hirahara. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-12-13.

Electrostatic chuck

Номер патента: WO1995024070A1. Автор: Arthur Sherman. Владелец: Arthur Sherman. Дата публикации: 1995-09-08.

Radially outward pad design for electrostatic chuck surface

Номер патента: WO2016126360A1. Автор: Govinda Raj,Robert T. Hirahara. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2016-08-11.

Temperature control system for electrostatic chucks and electrostatic chuck for same

Номер патента: US09679792B2. Автор: Boris Atlas. Владелец: Noah Precision LLC. Дата публикации: 2017-06-13.

Connectors for an electrostatic chuck and combination thereof

Номер патента: US6151203A. Автор: Gerhard Schneider,Ananda Kumar,Senh Thach,Shamouil Shamouilian,Arnold Kholodenko,Alexander Veytser,Dennis S. Grimard,Michael G. Chafin,Liang Guo Wang,Semyon Kats. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-11-21.

Electrostatic chuck

Номер патента: US11574833B2. Автор: Voronov Alexander,Cheollae Roh,Juhee Lee,Myungsoo Huh,Haeyoung YOO,Soo Beom JO,Jiwon Yeon,Yongmun Chang. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-07.

Electrostatic chucking mechanism

Номер патента: US5948165A. Автор: Takahiro Tamura. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1999-09-07.

Electrostatic chuck device power supply, electrostatic chuck device, and dechuck control method

Номер патента: EP4117168A1. Автор: Takahiro Tsuchiya. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2023-01-11.

Electrostatic chuck apparatus

Номер патента: US20230339059A1. Автор: Yoshiaki Moriya. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-10-26.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20210358791A1. Автор: Voronov Alexander,Cheollae Roh,Juhee Lee,Myungsoo Huh,Haeyoung YOO,Soo Beom JO,Jiwon Yeon,Yongmun Chang. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-18.

Electrostatic chuck with variable pixelated heating

Номер патента: WO2015034728A1. Автор: Vijay D. Parkhe,Jr. Wendell Boyd. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2015-03-12.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20180190527A1. Автор: Tsutomu Nanataki,Morimichi Watanabe. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2018-07-05.

Electrostatic chuck design for high temperature RF applications

Номер патента: US09984911B2. Автор: Vijay D. Parkhe,Keith A. Miller,John C. Forster,Ryan Hanson,Manjunatha KOPPA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-29.

Processing apparatus, processing method, and device manufacturing method

Номер патента: US09594312B2. Автор: Shinichi Hirano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-03-14.

Electrostatic chuck and its manufacturing method

Номер патента: US20040233609A1. Автор: Hitoshi Sakamoto,Ryuichi Matsuda,Masahiko Inoue,Kazuto Yoshida. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2004-11-25.

Enhanced lift pin design to eliminate local thickness non-uniformity in teos oxide films

Номер патента: US20170125280A1. Автор: Praket P. Jha,Sanjeev Baluja,Krishna Nittala,Kalyanjit GHOSH,Mayur G. Kulkarni. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-04.

Electrostatic chuck and semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US20180076080A1. Автор: Makoto Saito,Shinya Ito,Hiroshi Sanda,Eiichi Nagumo. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2018-03-15.

Tool and method for cleaning electrostatic chuck

Номер патента: US20200058536A1. Автор: Chi-Hung Liao,Yueh-Lin Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-02-20.

Electrostatic chuck and substrate fixing device

Номер патента: US10886154B2. Автор: Tatsuro Yoshida,Yoji Asahi. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-05.

Electrostatic chuck and substrate fixing device

Номер патента: US10593573B2. Автор: Tatsuro Yoshida,Yoji Asahi. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-17.

Electrostatic chuck and substrate fixing device

Номер патента: US20180096869A1. Автор: Tatsuro Yoshida,Yoji Asahi. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-05.

Electrostatic chuck ground punch

Номер патента: US20100110604A1. Автор: David B. Smith,William D. Lee,Ashwin M. Purohit,Marvin R. LaFontaine. Владелец: Axcelis Technologies Inc. Дата публикации: 2010-05-06.

Channeled lift pin

Номер патента: US12033885B2. Автор: Todd Robert Dunn,Carl Louis White,Bhushan Zope,Shankar Swaminathan,Dinkar Nandwana,Govindarajasekhar Singu. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-07-09.

Method for electrically discharging substrate, substrate processing apparatus and program

Номер патента: US20060215338A1. Автор: Takeshi Yokouchi,Fumiko Yagi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-09-28.

Electrostatic chuck pedestal heater for high bow wafers

Номер патента: US20230352332A1. Автор: Amit MISHRA,Akshay Phadnis,Jaeyong Cho,Shubham Garg. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-11-02.

Electrostatic chuck heater

Номер патента: US11837490B2. Автор: Hiroshi Takebayashi,Takahiro Ando,Kenichiro AIKAWA,Yuji Akatsuka. Владелец: Ngl Insulators Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Electrostatic chuck and a method for supporting a wafer

Номер патента: US20120262834A1. Автор: Guy Eytan,Shmuel Shmulik Nakash,Konstantin Chirko. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2012-10-18.

Electrostatic chuck and substrate fixing device

Номер патента: US11862501B2. Автор: Kazuya Takada,Norio Shiraiwa. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Wafer lift pin system

Номер патента: US20220285202A1. Автор: Jiun-Rong Pai,Yu-Chen Chen,Cheng-Lung Wu,Yang-Ann Chu,Yi-Fam SHIU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Semiconductor processing apparatus and a method for processing a substrate

Номер патента: US12018365B2. Автор: Petri Raisanen,David Marquardt,Thomas Aswad. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-06-25.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20240105489A1. Автор: Wataru Fujita. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-03-28.

High density corrosion resistant layer arrangement for electrostatic chucks

Номер патента: US12125732B2. Автор: Chengtsin Lee. Владелец: Morgan Advanced Ceramics Inc. Дата публикации: 2024-10-22.

Electrostatic chuck

Номер патента: US09543184B2. Автор: Hiroshi Ono. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Method for forming an electrostatic chuck using film printing technology

Номер патента: US09518326B2. Автор: Karl M. Brown. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-12-13.

Electrostatic chuck having a multilayer structure for attracting an object

Номер патента: US5539179A. Автор: Katsuya Okumura,Junichi Arami,Toshihisa Nozawa,Isahiro Hasegawa,Shinji Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1996-07-23.

Electrostatic chuck member and a method of producing the same

Номер патента: CA2183709A1. Автор: Yoshio Harada,Junichi Takeuchi. Владелец: Tocalo Co Ltd. Дата публикации: 1997-03-01.

Electrostatic chuck with charge dissipation coating

Номер патента: US11742781B2. Автор: Yan Liu,Jakub Rybczynski,Steven Donnell,Chun Wang CHAN. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2023-08-29.

Bond protection for an electrostatic chuck in a plasma processing chamber

Номер патента: WO2024039717A1. Автор: Slobodan Mitrovic,Eric SAMULON,Yixuan Yu,Kadthala R. Narendrnath,Neha KONDEKAR,Moreshwar Narayan PURANDARE. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-02-22.

Electrostatic chuck and substrate fixing device

Номер патента: US11848224B2. Автор: Kentaro Kobayashi,Kazunori Shimizu,Naoyuki Koizumi. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-19.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20230412096A1. Автор: Jumpei UEFUJI,Tetsuro ITOYAMA. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2023-12-21.

Electrostatic chuck

Номер патента: US9627240B2. Автор: Hiroki Matsui,Kosuke Yamaguchi,Tatsuya Koga,Kazuki Anada. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2017-04-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240068101A1. Автор: Yasushi Takeuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Micro device electrostatic chuck

Номер патента: US20200144942A1. Автор: Li-Yi Chen. Владелец: Mikro Mesa Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-07.

Electrostatically attracting electrode and a method of manufacture thereof

Номер патента: US20010009497A1. Автор: Saburo Kanai,Youichi Itou,Seiichiro Kanno,Kazue Takahasi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-07-26.

Forming mesas on an electrostatic chuck

Номер патента: US20230326780A1. Автор: Stanley Wu,Matthew Boyd,Wendell Glenn Boyd, JR.. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-12.

Wafer lift pin system

Номер патента: US11972971B2. Автор: Jiun-Rong Pai,Yu-Chen Chen,Cheng-Lung Wu,Yang-Ann Chu,Yi-Fam SHIU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Thin substrate electrostatic chuck system and method

Номер патента: US20130321973A1. Автор: Peter Zupan,Ewald Wiltsche. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2013-12-05.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20240100639A1. Автор: Minsung Kim,Dasom Lee,Heewon MIN,Dongyun Yeo,Inseok Seo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-28.

Thin substrate electrostatic chuck system and method

Номер патента: US20150318199A1. Автор: Peter Zupan,Ewald Wiltsche. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2015-11-05.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20180005860A1. Автор: Kazunori Shimizu,Kazuyoshi Miyamoto. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-04.

Electrostatic chuck

Номер патента: US11309204B2. Автор: Tatsuya Mori,Masahiro Watanabe,Shuichiro Saigan,Jun SHIRAISHI. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2022-04-19.

Removal of charge between a substrate and an electrostatic clamp

Номер патента: WO2010120983A2. Автор: Lyudmila Stone,Dale K. Stone,Julian G. Blake,David Suuronen,Klaus Petry. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates. Дата публикации: 2010-10-21.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20200035538A1. Автор: Hitoshi Sasaki,Yutaka Momiyama. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2020-01-30.

Electrostatic chuck for ion injector

Номер патента: EP1146546A3. Автор: Kazuhiko Silicone E.M. Research Center Tomaru,Ryuichi Silicone E.M. Research Center Handa,Tautomu Silicone E.M. Research Center Yoneyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2006-03-15.

Forming mesas on an electrostatic chuck

Номер патента: WO2022186913A4. Автор: Stanley Wu,Matthew Boyd,Jr. Wendell Glenn Boyd. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-12-29.

Forming mesas on an electrostatic chuck

Номер патента: WO2022186913A2. Автор: Stanley Wu,Matthew Boyd,Jr. Wendell Glenn Boyd. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-09-09.

Electrostatic chuck

Номер патента: US12014947B2. Автор: Tatsuya Mori,Masahiro Watanabe,Shuichiro Saigan,Jun SHIRAISHI. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2024-06-18.

Wafer lift pin system

Номер патента: US20240234197A1. Автор: Jiun-Rong Pai,Yu-Chen Chen,Cheng-Lung Wu,Yang-Ann Chu,Yi-Fam SHIU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Centering fixture for electrostatic chuck system

Номер патента: US09966292B2. Автор: Donald R. Boyea, Jr.,Matthew J. Bombardier. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-05-08.

Method for reducing temperature transition in an electrostatic chuck

Номер патента: US09922855B2. Автор: Tao Zhang,Eric A. Pape,Ole Waldmann. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-20.

System and method for reducing temperature transition in an electrostatic chuck

Номер патента: US09779974B2. Автор: Tao Zhang,Eric A. Pape,Ole Waldmann. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Deposition ring and electrostatic chuck for physical vapor deposition chamber

Номер патента: US09689070B2. Автор: Rongjun Wang,Keith A. Miller,Muhammad Rasheed. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-06-27.

Electrostatic chuck with an impregnated, porous layer that exhibits the Johnson-Rahbeck effect

Номер патента: US5916689A. Автор: Kenneth S. Collins,Joshua Chin-Wing Tsui,Douglas Buchberger. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1999-06-29.

Method for calculating distance, method for neutralizing electrostatic chuck, and processing apparatus

Номер патента: US09812996B2. Автор: Kenji Nagai,Yoshinobu Ooya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-07.

Systems and apparatus for a lift pin assembly

Номер патента: US20240105495A1. Автор: Matthew Ricketts. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-03-28.

Electrostatic chuck wafer port and top plate with edge shielding and gas scavenging

Номер патента: WO2004038766A3. Автор: Robert J Mitchell,Peter L Kellerman,Kevin T Ryan. Владелец: Axcelis Tech Inc. Дата публикации: 2004-07-22.

Electrostatic chuck wafer port and top plate with edge shielding and gas scavenging

Номер патента: WO2004038766A2. Автор: Peter L. Kellerman,Robert J. Mitchell,Kevin T. Ryan. Владелец: AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2004-05-06.

Weighted lift pin constructions for semiconductor fabrication processing

Номер патента: US20240249971A1. Автор: Kyle Fondurulia,Todd Robert Dunn,Akshay Phadnis,Ankit Kimtee,Sudhanshu Biyani,Rohan Vijay Rane,Mun Peow Wong. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, non-transitory computer-readable recording medium and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12106998B2. Автор: Naofumi Ohashi,Masanori Nakayama,Teruo Yoshino. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

System and apparatus for a lift pin

Номер патента: US20240087944A1. Автор: Todd Robert Dunn,Yingzong Bu,George Brad Jackson,Rohan Rajeev Puranik,Ruchik Jayeskumar Bhatt. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-03-14.

Lift pin assembly and apparatus for treating substrate with the same

Номер патента: US11829081B2. Автор: Wan Ho DO. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-28.

Apparatus for controlling lift pin movement

Номер патента: US12100614B2. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Bhaskar PRASAD,Nitin Bharadwaj SATYAVOLU,Anubhav Srivastava. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-24.

Apparatus for controlling lift pin movement

Номер патента: US20240371678A1. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Bhaskar PRASAD,Nitin Bharadwaj SATYAVOLU,Anubhav Srivastava. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-11-07.

Semiconductor process apparatus

Номер патента: EP4253596A1. Автор: HAO WANG,Bo Zheng,Yunfeng LAN,Wenqiang Zhang,Xiaoyan Ren,Xiaoping Shi,Haifeng Qin,Yongfei WANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-04.

Detection method for seized traveling lift pins in wafer processing reactor systems

Номер патента: US20230054779A1. Автор: DANIEL Maurice,Eric Shero,Harihara Krishnan Krishnamoorthy,Abhishek Mangoli,Julio Cesar Diaz,Massood Mostaghimi. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-02-23.

Electrostatic chuck wafer port and top plate with edge shielding and gas scavenging

Номер патента: EP1556884A2. Автор: Peter L. Kellerman,Robert J. Mitchell,Kevin T. Ryan. Владелец: Axcelis Technologies Inc. Дата публикации: 2005-07-27.

Lift pin assembly

Номер патента: US20230187260A1. Автор: WonKi Jeong,DaeYoun Kim,Dongjun PARK. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-06-15.

Semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20230411188A1. Автор: HAO WANG,Yunfeng LAN,Wenqiang Zhang,Xiaoyan Ren,Xiaoping Shi,Haifeng Qin,Yongfei WANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Electrostatic chuck for high temperature process applications

Номер патента: US09711386B2. Автор: ZHENG Yuan,Michael S. Cox. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-07-18.

Electrostatic chucking stage and substrate processing apparatus

Номер патента: US7220319B2. Автор: Kazuaki Kaneko,Masayoshi Ikeda,Takuji Okada,Takashi Kayamoto,Yasumi Sago,Tadashi Inokuchi,Toshihiro Tachikawa. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2007-05-22.

Electrostatic chuck with independent zone cooling and reduced crosstalk

Номер патента: US20180374724A1. Автор: Vijay Parkhe,Konstantin Makhratchev. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-12-27.

Processing chamber with translating wear plate for lift pin

Номер патента: WO2011008805A3. Автор: John M. White,Tom K. Cho,Oscar Lopez,Jeonghoon Oh,Alexander S. Polyak,Uday Pai,Silja James. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2011-05-05.

Thermal processing apparatus using microwave and operation method thereof

Номер патента: US20240107639A1. Автор: Yoon Seok Choi,Sang Jeong Lee,Han Lim KANG,Yun Sang Kim,Hyun Woo Jo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Electrostatic chuck with high insulation performance and electrostatic attraction force

Номер патента: US11951583B2. Автор: Hiroshi Takebayashi,Kenichiro AIKAWA,Tatsuya Kuno. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2024-04-09.

Lift pin module

Номер патента: US20210183686A1. Автор: Joon-Sung Lee,Sung-keun Cho,Seung-Nam Kim,Seong Eon Park,Jung-Sub SHIN,Hyun Ik Joe,Hyeon Cheol Jin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-06-17.

Substrate processing apparatus, method of processing substrate, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240249962A1. Автор: Naofumi Ohashi,Hideharu Itatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Processing apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09972522B2. Автор: Shinichi Hirano,Kohei Yamada. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Enhanced lift pin design to eliminate local thickness non-uniformity in teos oxide films

Номер патента: US20200058538A1. Автор: Praket P. Jha,Sanjeev Baluja,Krishna Nittala,Kalyanjit GHOSH,Mayur G. Kulkarni. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-02-20.

Lift pin actuators for semiconductor processing systems and related methods

Номер патента: US20240112946A1. Автор: Xing Lin,Alexandros Demos,Junwei Su,Shujin Huang,Loc Tran,Bradley Wayne Evans. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-04-04.

Substrate processing apparatus and method for fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20240153811A1. Автор: Young Joon Kim,Sang Duk HWANG,Jai Hoon KANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing apparatus and spray module of substrate processing apparatus

Номер патента: US20220392790A1. Автор: Jongchul Kim,InWoo BACK,YeongSeop BYEON,InCheol YEO. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-08.

Magnetic Integrated Lift Pin System for a Chemical Processing Chamber

Номер патента: US20200020566A1. Автор: Sean Moore,Todd Maciej,William Inhofer. Владелец: TEL FSI Inc. Дата публикации: 2020-01-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230084826A1. Автор: Jung Hwan Lee,Young Jun Kim,Sung Ho ROH,Cheong Hwan Jeong,Tae Dong Kim. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate temperature sensor, substrate retainer and substrate processing apparatus

Номер патента: US11906367B2. Автор: TOKUNOBU Akao,Hitoshi Murata,Masaaki Ueno,Akinori Tanaka. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-02-20.

Substrate processing apparatus, cleaning method, substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device and program

Номер патента: EP4435839A1. Автор: Kaoru Yamamoto. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-25.

Workpiece processing apparatus with vacuum anneal reflector control

Номер патента: EP4252277A1. Автор: Michael Yang,Manuel Sohn,Rolf Bremensdorfer. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-04.

Workpiece processing apparatus with vacuum anneal reflector control

Номер патента: WO2022140067A1. Автор: Michael Yang,Manuel Sohn,Rolf Bremensdorfer. Владелец: Beijing E-town Semiconductor Technology Co., Ltd.. Дата публикации: 2022-06-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20060027324A1. Автор: Takashi Kaneko,Akitaka Makino,Koichi Mishima,Toyoharu Okumoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2006-02-09.

Internal pressure control apparatus and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240304427A1. Автор: Tae-hyun Kim,Sang Ki Nam,Sung Ho Jang,Seul Gi Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-12.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20110240599A1. Автор: Masanobu Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-10-06.

Measuring device, measuring method, and vacuum processing apparatus

Номер патента: US20240290591A1. Автор: Atsushi Sawachi,Takuya Nishijima,Ichiro SONE,Suguru Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20210242058A1. Автор: Noritake SUMI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-05.

Source driving integrated circuits including an electrostatic discharge circuit and related layout method

Номер патента: US09735053B2. Автор: Young-Jin Cho,Hong-Yeon Kim,Youn-Ho Hwang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-08-15.

Source Driving Integrated Circuits Including an Electrostatic Discharge Circuit and Related Layout Method

Номер патента: US20140301001A1. Автор: Young-Jin Cho,Hong-Yeon Kim,Youn-Ho Hwang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2014-10-09.

An electrostatic discharge protection semiconductor structure and a method of manufacture

Номер патента: EP3944317A1. Автор: Hans-Martin Ritter,Andreas Zimmerman. Владелец: Nexperia BV. Дата публикации: 2022-01-26.

Fabrication method of a pixel structure and a pixel structure

Номер патента: US8664024B2. Автор: Hsi-Ming Chang. Владелец: Chunghwa Picture Tubes Ltd. Дата публикации: 2014-03-04.

Processing apparatus and processing method

Номер патента: US09828675B2. Автор: Keiji Osada,Daisuke Morisawa,Naohide Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09933702B2. Автор: Jiro Higashijima,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-03.

Liquid processing apparatus, liquid processing method, and storage medium

Номер патента: US09899244B2. Автор: Naofumi Kishita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Substrate liquid processing apparatus

Номер патента: US09842751B2. Автор: Mitsuo Tanaka,Yoshihiro Kai,Kazuki Kosai,Shouta Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-12.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20010014372A1. Автор: Junichi Kitano,Masami Yamashita,Toru Aoyama,Takayuki Katano,Yo Suzuki,Hiroyuki Iwaki,Hidefumi Matsui,Satoru Shimura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2001-08-16.

Replacement end time determination method, substrate processing method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240255404A1. Автор: Noritake SUMI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US6969829B2. Автор: Yoichi Deguchi,Masaaki Tsuruno. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2005-11-29.

Substrate processing in a process chamber for semiconductor manufacturing and apparatus management controller with error analysis

Номер патента: US11086304B2. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Hiroyuki Iwakura,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Takayuki KAWAGISHI,Kayoko Yashiki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2021-08-10.

Data processing apparatus for semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20030168171A1. Автор: Toshio Masuda,Junichi Tanaka,Hideyuki Yamamoto,Akira Kagoshima,Shoji Ikuhara. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2003-09-11.

Thermal processing apparatus using microwaves and method of operating same

Номер патента: US20240206027A1. Автор: Yoon Seok Choi,Han Lim KANG,Sung Suk WI. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Wafer processing apparatus for combined high-pressure process and vacuum process, and wafer processing method using decompression

Номер патента: US20240339338A1. Автор: Chul Hee SHIN. Владелец: HPSP Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Control apparatus, substrate processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US09772624B2. Автор: Takanori Saito,Yuichi Takenaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Substrate processing apparatus including auxiliary gas supply port

Номер патента: US09593415B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang,Sung-Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and program

Номер патента: US9153430B2. Автор: Jie Wang,Takaaki Noda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2015-10-06.

Vacuum processing apparatus and vacuum processing method

Номер патента: US20110143033A1. Автор: Hiroto Ikeda,Eiichi Iijima,Muneto Hakomori. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2011-06-16.

Material processing apparatus and operating method thereof

Номер патента: US12051600B2. Автор: Shao-Chi Liu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-30.

Method of replacing liquid of circulation line in substrate liquid processing apparatus of single-wafer type

Номер патента: US20110132465A1. Автор: Kazuyoshi Eshima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-06-09.

Substrate processing apparatus and apparatus cleaning method

Номер патента: US12087599B2. Автор: Osamu Kuroda,Hidemasa ARATAKE,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Apparatus with a cap and cover assembly, an electron gun with a cap assembly, and a method of using a tube

Номер патента: US20030146686A1. Автор: Duane Smith,Randolph Schueller. Владелец: Extreme Devices Inc. Дата публикации: 2003-08-07.

Electrostatic chucking process

Номер патента: US12100609B2. Автор: Kwangduk Douglas Lee,Prashant Kumar KULSHRESHTHA,Sarah Michelle Bobek,Venkata Sharat Chandra PARIMI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-24.

Electrostatic chuck device

Номер патента: US11887877B2. Автор: Mamoru Kosakai,Keisuke Maeda,Masaki OZAKI. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2024-01-30.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20200035469A1. Автор: Hitoshi Sasaki,Yutaka Momiyama. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2020-01-30.

Stage device and substrate processing apparatus

Номер патента: US12094753B2. Автор: Melvin VERBAAS,Einosuke Tsuda,Kentaro Asakura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Systems and methods for calibrating scalar field contribution values for a limited number of sensors including a temperature value of an electrostatic chuck and estimating temperature distribution profiles based on calibrated values

Номер патента: US20190332094A1. Автор: Andrew D. Bailey, III,Marcus Musselman. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2019-10-31.

Imprint apparatus, information processing apparatus, imprint method, and method of manufacturing article

Номер патента: US20210181623A1. Автор: Toyoaki Sugimoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-06-17.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240222109A1. Автор: Naofumi Ohashi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Precoat method for substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240191349A1. Автор: Atsushi Tanaka,Taichi Monden. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Vacuum Processing Apparatus and Vacuum Processing Method Using the Same

Номер патента: US20080170970A1. Автор: Toru Ito,Eiji Matsumoto,Atsushi Yoshida,Kouta Tanaka,Kotaro Fujimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-07-17.

Method of particle abatement in a semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20230127177A1. Автор: Cornelis Thaddeus Herbschleb,Kelly Houben. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-04-27.

Electrostatic chuck and method of manufacturing the same

Номер патента: US20230377934A1. Автор: Jae Hyun Lee,Young Jae Jeon,Hae Ran Kim. Владелец: TEMNEST Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Method of refurbishing bipolar electrostatic chuck

Номер патента: US20100088872A1. Автор: Hong Shih. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-04-15.

Method of refurbishing bipolar electrostatic chuck

Номер патента: WO2010042907A2. Автор: Hong Shih. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2010-04-15.

Circuit arrangement for protection against electrostatic discharges and a method for operating same

Номер патента: US20140233145A1. Автор: Dieter Maier. Владелец: ams AG. Дата публикации: 2014-08-21.

Reduction of interfacial stress caused by differential thermal expansion between an integrated circuit package and a printed circuit board

Номер патента: GB2356084A. Автор: Walter J Dauksher,Pedro F Engel. Владелец: AGILENT TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2001-05-09.

Cooling unit e.g. vapor-chamber-cooler or a flat heat pipe, comprises a hydrophilic layer, and a metal body comprising an inner space, where the inner space comprises a vaporization zone, a condensation zone and a connection zone

Номер патента: DE102011015097A1. Автор: Hsiu-Wei Yang. Владелец: Asia Vital Components Co Ltd. Дата публикации: 2012-09-20.

Method for Determining Focal Properties in a Target Beam Field of a Multi-Beam Charged-Particle Processing Apparatus

Номер патента: US20240304415A1. Автор: Christoph Spengler,Wolf Naetar,Matthias Liertzer. Владелец: IMS Nanofabrication GmbH. Дата публикации: 2024-09-12.

Method for determining focal properties in a target beam field of a multi-beam charged-particle processing apparatus

Номер патента: EP4439626A1. Автор: Christoph Spengler,Wolf Naetar,Matthias Liertzer. Владелец: IMS Nanofabrication GmbH. Дата публикации: 2024-10-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240222090A1. Автор: Takashi Aramaki,Hiroshi Tsujimoto,Lifu Li. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Cross section processing method and cross section processing apparatus

Номер патента: US09548185B2. Автор: Hidekazu Suzuki,Tatsuya Asahata,Atsushi Uemoto. Владелец: Hitachi High Tech Science Corp. Дата публикации: 2017-01-17.

Electrostatic chuck and plasma processing apparatus

Номер патента: US10825660B2. Автор: Shin Yamaguchi,Akiyoshi MITSUMORI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-11-03.

Electrostatic chuck manufacturing method, electrostatic chuck, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230268217A1. Автор: Masato Takayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Electrostatic chuck, electrostatic chuck heater comprising same, and semiconductor holding device

Номер патента: US20240239716A1. Автор: Ji Hyung Lee. Владелец: Amosense Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Electrostatic chuck, electrostatic chuck heater comprising same, and semiconductor holding device

Номер патента: US20240290583A1. Автор: Ji Hyung Lee. Владелец: Amosense Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate placing table and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230065448A1. Автор: Naoyuki Satoh,Tatsuo Nishita,Satoshi Taga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-03-02.

Substrate placing table and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220084867A1. Автор: Naoyuki Satoh,Tatsuo Nishita,Satoshi Taga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-17.

Substrate placing table and substrate processing apparatus

Номер патента: US11217470B2. Автор: Naoyuki Satoh,Tatsuo Nishita,Satoshi Taga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-01-04.

Electrostatic chuck, focus ring, support base, plasma processing apparatus, and plasma processing method

Номер патента: US12046457B2. Автор: Yohei Uchida,Yasuharu Sasaki,Shoichiro Matsuyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Electrostatic chuck, focus ring, support base, plasma processing apparatus, and plasma processing method

Номер патента: US20240347322A1. Автор: Yohei Uchida,Yasuharu Sasaki,Shoichiro Matsuyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Electrostatic chuck and substrate fixing device

Номер патента: US11869793B2. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Akihiro Kuribayashi. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-09.

Method and tool for electrostatic chucking

Номер патента: WO2020163073A1. Автор: Lu Xu,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Kwangduk Douglas Lee,Prashant Kumar KULSHRESHTHA,Sarah Michelle Bobek,Venkata Sharat Chandra PARIMI,Byung Seok Kwon. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-08-13.

Electrostatic chuck and substrate fixing device

Номер патента: US20210242065A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Akihiro Kuribayashi. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-05.

Substrate placing table and substrate processing apparatus

Номер патента: US11676847B2. Автор: Naoyuki Satoh,Tatsuo Nishita,Satoshi Taga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-13.

Electrostatic chuck and substrate fixing device

Номер патента: US20210242066A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-05.

Substrate processing apparatus including edge ring assembly and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230207281A1. Автор: Sungsoo Choi,Wonyoung JEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-29.

Protective cover for electrostatic chuck

Номер патента: US09887121B2. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-02-06.

Discharging method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11462431B2. Автор: Masanori Sato,Yoshinori Osaki,Tetsu TSUNAMOTO,Toshiyuki ARAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-04.

Semiconductor processing equipment including electrostatic chuck for plasma processing

Номер патента: US11862440B2. Автор: Jongwoo SUN,Jinyoung Park,Hyungjoo Lee,Jeongil MUN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-02.

Electrostatic chuck and semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US11756820B2. Автор: Akihito Ono,Jumpei UEFUJI. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2023-09-12.

Multi-zone heating apparatus, bottom electrode assembly, plasma processing apparatus, and temperature adjusting method

Номер патента: US12046458B2. Автор: Jie Du,Sha Rin. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2024-07-23.

Electrostatic chuck and substrate fixing device

Номер патента: US20200402829A1. Автор: Michio Horiuchi,Masaya Tsuno. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-24.

Substrate Placing Table, Plasma Processing Apparatus Provided With Same, And Plasma Processing Method

Номер патента: US20210265141A1. Автор: Yasuyuki Hayashi. Владелец: SPP Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-26.

Protective cover for electrostatic chuck

Номер патента: US20180102275A1. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-04-12.

Electrostatic chuck manufacturing method, electrostatic chuck, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20210272834A1. Автор: Masato Takayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-09-02.

Electrostatic chuck, substrate support, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240186917A1. Автор: Yasuharu Sasaki,Masashi Shimoda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Electrostatic chuck and semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US11776836B2. Автор: Akihito Ono,Jumpei UEFUJI. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2023-10-03.

Member for electrostatic chuck and electrostatic chuck

Номер патента: US20220037187A1. Автор: Michio Horiuchi,Masaya Tsuno. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-03.

Member for electrostatic chuck and electrostatic chuck

Номер патента: US11721574B2. Автор: Michio Horiuchi,Masaya Tsuno. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-08.

Electrostatic chuck heater

Номер патента: US20210242064A1. Автор: Joyo Ito. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2021-08-05.

Apparatus with a cap and cover assembly, an electron gun with a cap assembly, and a method of using a tube

Номер патента: AU2003214976A1. Автор: Duane T. Smith,Randolph D. Schueller. Владелец: Extreme Devices Inc. Дата публикации: 2003-09-02.

Method and equipment for leakage testing of electrostatic chuck

Номер патента: US20230204448A1. Автор: Mi Young JO,Young Ran KO,Da-Som BAE,Kyeong Hee KANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Electrostatic chucks and process for producing the same

Номер патента: US20020109954A1. Автор: Hideyoshi Tsuruta. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2002-08-15.

Method for producing electrostatic chuck and electrostatic chuck

Номер патента: US09650302B2. Автор: Takuji Kimura,Takahiro Takahashi,Hirokazu Nakanishi. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Electrostatic chuck having reduced power loss

Номер патента: US20160163577A1. Автор: Jennifer Y. Sun,Konstantin Makhratchev. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-06-09.

Electrostatic chuck and thin film deposition apparatus including the same

Номер патента: US20240322713A1. Автор: Mingoo KANG,Minchul SONG,Junhyeuk KO,Sukha RYU,Sangheon Jeon,Eui Gyu Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Hybrid electrostatic chuck

Номер патента: WO2011083751A1. Автор: Micheal Sogard. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2011-07-14.

Electrostatic chuck and reaction chamber

Номер патента: US11837491B2. Автор: Qiwei Huang,Quanyu SHI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Electrostatic chuck and method for manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: US12125731B2. Автор: Hiroshi Ono. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-10-22.

Methods of Manufacturing Electrostatic Chucks

Номер патента: US20200290081A1. Автор: Jason Wright,Angus Mcfadden. Владелец: Technetics Group LLC. Дата публикации: 2020-09-17.

Methods of manufacturing electrostatic chucks

Номер патента: EP3939157A1. Автор: Jason Wright,Angus Mcfadden. Владелец: Technetics Group LLC. Дата публикации: 2022-01-19.

Electrostatic chuck having reduced power loss

Номер патента: US20130284709A1. Автор: Jennifer Y. Sun,Konstantin Makhratchev. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-10-31.

Electrostatic chuck having reduced power loss

Номер патента: WO2013162792A1. Автор: Jennifer Y. Sun,Konstantin Makhratchev. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-10-31.

Electrostatic chuck and method for manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: US20160233121A1. Автор: Ok Min Kim,Ok Ryul Kim. Владелец: FEMVIX CORP. Дата публикации: 2016-08-11.

Substrate architecture for enhanced electrostatic chucking

Номер патента: US20240186197A1. Автор: Srinivas PIETAMBARAM,Ao WANG,Whitney Bryks,Nicholas Haehn,Aaditya Anand CANDADAI. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-06-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09993840B2. Автор: Yukihiko Inagaki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Substrate fixing device, electrostatic chuck and electrostatic chuck manufacturing method

Номер патента: US20220157636A1. Автор: Hiroyuki Asakawa,Keiichi Takemoto,Yoichi Harayama,Takahiro Rokugawa. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-19.

Electrostatic chuck system and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus by using the same

Номер патента: US20160161865A1. Автор: Hyunsung BANG,Duckjung Lee,Jungsun PARK,Jaesik Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Substrate fixing device, electrostatic chuck, and method of manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: US11830752B2. Автор: Keiichi Takemoto,Yoichi Harayama. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-28.

Electrostatic chuck, electrostatic chuck heater comprising same, and semiconductor holding device

Номер патента: US20240178039A1. Автор: Ji Hyung Lee,Young Jun An,Kyung Whan Woo,Byoung Su JIN. Владелец: Amosense Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate liquid processing apparatus and substrate liquid processing method

Номер патента: US11880213B2. Автор: Mikio Nakashima,Akinori Tanaka,Isamu Miyamoto,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-23.

Electrostatic chuck member

Номер патента: US20150070815A1. Автор: Kazuto Ando,Hironori Kugimoto. Владелец: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO LTD. Дата публикации: 2015-03-12.

Electrostatic chuck

Номер патента: US09300229B2. Автор: Kazuki Anada,Takuma Wada. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2016-03-29.

Electrostatic chuck assembly

Номер патента: US5838528A. Автор: Ron van Os,Eric D. Ross. Владелец: Watkins Johnson Co. Дата публикации: 1998-11-17.

Electrostatic chuck, glass substrate processing method, and said glass substrate

Номер патента: US09866151B2. Автор: Toshifumi Sugawara,Yoshiaki Tatsumi. Владелец: Creative Technology Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Electrostatic chuck

Номер патента: US20230356342A1. Автор: Jung Hyun Park,Jun Sung Lee,Sang Bum CHO. Владелец: Mico Ceramics Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Electrostatic chuck heater and manufacturing method therefor

Номер патента: US11908725B2. Автор: Jun Won Seo,Jin Young Choi,Ju Sung LEE. Владелец: Mico Ceramics Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Electrostatic chuck heater and manufacturing method therefor

Номер патента: US20240112940A1. Автор: Jun Won Seo,Jin Young Choi,Ju Sung LEE. Владелец: Mico Ceramics Ltd. Дата публикации: 2024-04-04.

Method of manufacturing electrostatic chuck having electrode layer made of heterogeneous composite material, and electrostatic chuck manufactured thereby

Номер патента: US11908726B2. Автор: Hansang KWON. Владелец: lndustry University Cooperation Foundation of Pukyong National University. Дата публикации: 2024-02-20.

Method of using a processing apparatus

Номер патента: US12051613B2. Автор: Yoshimasa Kojima,Satoshi Hanajima,Jun Nakama. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-07-30.

Protective coating for electrostatic chucks

Номер патента: US11835868B2. Автор: Vincent Burkhart,Stephen TOPPING. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-12-05.

Protective coating for electrostatic chucks

Номер патента: US20190294050A1. Автор: Vincent Burkhart,Stephen TOPPING. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2019-09-26.

Protective coating for electrostatic chucks

Номер патента: WO2019182833A1. Автор: Vincent Burkhart,Stephen TOPPING. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2019-09-26.

Protective coating for electrostatic chucks

Номер патента: US20240045344A1. Автор: Vincent E. Burkhart,Stephen TOPPING. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-02-08.

Method for adjusting contact position of lift pins, method for detecting contact position of lift pins, and substrate placement mechanism

Номер патента: US12020968B2. Автор: Takahiro Kawawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Substrate processing apparatus and heating unit

Номер патента: US09957616B2. Автор: Hitoshi Murata,Yuichi Wada,Shuhei SAIDO,Hidenari YOSHIDA,Takashi Yahata. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-01.

Electrostatic chuck and manufacturing method therefor

Номер патента: US11823940B2. Автор: Saeng Hyun Cho. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Electrostatic chuck unit and thin film deposition apparatus including the same

Номер патента: US20200013658A1. Автор: Seungjin LEE,Byungik Kong,Minchul SONG,Euigyu Kim,Junhyeuk KO,Seungju HONG,Jaesuk MOON,Soohyun MIN. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-09.

Method for manufacturing electrostatic chuck having electrode layer including clad member and electrostatic chuck manufactured thereby

Номер патента: US11904390B2. Автор: Hansang KWON. Владелец: lndustry University Cooperation Foundation of Pukyong National University. Дата публикации: 2024-02-20.

Method to provide consistent electrostatic clamping through real time control of electrostatic charge deposition in an electrostatic chuck

Номер патента: WO2019113078A1. Автор: William Reynolds,Edward McIntyre. Владелец: AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2019-06-13.

High temperature electrostatic chuck bonding adhesive

Номер патента: US09520314B2. Автор: Jennifer Y. Sun,Senh Thach,Ren-Guan Duan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-12-13.

Electrostatic chuck system and control method thereof

Номер патента: US20180040496A1. Автор: Janghwan Kim,Kwanghyun Cho,Chunghun LEE,Youngho HWANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-02-08.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: EP3904979A2. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-11-03.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20210333722A1. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-10-28.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20230161270A1. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-05-25.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: EP3904979A3. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-01-12.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20240288780A1. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Information processing apparatus, information processing system, and part ordering method

Номер патента: US20220207492A1. Автор: Masakazu Yamamoto,Tadashi Enomoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-06-30.

Processing apparatus

Номер патента: US20080143996A1. Автор: Shinichi Hirano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-06-19.

Workpiece processing apparatus with thermal processing systems

Номер патента: US12046489B2. Автор: Rolf Bremensdorfer,Dieter HEZLER. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate liquid processing apparatus

Номер патента: US20210172066A1. Автор: Satoshi Kaneko,Kazuki Motomatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-06-10.

Laser element, method of producing the laser element, and a laser module employing the laser element

Номер патента: US7120177B2. Автор: Fusao Yamanaka,Teruhiko Kuramachi. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-10-10.

Laser element, method of producing the laser element, and a laser module employing the laser element

Номер патента: US20040184493A1. Автор: Fusao Yamanaka,Teruhiko Kuramachi. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2004-09-23.

A pin and a printed circuit board

Номер патента: US20150207239A1. Автор: Shaojun Chen. Владелец: Delta Electronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2015-07-23.

Pin and a printed circuit board

Номер патента: US09577350B2. Автор: Shaojun Chen. Владелец: Delta Electronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Automatic tripping and anti-falling arrester and a lightning protection and fuse integrated combination device

Номер патента: US11936135B2. Автор: Xihao YUE,Chunyu ZHENG. Владелец: Shaanxi Heshuo Electric Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-19.

A planar winding assembly for power applications and a method of manufacturing such assembly

Номер патента: WO2024121127A1. Автор: Hongbo ZHAO,Stig Munk-Nielsen,Zhixing YAN,Shaokang LUAN,Thore Stig AUNSBORG. Владелец: Aalborg Universitet. Дата публикации: 2024-06-13.

Method of assembling an electric equipment having a first connector and a second connector

Номер патента: US20160133001A1. Автор: Noriyasu Kashima,Hirofumi Kurita,Tomohiro Shimamoto. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-05-12.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09484180B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Manabu Iwata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Substrate processing apparatus and substrate support

Номер патента: US20240258083A1. Автор: Makoto Kato,Ryoma Muto,Kaisei SUGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Electrostatic chuck shielding mechanism

Номер патента: US09611540B2. Автор: Stanley W. Stone,Kan Ota,Steve T. Drummond. Владелец: Axcelis Technologies Inc. Дата публикации: 2017-04-04.

Electrostatic chuck and processing apparatus

Номер патента: US12074014B2. Автор: Yuki Sasaki,Yutaka Momiyama,Jun SHIRAISHI,Reo KAWANO. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 2024-08-27.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09875881B2. Автор: Norikazu Yamada,Kouichi Yoshida,Tadashi Gondai,Kohichi NAGAMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-23.

High temperature detachable very high frequency (VHF) electrostatic chuck (ESC) for PVD chamber

Номер патента: US12014906B2. Автор: Cheng-Hsiung Matthew TSAI,Keith A. Miller,John C. Forster,William R. Johanson,Mukund Sundararajan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

High temperature detachable very high frequency (vhf) electrostatic chuck (esc) for pvd chamber

Номер патента: EP4433622A1. Автор: Cheng-Hsiung Matthew TSAI,Keith A. Miller,John C. Forster,William R. Johanson,Mukund Sundararajan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-25.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20180294137A1. Автор: SATOSHI Tanaka,Naoki Matsumoto,Toru Ito,Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-10-11.

Method of reducing leakage of heat transfer gas and plasma processing apparatus

Номер патента: US12142462B2. Автор: Akira Takahashi,Shinsuke Oka,Daisuke Tamura,Tsubasa SHIMOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-12.

Plasma processing apparatus, information processing apparatus, plasma processing method, and correction method

Номер патента: US20240194451A1. Автор: Taro Hayakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Vacuum sealing integrity of cryogenic electrostatic chucks using non-contact surface temperature measuring probes

Номер патента: US20240110836A1. Автор: Stephen Donald PROUTY,Andrew Antoine NOUJAIM,Alvaro Garcia,Martin Perez GUZMAN,Sankaranarayanan Ravi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-04.

Improved vacuum sealing integrity of cryogenic electrostatic chucks using non-contact surface temperature measuring probes

Номер патента: WO2024072646A1. Автор: Stephen Donald PROUTY,Andrew Antoine NOUJAIM,Suresh Gupta,Tony Jefferson GNANAPRAKASA,Alvaro Garcia,Gautham BAMMANAHALLI,Tatsuichiro INOUE,Martin Perez GUZMAN,Sankaranarayanan Ravi. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-04.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09574270B2. Автор: Jun Yoshikawa,Michitaka AITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Microwave radiation antenna, microwave plasma source and plasma processing apparatus

Номер патента: US09548187B2. Автор: Hiroyuki Miyashita,Shigeru Kasai,Taro Ikeda,Yutaka Fujino,Yuki Osada,Akira Tanihara,Tomohito Komatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-17.

Automatic electrostatic chuck bias compensation during plasma processing

Номер патента: US11791138B2. Автор: James Rogers,Leonid Dorf,Linying CUI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-17.

Directional coupler for use in a substrate processing apparatus, where the directional coupler includes a coaxial line coupled to a conductor on a substrate

Номер патента: US11569558B2. Автор: Hiroyuki Miyashita,Isao Takahashi,Mitsuya Inoue,Yuki Osada,Mitsutoshi ASHIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-01-31.

Plasma shutter and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240096606A1. Автор: Hyungsik KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20200161090A1. Автор: Jun Yoshikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-21.

Process kit having tall deposition ring and smaller diameter electrostatic chuck (esc) for pvd chamber

Номер патента: US20220406573A1. Автор: David Gunther,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Siew Kit Hoi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-12-22.

Placing table and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240120182A1. Автор: Yusuke Kikuchi,Masato Shinada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Structure and method for solving parasitic plasma in plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321554A1. Автор: CHEN CHEN,Dengzhi WANG,Fengming WANG,Qingyuan QU,Xueyong HE,Wangjun LI. Владелец: Suzhou Maizheng Technology Co ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Plasma processing apparatus and prediction method of the condition of plasma processing apparatus

Номер патента: US12080529B2. Автор: Masahiro Sumiya,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Vapor-phase process apparatus, vapor-phase process method, and substrate

Номер патента: US20120003142A1. Автор: Masaki Ueno,Toshio Ueda,Eiryo Takasuka,Toshiyuki Kuramoto. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2012-01-05.

Vacuum processing apparatus

Номер патента: EP2361321A2. Автор: Charles Edmund King. Владелец: P2i Ltd. Дата публикации: 2011-08-31.

Vacuum processing apparatus

Номер патента: WO2010046636A2. Автор: Charles Edmund King. Владелец: P2I LIMITED. Дата публикации: 2010-04-29.

Substrate processing apparatus and method for processing substrate

Номер патента: US20230245858A1. Автор: Hitoshi Kato,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Particle beam processing apparatus

Номер патента: WO2001035438A9. Автор: Imtiaz Rangwalla,Harvey Clough,George Hannafin. Владелец: Energy Sciences Inc. Дата публикации: 2002-04-11.

Information processing apparatus, information processing method, non-transitory computer readable medium, and information processing system

Номер патента: US20220302708A1. Автор: Takahiko Abe,Toru Yano,Akihiro Itakura,Toshimitsu Kumazawa. Владелец: Toshiba Energy Systems and Solutions Corp. Дата публикации: 2022-09-22.

Image processing apparatus, image processing method, and medium

Номер патента: US20180088482A1. Автор: Michihiko Yamada. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-03-29.

Image processing apparatus, image processing method, and medium

Номер патента: US10451992B2. Автор: Michihiko Yamada. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-10-22.

Image processing apparatus, image processing method, and medium

Номер патента: US20180348659A1. Автор: Michihiko Yamada. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-12-06.

Image processing apparatus, method of controlling the same, and storage medium

Номер патента: US20220103698A1. Автор: Hidehiko Asai. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-03-31.

Operating method of image processor, image processing apparatus, and operating method of the image processing apparatus

Номер патента: US20210209805A1. Автор: Junhee YOO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-07-08.

Image Processing Apparatus Controlling Printing According to Unidirectional Printing Method or Bidirectional Printing Method

Номер патента: US20210155010A1. Автор: SATORU Arakane,Masashi Kuno,Shota MORIKAWA. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Electrostatic drive, micromechanical component, and manufacturing method for an electrostatic drive and a micromechanical component

Номер патента: US20110254404A1. Автор: Stefan Pinter,Michael Krueger,Tjalf Pirk,Joerg Muchow,Christoph Friese,Joachim Fritz. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2011-10-20.

Information processing apparatus and method, recording medium, and program

Номер патента: US20060104283A1. Автор: Manami Suzuki. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2006-05-18.

Information sharing system, image processing apparatus, and image processing method

Номер патента: US09898241B2. Автор: Takanori Nagahara. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Image processing apparatus, and remote operation system for image processing apparatus

Номер патента: US20180324316A1. Автор: Takeshi Tani. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2018-11-08.

Image processing apparatus, and remote operation system for image processing apparatus

Номер патента: US20150181069A1. Автор: Takeshi Tani. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2015-06-25.

Image processing apparatus, and remote operation system for image processing apparatus

Номер патента: US9325873B2. Автор: Takeshi Tani. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2016-04-26.

Image processing apparatus, and remote operation system for image processing apparatus

Номер патента: US20170149993A1. Автор: Takeshi Tani. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2017-05-25.

Image processing apparatus, and remote operation system for image processing apparatus

Номер патента: US20160212290A1. Автор: Takeshi Tani. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2016-07-21.

Image processing apparatus, and remote operation system for image processing apparatus

Номер патента: US10038809B2. Автор: Takeshi Tani. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2018-07-31.

Information processing apparatus, portable communication terminal, and non-transitory computer-readable data recording medium having program for controlling information processing apparatus or portable communication terminal recorded thereon

Номер патента: US20210400151A1. Автор: Izuru NOMURA. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2021-12-23.

Image processing apparatus, and remote operation system for image processing apparatus

Номер патента: US9596373B2. Автор: Takeshi Tani. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2017-03-14.

Device information processing system, device information processing apparatus, and device information processing method

Номер патента: US20230292106A1. Автор: Akihiro Ito. Владелец: BUFFALO INC. Дата публикации: 2023-09-14.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20200211549A1. Автор: Yasuaki Yamagishi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2020-07-02.

Image processing apparatus, image processing method, bitstream transmitting apparatus, and non-transitory medium

Номер патента: US20220408100A1. Автор: Takahiro Nishi,Tadamasa Toma,Kiyofumi Abe,Virginie Drugeon. Владелец: Panasonic Intellectual Property Corp of America. Дата публикации: 2022-12-22.

Information processing apparatus, control apparatus, and control method

Номер патента: US20240155226A1. Автор: Kotomi Kakiuchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Authentication management method, information processing apparatus, wearable device, and computer program

Номер патента: US20170295492A1. Автор: Kenichiro Nakagawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-10-12.

Input touch device that detects the amount of negative capacitance change due to coupling between an object and a predetermined driving electrode

Номер патента: US12079427B2. Автор: Bonkee Kim,Jongsik Kim,Seyeob Kim,Sein LEE. Владелец: HiDeep Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

A method and a system for detecting communication relaying network elements

Номер патента: EP1112629A1. Автор: Jukka Suonvieri. Владелец: Nokia Networks Oy. Дата публикации: 2001-07-04.

A method and a system for detecting communication relaying network elements

Номер патента: EP1112629B1. Автор: Jukka Suonvieri. Владелец: Nokia Oyj. Дата публикации: 2002-11-13.

Image processing apparatus and computer program product for performing a drawing process to add a color and a background color of a spot color image based in part on color transparency information

Номер патента: US9058558B2. Автор: Teppei NAGATOMI. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2015-06-16.

Data processing apparatus

Номер патента: US9319543B2. Автор: Kunihisa Chiba. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2016-04-19.

Data processing apparatus

Номер патента: US10530942B2. Автор: Kunihisa Chiba. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2020-01-07.

Data processing apparatus

Номер патента: US20160198054A1. Автор: Kunihisa Chiba. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2016-07-07.

Data processing apparatus

Номер патента: US20140218761A1. Автор: Kunihisa Chiba. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2014-08-07.

Image processing apparatus, image processing method and program

Номер патента: EP3829154A1. Автор: Ryosuke Otani. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-06-02.

Image processing apparatus, method of controlling the same, and storage medium for projecting a scanned image and for printing a projected image

Номер патента: US11533402B2. Автор: Hidehiko Asai. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-12-20.

Data processing apparatus

Номер патента: US20150092239A1. Автор: Kunihisa Chiba. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2015-04-02.

Microphone test module and a method of testing microphones

Номер патента: US20210360360A1. Автор: Anton Schuster. Владелец: Cohu GmbH. Дата публикации: 2021-11-18.

A microphone test module and a method of testing microphones

Номер патента: PH12021050211A1. Автор: Anton Schuster. Владелец: Cohu GmbH. Дата публикации: 2022-01-24.

Apparatuses and methods for determining if a user equipment is located in a registration area

Номер патента: EP4193715A1. Автор: Hidetoshi Suzuki,Akihiko Nishio,Ming-Hung Tao,Quan KUANG. Владелец: Panasonic Intellectual Property Corp of America. Дата публикации: 2023-06-14.

Transmitting and receiving system and information processing apparatus

Номер патента: US20180239704A1. Автор: Yusuke Morita,Kazuyuki Hirata,Daizo TOMINAGA,Kenta Koizumi,Masaki Yajima,Takahisa KOGA,Masahiko MIZUMURA,Shuntaro HONJO,Junki MIZUKAMI. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-23.

Image processing system and portable information processing apparatus

Номер патента: US20190361633A1. Автор: Noriyuki Watanabe,Mei Yeen Wang,Jia Jiunn Kh'ng,Siew Whan LEAW. Владелец: Toshiba TEC Corp. Дата публикации: 2019-11-28.

Information processing system, information processing apparatus, and non-transitory computer readable medium storing information processing program

Номер патента: US20130254502A1. Автор: Takeshi Nagamine. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2013-09-26.

Information processing system, information processing apparatus, and non-transitory computer readable medium storing information processing program

Номер патента: US8880823B2. Автор: Takeshi Nagamine. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-04.

Information processing system, information processing apparatus, information processing method, and computer readable medium

Номер патента: US20130041926A1. Автор: Takahiro Saito,Yoko Kurihara. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2013-02-14.

Information processing apparatus, communication system, information processing method, and program

Номер патента: US20210219178A1. Автор: Eisuke Sakai,Yusuke Tanaka. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2021-07-15.

Information processing apparatus, communication system, information processing method, and program

Номер патента: US20240049053A1. Автор: Eisuke Sakai,Yusuke Tanaka. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-02-08.

Image processing system, image processing apparatus, method of controlling the image processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US20210014381A1. Автор: Ken Achiwa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-01-14.

Information processing apparatus, communication system, information processing method, and program

Номер патента: US11805442B2. Автор: Eisuke Sakai,Yusuke Tanaka. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2023-10-31.

METHOD FOR MUTING A DIGITAL SIGNAL AND A DIGITAL SIGNAL RECORDING APPARATUS AND A DIGITAL SIGNAL PROCESSING APPARATUS EMPLOYING THE DIGITAL SIGNAL MUTING METHOD

Номер патента: KR970031383A. Автор: 마사요시 노구찌,겐 이찌무라. Владелец: 이데이 노브유끼. Дата публикации: 1997-06-26.

Method of muting a digital signal and a digital signal recording apparatus and a digital signal processing apparatus employing the digital signal muting method

Номер патента: US6400294B1. Автор: Masayoshi Noguchi,Gen Ichimura. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2002-06-04.

An apparatus and a method for receiving and forwarding data packets

Номер патента: EP2668753A1. Автор: Søren Kragh,Peter Ekner. Владелец: Napatech AS. Дата публикации: 2013-12-04.

Bonding method, mounting table and substrate processing apparatus

Номер патента: US09520814B2. Автор: Daisuke Hayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-13.

Laser processing apparatus

Номер патента: US20220241906A1. Автор: Kyongho HONG,Jaeseok Park,Kyu-Bum Kim,Inho Lee,Jungseob Lee,Bosuck Jeon. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2022-08-04.

Electrostatic Chuck Having Extended Lifetime

Номер патента: US20240258940A1. Автор: Mitsutoshi Fukada. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Terminal, processing apparatus, processing system, and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US10368237B2. Автор: Takanari Ishimura. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-30.

Information processing apparatus and method, and program

Номер патента: US09674272B2. Автор: Hirokazu Komatsu. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Electrostatic chucks

Номер патента: CA2251586C. Автор: Hoi Cheong Steve Sun,Timothy Allen Pletcher. Владелец: Delsys Pharmaceutical Corp. Дата публикации: 2002-09-10.

Electrostatic chuck and method of manufacturing the same

Номер патента: US20080315536A1. Автор: Masashi Ono,Takashi Oonuma,Masakuni Miyazawa. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-25.

Image processing apparatus, image processing method, and storage medium

Номер патента: US20180332193A1. Автор: Masao Kato,Toshiki Miyazaki,Okinori Tsuchiya,Kouta Murasawa,Yugo Mochizuki,Tatsuhiro Yamagata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-11-15.

Image processing apparatus, information processing apparatus, and medium

Номер патента: US20170048399A1. Автор: Kazuki Sasayama,Asaki Umezawa,Sachiko Fukumaru. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-16.

Image processing apparatus, information processing apparatus, and medium that selectively provide prompts to confirm orientation

Номер патента: US9942425B2. Автор: Kazuki Sasayama,Asaki Umezawa,Sachiko Fukumaru. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Image processing apparatus, information processing apparatus, and medium

Номер патента: US20180183942A1. Автор: Kazuki Sasayama,Asaki Umezawa,Sachiko Fukumaru. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-28.

Image processing apparatus, image capturing apparatus and storage medium storing image processing apparatus

Номер патента: US09912867B2. Автор: Wataru Takayanagi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-03-06.

Optical signal processing apparatus and decoding method for optical signal reception control device

Номер патента: US09755747B2. Автор: Min Liu,Ruopeng Liu,Lin Luan,Chunlai Li. Владелец: Kuang Chi Intelligent Photonic Technology Ltd. Дата публикации: 2017-09-05.

Information processing apparatus, information processing method, and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US20170060486A1. Автор: Koji Bito. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-02.

Information processing system for acquiring the state of information processing apparatuses and determining whether to restrict a requested process

Номер патента: US09843695B2. Автор: Kohei Genda. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-12.

Information processing apparatus, information processing method, and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US20160212195A1. Автор: KOHEI HASHIMOTO. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-21.

Information processing apparatus, information processing system, image forming apparatus, image forming system, and computer readable medium

Номер патента: US20090080014A1. Автор: Eiji Nishi,Akira Okamoto,Fumio Harada,Eiji Shimoichi,Akihide Oshima,Masaki Kurokawa,Takanari Ishimura,Yoshiyuki Yoda,Noriyuki Tatsuma,Atsuhiro Itoh,Yuriko Inakawa. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2009-03-26.

Image processing apparatus, image processing method, and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US20140063539A1. Автор: Mitsuo Hayashi. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2014-03-06.

Information processing apparatus, information processing system, image forming apparatus, image forming system, and computer readable medium

Номер патента: US20140347698A1. Автор: Eiji Nishi,Akira Okamoto,Fumio Harada,Eiji Shimoichi,Akihide Oshima,Masaki Kurokawa,Takanari Ishimura,Yoshiyuki Yoda,Noriyuki Tatsuma,Atsuhiro Itoh,Yuriko Inakawa. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-27.

Information processing apparatus and method, and program

Номер патента: US12081962B2. Автор: Toru Chinen,Yuki Yamamoto,Mitsuyuki Hatanaka,Minoru Tsuji. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Data switching method, switching apparatus, and processing apparatus

Номер патента: US20240357433A1. Автор: HAO CHENG. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Processing apparatus and program product for creating, in response to user instruction, process receiving portions to be displayed differently and to perform a different process

Номер патента: US09883057B2. Автор: Yukio Tajima,Kazuko Kirihara. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Image processing apparatus, image processing method, and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US09531901B2. Автор: Mitsuo Hayashi. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Method of and apparatus for applying voltage to electrostatic chuck

Номер патента: US5117121A. Автор: Toshiya Watanabe,Tetsuo Kitabayashi. Владелец: TOTO LTD. Дата публикации: 1992-05-26.

Information processing apparatus that determines whether a format of near field communication tag data is appropriate, method of controlling the same, and non-transitory computer-readable medium

Номер патента: US20240251042A1. Автор: Shukei Kurihara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Information processing apparatus, image processing method, and non-transitory computer readable storage medium for switching mode based on detection of person

Номер патента: US10104266B2. Автор: Koichi Azuma,Masafumi Ono,Kenji Kuroishi,Kazuhiko Narushima,Hidenori Horie. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2018-10-16.

Image processing apparatus, image processing method, and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US20220036858A1. Автор: Satoru Kobayashi,Kaihei KITAMURA. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-02-03.

Information processing apparatus that determines whether a format of near field communication tag data is appropriate, method of controlling the same, and non-transitory computer-readable medium

Номер патента: US09996307B2. Автор: Shukei Kurihara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-06-12.

Information processing apparatus, information processing method, and program

Номер патента: US20210271359A1. Автор: Hiroki MINE. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2021-09-02.

Information processing apparatus, information processing program, and information processing system

Номер патента: US20240272765A1. Автор: Kenji TOKUTAKE. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-08-15.

Electrostatic chuck employing thermoelectric cooling

Номер патента: WO1999028950A9. Автор: Joseph S Logan,Robert E Tompkins. Владелец: Dorsey Gage Inc. Дата публикации: 1999-09-16.

Information processing apparatus, distributed processing system, non-transitory computer readable medium storing information processing program, and information processing method

Номер патента: US20230291791A1. Автор: Hirofumi Sasaki. Владелец: FUJIFILM BUSINESS INNOVATION CORP. Дата публикации: 2023-09-14.

Information processing apparatus and non-transitory computer readable medium storing information processing program

Номер патента: US9219794B2. Автор: Taishi ASUMI. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2015-12-22.

Information processing apparatus and non-transitory computer readable medium storing information processing program

Номер патента: US20130246566A1. Автор: Taishi ASUMI. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2013-09-19.

Information processing apparatus, information processing method, and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US20230100185A1. Автор: Hiroyuki Mitsuhashi. Владелец: FUJIFILM BUSINESS INNOVATION CORP. Дата публикации: 2023-03-30.

Information processing apparatus and information processing system

Номер патента: US20210014331A1. Автор: Yosuke Takano,Naoki Oguchi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2021-01-14.

Data processing system, data processing apparatus and server apparatus

Номер патента: US20080307113A1. Автор: Satoshi Suga. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-11.

Information processing program product, information processing apparatus, and information processing system

Номер патента: US12089128B2. Автор: Tsuyoshi Yamada. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Data processing apparatus, information processing method, and storage medium

Номер патента: US09952653B2. Автор: Minoru Fujisawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-04-24.

Information processing apparatus, information processing system, and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US09877168B2. Автор: Takumi Kobayashi,Kohshiro Inomata. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-23.

Information processing apparatus, information processing method, program, and information processing system

Номер патента: US09494786B2. Автор: Yutaka Hasegawa,Masao Kondo,Masashi Kimoto,Shigeatsu Yoshioka. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Electrostatic chuck unit and depositing apparatus including the same

Номер патента: US20240146214A1. Автор: Mingoo KANG,Minchul SONG,Euigyu Kim,Junhyeuk KO,Youngsun CHO,Sukha RYU. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Image processing apparatus, image processing system, and recording medium

Номер патента: US20160295074A1. Автор: Nobuhiro Mishima,Toshikazu Kawaguchi,Junichi Hase,Hidetaka Iwai,Yosuke Taniguchi,Hideaki Soejima. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2016-10-06.

Imaging system, information processing apparatus, server apparatus, information processing method, and information processing program

Номер патента: US20200236275A1. Автор: Masahiro Terada. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-07-23.

Information processing system, information processing apparatus, and information processing method

Номер патента: EP3739862A1. Автор: Yuuichiroh Hayashi,Kazunori SUGIMURA. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-18.

Image processing apparatus, image forming apparatus and document reading apparatus

Номер патента: US20080007796A1. Автор: Yukinari Sato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2008-01-10.

Signal processing apparatus, signal processing method, and program

Номер патента: US20240257828A1. Автор: Yuji TOKOZUME. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Processing system, information processing apparatus, non-transitory computer-readable storage medium storing control program, and image processing apparatus

Номер патента: US20240251052A1. Автор: Yuto Minetani. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Processing apparatus

Номер патента: US20150055158A1. Автор: Osamu Goto,Kenta Ogata. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-26.

Processing apparatus, processing system, and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US8953184B2. Автор: Kenji Tsutsumi. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-10.

Process coordinating system, information processing apparatus, and a computer-readable recording medium storing an information processing program

Номер патента: US20110304891A1. Автор: Masaya Masuda. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2011-12-15.

Information processing apparatus, information processing method, and non-transitory computer-readable storage medium

Номер патента: US20180309687A1. Автор: Munenori Maeda,Kohta Nakashima,Yuki Matsuo. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2018-10-25.

Information processing apparatus, control method for information processing apparatus, and program

Номер патента: US20240354820A1. Автор: Kouta TSUCHIHASHI. Владелец: Fast Retailing Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Information processing apparatus and method

Номер патента: US12073596B2. Автор: Hiroyuki Yasuda,Koji Yano,Tsuyoshi Kato,Ohji Nakagami,Satoru Kuma. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Image processing apparatus, image processing system, and recording medium

Номер патента: US09876939B2. Автор: Nobuhiro Mishima,Toshikazu Kawaguchi,Junichi Hase,Hidetaka Iwai,Yosuke Taniguchi,Hideaki Soejima. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2018-01-23.

Image processing apparatus, method for controlling same, and storage medium for improving a processing efficiency in an image processing apparatus which includes a multi-core processor

Номер патента: US09854129B2. Автор: Minoru Yaguchi,Kazuto Tanaka. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2017-12-26.

Image processing apparatus, a method for performing specific process on an image processing apparatus, and a computer-readable storage medium for a program to be executed by an image processing apparatus

Номер патента: US09781295B2. Автор: Tatsuya Kawano. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2017-10-03.

Authentication processing apparatus, authentication processing system, authentication processing method and authentication processing program

Номер патента: US09667616B2. Автор: Nobuhiro Kobayashi,Tsutomu Sakagami,Manabu Misawa. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Information processing apparatus and method, and, program

Номер патента: US09665422B2. Автор: Osamu Yoshimura,Hideki Iwami,Chihiro Fujita. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Image data processing apparatus

Номер патента: US09641728B2. Автор: Masahiko Kubo,Kaoru Yamauchi. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-02.

Image processing apparatus and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US09571677B2. Автор: Yukio Tajima. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-14.

Image processing apparatus and method

Номер патента: RU2506713C2. Автор: Дзунити ТАНАКА,Одзи НАКАГАМИ,Ёити ЯГАСАКИ. Владелец: Сони Корпорейшн. Дата публикации: 2014-02-10.

Signal processing apparatus and method

Номер патента: RU2549205C2. Автор: Юкен ГОТО,Кенити КОБАЯСИ,Такуя ОКАМОТО,Брюс Майкл ЛАХЛАН. Владелец: Сони Корпорейшн. Дата публикации: 2015-04-20.

Data processing apparatus, controlling method and data processing system

Номер патента: US20150244832A1. Автор: Satoru HIRAKATA. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-27.

Processing apparatus, image processing method, and program

Номер патента: US20180160012A1. Автор: HAJIME Nagai,Yoshinori Nakajima,Hisashi Ishikawa,Hiroyuki Sakai,Tomokazu Yanai,Naoya Takesue,Yumi Shimokodachi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-06-07.

Image processing apparatus, control method for the image processing apparatus, and storage medium storing computer program for executing the control method of the image processing apparatus

Номер патента: US20070047825A1. Автор: Takafumi Fujiwara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2007-03-01.

Audio processing apparatus and method for localizing an audio source

Номер патента: EP3953726A1. Автор: Michael Günther,Walter Kellermann,Mohammad TAGHIZADEH,Andreas BRENDEL. Владелец: Friedrich Alexander Univeritaet Erlangen Nuernberg FAU. Дата публикации: 2022-02-16.

Information processing apparatus, distributed processing system, non-transitory computer readable medium storing program, and distributed processing method

Номер патента: US20230291859A1. Автор: Hirofumi Sasaki. Владелец: FUJIFILM BUSINESS INNOVATION CORP. Дата публикации: 2023-09-14.

Information processing apparatus, non-transitory computer readable medium, and information processing system

Номер патента: US20200404109A1. Автор: Hideaki Takayama. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-24.

Data processing apparatus and method of data processing for conditionally providing service to terminal device

Номер патента: US9954973B2. Автор: Satoru HIRAKATA. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Information processing apparatus, control method thereof, and computer program

Номер патента: US10063668B2. Автор: Satoshi Yonekawa. Владелец: Canon Electronics Inc. Дата публикации: 2018-08-28.

Image capturing apparatus, image processing apparatus, image processing method, image capturing apparatus calibration method, robot apparatus, method for manufacturing article using robot apparatus, and recording medium

Номер патента: US12058468B2. Автор: Keita Dan. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-08-06.

Processing apparatus and processing method for a digital television

Номер патента: US8233531B2. Автор: Chih-Ta Chen,Chih-Min Wang,Hung-Kai Ting,Weichun Tung. Владелец: MStar Semiconductor Inc Taiwan. Дата публикации: 2012-07-31.

Processing apparatus and processing method for a digital television

Номер патента: US20090110057A1. Автор: Chih-Ta Chen,Chih-Min Wang,Hung-Kai Ting,Weichun Tung. Владелец: MStar Semiconductor Inc Taiwan. Дата публикации: 2009-04-30.

Image processing apparatus, control method for the image processing apparatus, and storage medium storing computer program for executing the control method of the image processing apparatus

Номер патента: US7532739B2. Автор: Takafumi Fujiwara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-05-12.

Image processing apparatus, control method for the image processing apparatus, and storage medium storing computer program for executing the control method of the image processing apparatus

Номер патента: US20090268971A1. Автор: Takafumi Fujiwara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-10-29.

Image Processing Apparatus And Robot System

Номер патента: US20190043150A1. Автор: Nobuyuki Setsuda,Masanobu Nishitani. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2019-02-07.

Information processing apparatus, authentication method, and recording medium for recording computer program

Номер патента: US20180241747A1. Автор: Jun Furukawa,Yuki Tanaka,Toshinori Araki,Kazuma OHARA. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2018-08-23.

Image processing apparatus and information management method

Номер патента: US20180183977A1. Автор: Toyoshi ADACHI,Hironori TAKASAKI. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2018-06-28.

Packet processing apparatus, packet processing method, and non-transitory computer-readable storage medium

Номер патента: US9590925B2. Автор: Shinji Yamashita. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2017-03-07.

Phase locked state detecting apparatus and image processing apparatus

Номер патента: US20040090275A1. Автор: Makoto Matsumaru,Kunihiro Minoshima. Владелец: Pioneer Corp. Дата публикации: 2004-05-13.

Phase locked state detecting apparatus and image processing apparatus

Номер патента: US6661296B2. Автор: Makoto Matsumaru,Kunihiro Minoshima. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-12-09.

Information processing apparatus, information processing system, and information processing method

Номер патента: US20170308337A1. Автор: Hideki Yanagi. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-26.

Information processing apparatus and control method thereof

Номер патента: US20080123978A1. Автор: Koichi Ishimoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-05-29.

Information processing apparatus and control method thereof

Номер патента: US20100123936A1. Автор: Koichi Ishimoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2010-05-20.

Control device, processing apparatus system, and recording medium

Номер патента: US10234865B2. Автор: Hideki Fujimoto,Naoya Ogata,Tetsuya Kobayashi,Akira Ichikawa,Kunitoshi Yamamoto,Mariko Miyazaki,Hajime Kajiyama. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-19.

Automatic processing method using an automatic processing apparatus

Номер патента: EP4417062A1. Автор: Johannes Maslennikov,Mathias Keanu Engelskirchen. Владелец: AIRBUS OPERATIONS GMBH. Дата публикации: 2024-08-21.

Method for generating an information on an obstacle behind a curve, method for preventing an interference of a second vehicle with an obstacle behind a curve, method for operating a second vehicle, data processing apparatuses, traffic control system, computer program, and computer-readable storage medium

Номер патента: EP4390894A1. Автор: Oswaldo Perez Barrera,Gerardo MORALES. Владелец: Volvo Car Corp. Дата публикации: 2024-06-26.

Systems and methods for controlling an electrostatic shutter

Номер патента: US12024948B2. Автор: Sebastian Tomasz TOMCZYK. Владелец: Pella Corp. Дата публикации: 2024-07-02.

Systems and methods for controlling an electrostatic shutter

Номер патента: US20210285280A1. Автор: Sebastian Tomasz TOMCZYK. Владелец: Pella Corp. Дата публикации: 2021-09-16.

Processing method of sound watermark and sound watermark processing apparatus

Номер патента: US12106764B2. Автор: Jia-Ren Chang,Po-Jen Tu,Kai-Meng Tzeng. Владелец: Acer Inc. Дата публикации: 2024-10-01.

Information processing system and information processing apparatus

Номер патента: US12130635B2. Автор: Kento Suzuki,Tomoyuki Suzuka. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Information processing system, information processing apparatus, and non-transitory computer readable medium storing program

Номер патента: US20210089195A1. Автор: Kosuke KIKUSHIMA. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-25.

Control device, processing apparatus system, and recording medium

Номер патента: US20190155298A1. Автор: Hideki Fujimoto,Naoya Ogata,Tetsuya Kobayashi,Akira Ichikawa,Kunitoshi Yamamoto,Mariko Miyazaki,Hajime Kajiyama. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-23.

Image processing apparatus, image processing system, image processing method, learning device, learning method, and storage medium

Номер патента: US20220383507A1. Автор: Fumihiro Kajimura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-12-01.

Pin assembly for work implement coupling assembly having float and lock positions

Номер патента: US09493926B2. Автор: Michael P. May. Владелец: Caterpillar Inc. Дата публикации: 2016-11-15.

Information processing apparatus and computer readable storage medium

Номер патента: US20200210736A1. Автор: Yoshikazu Matsuo,Yusuke OI,Hisumi Esaki. Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Tape leader pin assembly and method for making the same

Номер патента: US20010013560A1. Автор: Thomas R. Albrecht,James Eaton,Carl R. Hoerger,Jeffrey S. McAllister,Geoffrey W. Mansbridge,Thomas W. von Alten,John A. Hamming,Robert R. Heinze. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-08-16.

Information processing apparatus, method and system

Номер патента: EP4399664A1. Автор: Mostafa Hussein Sabet,Mark Elliott COLSTON,Phoebe TAN. Владелец: IPCO 2012 Ltd. Дата публикации: 2024-07-17.

Data processing apparatuses and methods

Номер патента: GB2628587A. Автор: Jimenez Daniel,Chiara Monti Maria,Kamath Navin. Владелец: Sony Interactive Entertainment Inc. Дата публикации: 2024-10-02.

Information processing system, information processing apparatus, and log information management method

Номер патента: US20200174730A1. Автор: Masafumi Tokiwa. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-04.

Drive pin assembly

Номер патента: CA2834886C. Автор: Stephen John Ruiz. Владелец: CWD LLC. Дата публикации: 2015-03-10.

Recording medium overturning device and recording medium processing apparatus using the same

Номер патента: US20120267843A1. Автор: Ming Gao,Kai Liu,Jigang Zhang,Zhenxing Zhao. Владелец: Shandong New Beiyang Information Technology Co Ltd. Дата публикации: 2012-10-25.

Control method of a process for producing refiner mechanical pulp

Номер патента: WO2004076739A1. Автор: Tom Forsman. Владелец: Tom Forsman. Дата публикации: 2004-09-10.

Quantum information processing apparatus and quantum information processing apparatus system

Номер патента: US20240193456A1. Автор: Toshiyuki Kobayashi,Hiromi Caporale. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Physiological information processing system, light emitting apparatus and physiological information processing apparatus

Номер патента: WO2021070720A1. Автор: Kentaro Suzuki,Masayuki Inoue,Fumihiko Takatori. Владелец: Nihon Kohden Corporation. Дата публикации: 2021-04-15.

System, a device, and a method for notifying an information processing apparatus of at least one of a private event and a public event

Номер патента: US09690531B2. Автор: Toshinori Kawaura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-06-27.

Method for producing an electrostatic image developing toner

Номер патента: US6500596B2. Автор: Takayuki Tanabe,Akifumi Nemoto. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 2002-12-31.

Process for the recovery of a light boiler and a heavy boiler from a vapor stream

Номер патента: US20240034710A1. Автор: Christoph Hiller,Thorsten MERKER. Владелец: EVONIK OPERATIONS GMBH. Дата публикации: 2024-02-01.

Information processing method, information processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US20210382670A1. Автор: Hideyuki Kanamori. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-12-09.

Mobile robot including a lift assembly and a low-profile drive mechanism

Номер патента: US20230381955A1. Автор: Todd John Bacon,Scott Francis Wilhelm,Leigh Nelson Gaither,Eliana V. Podolski Bacon. Владелец: Herkules Equipment Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Data feature processing method and data feature processing apparatus

Номер патента: US20220091818A1. Автор: Tao Zhang,Hui Liu,Jun Pan,Lingyun Gu,Minqi Xie,Wan Duan,Shuai TAO. Владелец: Shanghai IceKredit Inc. Дата публикации: 2022-03-24.

Information processing apparatus, imaging apparatus, information processing method, and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US20230384236A1. Автор: Takahiro Kitsunai. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-11-30.

Heat exchanger processing method and heat exchanger processing apparatus

Номер патента: EP4446682A1. Автор: Lixin Zheng,Junfeng JIN,Xiaoming Zhong,Hangbing ZHOU,Bibin YE. Владелец: Sanhua Hangzhou Micro Channel Heat Exchanger Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Surface Enhanced Raman Scattering (SERS) sensor and a method for production thereof

Номер патента: US09784683B2. Автор: Gediminas Raciukaitis,Evaldas PABREZA. Владелец: Ato Id Uab. Дата публикации: 2017-10-10.

Shaving blade cartridge and a shaver comprising such shaving blade cartridge

Номер патента: US10307923B2. Автор: Ioannis Bozikis,Ioannis-Marios Psimadas,Efthymios Saltas. Владелец: BIC VIOLEX SA. Дата публикации: 2019-06-04.

Methods for automatically generating a card deck library and master images for a deck of cards, and a related card processing apparatus

Номер патента: US09511274B2. Автор: Brian Miller,James V. Kelly,Vladislav Zvercov. Владелец: Bally Gaming Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Information processing apparatus, method, and storage medium

Номер патента: US20240143961A1. Автор: Yasuyuki Tagami. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Display apparatus, control method of the same and image processing apparatus thereof

Номер патента: US20120314133A1. Автор: Jung-Dae Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-12-13.

Display system including display apparatus of head-mounted type and plurality of video processing apparatuses

Номер патента: US20240202880A1. Автор: Takeshi Iwasa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-06-20.

Information processing system and information processing apparatus

Номер патента: US20200167249A1. Автор: Tatsuya Yamana,Reo Tajima. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2020-05-28.

External storage device having an audio function, and information processing apparatus in which the storage device can be installed

Номер патента: US6128263A. Автор: Takashi Sugawara,Kazuo Fujii,Yutaka Sawada. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2000-10-03.

A device and a method for monitoring a property of a coating of a solid dosage form during a coating process forming the coating of the solid dosage form

Номер патента: GB2513581A. Автор: Michael Leitner,Günther Hannesschläger,Daniel Markl,Stephan Sacher,Daniel Koller. Владелец: RES CT FOR NON DESTRUCTIVE TESTING GmbH. Дата публикации: 2014-11-05.

Device for fastening an assembly on the bodywork of a motor vehicle, and a screen wiper module including such a device

Номер патента: US5567097A. Автор: Pascal Morin. Владелец: Valeo Systemes dEssuyage SAS. Дата публикации: 1996-10-22.

A layout setting apparatus for processing a spectacles lens and a cup adhering apparatus, a spectacles frame measuring apparatus and a spectacles lens processing apparatus having the layout setting apparatus

Номер патента: KR101397253B1. Автор: 교지 다케이치. Владелец: 가부시키가이샤 니데크. Дата публикации: 2014-05-20.

Information processing system, information processing apparatus, and method of controlling information processing system

Номер патента: US20180276127A1. Автор: Katsuya Ishiyama. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2018-09-27.

Information processing system and information processing apparatus

Номер патента: US20190114722A1. Автор: Hiroyuki Ando,Akito Yamazaki,Yuri Shimada,Hiroaki Kanto. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2019-04-18.

Information processing system, information processing method, and information processing apparatus

Номер патента: EP3798985A1. Автор: Akihiko Fujiwara,Mika Hirama. Владелец: Toshiba TEC Corp. Дата публикации: 2021-03-31.

Information processing system, information processing apparatus, and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US20210303220A1. Автор: Noriaki Suzuki. Владелец: FUJIFILM BUSINESS INNOVATION CORP. Дата публикации: 2021-09-30.

Image processing system, image processing apparatus and computer readable medium

Номер патента: US20120128247A1. Автор: Tetsuya Kimura,Kensuke Ito. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2012-05-24.

Graphic pattern processing apparatus

Номер патента: US5332995A. Автор: Hideo Maejima,Hisashi Kajiwara,Koyo Katsura. Владелец: Hitachi Engineering Co Ltd. Дата публикации: 1994-07-26.

Antistatic paint cup comprising a reusable plastic cup holder, a lid having an opening, and a flexible, disposable see through cup positioned in the reusable cup holder

Номер патента: NZ550037A. Автор: Michael J Kosmyna,Ralph A Wisniewski,Mark E Charpie. Владелец: Illinois Tool Works. Дата публикации: 2010-11-26.

Filtering device for filtering a fluid and a method for venting and backflushing

Номер патента: WO2024064725A1. Автор: Rolf Schämann,Uwe Wolter. Владелец: Nordson Corporation. Дата публикации: 2024-03-28.

A method and a wave-power aggregate to extract energy from wave motion in a fluid and the use of a wave-power aggregate

Номер патента: EP2122159A1. Автор: Daniel Ehrnberg. Владелец: Daniel Ehrnberg. Дата публикации: 2009-11-25.

Separator for separating a mixture consisting of a solid material and a fluid

Номер патента: US20200256619A1. Автор: Dirk Schlief,Nikolai Schnellbach,Kamal El Jouhari. Владелец: Nordson Corp. Дата публикации: 2020-08-13.

Air-sealing device intended to be inserted between an aircraft dual-flow turbine engine casing element, and a nacelle element

Номер патента: US11746706B2. Автор: Baghdad Achbari,Bruno Alexandre Didier Jacon,Hervé Simonotti,Faouzi Aliouat. Владелец: Safran Aircraft Engines SAS. Дата публикации: 2023-09-05.

Medical image processing method for processing pediatric simple x-ray image using machine learning model and medical image processing apparatus therefor

Номер патента: US20230260123A1. Автор: Kyung Jin Cho,Mingyu Kim,Namkug Kim,Ji Yeon SUH,Gil-Sun HONG. Владелец: Promedius Inc. Дата публикации: 2023-08-17.

Carton stack divider and a method for dividing a pack of flat-folded cartons

Номер патента: EP3481759A1. Автор: Peter Johnsson,Per FRIDOLFSSON. Владелец: NORDEN MACHINERY AB. Дата публикации: 2019-05-15.

A storage container handling system and a method thereof

Номер патента: US20240190657A1. Автор: Jørgen Djuve Heggebø. Владелец: Autostore Technology AS. Дата публикации: 2024-06-13.

Flexible plate and a flywheel assembly employing the flexible plate

Номер патента: US5979594A. Автор: Yasunori Doman. Владелец: Exedy Corp. Дата публикации: 1999-11-09.

Flexible plate and a flywheel assembly employing the flexible plate

Номер патента: US6131486A. Автор: Yasunori Doman. Владелец: Exedy Corp. Дата публикации: 2000-10-17.

System for evaluating sensitivity to anti-cancer agent and a computer readable medium storing programs executing an evaluating method

Номер патента: US20220310273A1. Автор: Jung Eun Kim,Bo Sung Ku. Владелец: MBD Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-29.

Multimedia file processing method, multimedia file processing apparatus, and computer readable storage medium

Номер патента: US10740472B2. Автор: Yalong Luo. Владелец: Yulong Computer Telecommunication Scientific Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-11.

Method for measuring samples with liquid scintillation counting and a counter

Номер патента: US5367170A. Автор: Timo Oikari,Tapio Yrjonen,Stuart Webb,Tuula Stark. Владелец: WALLAC OY. Дата публикации: 1994-11-22.

Multimedia File Processing Method, Multimedia File Processing Apparatus, and Computer Readable Storage Medium

Номер патента: US20170161504A1. Автор: Yalong Luo. Владелец: Yulong Computer Telecommunication Scientific Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-08.

An automated storage and retrieval system, a container transfer apparatus and a method thereof

Номер патента: WO2024068475A3. Автор: Trond Austrheim,Ole Andreas Haddeland. Владелец: Autostore Technology AS. Дата публикации: 2024-05-10.

METHODS FOR AUTOMATICALLY GENERATING A CARD DECK LIBRARY AND MASTER IMAGES FOR A DECK OF CARDS, AND A RELATED CARD PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20140091522A1. Автор: Miller Brian,Kelly James V.,Zvercov Vladislav. Владелец: . Дата публикации: 2014-04-03.

Methods for automatically generating a card deck library and master images for a deck of cards, and a related card processing apparatus

Номер патента: US20170173449A1. Автор: Brian Miller,James V. Kelly,Vladislav Zvercov. Владелец: Bally Gaming Inc. Дата публикации: 2017-06-22.

Plant disease control composition and a plant disease control method

Номер патента: RU2731574C2. Автор: Такуя ИНОУЕ. Владелец: Сумитомо Кемикал Компани, Лимитед. Дата публикации: 2020-09-04.

Procedure for the combat of phytopathogenic microorganisms that consists of treating a crop plant, soil or plant reproduction material with amorphous copper salt particles, which contain a water-soluble polymer and a particle diameter between 1-200 nm, where the copper salt contains an anion that is not a hydroxide and forms a precipitate with copper ions; aqueous suspension of amorphous copper particles; and its use.

Номер патента: CL2012001439A1. Автор: Kopf Alexander,Andrey Karpov,Hartwig Voss,Michael Merk,Sarah Dunker,Karl Heinrich Schneider,Kondo Schoichi. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2012-12-14.

Ultrasound diagnostic apparatus and a medical image-processing apparatus

Номер патента: CN101152096A. Автор: 潟口宗基,川岸哲也,桥本新一,阿部康彦. Владелец: Toshiba Medical Systems Corp. Дата публикации: 2008-04-02.

A detection signal processing circuit and a detection signal processing apparatus for a rotation sensor

Номер патента: DE102005009541A1. Автор: Hiroshi Kariya Okada,Mikio Kariya Sugiki,Yasuaki Kariya Makino. Владелец: Denso Corp. Дата публикации: 2005-10-06.

Disc brake for a motor vehicle, comprises a friction disc e.g. a metallic sheet comprising two parallel annular faces on friction linings and a unit for clamping the friction faces, where the clamping unit comprises two friction pads

Номер патента: FR2924775A1. Автор: Vincent Puiseux. Владелец: PEUGEOT CITROEN AUTOMOBILES SA. Дата публикации: 2009-06-12.

Methods for automatically generating a card deck library and master images for a deck of cards, and a related card processing apparatus

Номер патента: PH12015500594B1. Автор: Brian Miller,Vladislav Zvercov,James V Kelly. Владелец: Bally Gaming Inc. Дата публикации: 2015-05-11.

Methods for automatically generating a card deck library and master images for a deck of cards, and a related card processing apparatus

Номер патента: EP2885743A2. Автор: Brian Miller,James V. Kelly,Vladislav Zvercov. Владелец: Bally Gaming Inc. Дата публикации: 2015-06-24.

Methods for automatically generating a library of card decks and master images for a deck of cards, and a related card processing apparatus

Номер патента: ES2813878T3. Автор: Brian Miller,James Kelly,Vladislav Zvercov. Владелец: SG Gaming Inc. Дата публикации: 2021-03-25.

Computer-readable recording medium for storing a video game program, a video game program, a video game processing method, and a video game processing apparatus

Номер патента: US20030027637A1. Автор: Yasuhiro Sato. Владелец: Square Co Ltd. Дата публикации: 2003-02-06.

PAPER SHEETS PROCESSING SYSTEM AND A PAPER SHEETS PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20150339874A1. Автор: KUSANO Nobuyuki. Владелец: . Дата публикации: 2015-11-26.

Inflatable lining, useful for covering airbags, comprises a laminar carrier and a plastic layer arranged over the carrier, where the plastic is flexible in order to open airbag, without tearing

Номер патента: DE102004058217A1. Автор: Klaus Bamberg,Oliver Guth. Владелец: FAURECIA INNENRAUM SYSTEME GMBH. Дата публикации: 2006-06-01.

Packaging preform comprising first and second outer sections; first and second inner sections joined by a perforation and a groove, first and second middle sections, where the preform is substantially flat; a plate; and method to make a tray.

Номер патента: CL2013002319A1. Автор: Michael Todd Scrimger. Владелец: Nestec SA. Дата публикации: 2014-04-04.

Monitoring device, electrostatic chuck and monitoring method

Номер патента: US20210223304A1. Автор: Bei Zhou Huang. Владелец: HKC Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-22.

System and method for analyzing voltage breakdown in electrostatic chucks

Номер патента: US09417280B2. Автор: David E. Suuronen,Scott E. Peitzsch. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2016-08-16.

Electrostatic chuck cleaner, cleaning method, and exposure apparatus

Номер патента: US09599909B2. Автор: Yoshihito Kobayashi,Takashi Kamo. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Sheet processing apparatus, method for controlling sheet processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US20150239705A1. Автор: Akira Matsunaga. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-08-27.

Sheet aligning apparatus, image forming system and sheet post-processing apparatus

Номер патента: US9926153B2. Автор: Yuichi Kubota,Masashi Yamashita,Tatsuya Ohmori. Владелец: Canon Finetech Nisca Inc. Дата публикации: 2018-03-27.

Processing method and processing apparatus for efficacy of combined drug

Номер патента: US20180276347A1. Автор: Linna LI,Shoujun YUAN,Dexuan YANG. Владелец: Institute of Radiation Medicine of CAMMS. Дата публикации: 2018-09-27.

Sheet aligning apparatus, image forming system and sheet post-processing apparatus

Номер патента: US09926153B2. Автор: Yuichi Kubota,Masashi Yamashita,Tatsuya Ohmori. Владелец: Canon Finetech Nisca Inc. Дата публикации: 2018-03-27.

Sheet processing apparatus, method for controlling sheet processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US09895858B2. Автор: Akira Matsunaga. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Sheet processing apparatus and image forming apparatus

Номер патента: US20130216332A1. Автор: Yusuke Obuchi,Naoto Tokuma,Yuri Urano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-08-22.

Information processing apparatus, information processing method, and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US20170060816A1. Автор: Koji Bito. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-02.

Information processing apparatus, information processing method, and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US9665545B2. Автор: Koji Bito. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Powder processing apparatus including a loading and unloading system

Номер патента: US12053784B2. Автор: Antoine Virdis,Yves Grossrieder. Владелец: Frewitt Fabrique de Machines SA. Дата публикации: 2024-08-06.

Information processing apparatus, information processing method, and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US09665545B2. Автор: Koji Bito. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Rapping an electrostatic precipitator

Номер патента: US09566588B2. Автор: Ireneusz Malec. Владелец: General Electric Technology GmbH. Дата публикации: 2017-02-14.

Lift pin guidance apparatus

Номер патента: US5848670A. Автор: Phil Salzman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1998-12-15.

Information processing apparatus, management system and management method

Номер патента: US20220382558A1. Автор: Tetsuya Nakamura,Ken Sasaki,Tatsumi Nagasawa,Yusaku Morishige,Zuying Wo. Владелец: Lenovo Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240376603A1. Автор: Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-14.

Sheet post-processing apparatus and image forming system including same

Номер патента: US09656826B2. Автор: Masuo Kawamoto,Yoshiyuki Asakawa,Masahiko Miyazaki. Владелец: Kyocera Document Solutions Inc. Дата публикации: 2017-05-23.

Electrostatic chuck cover piece to enable processing of dielectric substrates

Номер патента: US20240011147A1. Автор: Kazuya DAITO,Andrew Ceballos,Suraj Yadav. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-11.

Electrostatic chuck cover piece to enable processing of dielectric substrates

Номер патента: WO2024010939A1. Автор: Kazuya DAITO,Andrew Ceballos,Suraj Yadav. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-01-11.

Information processing apparatus, information processing system, and non-transitory computer readable medium storing program

Номер патента: US20190311195A1. Автор: Noriyuki Shimokawa. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2019-10-10.

Information processing apparatus, information processing method, and program

Номер патента: US20200301377A1. Автор: Junki Ohmura. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2020-09-24.

Material processing apparatus with spring-biased coupling assembly

Номер патента: GB2601319A. Автор: McWilliams Paul,Donaghy Colin,Kinley David. Владелец: Terex GB Ltd. Дата публикации: 2022-06-01.

System and method for determining whether an electronic device is located on a stationary or stable surface

Номер патента: US20240231510A9. Автор: Federico Rizzardini,Stefano Paolo Rivolta. Владелец: STMICROELECTRONICS SRL. Дата публикации: 2024-07-11.

Sheet feeder that ensures execution of sheet feeding with more certainty by feeding retry process and image processing apparatus including the same

Номер патента: US20170297838A1. Автор: Katsuhiko Hanamoto. Владелец: Kyocera Document Solutions Inc. Дата публикации: 2017-10-19.

Sheet feeder that ensures execution of sheet feeding with more certainty by feeding retry process and image processing apparatus including the same

Номер патента: US09963310B2. Автор: Katsuhiko Hanamoto. Владелец: Kyocera Document Solutions Inc. Дата публикации: 2018-05-08.

Sheet binding processing apparatus and image forming system having the same

Номер патента: US09725275B2. Автор: Satoru Matsuki,Daiki KOMIYAMA,Kazuhito Shimura. Владелец: Canon Finetech Inc. Дата публикации: 2017-08-08.

Medium processing apparatus, and method of controlling the medium processing apparatus

Номер патента: US20190171135A1. Автор: Miho Ota,Tomohiro YODA. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2019-06-06.

Information processing system, information processing apparatus, and information processing method

Номер патента: US09898106B2. Автор: Akira Ogino,Ryota HAMABE. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Task processing method, processing apparatus, and computer system

Номер патента: US11941434B2. Автор: Wei Li,Tao MA,Xiong GAO,Hou Fun Lam. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-26.

Post-processing apparatus

Номер патента: US20230416033A1. Автор: Ryuji Sato. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2023-12-28.

Image processing apparatus, image processing method, image processing system, and storage medium

Номер патента: US20230230216A1. Автор: Yasuo Fukuda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-07-20.

Data processing apparatus and method

Номер патента: EP4401006A1. Автор: Ming Zheng,Tuanbao Fan,Linjian ZHANG,ChungKuei LEE. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-17.

Automated blueprint assembly for assembling an application

Номер патента: CA3230720A1. Автор: Abhijit Sharma,Neeran Karnik,Abhay GHASISAS. Владелец: BMC Software Inc. Дата публикации: 2013-10-03.

Automated blueprint assembly for assembling an application

Номер патента: CA2868848C. Автор: Abhijit Sharma,Neeran Karnik,Abhay GHASISAS. Владелец: BMC Software Inc. Дата публикации: 2024-04-09.

Automated blueprint assembly for assembling an application

Номер патента: WO2013148651A2. Автор: Abhijit Sharma,Neeran Karnik,Abhay GHASISAS. Владелец: BMC SOFTWARE, INC.. Дата публикации: 2013-10-03.

Automated blueprint assembly for assembling an application

Номер патента: US20150169298A1. Автор: Abhijit Sharma,Neeran Karnik,Abhay Ghaisas. Владелец: BMC Software Inc. Дата публикации: 2015-06-18.

Automated blueprint assembly for assembling an application

Номер патента: US20130263080A1. Автор: Abhijit Sharma,Neeran Mohan Karnik,Abhay Ghaisas. Владелец: BMC Software Inc. Дата публикации: 2013-10-03.

Automated blueprint assembly for assembling an application

Номер патента: EP2831724A2. Автор: Abhijit Sharma,Neeran Karnik,Abhay GHASISAS. Владелец: BMC Software Inc. Дата публикации: 2015-02-04.

Automated blueprint assembly for assembling an application

Номер патента: US09727315B2. Автор: Abhijit Sharma,Neeran Karnik,Abhay Ghaisas. Владелец: BMC Software Inc. Дата публикации: 2017-08-08.

Automated blueprint assembly for assembling an application

Номер патента: US09557969B2. Автор: Abhijit Sharma,Neeran Karnik,Abhay Ghaisas. Владелец: BMC Software Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Eyeglass lens processing apparatus

Номер патента: US09475242B2. Автор: Hirokatsu Obayashi,Motoshi Tanaka,Tadamasa Yamamoto. Владелец: Nidek Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-25.

Information processing apparatus

Номер патента: US09430112B2. Автор: Kenji TOKUTAKE. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2016-08-30.

Hybrid endofixator with an adjustable interbody element (versions) and a device for its adjustment and installation

Номер патента: RU2729182C1. Автор: Вадим Анатольевич Мануковский,Анатолий Владимирович Верещако,Дмитрий Анатольевич Травков,Юрий Юрьевич Киндюхин. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Северо-Западный государственный медицинский университет им. И.И. Мечникова" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2020-08-04.

Processing apparatus, processing method and related device

Номер патента: EP4318233A1. Автор: Meiling Wang,Zijing ZHANG,Lei Duan,Qiaoshi Zheng,Shaoxu XING. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-07.

Processing apparatus for processing water-containing organic matter, processing method and obtained powder body

Номер патента: CA3127533A1. Автор: Masahito Nakaishi. Владелец: Glencal Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-30.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20150356032A1. Автор: Tamotsu Takeuchi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2015-12-10.

Laser processing apparatus and laser processing method

Номер патента: US20240227074A1. Автор: Jun Yokoyama,Yohei Takechi. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Information processing apparatus and management method

Номер патента: US20230074854A1. Автор: Hiroyoshi Kodama,Hiroshi Endo,Takahide Yoshikawa. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2023-03-09.

Information processing system, information processing apparatus, and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US20200301634A1. Автор: Takuya Honda. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2020-09-24.

Laser processing apparatus, control method of laser processing apparatus, and control program of laser processing apparatus

Номер патента: US20200254560A1. Автор: Eiji Oshima. Владелец: Kantatsu Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-13.

Information processing apparatus, image forming apparatus, computer readable storage medium, and software update method

Номер патента: US20240256256A1. Автор: Daiki Takahashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Sheet binding processing apparatus and image forming system having the same

Номер патента: US9221291B2. Автор: Tatsuya Shimizu,Eiichi Kubo,Shin Tsugane. Владелец: Canon Finetech Inc. Дата публикации: 2015-12-29.

Information processing apparatus, control method of information processing apparatus, radiation imaging system, and storage medium

Номер патента: US20160061970A1. Автор: Hiroki Asai,Toshiya Ishioka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-03-03.

Information processing apparatus, control method of information processing apparatus, radiation imaging system, and storage medium

Номер патента: US9921319B2. Автор: Hiroki Asai,Toshiya Ishioka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-03-20.

Method for manufacturing a process apparatus and a process apparatus

Номер патента: US20170191166A1. Автор: Mari Lindgren,Paavo LAIHONEN. Владелец: Outotec Finland Oy. Дата публикации: 2017-07-06.

Fluid actuating apparatus and method for manufacturing a fluid actuating apparatus, and electrostatically-actuated fluid discharge apparatus and process for producing an electrostatically-actuated fluid discharge apparatus

Номер патента: US20050183950A1. Автор: Masanari Yamaguchi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2005-08-25.

Positioning apparatus, processing apparatus using the same, and positioning method and processing method using the same

Номер патента: US20150233819A1. Автор: Yong-gu Lee,Muhammad WALEED. Владелец: GWANGJU INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2015-08-20.

Data processing apparatus and method for data flow attestation

Номер патента: WO2024183879A1. Автор: Mahmoud Ammar,Ioan-Silviu VLASCEANU,Michele GRISAFI. Владелец: Huawei Technologies Co., Ltd.. Дата публикации: 2024-09-12.

Electrophotographic apparatus for developing an electrostatic latent image on a slide film

Номер патента: US4189226A. Автор: Masaru Onishi,Isao Yamaguchi,Noboru Katakabe. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1980-02-19.

Laser processing apparatus, method involving same, and object processed thereby

Номер патента: EP4406686A1. Автор: Jin Ha Kim,Byoung Chan CHOI,Ki Seok KANG. Владелец: Laserwall Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.

Method for providing control data for a laser of a processing apparatus, control device, computer program and computer-readable medium

Номер патента: US20240361751A1. Автор: Samuel Arba Mosquera. Владелец: Schwind Eye Tech Solutions GmbH. Дата публикации: 2024-10-31.

Information processing apparatus, control method of information processing apparatus, radiation imaging system, and storage medium

Номер патента: US09921319B2. Автор: Hiroki Asai,Toshiya Ishioka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-03-20.

Processing apparatus, process system, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09772914B2. Автор: Hiroyuki Yamaguchi,Tsuyoshi Honma,Takahiro Inagaki,Kiyoshi KOUGE. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Image processing apparatus, image processing method, and storage medium

Номер патента: US09703512B2. Автор: Yasunori Kanai. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-07-11.

Mineral material processing plant and a method for operating a processing plant

Номер патента: US09597690B2. Автор: Vesa-Matti Salminen,Jouni Koivumäki. Владелец: Metso Minerals Oy. Дата публикации: 2017-03-21.

Sheet processing apparatus and image forming system having the same

Номер патента: US09567183B2. Автор: Takuya Katayama,Daiki KOMIYAMA. Владелец: Canon Finetech Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Task processing apparatus and method including scheduling current and next-level task processing apparatus

Номер патента: US09519338B2. Автор: Xuefeng Du. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-13.

Data processing apparatus, printing apparatus, and data processing method

Номер патента: US09427997B2. Автор: Yukinori Nishikawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-08-30.

Information processing apparatus, information processing method, and non-transitory computer readable medium for determining whether authenticated state is maintained

Номер патента: US09424415B2. Автор: Yasuhiro Mori. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-23.

Production line for manufacture of a food extruded product and a method for production of a food extruded product

Номер патента: RU2723718C1. Автор: Николай Владимирович Семенякин. Владелец: Николай Владимирович Семенякин. Дата публикации: 2020-06-17.

Machine for equipment surface treatment, and a basket lift for the same

Номер патента: WO2013151482A1. Автор: Per Ovesen. Владелец: GS DEVELOPMENT AB. Дата публикации: 2013-10-10.

Paper processing apparatus and image forming apparatus

Номер патента: US20140054837A1. Автор: Takeshi Matsuo. Владелец: Kyocera Document Solutions Inc. Дата публикации: 2014-02-27.

Processing apparatus and processing module

Номер патента: EP2056204A3. Автор: Fuyuta c/o Fujitsu Kyushu Sato,Naoki c/o Fujitsu Kyushu Fukuda. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2009-12-30.

Method for controlling medium processing apparatus, method for controlling recording system, post-procesing apparatus, and recording system

Номер патента: US11498347B2. Автор: Atsushi Nakazawa. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2022-11-15.

Processing apparatus, processing method, and powder body

Номер патента: AU2020213054A1. Автор: Masahito Nakaishi. Владелец: Glencal Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-26.

Processing apparatus, processing method, and powder body

Номер патента: AU2020213054B2. Автор: Masahito Nakaishi. Владелец: Glencal Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Processing apparatus and method for controlling the same

Номер патента: US20150082254A1. Автор: Hiroshi Shimura,Shigeo Konuma,Shin OHBA,Ken Miyazaki,Takatsugu Kuno. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2015-03-19.

Processing apparatus and method for controlling the same

Номер патента: US9870117B2. Автор: Hiroshi Shimura,Shigeo Konuma,Shin OHBA,Ken Miyazaki,Takatsugu Kuno. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2018-01-16.

Information processing apparatus, terminal apparatus, and second terminal apparatus

Номер патента: CA3146984A1. Автор: Kunihiko Tanaka,Daisuke Hashimoto. Владелец: Kura Sushi Inc. Дата публикации: 2021-01-21.

Information processing apparatus, information processing method, and program to predict the quality of a product obtained by a process

Номер патента: EP4105936A3. Автор: Masataka Hasegawa,Takumi KOMIKAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-01-04.

Processing apparatus, operation method of processing apparatus, and non-transitory computer readable recording medium

Номер патента: US20230090535A1. Автор: Toshiharu Miyata,Norio Tanaka,Takeshi Fuse. Владелец: Nihon Shoryoku Kikai Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-23.

Processing method, program, processing apparatus, and detection system

Номер патента: US20190210608A1. Автор: Shinichi Shikii,Koichi KUSUKAME. Владелец: Panasonic Intellectual Property Corp of America. Дата публикации: 2019-07-11.

Speech signal processing apparatus, speech signal reproduction system and method for outputting a de-emotionalized speech signal

Номер патента: US20240169999A1. Автор: Jens-Ekkehart Appell,Jan Rennies-Hochmuth,Matthias Brucke. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 2024-05-23.

Information processing apparatus, method for identifying machine difference, and heat treatment apparatus

Номер патента: US20240256919A1. Автор: Masakazu Yamamoto,Hiroyuki Karasawa,Yusuke Tsuchiya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Processing apparatus

Номер патента: US20240217050A1. Автор: Toshio Mizuno,Yosuke Himori. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Method for controlling medium processing apparatus, method for controlling recording system, post-processing apparatus, and recording system

Номер патента: US11919295B2. Автор: Atsushi Nakazawa. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-03-05.

Method for controlling medium processing apparatus, method for controlling recording system, post-procesing apparatus, and recording system

Номер патента: US20230057313A1. Автор: Atsushi Nakazawa. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2023-02-23.

Information processing apparatus, information processing method, and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US20190354330A1. Автор: Kazushi Kaneshiro. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-21.

Image processing apparatus and control method thereof, processing module drive control method, and data processing apparatus

Номер патента: US7619757B2. Автор: Yoshinori Ito,Masami Tsunoda,Hideo Asahara,Toshihisa Okutsu,Toshiyuki Nakazawa,Masakazu Taneda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-11-17.

Sheet processing apparatus and image forming system provided with the sheet processing apparatus

Номер патента: US20210107308A1. Автор: Masahiro Maeda,Daiki KOMIYAMA,Akihiko Tsukui. Владелец: Canon Finetech Nisca Inc. Дата публикации: 2021-04-15.

Information processing apparatus, information processing method, and program

Номер патента: US20240273586A1. Автор: Shogo Kimura,Reiko KIRIHARA,Nao YAMATO. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-08-15.

Processing method for rewritable card and processing apparatus for the same

Номер патента: EP1004978A3. Автор: c/o Star Micronics Co. Ltd. Ozawa Masamitsu,Yoshikazu c/o Star Micronics Co. Ltd. Nishizawa,Masanari c/o Star Micronics Co. Ltd. Nakamura. Владелец: Star Micronics Co Ltd. Дата публикации: 2002-10-02.

Post-processing apparatus and image forming apparatus

Номер патента: US20140175729A1. Автор: Atsushi Tanonaka. Владелец: Kyocera Document Solutions Inc. Дата публикации: 2014-06-26.

Information processing system, information processing apparatus, and non-transitory computer readable medium storing program for saving resource of information processing apparatus

Номер патента: US12061725B2. Автор: Satoshi Watanabe,Masato Sugii,Hiroshige NONAKA. Владелец: FUJIFILM BUSINESS INNOVATION CORP. Дата публикации: 2024-08-13.

Information processing apparatus, information processing method, and program

Номер патента: US20120254898A1. Автор: Hiroaki Nakata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-10-04.

Image processing apparatus, radiography system, image processing method, and image processing program

Номер патента: US12073558B2. Автор: Daiki Harada. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Information processing apparatus, information processing method, and food preservation apparatus

Номер патента: US20220171837A1. Автор: Mari IKENAGA. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2022-06-02.

Method of determining whether or not result of processing process of laser processing apparatus is acceptable

Номер патента: US20210060697A1. Автор: Hiroki Takeuchi,Masanobu Takenaka,Yukito Akutagawa. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2021-03-04.

Sheet processing apparatus and image forming system incorporating the sheet processing apparatus

Номер патента: US20210039904A1. Автор: Keisuke Sugiyama. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2021-02-11.

System For Monitoring Foreign Particles, Process Processing Apparatus And Method Of Electronic Commerce

Номер патента: US20120002196A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

A kind of electrostatic chuck controlling loaded substrate temperature and plasma processing apparatus

Номер патента: CN103165381B. Автор: 凯文·佩尔斯. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc Shanghai. Дата публикации: 2016-08-24.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120000886A1. Автор: NISHINO Masaru,HONDA Masanobu,Kubota Kazuhiro,Ooya Yoshinobu. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

MASS FLOW CONTROL SYSTEM, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND FLOW CONTROL METHOD

Номер патента: US20120000607A1. Автор: ETO Hideo,Ito Atsushi. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120000774A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120000629A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM HAVING INFORMATION PROCESSING PROGRAM STORED THEREIN, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120001944A1. Автор: SAKURAI Masahiro,Machino Taichi,Ikeda Teppei. Владелец: NINTENDO CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM HAVING INFORMATION PROCESSING PROGRAM STORED THEREIN, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120004017A1. Автор: . Владелец: NINTENDO CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

COMMUNICATION APPARATUS, COMMUNICATION SYSTEM, COMMUNICATION METHOD, AND A COMPUTER-READABLE MEDIUM

Номер патента: US20120002565A1. Автор: AMANO Katsuhiro. Владелец: BROTHER KOGYO KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR SELECTING AND ARRANGING PROGRAM REPRESENTATIVES AND A COOKING DEVICE THEREFOR

Номер патента: US20120003364A1. Автор: Kling Judith,Greiner Michael,Wiedemann Peter,Juergens-Heinersdorff Andre,Seemueller Simon,Klimm Karin. Владелец: Rational AG. Дата публикации: 2012-01-05.

THREADED ELEMENT, SCREW WITH THREADED ELEMENT, INSTALLATION METHOD THEREFORE AND A COMPONENT WITH INSTALLED THREADED ELEMENT

Номер патента: US20120000062A1. Автор: Marxkors Andreas,Tovar Francisco,Dorr Ralf. Владелец: Bollhoff Verbindungstechnik GmbH. Дата публикации: 2012-01-05.

POWER SUPPLYING MEANS HAVING SHIELDING MEANS FOR FEEDING LINE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20120000609A1. Автор: DO Jae-Chul,JEON Bu-Il,SONG Myung-Gon,LEE Jung-Rak. Владелец: JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

MAP INFORMATION PROCESSING APPARATUS, MAP INFORMATION PROCESSING METHOD, MAP INFORMATION PROCESSING PROGRAM AND RECORDING MEDIUM

Номер патента: US20120001936A1. Автор: Kurata Tetsuya,Fukuhara Wazo. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

VIDEO PROCESSING APPARATUS AND CONTROL METHOD THEREOF

Номер патента: US20120002013A1. Автор: Asanuma Tomoya. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120002071A1. Автор: Nishiyama Tomohiro. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, SIGNAL PROCESSING APPARATUS, AND PROGRAM

Номер патента: US20120002074A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, RADIATION IMAGING SYSTEM, IMAGE PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM STORING A PROGRAM

Номер патента: US20120002083A1. Автор: Machida Yoshihito. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002085A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

Image processing apparatus, computer program product, and preview image displaying method

Номер патента: US20120002231A1. Автор: MANO Hiroko,SAKAYORI Tetsuya,YANO Takashi,TAKAMI Junichi,SAEKI Iwao,SAKURAMATA Yoshifumi,NAGAHARA Takanori,SHIDA Haruo. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, METHOD OF PROCESSING IMAGE, AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM

Номер патента: US20120002879A1. Автор: . Владелец: OLYMPUS CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE TRANSFER METHOD ADOPTED IN SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120004753A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

GRAPHICS PROCESSING UNIT AND INFORMATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120001930A1. Автор: Hachiya Koji,Iwaki Tsutomu. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS AND IMAGE FILE MANAGEMENT METHOD

Номер патента: US20120002077A1. Автор: Inagaki Kensuke. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, IMAGE PROCESSING PROGRAM, AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002010A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, DISPLAY CONTROL METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002232A1. Автор: Inui Masanobu. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR OPTIMIZING MAINTENANCE AND OTHER OPERATIONS OF FIELD DEVICES IN A PROCESS CONTROL SYSTEM USING USER-DEFINED DEVICE CONFIGURATIONS

Номер патента: US20120004743A1. Автор: . Владелец: HONEYWELL INTERNATIONAL INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, STAGE-UNDULATION CORRECTING METHOD, PROGRAM THEREFOR

Номер патента: US20120002032A1. Автор: Sakagami Junichi,Narusawa Ryu,Hirono Yu. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE STAGE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120000612A1. Автор: Muraki Yusuke,ODAGIRI Masaya,FUJIHARA Jin. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM STORING IMAGE TRANSMISSION PROGRAM, AND COMPUTER-READABLE NON TRANSITORY STORAGE MEDIUM STORING IMAGE DISPLAY PROGRAM

Номер патента: US20120002715A1. Автор: Matsui Kazuki,HORIO Kenichi,IMAI Tomoharu. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002900A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, IMAGE PROCESSING METHOD, AND COMPUTER-READABLE ENCODING MEDIUM ENCODED WITH A COMPUTER PROGRAM

Номер патента: US20120002225A1. Автор: KIMURA Takashi,Hirano Masanori,Yoshida Masakazu,MURAI Hironobu. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

TRANSCEIVER AND A REPEATER

Номер патента: US20120003926A1. Автор: . Владелец: TELEFONAKTIEBOLAGET L M ERICSSON (PUBL). Дата публикации: 2012-01-05.

Arc-resistant electrostatic chucks and arc-reducing plugs for electrostatic chucks

Номер патента: WO2024186529A1. Автор: Alexander Matyushkin,Darrell EHRLICH,Eric SAMULON,Keith Comendant. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-09-12.

CONFINEMENT GROUP FOR A PLATE HEAT EXCHANGER, A METHOD OF OBTAINING SUCH AN EXCHANGER, AND A METHOD OF ABSORBING STRESS IN A CONFINEMENT GROUP FOR PACK-TYPE PLATE HEAT EXCHANGERS

Номер патента: US20120000638A1. Автор: CIPRIANI Luca. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Measuring device with a measuring section and a reference section

Номер патента: US20120001792A1. Автор: DINGLER Peter,Halder Dipl.-Ing. Ernst. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

COMMUNICATION APPARATUS, COMMUNICATION METHOD, AND A COMPUTER-READABLE MEDIUM

Номер патента: US20120002566A1. Автор: . Владелец: BROTHER KOGYO KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF ADJUSTING SPEED AND/OR ROUTING OF A TABLE MOVEMENT PLAN AND A LITHOGRAPHIC APPARATUS

Номер патента: US20120003381A1. Автор: Li Hua,Van Den Nieuwelaar Norbertus Josephus Martinus,GROUWSTRA Cedric Desire,JOCHEMSEN Marinus,KEMPER Nicolaas Rudolf,DE VRIES Dirk. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2012-01-05.

Microwave Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120000610A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS FOR SEPARATING A FEED MATERIAL DERIVED FROM A PROCESS FOR RECOVERING BITUMEN FROM OIL SANDS

Номер патента: US20120000831A1. Автор: Moran Kevin,Doiron Jacques. Владелец: Titanium Corporation Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120001937A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, METHOD, AND PROGRAM THAT CLASSIFIES DATA OF IMAGES

Номер патента: US20120002878A1. Автор: . Владелец: CASIO COMPUTER CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

CAMERA AND IMAGE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120002076A1. Автор: . Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

SUSTAINED RELEASE DRUG DELIVERY SYSTEMS COMPRISING A WATER SOLUBLE THERAPEUTIC AGENT AND A RELEASE MODIFIER

Номер патента: US20120003230A1. Автор: Trogden John T.,Lyons Robert T.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.