Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Plasma processing method and plasma processing apparatus

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09484180B2
Опубликовано: 01-11-2016
Автор(ы): Manabu Iwata, Yasuharu Sasaki
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09478387B2. Автор: Akira Tanabe,Yoshinobu Ooya,Yoshinori Yasuta. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-25.

Plasma processing method

Номер патента: US09953811B2. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09583314B2. Автор: Hitoshi Tamura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Methods and arrangements for plasma processing system with tunable capacitance

Номер патента: US20090223810A1. Автор: Rajinder Dhindsa,Alexei Marakhtanov. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-09-10.

Methods and arrangements for plasma processing system with tunable capacitance

Номер патента: WO2009006072A3. Автор: Rajinder Dhindsa,Alexei Marakhtanov. Владелец: Alexei Marakhtanov. Дата публикации: 2009-03-05.

Method and apparatus for DC voltage control on RF-powered electrode

Номер патента: US09536711B2. Автор: Eric Hudson,Andreas Fischer,Rajinder Dhindsa,Alexei Marakhtanov,Maryam Moravej. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-01-03.

Method and system for plasma processing arc suppression

Номер патента: US20230141067A1. Автор: Anthony Oliveti. Владелец: Comet Technologies USA Inc. Дата публикации: 2023-05-11.

Method and System for Plasma Processing

Номер патента: US20240347317A1. Автор: Qiang Wang,Alok Ranjan,Michael Hummel,Mitsunori Ohata,Peter Lowell George Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Plasma processing system and method and electrode plate of plasma processing system

Номер патента: EP1569268A1. Автор: Akira c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED KOSHIISHI,Jun c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED HIROSE,M. c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED OGASAWARA,Taichi c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED HIRANO,Hiromitsu c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED SASAKI,Tetsuo c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED YOSHIDA,Michishige c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED SAITO,Hiroyuki c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED ISHIHARA,Jun c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED OOYABU,Kohji c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED NUMATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2005-08-31.

Method and system for plasma processing arc suppression

Номер патента: US11972928B2. Автор: Anthony Oliveti. Владелец: Comet Technologies USA Inc. Дата публикации: 2024-04-30.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20110240599A1. Автор: Masanobu Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-10-06.

Plasma processing apparatus and plasma processing method using the same

Номер патента: US20230124857A1. Автор: Jong Won Park,Yoon Seok Choi,Sang Jeong Lee,Soon Cheon Cho,Hyun Woo Jo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-20.

Plasma processing method

Номер патента: US09818582B2. Автор: Shigeru Senzaki,Hiroshi Tsujimoto,Keigo TOYODA,Nobutaka Sasaki,Takanori BANSE,Hiraku MURAKAMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09966233B2. Автор: Hidetoshi Hanaoka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Atmospheric-pressure plasma processing apparatus for substrates

Номер патента: US09892907B2. Автор: Wenbin Hu,Wentong HUANG. Владелец: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Voltage waveform generator, wafer processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US12002651B2. Автор: Hyejin Kim,Chanhee Park,Hyunbae Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4451310A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Hyen Woo Chu. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-10-23.

Method and apparatus for processing a workpiece with a plasma

Номер патента: US20040219737A1. Автор: Bill Quon. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2004-11-04.

Pulsed voltage plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20240145215A1. Автор: Shreeram Jyoti DASH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4451311A1. Автор: Kwang Sung Yoo. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-10-23.

Pulsed voltage plasma processing apparatus and method

Номер патента: WO2024091280A1. Автор: Shreeram Jyoti DASH. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-02.

Controlling ion energy distribution in plasma processing systems

Номер патента: US09887069B2. Автор: Eric Hudson,Andreas Fischer. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-06.

Method and apparatus for inspecting process performance for use in a plasma processing apparatus

Номер патента: US20080174324A1. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-07-24.

Plasma processing apparatus and upper electrode assembly

Номер патента: US09941101B2. Автор: Shin Matsuura,Jun Young Chung. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09805916B2. Автор: Hiroo Konno,Shunsuke Kadooka. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Helical resonator type plasma processing apparatus

Номер патента: EP1530230A3. Автор: Dae-Il 204-1401 Ohyun Jugong Apr Kim,Gook-yoon A-201 Geumgang Villa Kim,Dong-joon 6-1108 Plaza Apt Ma,Sung-Kyo Wellrich 206 242-2 Jung-ri Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-06-07.

Plasma processing device and method of monitoring plasma discharge state in plasma processing device

Номер патента: US20100176085A1. Автор: Kiyoshi Arita,Masaru Nonomura,Tatsuhiro Mizukami. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2010-07-15.

Electrode orientation and parallelism adjustment mechanism for plasma processing systems

Номер патента: US20120291954A1. Автор: James E. Tappan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2012-11-22.

Electrode orientation and parallelism adjustment mechanism for plasma processing systems

Номер патента: WO2009100288A2. Автор: James E. Tappan. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2009-08-13.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20110174440A9. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-07-21.

System, method and apparatus for RF power compensation in a plasma processing system

Номер патента: US09508529B2. Автор: Henry Povolny,John C. Valcore, JR.. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Voltage waveform generator for ion energy control in plasma processing

Номер патента: NL2033565B1. Автор: Lemmen Erik,YU Qihao,Joannes Daniël Vermulst Bastiaan. Владелец: Prodrive Tech Innovation Services B V. Дата публикации: 2024-05-30.

Method and apparatus for preventing arcing at ports exposed to a plasma in plasma processing chambers

Номер патента: SG144071A1. Автор: Daniel John Hoffman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2008-07-29.

Atmospheric plasma processing method and atmospheric plasma processing apparatus

Номер патента: US20230253194A1. Автор: Akihisa Yoshida. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-08-10.

Method and system for data handling, storage and manipulation

Номер патента: WO2003102724A3. Автор: James Willis. Владелец: James Willis. Дата публикации: 2004-06-10.

Plasma processing system and method using radio frequency and microwave power

Номер патента: US12131887B2. Автор: Yunho Kim,Yanxiang Shi,Mingmei Wang. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Exhaust method and exhaust apparatus, plasma processing method and plasma processing apparatus using the same

Номер патента: JP2942239B2. Автор: 伸昌 鈴木. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-08-30.

Plasma processing apparatus and abnormal discharge control method

Номер патента: US20230060329A1. Автор: Takehiro Tanikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-03-02.

Microwave plasma processing device and gate valve for microwave plasma processing device

Номер патента: US20080006371A1. Автор: CAI Tian,Hideki Nagaoka,Masakazu Ban,Sunao Muraoka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-01-10.

Microwave plasma processing device and gate valve for microwave plasma processing device

Номер патента: US20110265952A1. Автор: Hideki Nagaoka,Masakazu Ban,Sunao Muraoka,Cai Zhong Tian. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-11-03.

Substrate processing apparatus and method for aligning ring member

Номер патента: US20230386798A1. Автор: Masafumi Urakawa,Shinya Morikita,Mohd Fairuz BIN BUDIMAN. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Autonomous operation of plasma processing tool

Номер патента: US20230352282A1. Автор: Alok Ranjan,Jun Shinagawa,Chungjong Lee,Masaki Kitsunezuka,Toshihiro KITAO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Plasma processing with radio frequency (rf) source and bias signal waveforms

Номер патента: WO2023064031A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Yun Han,Barton Lane,Zhiying Chen. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2023-04-20.

Plasma processing system and method using radio frequency (RF) and microwave power

Номер патента: US11887815B2. Автор: Yunho Kim,Yanxiang Shi,Mingmei Wang. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Maintenance method and system for plasma processing apparatus etching and apparatus

Номер патента: US6745096B2. Автор: Toshio Masuda,Junichi Tanaka,Hideyuki Yamamoto,Akira Kagoshima,Shoji Ikuhara. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2004-06-01.

Plasma processing system and method and electrode plate of plasma processing system

Номер патента: KR100642157B1. Автор: 히로미츠 사사키,마사히로 오가사와라,아키라 고시이시,준 히로세,다이치 히라노,데츠오 요시다,미치시게 사이토,히로유키 이시하라,준 오오야부,고지 누마타. Владелец: 동경 엘렉트론 주식회사. Дата публикации: 2006-11-10.

Method and apparatus for plasma processing apparatus

Номер патента: US6172321B1. Автор: Tetsunori Kaji,Ken Yoshioka,Manabu Edamura,Saburou Kanai,Ryoji Nishio. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2001-01-09.

Method and apparatus for plasma processing of surfaces

Номер патента: EP1094130A3. Автор: Johannes Voigt,Jeanne Forget-Funk. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2002-08-14.

Control method and inductively coupled plasma processing device Capable of controlling plasma density with higher precision

Номер патента: TW202215527A. Автор: 佐野僚,山科伊作. Владелец: 日商東京威力科創股份有限公司. Дата публикации: 2022-04-16.

Plasma processing system and method, and computer-readable storage medium

Номер патента: JP2011049592A. Автор: 直樹 松本,勝 杉本,Masashi Saito,Manabu Sato,Masaru Sugimoto,Hidetoshi Hanaoka,Naoki Matsumoto,Akira Koshiishi,Noriyuki Kobayashi,Yoshinobu Oya,学 佐藤,陽平 山澤,地塩 輿水,公 輿石,利泰 速水,昌司 斉藤,Manabu Iwata,典之 小林,Hiroki Yamazaki,広樹 山崎,Chishio Koshimizu,学 岩田,Kunihiko Hiuga,邦彦 日向,Ryuji Otani,竜二 大谷,Kazuo Kibi,和雄 吉備,欣伸 大矢,Daisuke Yano,大介 矢野,Yohei Yamazawa,秀敏 花岡,Toshiyasu Hayami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-03-10.

METHODS AND SYSTEMS FOR PLASMA PROCESSING TOOL MATCHING AFTER PREVENTATIVE MAINTENANCE

Номер патента: US20210050191A1. Автор: Shinagawa Jun,IDE Shinji,Otake Hiroto,Usami Kenichi,Kiyofuji Norihisa. Владелец: . Дата публикации: 2021-02-18.

METHOD AND APPARATUS FOR PLASMA PROCESSING

Номер патента: US20200075293A1. Автор: RANJAN ALOK,Ventzek Peter. Владелец: . Дата публикации: 2020-03-05.

METHOD AND APPARATUS FOR PLASMA PROCESSING

Номер патента: US20150170880A1. Автор: ONO Tetsuo,Ohgoshi Yasuo,MUTO Satoru,EITOKU Hirofumi. Владелец: . Дата публикации: 2015-06-18.

Methods and apparatus for plasma processing

Номер патента: AU2001265093A1. Автор: Jason F. Elston,Russell F. Jewett. Владелец: Russell F. Jewett. Дата публикации: 2001-12-11.

Method and System for Plasma Process Control Using Smart Sensor

Номер патента: KR102335854B1. Автор: 김영우,송미영,김종식,김용현,김대철,윤정식,송중호,조기환,한덕선. Владелец: 한국핵융합에너지연구원. Дата публикации: 2021-12-06.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: US20040028837A1. Автор: Steven Fink. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2004-02-12.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: US7135089B2. Автор: Tomohiro Okumura,Ichiro Nakayama. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2006-11-14.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: US11688586B2. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-27.

Methods and apparatus for plasma processing

Номер патента: WO2001093315A3. Автор: Russell F Jewett,Jason F Elston. Владелец: Jason F Elston. Дата публикации: 2002-03-21.

Plasma process chamber monitoring method and system used therefor

Номер патента: US20030085662A1. Автор: Young-Suk Lee,Gi-Chung Kwon,Hong-Sik Byun. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2003-05-08.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: CN1102801C. Автор: 奥村智洋,中山一郎. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2003-03-05.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: US20070037408A1. Автор: Kunihide Tachibana,Ryouji Inoue. Владелец: Hitachi Metals Ltd. Дата публикации: 2007-02-15.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: GB2598936B. Автор: Howe Thomas,Seymour John-Mark. Владелец: Haydale Graphene Industries PLC. Дата публикации: 2023-10-18.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: TW498386B. Автор: Dmitry Lubomirsky. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-08-11.

LIFT PIN ALIGNMENT METHOD AND ALIGNMENT APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20210028052A1. Автор: Kim Minsung,Kim Joohee,Yoon Bora,SO Jinho,KIM Keonwoo,KIM Eultae. Владелец: . Дата публикации: 2021-01-28.

SUBSTRATE PROCESSING METHOD, GAS FLOW EVALUATION SUBSTRATE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20210257197A1. Автор: Hirose Jun,MATSUDA Risako. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2021-08-19.

Plasma processing apparatus, information processing apparatus, plasma processing method, and correction method

Номер патента: US20240194451A1. Автор: Taro Hayakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09660182B2. Автор: Takashi Sone,Eiichi Nishimura,Fumiko Yamashita,Masato Kushibiki,Daisuke Urayama,Nao Koizumi,Wataru Kume. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and storage medium

Номер патента: US9299540B2. Автор: Tatsuya Ogi,Kimihiro Fukasawa,Kazuhiro Kanaya,Wataru Ozawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-03-29.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and storage medium

Номер патента: US8864934B2. Автор: Tatsuya Ogi,Kimihiro Fukasawa,Kazuhiro Kanaya,Wataru Ozawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-10-21.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12033832B2. Автор: Shinji Kubota,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220028665A1. Автор: Koji Maruyama,Kazunobu Fujiwara,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Koichi Nagami,Takashi Dokan,Tatsuro Ohshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-01-27.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09831096B2. Автор: Tsutomu Iida,Yuuzou Oohirabaru,Hiromitsu TERAUCHI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-28.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240234113A1. Автор: Jun Tamura,Takari YAMAMOTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09870898B2. Автор: Koichi Nagami,Masafumi Urakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20040159639A1. Автор: Hideyuki Yamamoto,Tetsuo Ono,Katsumi Setoguchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-19.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321562A1. Автор: Yoshihide Kihara,Nobuyuki Fukui,Maju TOMURA,Koki MUKAIYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Plasma Measuring Method and Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20240290589A1. Автор: Mitsutoshi ASHIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US09741538B2. Автор: Tomohiro Okumura,Satoshi Suemasu. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-22.

Plasma processing apparatus, plasma processing method and high frequency generator

Номер патента: US09418822B2. Автор: Naoki Matsumoto,Hideo Kato,Koji Koyama,Kiyotaka Ishibashi,Kazushi Kaneko,Kazunori Funazaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-16.

Plasma measurement method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240274417A1. Автор: Mitsutoshi ASHIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240355584A1. Автор: Masahiro Inoue,Chishio Koshimizu,Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12057294B2. Автор: Masahiro Inoue,Chishio Koshimizu,Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Plasma Processing Method

Номер патента: US20080216865A1. Автор: Masamichi Sakaguchi,Yasuhiro Nishimori,Satoshi Une,Yutaka Kudou,Masunori Ishihara. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-09-11.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20060027324A1. Автор: Takashi Kaneko,Akitaka Makino,Koichi Mishima,Toyoharu Okumoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2006-02-09.

Plasma processing with independent temperature control

Номер патента: US20240304422A1. Автор: WEI Liu,Lily Huang,Sandip Niyogi,Dileep Venkata Sai VADLADI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-12.

Plasma processing device, plasma processing method and manufacturing method of electronic device

Номер патента: US09978593B2. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20060021700A1. Автор: Hideo Kitagawa,Nobumasa Suzuki,Shinzo Uchiyama,Yusuke Fukuchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-02-02.

Atmospheric pressure plasma generating method, plasma processing method and component mounting method using same, and device using these methods

Номер патента: WO2007142166A2. Автор: Kazuhiro Inoue,Hiroyuki Tsuji. Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2007-12-13.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20090275209A1. Автор: Hideo Kitagawa,Nobumasa Suzuki,Shinzo Uchiyama,Yusuke Fukuchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-11-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20060081559A1. Автор: Tetsuji Sato,Koji Miyata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-04-20.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20200126770A1. Автор: Koji Maruyama,Kazunobu Fujiwara,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Koichi Nagami,Takashi Dokan,Tatsuro Ohshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20090001052A1. Автор: Takashi Kaneko,Akitaka Makino,Koichi Mishima,Toyoharu Okumoto. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-01-01.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20240212992A1. Автор: Kiho Lee,Junghyun Cho,Sangho Lee,Sangheun LEE,Sangki NAM,Seoyeon CHOI,Kuihyun YOON,Changheon Lee,Jaemin Rhee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-27.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240266201A1. Автор: Shogo Okita,Minghui Zhao,Toshiyuki TAKASAKI. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09659754B2. Автор: Yoshio SUSA,Naoki Matsumoto,Jun Yoshikawa,Peter L. G. Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09859101B2. Автор: Shinji Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Antenna, dielectric window, plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09595425B2. Автор: Naoki Matsumoto,Jun Yoshikawa,Osamu Morita,Kiyotaka Ishibashi,Kazuki Moyama,Wataru Yoshikawa,Takehiro Tanikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20040040507A1. Автор: Muneo Furuse,Masanori Kadotani,Motohiko Yoshigai,Susumu Tauchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2004-03-04.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US5243259A. Автор: Junji Sato,Kazuo Suzuki,Takuya Fukuda,Satoru Todoroki,Shunichi Hirose. Владелец: Hitachi Engineering and Services Co Ltd. Дата публикации: 1993-09-07.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20230230815A1. Автор: Minsung Kim,Sungyeol KIM,Hosun Yoo,Jinyeong Yun,Jang-Yeob LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09583313B2. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09566821B2. Автор: Ryoji Nishio,Takamasa ICHINO,Shinji OBAMA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Monitoring method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240006163A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Jun Sato,Takashi Chiba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09502215B2. Автор: Hitoshi Kato,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Shigehiro Miura,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Method of controlling plasma processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240055229A1. Автор: Jung Hwan Lee,Min Keun Bae,Aixian Zhang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Plasma processing apparatus, electrostatic chuck, and plasma processing method

Номер патента: US20240258078A1. Автор: Takahiko Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20200402809A1. Автор: Yasushi Sonoda. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-12-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12136535B2. Автор: Koichi Nagami,Tatsuro Ohshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-05.

Method and apparatus for ESC charge control for wafer clamping

Номер патента: US09530626B2. Автор: Takashi Enomoto,Yoshio Ishikawa,Alok Ranjan,Sergey A. Voronin,Jason MARION,Sonam SHERPA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20200279719A1. Автор: Norihiko Ikeda,Koichi Yamamoto,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-09-03.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20190088452A1. Автор: Norihiko Ikeda,Koichi Yamamoto,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US10699884B2. Автор: Norihiko Ikeda,Koichi Yamamoto,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-06-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11990316B2. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-05-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12087552B2. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-09-10.

Apparatus and method for plasma processing high-speed semiconductor circuits with increased yield

Номер патента: US20020025686A1. Автор: Kazue Takahashi,Ken Yoshioka,Saburou Kanai,Yutaka Ohmoto,Hironobu Kawahara. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2002-02-28.

Apparatus and method for plasma processing high-speed semiconductor circuits with increased yield

Номер патента: US20020023716A1. Автор: Kazue Takahashi,Ken Yoshioka,Saburou Kanai,Yutaka Ohmoto,Hironobu Kawahara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-02-28.

Dipole ring magnet assisted microwave radial line slot antenna plasma processing method and apparatus

Номер патента: US09852893B2. Автор: Lee Chen,Merritt Funk,Jianping Zhao,Demetre J. Economou. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Inductively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US09543121B2. Автор: Kazuo Sasaki,Toshihiro Tojo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12125676B2. Автор: Ken Kobayashi,Takahiro Takeuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Feedforward temperature control for plasma processing apparatus

Номер патента: US09338871B2. Автор: Kartik Ramaswamy,Douglas A. Buchberger, Jr.,Sergio Fukuda Shoji,Hamid Noorbakhsh,Chunlei Zhang,Shane C. NEVIL,Walter R. Merry,Duy D. Nguyen,Brad L. MAYS,Chetan MAHADESWARASWAMY,Fernando M. SILVEIRA,Yashaswini B. PATTAR,Tina TSONG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-05-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240249922A1. Автор: Ryota Sakane. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Plasma processsing method and apparatus thereof

Номер патента: US20020047541A1. Автор: Tomohiro Okumura,Izuru Matsuda,Yukihiro Maegawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-04-25.

High density plasma processing apparatus

Номер патента: WO2020039185A1. Автор: Michael Thwaites,Peter HOCKLEY. Владелец: Dyson Technology Limited. Дата публикации: 2020-02-27.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240087849A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12094690B2. Автор: Koki HIDAKA,Hiroya Ogawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing apparatus and operational method thereof

Номер патента: US09767997B2. Автор: Masahito Togami,Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kosa Hirota. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-09-19.

Biasing system for a plasma processing apparatus

Номер патента: US20140106571A1. Автор: Richard M. White,Bon-Woong Koo. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2014-04-17.

Methods and apparatus for dual confinement and ultra-high pressure in an adjustable gap plasma chamber

Номер патента: EP2380412A2. Автор: Eric Hudson,Andreas Fischer. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2011-10-26.

Methods and apparatus for dual confinement and ultra-high pressure in an adjustable gap plasma chamber

Номер патента: WO2010080420A2. Автор: Eric Hudson,Andreas Fischer. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2010-07-15.

Plasma process apparatus

Номер патента: US09887068B2. Автор: Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09589771B2. Автор: Mitsunori Ohata,Yuki Hosaka,Naokazu FURUYA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-07.

Methods and apparatus for dual confinement and ultra-high pressure in an adjustable gap plasma chamber

Номер патента: US09548186B2. Автор: Eric Hudson,Andreas Fischer. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-01-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20090151638A1. Автор: Masaki Sugiyama,Toshiki Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-06-18.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240186113A1. Автор: Hiroshi Kondo,Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Plasma processing apparatus and plasma control method

Номер патента: US20240203692A1. Автор: Osamu Sakai,Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Taro Ikeda,Shin Oowada,Kazushi Kaneko,Masaaki Matsukuma. Владелец: University of Shiga Prefecture. Дата публикации: 2024-06-20.

Method and apparatus for the detection of arc events during the plasma processing of a wafer, surface of substrate

Номер патента: US09842726B2. Автор: Paul Maguire,Stephen Daniels,Shane Glynn,Felipe Soberon. Владелец: Verity Instruments Inc. Дата публикации: 2017-12-12.

Inductively coupled plasma source for plasma processing

Номер патента: US09653264B2. Автор: Dongsoo Lee,Andreas Kadavanich,Vladimir Nagorny. Владелец: Mattson Technology Inc. Дата публикации: 2017-05-16.

Method and device for the reduction of contaminants in a plasma reactor, especially contamination by lubricants

Номер патента: US20210183640A1. Автор: Edward Reszke,Grzegorz Binkiewicz,Ihar Yelkin. Владелец: Plasma Investment Sp Z OO. Дата публикации: 2021-06-17.

Method and device for the reduction of contaminants in a plasma reactor, especially contamination by lubricants

Номер патента: EP3841604A1. Автор: Edward Reszke,Grzegorz Binkiewicz,Ihar Yelkin. Владелец: Plasma Investment Sp Z OO. Дата публикации: 2021-06-30.

Plasma processing apparatus and liner assembly for tuning electrical skews

Номер патента: WO2012012200A1. Автор: Shahid Rauf,Kenneth S. Collins,James D. Carducci,Zhigang Chen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-26.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190088453A1. Автор: Koichi Yamamoto,Motohiro Tanaka,Naoki Yasui,Yasushi Sonoda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Plasma processing apparatus and processing method

Номер патента: US12125679B2. Автор: Masahiro Inoue,Shoichiro Matsuyama,Chishio Koshimizu,Gen Tamamushi,Yuto Kosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09805915B2. Автор: Ryoji Nishio,Masaharu Gushiken,Megumu Saitou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09734992B2. Автор: Norikazu Yamada,Koichi Nagami,Koji Itadani,Toshifumi Tachikawa,Satoru Hamaishi. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09574270B2. Автор: Jun Yoshikawa,Michitaka AITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Filter circuit and plasma processing apparatus

Номер патента: US12033833B2. Автор: Koji Yamagishi,Koichi Nagami,Yuji AOTA,Kota ISHIHARADA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Restoration apparatus and restoration method for plasma processing apparatus

Номер патента: US20190385818A1. Автор: Hiroyuki Mizuno. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-12-19.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20200161090A1. Автор: Jun Yoshikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-21.

Plasma processing method of semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US20110250758A1. Автор: Ki-sang Kim,Jong-Bum Kim,In-Joong Kim,Hyun-Su JUN,Seung-Heong Lee,Min-Woung Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2011-10-13.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12094697B2. Автор: Kazuki Takahashi,Toshimasa Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321559A1. Автор: Satoshi Taga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Plasma processing apparatus and monitoring device

Номер патента: US12106948B2. Автор: Hiroki Endo,Ken Hirano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Plasma Processing Apparatus and Plasma Control Method

Номер патента: US20240339304A1. Автор: Satoru Kawakami,Kazushi Kaneko,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Plasma processing apparatus and waveform correction method

Номер патента: US09934947B2. Автор: Shinji Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-03.

Method and system for high precision etching of substrates

Номер патента: US09881804B2. Автор: Merritt Funk,Jianping Zhao. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09779919B2. Автор: Kenetsu Yokogawa,Masahito Mori,Takao Arase,Takamasa ICHINO,Yuusuke Takegawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Plasma processing device and plasma processing method

Номер патента: US09691593B2. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20110273094A1. Автор: Hiroshi Haji,Kiyoshi Arita,Masaru Nonomura. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2011-11-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12014903B2. Автор: Kohei Sato,Motohiro Tanaka,Takahiro Sakuragi,Tetsuo Kawanabe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-18.

Plasma processing apparatus and assembly method of resonator array structure

Номер патента: US20240186114A1. Автор: Hiroshi Kondo,Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Shin Oowada,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Method and apparatus for predicting plasma-process surface profiles

Номер патента: WO1999045567A1. Автор: Richard A. Gottscho,Vahid Vahedi,Maria E. Barone. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1999-09-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing coil

Номер патента: US20220108871A1. Автор: Naoki Fujiwara,Yohei Yamazawa,Takehisa SAITO,Daisuke Kurashina,Kaori Fujiwara,Yuki Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-04-07.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20240212997A1. Автор: Pei-Yu Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Acoustic energy utilization in plasma processing

Номер патента: WO2013151898A1. Автор: Ian J. Kenworthy,Daniel A. Brown,Cliff E. LA CROIX,Josh A. CORMIER. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2013-10-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09627181B2. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US09490105B2. Автор: Masashi Saito,Manabu Sato,Masaru Sugimoto,Hidetoshi Hanaoka,Naoki Matsumoto,Akira Koshiishi,Noriyuki Kobayashi,Manabu Iwata,Hiroki Yamazaki,Chishio Koshimizu,Kazuo Kibi,Daisuke Yano,Yohei Yamazawa,Toshihiro Hayami,Kunihiko Hinata,Ryuji Ohtani,Yoshinobu Ohya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US8450933B2. Автор: Hiroshi Haji,Kiyoshi Arita,Masaru Nonomura. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2013-05-28.

Method and apparatus for monitoring a plasma in a material processing system

Номер патента: EP1579470A2. Автор: James E. Klekotka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2005-09-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240242937A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Method for processing workpiece, plasma processing apparatus and semiconductor device

Номер патента: US12009220B2. Автор: FEI Yu,Junliang Li,Mengyang Xin. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Method for processing workpiece, plasma processing apparatus and semiconductor device

Номер патента: US20240355634A1. Автор: FEI Yu,Junliang Li,Mengyang Xin. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Plasma processing method

Номер патента: US09455153B2. Автор: Genki Koguchi,Akio Morisaki,Yukinori Hanada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-27.

Improved methods and apparatus for controlled partial ashing in a variable-gap plasma processing chamber

Номер патента: WO1998042014A1. Автор: David M. Bullock. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1998-09-24.

Components for a plasma processing apparatus

Номер патента: SG175637A1. Автор: La Llera Anthony De,Saurabh J Ullal. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2011-11-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20210074530A1. Автор: Hidehito Azumano. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2021-03-11.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240186115A1. Автор: Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240242936A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Closed loop process control of plasma processed materials

Номер патента: US20120328771A1. Автор: George Papasouliotis,Deven Raj,Harold Persing. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2012-12-27.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20220384146A1. Автор: Hiroyuki Hayashi,Hiroki EHARA,Jun NAKAGOMI,Syouji YAMAGISHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Plasma Processing Methods Using Multiphase Multifrequency Bias Pulses

Номер патента: US20230411116A1. Автор: Alok Ranjan,Shyam Sridhar,Ya-Ming Chen,Peter Lowwell George Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Microwave plasma processing apparatus, slot antenna, and semiconductor device

Номер патента: US09875882B2. Автор: Toshihiko Iwao,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-23.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11961718B2. Автор: Tetsuji Sato,Shojiro Yahata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-16.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190088454A1. Автор: Yuichi KUWAHARA,Ryou Son,Ryouhei SATOU,Syuntaro TAWARAYA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-03-21.

Electron density measurement and plasma process control system using a microwave oscillator locked to an open resonator containing the plasma

Номер патента: EP1212692A4. Автор: Wayne L Johnson,Joseph T Verdeyen,Murray D Sirkis. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2002-11-27.

Closed loop process control of plasma processed materials

Номер патента: WO2012178175A1. Автор: George D. Papasouliotis,Deven Raj,Harold Persing. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2012-12-27.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US5520771A. Автор: Saburo Kanai,Yoshinao Kawasaki,Seiichi Watanabe,Makoto Nawata,Kazuaki Ichihashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1996-05-28.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220230848A1. Автор: Yoshiyuki Kondo,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-07-21.

Plasma-processing apparatus

Номер патента: US20040245935A1. Автор: Tadahiro Ogawa,Masaaki Takayama. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2004-12-09.

Temperature measuring method and plasma processing system

Номер патента: US20150221482A1. Автор: Takahiro Senda,Naoki Matsumoto,Yusuke Yoshida,Masayuki Kohno,Ryou Son. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-08-06.

Electron density measurement and plasma process control system using a microwave oscillator locked to an open resonator containing the plasma

Номер патента: EP1212692A1. Автор: Murray D. Sirkis,Wayne L. Johnson,Joseph T. Verdeyen. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2002-06-12.

System, method and apparatus for using optical data to monitor RF generator operations

Номер патента: US09627186B2. Автор: John C. Valcore, JR.,Tony San,Seonkyung Lee. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Temperature measuring method and plasma processing system

Номер патента: US09412565B2. Автор: Takahiro Senda,Naoki Matsumoto,Yusuke Yoshida,Masayuki Kohno,Ryou Son. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240222096A1. Автор: Takashi Uemura,Shengnan Yu,Shunsuke Tashiro. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Methods and apparatus for gas delivery into plasma processing chambers

Номер патента: WO2012087919A2. Автор: Robert P. Chebi,Alan Cheshire,Stanley Detmar,Alfredo Granados,Gabriel Roupillard. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-06-28.

Apparatus and method for plasma processing

Номер патента: EP1695370A1. Автор: Nityalendra Singh,Roger James Wilshire Croad. Владелец: Oxford Instruments Plasma Technology Ltd. Дата публикации: 2006-08-30.

Method for operating a semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20050089625A1. Автор: Hideyuki Yamamoto,Ken Yoshioka,Saburou Kanai,Ryoji Nishio,Seiichiro Kanno,Hideki Kihara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-04-28.

Plasma Processing Apparatus And Method For Controlling The Same

Номер патента: US20070210032A1. Автор: Ryoji Nishio. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-09-13.

Plasma processing apparatus and control method

Номер патента: US09991100B2. Автор: Ryota Sakane. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Plasma processing method

Номер патента: US09960016B2. Автор: Kumiko Ono,Koichi Nagami,Hiroshi Tsujimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Dielectric window supporting structure for inductively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US09818581B1. Автор: Saeng Hyun Cho. Владелец: Vni Solution Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Film deposition apparatus, film deposition method and storage medium

Номер патента: US09453280B2. Автор: Hitoshi Kato,Katsuyuki Hishiya,Shigehiro Ushikubo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-27.

Temperature controlling method and apparatus for a plasma processing chamber

Номер патента: AU3079597A. Автор: Neil Benjamin,William S. Kennedy,Joel M. Cook,Thomas E. Wicker,Robert A. Maraschin. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 1998-01-05.

Multiple gas plasma forming method and icp source

Номер патента: US20120329283A1. Автор: Jozef Brcka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-12-27.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20180294137A1. Автор: SATOSHI Tanaka,Naoki Matsumoto,Toru Ito,Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-10-11.

Plasma process simulation method and semiconductor device manufacturing method including the same

Номер патента: US20240274416A1. Автор: Seungmin Lee,Inkook Jang,Suntaek LIM,Dongig OH,Jaesik An,Joohyun JEON,Thanh Cuong Nguyen. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-15.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09991097B2. Автор: Yutaka Fujino,Shigenori Ozaki,Tomohito Komatsu,Jun NAKAGOMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09663858B2. Автор: Koichi Nagami,Koji Itadani,Tsuyoshi Komoda. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Microwave plasma processing apparatus and microwave supplying method

Номер патента: US09633821B2. Автор: Toshihiko Iwao,Satoru Kawakami,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-25.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US8404050B2. Автор: Hiroyuki Nakayama,Tsuyoshi Moriya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-03-26.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20090134121A1. Автор: Hiroyuki Nakayama,Tsuyoshi Moriya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-05-28.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US8231800B2. Автор: Hiroyuki Nakayama,Tsuyoshi Moriya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-07-31.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20120285623A1. Автор: Hiroyuki Nakayama,Tsuyoshi Moriya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-11-15.

Plasma processing apparatus and microwave radiation source

Номер патента: US20230178339A1. Автор: Kenta Kato,Taro Ikeda,Isao Gunji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160155613A1. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-06-02.

Plasma processing apparatus, control method thereof and program for performing same

Номер патента: US20060005927A1. Автор: Satoshi Yamazaki,Taira Takase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-01-12.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20230178340A1. Автор: Hiroyuki Miyashita,Isao Gunji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Plasma processing apparatus, control method thereof and program for performing same

Номер патента: US7585385B2. Автор: Satoshi Yamazaki,Taira Takase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-09-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09807862B2. Автор: Hachishiro Iizuka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20160225585A1. Автор: Toshiharu Wada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-04.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US9583317B2. Автор: Toshiharu Wada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20240087853A1. Автор: Kazuhiko Nakamura. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Method and apparatus for predicting plasma-process surface profiles

Номер патента: EP1060501A1. Автор: Richard A. Gottscho,Vahid Vahedi,Maria E. Barone. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2000-12-20.

Method and apparatus for predicting plasma-process surface profiles

Номер патента: EP1060501B1. Автор: Richard A. Gottscho,Vahid Vahedi,Maria E. Barone. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-04-20.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240242934A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20010008122A1. Автор: Makoto Ando,Naohisa Goto,Nobuo Ishii. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-07-19.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297020A1. Автор: Hiroyuki Miyashita,Taro Ikeda,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Method and device for disinfection of healthcare personal protective equipment by direct application of a dry plasma field

Номер патента: US12090240B2. Автор: Martin E. Toomajian,Kevin D. Hawley. Владелец: Magplasma Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240290581A1. Автор: Kohei Sato,Takashi Uemura,Shengnan Yu. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-29.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240331978A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09831064B2. Автор: Takashi SHIMOMOTO,Hiroo Konno. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-11-28.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210159049A1. Автор: Shinji Kubota,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20220068604A1. Автор: Shinji Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Method and apparatus for uniform high throughput multiple layer films

Номер патента: WO2024129784A1. Автор: Thomas P. Nolan,Zachary Lyons,Uy Le. Владелец: INTEVAC, INC.. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12046452B2. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Method and apparatus for plasma ignition in toroidal plasma sources

Номер патента: US20240284584A1. Автор: Michael Harris,Gordon Hill,Joseph Desjardins,Ilya Pokidov,Chiu-Ying Tai. Владелец: MKS Instruments Inc. Дата публикации: 2024-08-22.

Methods and apparatuses for controlling phase difference in plasma processing systems

Номер патента: IL126393A. Автор: . Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2002-03-10.

Methods and apparatuses for controlling phase difference in plasma processing systems

Номер патента: AU2532797A. Автор: Robert D. Dible,Stephen G. Bradley,Seved Jafar Jafarian-Tehrani. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 1997-10-22.

Plasma processing apparatus with reduced parasitic capacity and loss in RF power

Номер патента: US20040238126A1. Автор: Akihiro Kojima,Kazuhiro Tomioka,Hisataka Hayashi,Itsuko Sakai,Tokuhisa Ohiwa. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2004-12-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09691591B2. Автор: Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Microwave plasma processing apparatus and microwave plasma processing method

Номер патента: US5985091A. Автор: Nobumasa Suzuki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-11-16.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240006154A1. Автор: Shinji Himori,Chishio Koshimizu,Koichi Nagami,Takenobu Ikeda,Shin Hirotsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11764034B2. Автор: Shinji Himori,Chishio Koshimizu,Koichi Nagami,Takenobu Ikeda,Shin Hirotsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09761418B2. Автор: Takashi Suzuki,Masahiko Konno,Taizo Okada,Naoki Matsumoto,Hideo Kato,Masayuki SHINTAKU,Michitaka AITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-12.

The plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20190006153A1. Автор: Hitoshi Tamura,Naoki Yasui,Nanako TAMARI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-01-03.

Frequency tuning for pulsed radio frequency plasma processing

Номер патента: US20150382442A1. Автор: Michael Mueller,Sam Choi. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2015-12-31.

Method and apparatus for control of deposit build-up on an inner surface of a plasma processing chamber

Номер патента: WO1998044535A1. Автор: William S. Kennedy,Thomas E. Wicker,Robert A. Maraschin,Albert J. Lamm. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1998-10-08.

Frequency tuning for pulsed radio frequency plasma processing

Номер патента: US09852890B2. Автор: Michael Mueller,Myeong Yeol Choi. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

Frequency tuning for pulsed radio frequency plasma processing

Номер патента: US09711331B2. Автор: Michael Mueller,Myeong Yeol Choi. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2017-07-18.

Frequency tuning for pulsed radio frequency plasma processing

Номер патента: US09544987B2. Автор: Michael Mueller,Myeong Yeol Choi. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11842885B2. Автор: Kenetsu Yokogawa,Masaru Izawa,Tooru Aramaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-12-12.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, pressure valve control device, pressure valve control method, and pressure regulation system

Номер патента: US20230395360A1. Автор: Koki Tanaka,Yuzuru Sakai,Chishio Koshimizu,Kota Shihommatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220359166A1. Автор: Masahiro Nagatani,Masahiro Sumiya,Kosa Hirota,Nanako TAMARI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-11-10.

Plasma processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20210142985A1. Автор: Akira Koshiishi,Jongwoo SUN,Yongwoo Lee,Masato Horiguchi,Dowon Kim,Yunhwan Kim,Kyohyeok KIM,Youngjin Noh,Taeil Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-05-13.

Components for a plasma processing apparatus

Номер патента: WO2008063324A3. Автор: La Llera Anthony De,Saurabh J Ullal. Владелец: Saurabh J Ullal. Дата публикации: 2008-07-31.

Components for a plasma processing apparatus

Номер патента: WO2008063324A2. Автор: Anthony de la Llera,Saurabh J. Ullal. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2008-05-29.

Method and apparatus for preventing instabilities in radio-frequency plasma processing

Номер патента: EP1671347A1. Автор: Michael Kishinevsky. Владелец: MKS Instruments Inc. Дата публикации: 2006-06-21.

Apparatus and method for delivering a plurality of waveform signals during plasma processing

Номер патента: US20230298856A1. Автор: James Rogers,Katsumasa Kawasaki. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-21.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190393058A1. Автор: Tsutomu Nakamura,Hiroho Kitada,Hideki Kihara,Masatoshi Kawakami,Hironori Kusumoto,Hidenobu Tanimura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-12-26.

Matching unit for semiconductor plasma processing apparatus

Номер патента: US20050098116A1. Автор: Yukio Sato,Katsumi Takahashi,Etsuo Yamagishi,Taku Fukada. Владелец: Pearl Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2005-05-12.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20180174805A1. Автор: Yoshinobu Ooya,Ryohei Takeda,Maju TOMURA,Ryuichi TAKASHIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-21.

Electrostatic Chuck Assembly for Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20240282614A1. Автор: Maolin Long. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Plasma processing apparatus, control method, power supply system, and storage medium

Номер патента: US20240304418A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12125685B2. Автор: Yoshihisa Hirano,Jae Hoon Kim,Young Jin Noh,Jun Soo Lee,Sung Moon Park,Hyung Kyu Choi,Seung Kyu Lim,Kyeong Seok Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-22.

Dielectric window, plasma processing system including the window, and method of fabricating semiconductor device using the system

Номер патента: US09812293B2. Автор: Dong-Wook Kim,Jung-hwan UM,Sung-moon PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-11-07.

Method for impedance matching of plasma processing apparatus

Номер патента: US09736921B2. Автор: Norikazu Yamada,Koichi Nagami,Naoyuki Umehara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09640368B2. Автор: Shunichi Ito,Ryuji Ohtani,Naoyuki Umehara,Kazutaka Sei,Tomomasa Nishida. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-05-02.

Electrode assembly and plasma processing apparatus

Номер патента: US09520276B2. Автор: Takashi Suzuki,Takashi Yamamoto,Masato Horiguchi,Chikako Takahashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-13.

Ion beam generator and ion beam plasma processing apparatus

Номер патента: US09422623B2. Автор: Yasushi Kamiya,Einstein Noel Abarra,Yuta Konno. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2016-08-23.

Particle removal apparatus and method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20050039773A1. Автор: Tsuyoshi Moriya,Hiroshi Nagaike. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2005-02-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11923177B2. Автор: Kazumasa Igarashi,Kazuo Yabe,Yamato Tonegawa,Keiji Tabuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20170309451A1. Автор: Tomohiro Okumura,Satoshi Suemasu. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-26.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12051570B2. Автор: Yoshinobu Ooya,Ryohei Takeda,Maju TOMURA,Ryuichi TAKASHIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Synchronization of plasma processing components

Номер патента: US20230268162A1. Автор: Kevin Fairbairn,Gideon van Zyl,Denis Shaw. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2023-08-24.

Improved application of modulating supplies in a plasma processing system

Номер патента: EP3711082A1. Автор: Kevin Fairbairn,Gideon van Zyl,Denis Shaw. Владелец: Aes Global Holdings Pte Ltd. Дата публикации: 2020-09-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20220384154A1. Автор: Kazuya Matsumoto,Atsushi Sasaki,Shingo Takahashi,Koichi Nagami,Yusuke HAYASAKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Application of modulating supplies in a plasma processing system

Номер патента: US20210074513A1. Автор: Kevin Fairbairn,Gideon van Zyl,Denis Shaw. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2021-03-11.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240170259A1. Автор: Hiroshi Kondo,Eiki Kamata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321550A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Cleaning method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230402269A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Cleaning method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11804368B2. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-31.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240212984A1. Автор: Isao Mori,Ryosuke Ochiai. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Spatial and temporal control of ion bias voltage for plasma processing

Номер патента: EP4376061A3. Автор: Kevin Fairbairn,Daniel Carter,Denis Shaw. Владелец: Aes Global Holdings Pte Ltd. Дата публикации: 2024-08-21.

Spatial monitoring and control of plasma processing environments

Номер патента: US20210241996A1. Автор: Kevin Fairbairn,Victor Brouk,Daniel Carter,Denis Shaw. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2021-08-05.

Processing apparatus and method for plasma processing

Номер патента: US5134965A. Автор: Toru Otsubo,Yasuhiro Yamaguchi,Mitsuo Tokuda,Junzou Azuma,Ichirou Sasaki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1992-08-04.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240038511A1. Автор: Hiroshi Shirouzu. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Plasma processing apparatus, data analysis apparatus, and semiconductor device manufacturing system

Номер патента: US20240203712A1. Автор: Akira Kagoshima,Daisuke Shiraishi,Shunta NOSAKA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US5024748A. Автор: Shuzo Fujimura. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1991-06-18.

Performance evaluation method for plasma processing apparatus for continuously maintaining a desired performance level

Номер патента: EP1720196A1. Автор: Tadahiro Ohmi,Akira Nakano. Владелец: Alps Electric Co Ltd. Дата публикации: 2006-11-08.

Seasoning method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240030014A1. Автор: Naoki Matsumoto,Satoru Nakamura,Yusuke Shimizu,Toshihisa Ozu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20120181252A1. Автор: Masaru Tanaka,Hiroyuki Makino. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2012-07-19.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20200168441A1. Автор: Koichi Tateshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-28.

Matching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200335306A1. Автор: Masato Kon. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-10-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220301834A1. Автор: Hwajun Jung,Mitsunori Ohata,Yuki Hosaka,Wan Sung Jin. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: WO2009102151A1. Автор: Sang-Ho Woo,Il-Kwang Yang. Владелец: EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.. Дата публикации: 2009-08-20.

Guard aperture to control ion angular distribution in plasma processing

Номер патента: US09514918B2. Автор: Ludovic Godet,Sang Ki Nam. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Plasma processing apparatus and method for carrying out plasma processing by using such plasma processing apparatus

Номер патента: US5567268A. Автор: Shingo Kadomura. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1996-10-22.

Plasma processing apparatus for generating uniform strip-shaped plasma by propagating microwave through rectangular slit

Номер патента: US5315212A. Автор: Akira Ishii,Michio Taniguchi,Syoichiro Minomo,Masato Sugiyo. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 1994-05-24.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20220375730A1. Автор: Ryota Sakane. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-11-24.

Workpiece processing apparatus with plasma and thermal processing systems

Номер патента: US11837447B2. Автор: Joseph Cibere,Michael Yang,Dixit Desai,Rolf Bremensdorfer,Dieter HEZLER,Alex Wansidler,Pete LEMBESIS. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Plasma processing method and plasma ashing apparatus

Номер патента: US20130019894A1. Автор: Shin Hiyama,Yutaka Kudou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-01-24.

Spark plasma sintered component for cryo-plasma processing chamber

Номер патента: WO2023183330A1. Автор: LIN Xu,John Daugherty,Harmeet Singh,Satish Srinivasan,Pankaj HAZARIKA. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-09-28.

Plasma processing devices having multi-port valve assemblies

Номер патента: US12100575B2. Автор: Michael C. Kellogg,Allan K. Ronne,James E. Tappan,Daniel A. Brown,Leonard J. Sharpless. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-09-24.

Multi-electrode source assembly for plasma processing

Номер патента: US20240355587A1. Автор: James Rogers,Rajinder Dhindsa,Linying CUI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Multi-electrode source assembly for plasma processing

Номер патента: US20240355586A1. Автор: James Rogers,Rajinder Dhindsa,Linying CUI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Plasma processing apparatus comprising a compensating-process-gas supply means in synchronism with a rotating magnetic field

Номер патента: US5980687A. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1999-11-09.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11923171B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Hidetoshi Hanaoka,Junichi Sasaki,Tomohiko Akiyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Plasma processing system and plasma processing method

Номер патента: US20220336197A1. Автор: Hiroshi Shirouzu. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2022-10-20.

Workpiece Processing Apparatus with Thermal Processing Systems

Номер патента: US20240055242A1. Автор: Joseph Cibere,Michael Yang,Dixit Desai,Rolf Bremensdorfer,Dieter HEZLER,Alex Wansidler,Pete LEMBESIS. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Plasma processing device, plasma processing method and manufacturing method of electronic device

Номер патента: US20170287712A1. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240030008A1. Автор: Taro Hayakawa,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Shower head assembly and plasma processing apparatus having the same

Номер патента: US20200365373A1. Автор: Heechul LEE,Joonsung Lee,Youngwon Shin,Hyungchul CHO,Hyunjae JUNG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-11-19.

Plasma processing system and plasma processing method

Номер патента: US12009190B2. Автор: Hiroshi Shirouzu. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Plasma processing apparatus

Номер патента: EP1869692A1. Автор: Kiyoshi c/o Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. ARITA,Akira c/o Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. NAKAGAWA. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2007-12-26.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12020909B2. Автор: Minsung Kim,Sungyeol KIM,Hosun Yoo,Jinyeong Yun,Jang-Yeob LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-25.

Apparatus for indirect atmospheric pressure plasma processing

Номер патента: US12080525B2. Автор: Erwin Van Hoof,Annick Vanhulsel,Jan Cools. Владелец: VITO NV. Дата публикации: 2024-09-03.

Plasma process chambers employing distribution grids having focusing surfaces thereon enabling angled fluxes to reach a substrate, and related methods

Номер патента: US09534289B2. Автор: Jun Xue,Qiwei Liang,Ludovic Godet. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US5891252A. Автор: Shinichi Tachi,Masahito Mori,Keizo Suzuki,Kazunori Tsujimoto,Tetsuo Ono,Naoshi Itabashi,Ken'etsu Yokogawa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1999-04-06.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210233743A1. Автор: Takuto YOSHIMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-07-29.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11749503B2. Автор: Takuto YOSHIMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-05.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20130333617A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Tetsuya Suzuki,Hisanori Matsumoto,Hideyuki Nagaishi,Mayui NOBORISAKA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2013-12-19.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11842886B2. Автор: Eiki Kamata,Taro Ikeda,Hirokazu Ueda,Mitsutoshi ASHIDA,Isao Gunji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-12.

Plasma processing apparatus, calculation method, and calculation program

Номер патента: US11862438B2. Автор: Shinsuke Oka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Oes device, plasma processing apparatus including the same and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20190252164A1. Автор: In-Joong Kim,Il Gu Yun. Владелец: Industry Academic Cooperation Foundation of Yonsei University. Дата публикации: 2019-08-15.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20210013015A1. Автор: Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Mitsunori Ohata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-01-14.

Plasma processing apparatus, calculation method, and calculation program

Номер патента: US20240087855A1. Автор: Shinsuke Oka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Plasma processing apparatus, and method of maintaining interior of processing container of the plasma processing apparatus

Номер патента: US20210066048A1. Автор: Shin Okamoto,Atsutoshi Inokuchi,Kohei MIZOTA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Plasma processing apparatus with tunable electrical characteristic

Номер патента: WO2022256407A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Yun Han,Mitsunori Ohata. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2022-12-08.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240213004A1. Автор: Soichiro Eto,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Tsubasa Okamoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Erosion resistant plasma processing chamber components

Номер патента: US20230317424A1. Автор: LIN Xu,Harmeet Singh,Justin Charles CANNIFF,Robin Koshy,Simon Gosselin,Adrian Radocea. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Antenna for plasma generation and plasma processing device having the same

Номер патента: US09947511B2. Автор: Yasunori Ando,Dongwei Li. Владелец: Nissin Electric Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-17.

Bias voltage frequency controlled angular ion distribution in plasma processing

Номер патента: US09520267B2. Автор: Jun Xue,Ludovic Godet,Prashanth Kothnur,Umesh M. Kelkar,Matthew D. Scotney-Castle. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-12-13.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20070235426A1. Автор: SATOSHI Tanaka,Hidetoshi Hanaoka,Naoki Matsumoto,Manabu Iwata,Chishio Koshimizu,Yoshinobu Hayakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-10-11.

Microwave plasma processing apparatus, microwave processing method and microwave feeding apparatus

Номер патента: US7325511B2. Автор: Tadahiro Ohmi,Naohisa Goto,Masaki Hirayama,Tetsuya Goto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-02-05.

MICRO-ELECTRO-MECHANICAL-SYSTEMS PROCESSING METHOD, AND MICRO-ELECTRO-MECHANICAL-SYSTEMS PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20190062157A1. Автор: WATANABE Keiji,RYUZAKI Daisuke,Shichi Hiroyasu,MINE Toshiyuki,SAGAWA Misuzu. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-28.

Method of operating a plasma process system and a plasma process system

Номер патента: EP4442853A1. Автор: designation of the inventor has not yet been filed The. Владелец: Trumpf Huettinger Sp zoo. Дата публикации: 2024-10-09.

Method of operating a plasma process system and a plasma process system

Номер патента: WO2024208908A1. Автор: Wojciech Gajewski,Anna Oniszczuk,Piotr Różański,Cezary KAMINSKI. Владелец: Trumpf Huettinger Sp. Z O. O.. Дата публикации: 2024-10-10.

Method and apparatus for reducing arcing in plasma processing chambers

Номер патента: WO1996014653A3. Автор: Bhola N De,Charles N Vannutt,Jonathan Ishii. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1996-08-29.

Method and apparatus for reducing arcing in plasma processing chambers

Номер патента: WO1996014653A2. Автор: Jonathan Ishii,Charles N. Vannutt,Bhola N. De. Владелец: Materials Research Corporation. Дата публикации: 1996-05-17.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: US8969211B2. Автор: Tetsuo Ono,Satoru Muto,Yasuo Ohgoshi,Hirofumi Eitoku. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-03-03.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: US20150170880A1. Автор: Tetsuo Ono,Satoru Muto,Yasuo Ohgoshi,Hirofumi Eitoku. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-06-18.

Plasma processing device member, plasma processing device comprising said plasma processing device member, and method for manufacturing plasma processing device member

Номер патента: US20210020415A1. Автор: Shuichi Saito,Kazuhiro Ishikawa,Takashi Hino. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2021-01-21.

Plasma processing device member, plasma processing device comprising said plasma processing device member, and method for manufacturing plasma processing device member

Номер патента: US11715629B2. Автор: Shuichi Saito,Kazuhiro Ishikawa,Takashi Hino. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2023-08-01.

Power converter unit, plasma processing equipment and method of controlling several plasma processes

Номер патента: WO2018197699A1. Автор: Pawel Ozimek,Jan Peter ENGELSTAEDTER,Krzysztof Ruda,Jakub SWIATNICKI. Владелец: TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG. Дата публикации: 2018-11-01.

Power converter unit, plasma processing equipment and method of controlling several plasma processes

Номер патента: EP3616232A1. Автор: Jan Peter ENGELSTAEDTER,Krzysztof Ruda,Jakub SWIATNICKI. Владелец: Trumpf Huettinger Sp zoo. Дата публикации: 2020-03-04.

Plasma process, film deposition method and system using rotary chuck

Номер патента: US20130264308A1. Автор: Chin-Hsiang Lin,Ying Xiao,Yu-Lung YANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2013-10-10.

Method and system for monitoring substrate processing apparatus

Номер патента: US12068140B2. Автор: Sejin Oh,Jongwoo SUN,Taemin EARMME,Eunwoo LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-20.

Method and system for monitoring substrate processing apparatus

Номер патента: US20240371611A1. Автор: Sejin Oh,Jongwoo SUN,Taemin EARMME,Eunwoo LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-11-07.

Substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230335398A1. Автор: Tsuyoshi Takeda,Yuki Taira,Masaru Kadoshima. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-10-19.

Substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230091850A1. Автор: Yuji Takebayashi,Shota Tanaka,Yusaku OKAJIMA,Hiroki HATTA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Method and system to monitor a process apparatus

Номер патента: US20240004299A1. Автор: Paul Christiaan Hinnen,Wim Tjibbo Tel,Frank Staals,Mark John MASLOW. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-01-04.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210143017A1. Автор: Takahiro Yokoyama,Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Upper electrode structure and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240249907A1. Автор: Tetsuji Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Plasma processing method and plasma processing apparatus including applying a voltage to a lower electrode in a substrate support with a gas supplied into a chamber

Номер патента: US20240222085A1. Автор: Koichiro Nakamura,Norihisa Kiyofuji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Plasma processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230402256A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Jun Sato,Takashi Chiba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09704731B2. Автор: Masaru Izawa,Go Miya,Takumi Tandou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Plasma processing method

Номер патента: US09502219B2. Автор: Yoshihide Kihara,Toshio Haga,Masaya Kawamata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Method and apparatus for multizone plasma generation

Номер патента: US09809881B2. Автор: Christopher S. Olsen,Zhong Qiang Hua,Matthew Scott Rogers. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-11-07.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220122847A1. Автор: Yuzuru Sakai,Ryo Terashima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-04-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11817321B2. Автор: Yuzuru Sakai,Ryo Terashima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20150179408A1. Автор: Naotaka Noro,Kouji Shimomura,Eiichi Nishimura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-06-25.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11871503B2. Автор: Shinji Kubota,Chishio Koshimizu,Takashi Dokan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-09.

Plasma processing apparatus and plasma processing system

Номер патента: US12014909B2. Автор: Akira Kagoshima,Daisuke Shiraishi,Satomi Inoue,Shota Umeda,Ryoji ASAKURA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-18.

Method and apparatus for realtime wafer potential measurement in a plasma processing chamber

Номер патента: WO2023096730A1. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-06-01.

Stage and plasma processing apparatus

Номер патента: US11908666B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Hajime Tamura,Shin Yamaguchi,Tsuguto SUGAWARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Vacuum processing method

Номер патента: US11961719B2. Автор: Kazumasa Okuma,Takao Arase,Nozomu Yoshioka. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-04-16.

Stage and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240153749A1. Автор: Yasuharu Sasaki,Hajime Tamura,Shin Yamaguchi,Tsuguto SUGAWARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Plasma processing method and capacitively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: JP6267989B2. Автор: 理史 浦川. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-24.

Method and apparatus for producing silicon nitride film

Номер патента: US20130109154A1. Автор: Seiji Nishikawa,Tadashi Shimazu,Hidetaka Kafuku. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2013-05-02.

Plasma processing device, plasma processing method, and program for plasma processing device

Номер патента: TW201938838A. Автор: 酒井敏彦,中田誓治. Владелец: 日商日新電機股份有限公司. Дата публикации: 2019-10-01.

Plasma processing device member, plasma processing device comprising said plasma processing device member, and method for manufacturing plasma processing device member

Номер патента: US20210020415A1. Автор: Shuichi Saito,Kazuhiro Ishikawa,Takashi Hino. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2021-01-21.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: US6156663A. Автор: Tsuyoshi Yoshida,Masayuki Kojima,Katsuya Watanabe,Saburo Kanai,Ryoji Hamasaki,Yutaka Omoto,Syunji Sasabe,Tadamitsu Kanekiyo,Takazumi Ishizu. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2000-12-05.

Methods and Apparatus for Plasma Processing

Номер патента: US20230330619A1. Автор: Thomas Howe,John-Mark Seymour. Владелец: Haydale Graphene Industries PLC. Дата публикации: 2023-10-19.

Method and Apparatus for Plasma Processing

Номер патента: US20240024841A1. Автор: Thomas Howe,John-Mark Seymour. Владелец: Haydale Graphene Industries PLC. Дата публикации: 2024-01-25.

Method and apparatus for plasma process performance matching in multiple wafer chambers

Номер патента: WO2009102687A1. Автор: Daniel J. Devine,Songlin Xu,Wen Ma,Ce Qin,Vijay Vaniapura. Владелец: MATTSON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2009-08-20.

Power converter unit, plasma processing equipment and method of controlling several plasma processes

Номер патента: EP3616233B1. Автор: Pawel Ozimek,Jan Peter ENGELSTAEDTER,Krzysztof Ruda,Jakub SWIATNICKI. Владелец: Trumpf Huettinger Sp zoo. Дата публикации: 2021-12-08.

End point detection method and apparatus for plasma processing, and semiconductor manufacturing method and apparatus using the detection method and apparatus

Номер патента: JP3766991B2. Автор: 隆典 二宮,俊彦 中田. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2006-04-19.

Method and apparatus for producing silicon nitride film

Номер патента: US8889568B2. Автор: Seiji Nishikawa,Tadashi Shimazu,Hidetaka Kafuku. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2014-11-18.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: US20130174105A1. Автор: Tsuyoshi Matsumoto,Yoshiyuki Oota,Tadamitsu Kanekiyo,Ryoji Nishio. Владелец: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2013-07-04.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: KR101764767B1. Автор: 유조 오히라바루,츠토무 이이다,히로미츠 데라우치. Владелец: 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈. Дата публикации: 2017-08-03.

Method and device for plasma processing

Номер патента: KR900007687B1. Автор: 요시나오 가와사끼,히로노부 가와하라,유다까 가께이,가도오 히로베,가쓰요시 구도오. Владелец: 가부시기가이샤 히다찌세이사꾸쇼. Дата публикации: 1990-10-18.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: GB2251977B. Автор: John M White,Kenneth S Collins,Chan-Lon Yang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1994-08-17.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: TW201440111A. Автор: Tetsuo Ono,Satoru Muto,Yasuo Ohgoshi,Hirofumi Eitoku. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2014-10-16.

Method and apparatus for plasma process performance matching in multiple wafer chambers

Номер патента: TW201001112A. Автор: Songlin Xu,Daniel J Devine,Wen Ma,Ce Qin,Vijay Vaniapura. Владелец: Mattson Tech Inc. Дата публикации: 2010-01-01.

Substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: EP4141911A1. Автор: Naofumi Ohashi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-01.

Substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20230068877A1. Автор: Naofumi Ohashi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-02.

A substrate processing method, a recording medium, and a substrate processing apparatus

Номер патента: TWI392019B. Автор: Hiroshi Kaneko,Toshio Takagi,Teruo Iwata,Akinobu Kakimoto,Tamaki Takeyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-04-01.

Substrate processing method, computer readable recording medium and substrate processing apparatus

Номер патента: US20070062453A1. Автор: Hiraku Ishikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-03-22.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12051595B2. Автор: Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20140141532A1. Автор: Takashi Sone,Eiichi Nishimura,Tadashi Kotsugi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-05-22.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09460896B2. Автор: Akitoshi Harada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-04.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09953862B2. Автор: Shigeru Yoneda,Yen-Ting Lin,Akitoshi Harada,Chih-Hsuan CHEN,Ju-Chia Hsieh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09997337B2. Автор: Masahito Mori,Naoshi Itabashi,Naoyuki Kofuji. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: EP4428898A2. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Plasma processing apparatus, analysis apparatus, plasma processing method, analysis method, and storage medium

Номер патента: US20240371603A1. Автор: Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230268190A1. Автор: Yoshimitsu Kon,Atsuki Hashimoto,Sho SAITOH. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297027A1. Автор: Soichiro Eto,Shigeru Nakamoto,Kosuke Fukuchi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12125672B2. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and recording medium

Номер патента: US09583318B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Shigehiro Miura,Naohide Ito,Katsuaki Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and recording medium

Номер патента: US9583318B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Shigehiro Miura,Naohide Ito,Katsuaki Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230307245A1. Автор: Atsushi Takahashi,Yoshihide Kihara,Takatoshi ORUI,Maju TOMURA,Koki MUKAIYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230127467A1. Автор: Yoshihide Kihara,Kae Takahashi,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-04-27.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09601318B2. Автор: Hitoshi Kato,Jun Sato,Hiroyuki Kikuchi,Shigehiro Miura,Toshiyuki Nakatsubo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Method for producing plasma flow, method for plasma processing, apparatus for producing plasma, and apparatus for plasma processing

Номер патента: US09426875B2. Автор: Yoshifumi Noguchi,Keisuke Sagisaka. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2016-08-23.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20190393031A1. Автор: Toru Hisamatsu,Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-26.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12112921B2. Автор: Hiroyuki Ikuta,Yutaka Fujino,Hirokazu Ueda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11776792B2. Автор: Takashi Uemura,Masahiro Nagatani,Yasushi Sonoda,Kiyohiko Sato,Shengnan Yu,Shunsuke Tashiro. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-03.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12071687B2. Автор: Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Toru Hisamatsu,Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Michiko Nakaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09653317B2. Автор: Tsutomu Ito,Shinichi Kozuka,Masaru Nishino,Ryosuke NIITSUMA,Takao FUNAKUBO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Wafer processing apparatus and wafer processing method using the same

Номер патента: US20240282586A1. Автор: Sunggil Kang,Dongkyu Shin,Hoseop Choi,Sangjin AN,Chanyeong JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09779936B2. Автор: Toshio Nakanishi,Minoru Honda,Daisuke Katayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20080280451A1. Автор: Tsunehiko Tsubone,Ken Yoshioka,Mamoru Yakushiji,Yutaka Kouzuma,Yutaka Ohmoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-11-13.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4231785A1. Автор: Kiyoshi Maeda,Yasuhiko Saito,Atsutoshi Inokuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

Plasma processing device, plasma processing method and method of manufacturing electronic devices

Номер патента: US09627183B2. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20180158650A1. Автор: Hideyuki Kobayashi,Ryota Sakane,Hiroshi Nagahata,Jungwoo Na. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-07.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220384151A1. Автор: Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Plasma processing method

Номер патента: US09824866B2. Автор: Akira Kagoshima,Daisuke Shiraishi,Yuji Nagatani. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Deposition processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200273712A1. Автор: Yuji Nagai,Yoshimitsu Kon,Lifu Li,Atsushi UTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-08-27.

Method and apparatus for forming a plasma resistant coating, component, and plasma processing apparatus

Номер патента: US12123089B2. Автор: Xiang Sun,Sheng Guo,Xingjian CHEN,Jiao DUAN. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2024-10-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09799495B2. Автор: Tomohiro Okumura,Shogo Okita,Bunji MIIZUNO. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20170350014A1. Автор: Toshihiko Iwao,Satoru Kawakami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-07.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US12094696B2. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12074076B2. Автор: Soichiro Eto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Plasma processing method

Номер патента: US09673062B1. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210366721A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Masaru Izawa,Nobuya MIYOSHI,Kazunori Shinoda,Yutaka Kouzuma. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-11-25.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20130045547A1. Автор: Kenji Nakata,Atsushi Itou,Kouichi Yamamoto,Masaru Izawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-02-21.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US20230282460A1. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US20230282461A1. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09741579B2. Автор: Naoki Yasui,Michikazu Morimoto,Nanako TAMARI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09502220B2. Автор: Tomohiro Okumura,Bunji Mizuno,Shogo Okita. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Plasma processing apparatus, electrostatic attraction method, and electrostatic attraction program

Номер патента: US11764038B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Shoichiro Matsuyama,Naoki Tamaru. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12131964B2. Автор: Soichiro Eto,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi,Ryoji ASAKURA,Tsubasa Okamoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09960031B2. Автор: Motohiro Tanaka,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Plasma processing method

Номер патента: US09922841B2. Автор: Ryosuke NIITSUMA,Haruto Kanamori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09496147B2. Автор: Motohiro Tanaka,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Shower plate, plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12051564B2. Автор: Satoru Kawakami,Masaki Hirayama,Taro Ikeda. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-07-30.

Plasma processing apparatus and prediction method of the condition of plasma processing apparatus

Номер патента: US12080529B2. Автор: Masahiro Sumiya,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20040173309A1. Автор: Toshio Masuda,Junichi Tanaka,Hiroyuki Kitsunai,Hideyuki Yamamoto,Go Miya. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-09.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12094687B2. Автор: Tetsuo Ono,Naoki Yasui,Masayuki SHIINA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09997332B2. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Kazuki Denpoh,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09865454B2. Автор: Hitoshi Kato,Jun Sato,Masato Yonezawa,Hiroyuki Kikuchi,Shigehiro Miura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09805940B2. Автор: Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09711375B2. Автор: Koichi Yamamoto,Tsutomu Iida,Hiromitsu TERAUCHI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-18.

Plasma monitoring system, plasma monitoring method, and monitoring device

Номер патента: US20240096608A1. Автор: Jun Hirose,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Satoru TERUUCHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Cleaning method and plasma treatment device

Номер патента: US12129544B2. Автор: Hiroyuki Ikuta,Yoshiyuki Kondo,Yutaka Fujino,Hideki Yuasa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Workpiece processing method

Номер патента: US09607811B2. Автор: Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Toru Hisamatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-28.

Plasma processing method and resist pattern modifying method

Номер патента: US20100055911A1. Автор: Jin Fujihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-03-04.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12087556B2. Автор: Akio Ui,Yosuke Sato,Hisataka Hayashi. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Plasma processing method

Номер патента: US09941098B2. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09805959B2. Автор: Naoki Matsumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09741629B2. Автор: Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi,Kosa Hirota. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Plasma-processing apparatus with upper electrode plate and method for performing plasma treatment process

Номер патента: US09431221B2. Автор: Chih-ching Cheng,Po-Ju Chen,Xiao-Meng Chen,Hsin-Yi Tsai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-08-30.

Diagnosis device, diagnosis method, plasma processing apparatus, and semiconductor device manufacturing system

Номер патента: US20240213003A1. Автор: Kenji Tamaki,Shota Umeda,Masahiro Sumiya,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Diagnosis apparatus, plasma processing apparatus and diagnosis method

Номер патента: US12040167B2. Автор: Kenji Tamaki,Masaki Ishiguro,Shota Umeda,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-16.

Plasma generating apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20110068004A1. Автор: Yuichi Shiina. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2011-03-24.

Ignition method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12080517B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Kazumasa Igarashi,Takeshi Ando. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Plasma processing system and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297025A1. Автор: Kota Seno,Fumiaki ARIYOSHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Plasma processing apparatus, power system, control method, and storage medium

Номер патента: US20240347320A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09941132B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09911638B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-06.

Plasma processing apparatus and method for monitoring plasma processing apparatus

Номер патента: US09666417B2. Автор: Atsushi Shoji,Masahiko Orimoto. Владелец: Sakai Display Products Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Method and apparatus to minimize seam effect during TEOS oxide film deposition

Номер патента: US09570289B2. Автор: Arul N. Dhas. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20230420228A1. Автор: Akihiro Yokota,Ryo Terashima,Takaharu SAINO,Tomo MURAKAMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Plasma generating apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US8562800B2. Автор: Yuichi Shiina. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2013-10-22.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20140238301A1. Автор: Shinya Akano. Владелец: Chugai Ro Co Ltd. Дата публикации: 2014-08-28.

Structure and method for solving parasitic plasma in plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321554A1. Автор: CHEN CHEN,Dengzhi WANG,Fengming WANG,Qingyuan QU,Xueyong HE,Wangjun LI. Владелец: Suzhou Maizheng Technology Co ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09583355B2. Автор: Tetsuhiro Iwai,Nobuhiro Nishizaki,Atsushi Harikai,Mitsuru Hiroshima. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing apparatus, substrate bonding system including the same, and substrate bonding method using the same

Номер патента: US20230215698A1. Автор: Ho Kim,Youngho Kim,SeungDae SEOK,Yongin LEE,Se-Hoon Jang,Donggap Shin,Siwoong Woo,Inhwa Baek. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Method of producing processing condition of plasma processing apparatus, and plasma processing apparatus

Номер патента: US09870901B2. Автор: Takashi Dokan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: US09431263B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Atsushi Harikai,Mitsuru Hiroshima. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20150110974A1. Автор: Yong-Suk Lee,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Mi-Ra An. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-23.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240240320A1. Автор: Yong-Suk Lee,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Mi-Ra An. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Electrode plate for plasma processing apparatus and method for regenerating electrode plate for plasma processing apparatus

Номер патента: US20200043707A1. Автор: Satoshi Nomura,Syuji Fujimori. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Plasma resistant coating, related production method and uses

Номер патента: US20240240310A1. Автор: Jesse Kalliomäki. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2024-07-18.

Wafer processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12051574B2. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Atsushi Sekiguchi,Soichiro Eto,Nobuya MIYOSHI,Kazunori Shinoda,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-30.

Plasma processing apparatus and plasma generation antenna

Номер патента: US09543123B2. Автор: Shigeru Kasai,Taro Ikeda,Tomohito Komatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Plasma processing device, and plasma processing method

Номер патента: US20240170260A1. Автор: Eiki Kamata,Taro Ikeda,Mitsutoshi ASHIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Component for plasma processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US11948779B2. Автор: Shuichi Saito,Kazuhiro Ishikawa,Takashi Hino. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-04-02.

Substrate processing apparatus and method for processing substrate

Номер патента: US20230245858A1. Автор: Hitoshi Kato,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Plasma processing apparatus and method of cleaning the apparatus

Номер патента: US20010001185A1. Автор: Hajime Murakami,Eiji Setoyama,Kouji Ishiguro,Hirofumi Seki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2001-05-17.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, program, and memory medium

Номер патента: EP4425529A2. Автор: Tadashi Inoue,Masaharu Tanabe,Atsushi Takeda,Tatsunori SATO,Kazunari Sekiya,Hiroshi Sasamoto,Nobuaki Tsuchiya. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2024-09-04.

Plasma processing apparatus and method for manufacturing electronic component

Номер патента: US09786472B2. Автор: Tetsuhiro Iwai,Shogo Okita,Syouzou Watanabe. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Plasma processing apparatus and shower plate

Номер патента: US09663856B2. Автор: Shigeru Kasai,Taro Ikeda,Yutaka Fujino. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09570272B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-14.

Cleaning method of film layer in the plasma processing apparatus

Номер патента: US20240203708A1. Автор: Kazuhiro Ueda,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Etching method and plasma processing system

Номер патента: US20230402289A1. Автор: Yoshihide Kihara,Kae Takahashi,Maju TOMURA,Noriyoshi ARIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240331974A1. Автор: Norihiko Ikeda,Masaru Izawa,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-03.

Plasma processing method

Номер патента: US09349603B2. Автор: Masaki Fujii,Tetsuo Ono,Yoshiharu Inoue,Masakazu Miyaji,Michikazu Morimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-05-24.

Substrate processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220068658A1. Автор: Yasutaka HAMA,Shu Kino,Motoki NORO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Plasma processing apparatus and method for using plasma processing apparatus

Номер патента: US20230167553A1. Автор: Tetsuhiro Iwai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12051566B2. Автор: Hitoshi Kato,Yuji Sawada,Hiroyuki Kikuchi,Shinji Asari. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190189403A1. Автор: Takashi Uemura,Junya Sasaki,Yasushi Sonoda,Tomoyoshi Ichimaru,Luke Joseph HIMBELE. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-06-20.

Method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: IL167491A. Автор: Robert J Steger. Владелец: Robert J Steger. Дата публикации: 2009-08-03.

A method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: EP1540695B1. Автор: Robert J. Steger. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2010-03-03.

A method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: EP1540695A2. Автор: Robert J. Steger. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-06-15.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20150206715A1. Автор: Takayuki Ishii,Ryoichi Yoshida,Ken Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-07-23.

Plasma processing apparatus and control method

Номер патента: US12068208B2. Автор: Taro Ikeda,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09941097B2. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Kazuki Denpoh,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09899191B2. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Kazuki Denpoh,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Multi-zone heating apparatus, bottom electrode assembly, plasma processing apparatus, and temperature adjusting method

Номер патента: US12046458B2. Автор: Jie Du,Sha Rin. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2024-07-23.

Plasma processing device and plasma processing method

Номер патента: US09984906B2. Автор: Naoki Matsumoto,Yugo Tomita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-29.

Plasma processing method

Номер патента: US09972776B2. Автор: Naohiro Yamamoto,Masato Ishimaru,Makoto Suyama,Hidenori TOYOOKA,Norihiro HOSAKA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-15.

Plasma processing apparatus and operating method of plasma processing apparatus

Номер патента: US09934946B2. Автор: Yohei Kawaguchi,Masahito Togami,Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Component of a plasma processing apparatus having a protective in situ formed layer on a plasma exposed surface

Номер патента: US09449797B2. Автор: Harmeet Singh,Thorsten Lill. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Plasma processing apparatus and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230065586A1. Автор: Nobuhiko Hori. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-03-02.

Capacitive coupling plasma processing apparatus

Номер патента: US9412562B2. Автор: Shinji Himori,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Capacitive coupling plasma processing apparatus

Номер патента: US9038566B2. Автор: Shinji Himori,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-05-26.

Capacitive coupling plasma processing apparatus

Номер патента: US8070911B2. Автор: Shinji Himori,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-12-06.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20140073113A1. Автор: Yoichi Nakahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-03-13.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20140076848A1. Автор: Yoichi Nakahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-03-20.

Method and apparatus for processing wafers

Номер патента: WO2020005491A1. Автор: Ming Li,Benson Quyen TONG,Chander Radhakrishnan. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2020-01-02.

Plasma processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US9237638B2. Автор: Osamu Morita,Kiyotaka Ishibashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-01-12.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12112925B2. Автор: Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Masahiro Sumiya,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-08.

Plasma processing apparatus and measurement method

Номер патента: US09658106B2. Автор: Kohei Yamashita,Hirokazu Ueda,Yuuki Kobayashi,Peter L. G. Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Precleaning chamber and plasma processing apparatus

Номер патента: US20170330769A1. Автор: Peng Chen,Peijun Ding,Kui Xu,Mengxin Zhao,qing She,Guodong Bian. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-16.

Method of cleaning stage in plasma processing apparatus, and the plasma processing apparatus

Номер патента: US12090529B2. Автор: Junichi Sasaki,Takamitsu Takayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Methods for atomic level resolution and plasma processing control

Номер патента: US09978606B2. Автор: Ankur Agarwal. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-22.

Method of CVD plasma processing with a toroidal plasma processing apparatus

Номер патента: US09909215B2. Автор: William Holber,Robert J. BASNETT. Владелец: PLASMABILITY LLC. Дата публикации: 2018-03-06.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US09653334B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Atsushi Harikai,Mitsuru Hiroshima. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Plasma Processing Method

Номер патента: US20210142982A1. Автор: Tsuyoshi Moriya,Toshio Hasegawa,Shinya Iwashita,Naotaka Noro,Takamichi Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Plasma processing apparatus and temperature control method

Номер патента: US20190376185A1. Автор: Koji Maruyama,Akihiro Yokota,Kazuki Moyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-12.

Method For Processing Workpiece, Plasma Processing Apparatus And Semiconductor Device

Номер патента: US20230005739A1. Автор: FEI Yu,Junliang Li,Mengyang Xin. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-05.

Plasma processing apparatus and substrate support body

Номер патента: US20240266154A1. Автор: Shinya Ishikawa,Daiki HARIU,Haruka ENDO,Miyuki AOYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240290625A1. Автор: Masanori Hosoya,Mitsuhiro Iwano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Plasma processing method

Номер патента: US20240203751A1. Автор: Tatsuya Hayashi,Mineaki Kodama,Masashi Kawabata,Tomoyoshi Ichimaru,Yujiro YONEDA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240347325A1. Автор: Yuki Onodera,Takamitsu Takayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09574267B2. Автор: Toshihisa Nozawa,Shinji Komoto,Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Plasma processing apparatus utilizing a microwave window having a thinner inner area

Номер патента: US6091045A. Автор: Tomomi Murakami,Hiroshi Mabuchi,Katsuo Katayama,Toshihiro Hayami,Junya Tsuyuguchi,Hideo Ida,Naohiko Takeda. Владелец: Sumitomo Metal Industries Ltd. Дата публикации: 2000-07-18.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200303169A1. Автор: Hisanori Sakai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-09-24.

Plasma monitoring method and plasma monitoring system

Номер патента: US20150179417A1. Автор: Seiji Samukawa,Tomohiko Tatsumi. Владелец: Lapis Semiconductor Co Ltd. Дата публикации: 2015-06-25.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09631274B2. Автор: Toshihisa Nozawa,Shinji Komoto,Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-25.

Plasma processing device, and plasma processing method

Номер патента: US09601330B2. Автор: Tomohiro Okumura,Hiroshi Kawaura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Method and apparatus for performing plasma process on particles

Номер патента: US20020148812A1. Автор: Naoki Tamitani. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-17.

Plasma processing apparatus and plasma control method using magnetic field

Номер патента: US20230317427A1. Автор: Hyung Joon Kim,Duk Hyun SON,Dong Mok Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Plasma processing apparatus and substrate support of plasma processing apparatus

Номер патента: US11972933B2. Автор: Masahiro DOGOME. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Switchable matching network and an inductively coupled plasma processing apparatus having such network

Номер патента: US20200090908A1. Автор: Hiroshi Iizuka,Tuqiang Ni,Kui Zhao,Xiaobei Pang. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2020-03-19.

Component for plasma processing apparatus and method for manufacturing component for plasma processing apparatus

Номер патента: US09988702B2. Автор: Michio Sato,Takashi Hino,Masashi Nakatani. Владелец: Toshiba Materials Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200035501A1. Автор: Masahiro Tabata,Sho Kumakura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-01-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190096640A1. Автор: Noriyuki Kato. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12068139B2. Автор: Shin Matsuura,Jun Hirose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Plasma processing method

Номер патента: US12074033B2. Автор: Hitoshi Kobayashi,Masahito Mori,Ryota Takahashi,Chaomei Liu. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Microwave plasma source and plasma processing apparatus

Номер патента: US20160358757A1. Автор: Taro Ikeda,Tomohito Komatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-08.

Plasma processing method

Номер патента: US20240304456A1. Автор: Makoto Miura,Koichi Takasaki,Makoto Satake. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-12.

RF choke for gas delivery to an RF driven electrode in a plasma processing apparatus

Номер патента: US09761365B2. Автор: John M. White,Jozef Kudela,Carl A. Sorensen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-12.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20130029492A1. Автор: Masaki Fujii,Tetsuo Ono,Yoshiharu Inoue,Masakazu Miyaji,Michikazu Morimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-01-31.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220262631A1. Автор: Satoshi Itoh,Norifumi Kohama,Nathan Ip,Soudai EMORI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-18.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20210302841A1. Автор: Takahiro Kimura,Shohei Nakamura,Akira Horikoshi,Shigeru Takatsuji. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-30.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20210296090A1. Автор: Satoru Nakamura,Shinya Morikita,Fumiya TANIFUJI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-09-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230386794A1. Автор: Satoru Nakamura,Shinya Morikita,Fumiya TANIFUJI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Method and apparatus for providing mask in semiconductor processing

Номер патента: WO2007136515A1. Автор: Jonathan Kim,Camelia Rusu,Yoojin Kim. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2007-11-29.

Plasma processing apparatus and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20240203707A1. Автор: Seiwa NISHIO. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma processing apparatus and plasma etching method

Номер патента: US20200286737A1. Автор: Toshifumi Nagaiwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-09-10.

Plasma processing apparatus, and temperature control method

Номер патента: US12063717B2. Автор: Shinsuke Oka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Adjustment method for filter unit and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200126772A1. Автор: Nozomu Nagashima,Ryuichi Yui. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Methods and apparatus for in situ substrate temperature monitoring by electromagnetic radiation emission

Номер патента: US09945736B2. Автор: Enrico Magni. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-04-17.

Plasma processing apparatus and method therefor

Номер патента: US09620336B2. Автор: Shogo Okita. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Method of processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US09530657B2. Автор: Masahiro Ogasawara,Rui Takahashi,Masafumi Urakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US10297489B2. Автор: Akihiro Itou,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-21.

Method for Producing Plasma Flow, Method for Plasma Processing, Apparatus for Producing Plasma, and Apparatus for Plasma Processing

Номер патента: US20130034668A1. Автор: Yoshifumi Noguchi,Keisuke Sagisaka. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2013-02-07.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230420225A1. Автор: Shuhei Ogawa,Cedric THOMAS,Tejung HUANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240213002A1. Автор: Ikko Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200032395A1. Автор: Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Toru Hisamatsu,Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Michiko Nakaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-01-30.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200402805A1. Автор: Jun Abe,Kazunobu Fujiwara,Yusuke Aoki,Koichi Nagami,Shinya Morikita,Toshikatsu Tobana,Fumiya TAKATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-24.

Method and apparatus for controlling the temperature of a gas distribution plate in a process reactor

Номер патента: US20020155644A1. Автор: Guy Blalock,Kevin Donohoe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-24.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160358758A1. Автор: Toshihiko Iwao,Takahiro Hirano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20170092513A1. Автор: Toshiki Nakajima,Yoshihiro Umezawa,Yuki Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-30.

Plasma processing method

Номер патента: US09842750B2. Автор: Tetsuhiro Iwai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-12.

Substrate processing method

Номер патента: US09558962B2. Автор: Kandabara N. Tapily,Fumitaka Amano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Batch-type remote plasma processing apparatus

Номер патента: US09373499B2. Автор: Kazuyuki Toyoda,Yasuhiro Inokuchi,Motonari Takebayashi,Nobuo Ishimaru,Tadashi Kontani. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-06-21.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US5849455A. Автор: Shigenori Ueda,Junichiro Hashizume,Shinji Tsuchida. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1998-12-15.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200227241A1. Автор: Seiji Yokoyama,Shunichi Kawasaki,Taichi Okano,Sho Oikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-07-16.

Heat transfer plate for a showerhead electrode assembly of a capacitively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US20160079041A1. Автор: Sang Ki Nam,Rajinder Dhindsa,Ryan Bise. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-03-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12046453B2. Автор: Atsushi Kubo,Nobuhiko Yamamoto,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Bottom electrode assembly, plasma processing apparatus, and method of replacing focus ring

Номер патента: US12094693B2. Автор: Zengdi LIAN,Rason Zuo,Dee Wu,Jiangtao PEI. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing method

Номер патента: US09384992B2. Автор: Manabu Sato,Takanori Sato,Kazuki Narishige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-07-05.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20110092073A1. Автор: Takashi Hosono,Makoto Muto,Hideyuki Nitta,Takefumi Minato,Yoshihisa Kase. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2011-04-21.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220285169A1. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230360882A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230386787A1. Автор: Kiyoshi Maeda,Yasuhiko Saito,Atsutoshi Inokuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Plasma processing method, plasma processing apparatus, and control apparatus

Номер патента: US20210351010A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-11-11.

Plasma processing system and plasma processing method

Номер патента: US20240170258A1. Автор: Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20110088849A1. Автор: KATSUSHI Kishimoto,Yusuke Fukuoka. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2011-04-21.

Showerhead electrode assembly in a capacitively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US20150194291A1. Автор: Sang Ki Nam,Rajinder Dhindsa,Ryan Bise. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2015-07-09.

Systems and methods for electrical and magnetic uniformity and skew tuning in plasma processing reactors

Номер патента: WO2016014442A1. Автор: HAITAO Wang,Jie Zhou,Chunlei Zhang,S. M. Reza Sadjadi,Tza-Jing Gung,Fernando M. SILVEIRA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2016-01-28.

Plasma processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US12106945B2. Автор: Takafumi Noguchi,SIQING Lu,Cheonkyu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-01.

Plasma processing method

Номер патента: US09805917B2. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Heat transfer plate for a showerhead electrode assembly of a capacitively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US09396910B2. Автор: Sang Ki Nam,Rajinder Dhindsa,Ryan Bise. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-07-19.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: CA1299773C. Автор: Hiroshi Nishimura,Seitaro Matsuo,Mikiho Kiuchi. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1992-04-28.

Plasma processing method, plasma processing apparatus, and control apparatus

Номер патента: US11901158B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20210159089A1. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230377899A1. Автор: Takahiro Yonezawa,Tetsuya Nishizuka,Kenta Ono,Yusuke Takino. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Plasma processing apparatus and method for manufacturing mounting stage

Номер патента: US12033886B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Akira Nagayama,Ryo Chiba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Wafer to wafer bonding method and wafer to wafer bonding system

Номер патента: US20200043884A1. Автор: Sung-Hyup Kim,Joon-Ho Lee,Ki-ju SOHN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-02-06.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US7858155B2. Автор: Hiroyuki Ito,Tomohiro Okumura,Ichiro Nakayama,Bunji Mizuno,Yuichiro Sasaki,Cheng-Guo Jin,Katsumi Okashita,Satoshi Maeshima. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2010-12-28.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20210375588A1. Автор: Satoru Kawakami,Masaki Hirayama,Taro Ikeda. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2021-12-02.

Detection method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240030012A1. Автор: Naoki Matsumoto,Satoru Nakamura,Yusuke Shimizu,Toshihisa Ozu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Plasma processing apparatus, data processing apparatus and data processing method

Номер патента: US20160336154A1. Автор: Seiichi Watanabe,Satomi Inoue,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-17.

Plasma processing method

Номер патента: US20040157447A1. Автор: Tomohiro Okumura,Mitsuo Saitoh. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-12.

System, method, and program for predicting processing shape by plasma process

Номер патента: US09620338B2. Автор: Seiji Samukawa,Kohei Ono,Takuya Iwasaki. Владелец: Mizuho Information and Research Institute Inc. Дата публикации: 2017-04-11.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20240006188A1. Автор: Takahiro Yonezawa,Kenta Ono. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230282447A1. Автор: Takayuki Katsunuma,Takahiro Yonezawa,Koki Tanaka,Shinya Ishikawa,Sho Kumakura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Wafer processing apparatus and wafer processing method using the same

Номер патента: US11990348B2. Автор: Sunggil Kang,Dongkyu Shin,Hoseop Choi,Sangjin AN,Chanyeong JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-21.

Image-based digital control of plasma processing

Номер патента: WO2022164661A1. Автор: Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-08-04.

Method and system for balancing the electrostatic chucking force on a substrate

Номер патента: US20180330977A1. Автор: LEI Jing,Michael W. Johnson,Michael D. Armacost,Chong JIANG,Adolph Miller Allen,Pallavi ZHANG,Mingte Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-11-15.

Synchronized pulsing of plasma processing source and substrate bias

Номер патента: EP4231328A1. Автор: Kevin Fairbairn,Daniel Carter,Denis Shaw. Владелец: Aes Global Holdings Pte Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and dielectric window

Номер патента: US20230326716A1. Автор: Hiroshi Kaneko,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240120187A1. Автор: Sho Kumakura,Hironari SASAGAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Plasma Processing Method and Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20230420223A1. Автор: Soya Todo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Plasma processing method

Номер патента: US20100029024A1. Автор: Kenji Maeda,Masatoshi Miyake,Kenetsu Yokogawa,Masaru Izawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2010-02-04.

Plasma Processing Method and Plasma Processing System

Номер патента: US20230178343A1. Автор: Yoshihide Kihara,Kae Takahashi,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11862441B2. Автор: Sho Kumakura,Hironari SASAGAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11996268B2. Автор: Toshihiko Iwao. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-28.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US9324542B2. Автор: Takahiro Senda,Kazuki Takahashi,Naoki Matsumoto,Jun Yoshikawa,Kazuyuki Kato,Kenji Sudou,Yoshiyasu Sato,Naoki Mihara,Michitaka AITA,Yugo Tomita,Hitoshi Mizusugi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-04-26.

Forming method of component and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240234099A1. Автор: Kazuya Nagaseki,Michishige Saito,Shota Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Electrostatic chuck and plasma processing apparatus including the same

Номер патента: US20200161157A1. Автор: SeungBo SHIM,Myungsun Choi,Yongwoo Lee,Jaehak LEE,Youngjin Noh,Minyoung HUR. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-05-21.

Plasma processing apparatus and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20190371635A1. Автор: Tomoya Oori. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-12-05.

Electrostatic chuck assembly for plasma processing apparatus

Номер патента: US12119254B2. Автор: Maolin Long,Weimin Zeng. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09767993B2. Автор: Osamu Morita,Kiyotaka Ishibashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Insulated dielectric window assembly of an inductively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US09437400B2. Автор: Brett C. Richardson,David Setton,Gautam Bhattacharyya. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-09-06.

Method of surface plasma processing

Номер патента: RU2426608C2. Автор: МИХЕЛЬ Томас,Ойген ШЛИТТЕНХАРДТ. Владелец: Фраунхофер-Гезелльшафт Цур Фёрдерунг Дер Ангевандтен Форшунг Э.Ф.. Дата публикации: 2011-08-20.

Plasma processing method and plasma processing device

Номер патента: US20220199369A1. Автор: Mikio Sato,Nobuhiko Yamamoto,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-06-23.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20160293455A1. Автор: Tomohiro Okumura,Satoshi Suemasu. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-06.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240153742A1. Автор: Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Plasma processing apparatus and prediction method of the condition of plasma processing apparatus

Номер патента: US20190088455A1. Автор: Masahiro Sumiya,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Plasma processing apparatus and prediction method of the condition of plasma processing apparatus

Номер патента: US20210082673A1. Автор: Masahiro Sumiya,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-03-18.

Inspection method of plasma processing apparatus

Номер патента: US12046456B2. Автор: Masahiro Nagatani,Yusuke TAKEGAWA,Kota Kakimoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297021A1. Автор: Yoshinori Yoshida,Yutaka Kouzuma,Kazuyuki Hirozane. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Plasma processing apparatus and system

Номер патента: US12087591B2. Автор: Kazuya Nagaseki,Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240339305A1. Автор: Hajime Tamura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Plasma processing apparatus and upper electrode assembly

Номер патента: US09773647B2. Автор: Shin Matsuura,Jun Young Chung,Keita KAMBARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Plasma processing systems including side coils and methods related to the plasma processing systems

Номер патента: US09336996B2. Автор: Alex Paterson,Maolin Long. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-05-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US9685305B2. Автор: Koji Maruyama,Akira Koshiishi,Masato Horiguchi,Tetsuri Matsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-20.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220415628A1. Автор: Kazuhito Yamada,Masanori Takahashi,Shota Ezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-29.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11875978B2. Автор: Atsushi Sekiguchi,Miyako Matsui,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Tsubasa Okamoto,Naohiro Kawamoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-01-16.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240014006A1. Автор: Naoki Fujiwara,Takahiro Takeuchi,Mitsunori Ohata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Substrate processing method and substrate processing apparatus using the same

Номер патента: US20230260754A1. Автор: Yonggyu Han,DaeYoun Kim,KiChul Um,DooHan Kim. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-08-17.

Plasma processing method

Номер патента: US20190326103A1. Автор: Takahiro Murakami,Muneyuki Omi,Dai Igarashi,Rei Ibuka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-10-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220020574A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2022-01-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US9941133B2. Автор: Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Masahiro Sumiya,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20080217295A1. Автор: Seiichi Watanabe,Akitaka Makino,Naoki Yasui,Susumu Tauchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-09-11.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20200227270A1. Автор: Masahito Mori,Hayato Watanabe,Takao Arase,Taku Iwase,Satoshi Terakura. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-07-16.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11688585B2. Автор: Hiroyuki Matsuura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-27.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20180190502A1. Автор: Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Masahiro Sumiya,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-07-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20190333772A1. Автор: Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Masahiro Sumiya,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-10-31.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US9165780B2. Автор: Akira Shimizu,Yu WAMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-10-20.

Near-substrate supplemental plasma density generation with low bias voltage within inductively coupled plasma processing chamber

Номер патента: WO2018136121A1. Автор: Qing Xu,Qian Fu,Yiting Zhang,Saravanapriyan Sriraman,Alex Paterson,Ying Wu,Zhongkui Tan. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2018-07-26.

Methods for preventing plasma un-confinement events in a plasma processing chamber

Номер патента: US09928995B2. Автор: Andreas Fischer,Rajinder Dhindsa. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Plasma processing method

Номер патента: US11915951B2. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Kenetsu Yokogawa,Tomoyuki Watanabe,Masaru Izawa,Satoshi Sakai,Naoyuki Kofuji,Nobuya MIYOSHI,Kazunori Shinoda,Yutaka Kouzuma,Tatehito Usui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-02-27.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11862436B2. Автор: Toru Fujii,Kohei Otsuki,Yoshitomo Konta. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Control method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11887825B2. Автор: Mikio Sato,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Control method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210125814A1. Автор: Mikio Sato,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-04-29.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160225587A1. Автор: Masaki Fujii,Tetsuo Ono,Yoshiharu Inoue,Masakazu Miyaji,Michikazu Morimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-08-04.

Plasma processing system and method of supporting plasma ignition

Номер патента: US11923174B2. Автор: Yuji Kitamura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Plasma processing apparatus, wafer to wafer bonding system and wafer to wafer bonding method

Номер патента: US20240038536A1. Автор: Wooyoung Kim,Jiwon Moon,SeungDae SEOK,Yongin LEE,Donggap Shin,Bumki Moon,Siwoong Woo,Sehoon JANG,Inhwa Baek. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-01.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230326718A1. Автор: Yoshimitsu Kon,Takenobu Ikeda,Hikoichiro Sasaki,Shirong GUO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20210142988A1. Автор: Hiroyuki Matsuura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Method of processing substrate, device manufacturing method, and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210057212A1. Автор: Satoru Nakamura,Yusuke Aoki,Shinya Morikita,Toshikatsu Tobana. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-02-25.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20070235425A1. Автор: Tadahiro Ohmi,Masayuki Kitamura,Kazuaki Nishimura,Masaki Hirayama,Shinsuke Oka,Takahiro Horiguchi. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2007-10-11.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US7432468B2. Автор: Tadahiro Ohmi,Masayuki Kitamura,Kazuaki Nishimura,Masaki Hirayama,Shinsuke Oka,Takahiro Horiguchi. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2008-10-07.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240213000A1. Автор: Masanobu Honda,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Kazuki Moyama,Satoru TERUUCHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240222095A1. Автор: Takashi Yamamura,Yasutaka HAMA,Chunhsiang YANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Plasma processing assembly using pulsed-voltage and radio-frequency power

Номер патента: US11776789B2. Автор: Kartik Ramaswamy,James Rogers,Rajinder Dhindsa,Olivier Luere,Yue Guo,Leonid Dorf,Evgeny KAMENETSKIY,Linying CUI,Valentin N. Todorow,Daniel Sang BYUN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Method of obtaining a graded PECVD layer and plasma source assembly.

Номер патента: NL2016487A. Автор: Willemijn Petronel Elisabeth Lamers Machteld,Wouter Weeber Arthur. Владелец: STICHTING ENERGIEONDERZOEK CENTRUM NEDERLAND. Дата публикации: 2017-10-02.

Atmospheric plasma processing systems and methods for manufacture of microelectronic workpieces

Номер патента: US20180096827A1. Автор: Anton J. deVilliers,Mirko Vukovic,Brandon Byrns. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-05.

Restoring method for inner wall member of plasma processing apparatus

Номер патента: US20240240300A1. Автор: Taku Watanabe,Tadayoshi Kawaguchi,Shoichiro Mizunashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Method for cleaning plasma processing chamber and substrate

Номер патента: US09595448B2. Автор: Yu-Cheng Liu,Shih-Ping Hong. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Hollow cathode device and method for using the device to control the uniformity of a plasma process

Номер патента: US09455133B2. Автор: LIN Xu,Lee Chen,Kazuki Denpoh,Peter L G Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-27.

Method of processing substrate, device manufacturing method, and plasma processing apparatus

Номер патента: US11081351B2. Автор: Satoru Nakamura,Yusuke Aoki,Shinya Morikita,Toshikatsu Tobana. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-08-03.

Plasma processing-apparatus processing object support platform, plasma processing apparatus, and plasma processing method

Номер патента: US20190096731A1. Автор: Hideo Eto. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Radio frequency electrode assembly for plasma processing apparatus, and plasma processing apparatus

Номер патента: US11875970B2. Автор: Jie Liang,Weina Wang,Leyi Tu,Longbao Chen. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2024-01-16.

Plasma processing apparatus, impedance matching method, and plasma processing method

Номер патента: US20200203129A1. Автор: Shinji Kubota,Chishio Koshimizu,Takashi Dokan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-06-25.

Methods and apparatus for optimal temperature control in a plasma processing system

Номер патента: WO2006012021A2. Автор: Miguel A. Saldana,John E. Daugherty,Leonard J. Sharpless. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2006-02-02.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11972925B2. Автор: Ken Kobayashi,Mitsunori Ohata,Bong seong Kim,Yoon Ho BAE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Manufacturing method and inspection method of interior member of plasma processing apparatus

Номер патента: US11987880B2. Автор: Masaru Kurihara,Kazuhiro Ueda,Tomoyuki Tamura,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-05-21.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US11990323B2. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-21.

Method for preventing explosion of exhaust gas in decompression processing apparatus

Номер патента: US10168049B2. Автор: Norikazu Sasaki,Norihiko Amikura,Risako Miyoshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-01-01.

Method of obtaining a graded pecvd layer and plasma source assembly

Номер патента: WO2017164742A1. Автор: Arthur Wouter Weeber,Machteld Willemijn Petronel Elisabeth Lamers. Владелец: STICHTING ENERGIEONDERZOEK CENTRUM NEDERLAND. Дата публикации: 2017-09-28.

Member for plasma processing device and plasma processing device provided with same

Номер патента: US12065727B2. Автор: Shuichi Saito,Kazuhiro Ishikawa,Takashi Hino. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

Guard aperture to control ion angular distribution in plasma processing

Номер патента: US20160093409A1. Автор: Ludovic Godet,Sang Ki Nam. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-03-31.

Arrangement for plasma processing system control based on RF voltage

Номер патента: US09911577B2. Автор: John C. Valcore, JR.,Henry S. Povolny. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-06.

Microwave Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20070283887A1. Автор: Toshihisa Nozawa,Caizhong Tian. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-12-13.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11923229B2. Автор: Yusuke Aoki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Plasma Processing Apparatus and Plasma Processing Method

Номер патента: US20120145323A1. Автор: Hitoshi Tamura,Seiichi Watanabe,Naoki Yasui. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-06-14.

Plasma processing device, plasma processing method and method of manufacturing electronic devices

Номер патента: US20150118867A1. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-30.

Plasma processing method, plasma processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the apparatus

Номер патента: US20210202276A1. Автор: Jin-Young Park,Chan-hoon Park,Je-woo Han,Jong-Woo Sun,Seung-Yoon Song,Jung-Mo Sung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-07-01.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240194459A1. Автор: Masanobu Honda,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Kazuki Moyama,Satoru TERUUCHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Apparatus for monitoring a plasma process

Номер патента: US20230317439A1. Автор: Minsung Kim,Sungyeol KIM,Hosun Yoo,Taekjin Kim,Meehyun Lim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-10-05.

Plasma processing device

Номер патента: US20220277932A1. Автор: Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-01.

Arrangement for plasma processing system control based on RF voltage

Номер патента: US09455126B2. Автор: John C. Valcore, JR.,Henry S. Povolny. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-09-27.

Plasma-enhanced etching in an augmented plasma processing system

Номер патента: US09418859B2. Автор: Andrew D. Bailey, III,Rajinder Dhindsa,Eric A. Hudson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-08-16.

Plasma processing methods and apparatus

Номер патента: WO1999026796A1. Автор: Oleg Siniaguine. Владелец: Trusi Technologies, Llc. Дата публикации: 1999-06-03.

Electron beam generator, plasma processing apparatus having the same and plasma processing method using the same

Номер патента: US11195696B2. Автор: Akira Koshiishi,Soonam Park,Dongkyu Shin,Kyuhee Han,Sangki NAM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-12-07.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20170298514A1. Автор: Toshihiko Iwao,Takaaki Kato,Takahiro Hirano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-19.

Plasma processing apparatus and plasma state estimation method

Номер патента: US20240030015A1. Автор: Eiki Kamata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US7895971B2. Автор: Toshihisa Nozawa,Caizhong Tian. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-03-01.

Lower electrode and plasma processing apparatus

Номер патента: US20150206722A1. Автор: Takashi Yamamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-07-23.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200365380A1. Автор: Takehiro Ueda,Jun Hirose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-11-19.

Method and apparatus for precleaning a substrate surface prior to epitaxial growth

Номер патента: US09683308B2. Автор: Lara Hawrylchak,Saurabh Chopra,Christopher S. Olsen,Jeffrey Tobin,Peter Stone,Theresa K. Guarini,Chi Wei Lo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-06-20.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20090229755A1. Автор: Tadahiro Ohmi,Masaki Hirayama,Tetsuya Goto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-09-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US11908663B2. Автор: Taro Ikeda,Toshifumi KITAHARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Plasma processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20150371832A1. Автор: Yukinori Aburatani,Shin Hiyama,Hidehiro Yanai,Toshiya Shimada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2015-12-24.

Plasma processing method

Номер патента: US20170278676A1. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-28.

Plasma processing method

Номер патента: US20170178925A1. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20160293469A1. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-06.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20160293456A1. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-06.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20230420220A1. Автор: Kenta Doi,Toshiyuki Nakamura,Yasuhiro Morikawa,Taichi Suzuki. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Structure and method for dealing with parasitic plasma in plasma processing device

Номер патента: EP4353865A1. Автор: CHEN CHEN,Dengzhi WANG,Fengming WANG,Qingyuan QU,Xueyong HE,Wangjun LI. Владелец: Suzhou Maizheng Technology Co ltd. Дата публикации: 2024-04-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20180122665A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Kenetsu Yokogawa,Tomoyuki Watanabe,Masaru Izawa,Satoshi Sakai,Naoyuki Kofuji,Nobuya MIYOSHI,Kazunori Shinoda,Yutaka Kouzuma,Tatehito Usui. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-03.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11967485B2. Автор: Mikio Sato,Nobuhiko Yamamoto,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160079043A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Makoto Nawata,Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-03-17.

Cleaning method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240170267A1. Автор: Yoshiki Nakano,Kenichi KOTE,Takafumi Nogami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US9607874B2. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Makoto Nawata,Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12014930B2. Автор: Masanori Hosoya,Mitsuhiro Iwano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-18.

Apparatus for ion energy analysis of plasma processes

Номер патента: US12136542B2. Автор: James Doyle,Tigran Poghosyan,Paul Scullin,David Gahan,J J Lennon. Владелец: IMPEDANS LTD. Дата публикации: 2024-11-05.

Plasma processing chamber with a grounded electrode assembly

Номер патента: US09905402B2. Автор: Arnold Kholodenko,Anwar Husain. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Modifying work function of a metal film with a plasma process

Номер патента: US20180218911A1. Автор: WEI Liu,Johanes S. Swenberg,Houda Graoui,Steven C. H. Hung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-08-02.

Plasma processing method, semiconductor substrate, and plasma processing device

Номер патента: TW200423825A. Автор: Junichi Kitagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2004-11-01.

METHOD AND APPARATUS FOR PLASMA PROCESSING

Номер патента: US20140302682A1. Автор: ONO Tetsuo,Ohgoshi Yasuo,MUTO Satoru,EITOKU Hirofumi. Владелец: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2014-10-09.

Method and device for plasma processing

Номер патента: JPS63288021A. Автор: Yoshimichi Hirobe,Katsuyoshi Kudo,Yoshinao Kawasaki,Hironori Kawahara,Yutaka Kakehi,義直 川崎,勝義 工藤,掛樋　豊,川原　博宣,広部　嘉道. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1988-11-25.

Post-plasma processing wafer cleaning method and system

Номер патента: TW473780B. Автор: Julia S Svirchevski,Katrina A Mikhaylich,Jeffrey J Farber. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2002-01-21.

Post-plasma processing wafer cleaning method and system

Номер патента: EP1188177A1. Автор: Katrina A. Mikhaylich,Julia S. Svirchevski,Jeffrey J. Farber. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-03-20.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: JPS61208222A. Автор: Yoshinao Kawasaki,義直 川崎. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1986-09-16.

Methods and apparatus for plasma processing control

Номер патента: WO2003096382A2. Автор: Satyendra Kumar,Devendra Kumar. Владелец: Dana Corporation. Дата публикации: 2003-11-20.

Substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240247367A1. Автор: Arito Ogawa,Koei KURIBAYASHI. Владелец: Kodusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing method, computer readable storage medium and substrate processing apparatus

Номер патента: TW201133160A. Автор: Keiichi Tanaka,Yoshiaki Yamada,Hitoshi Kosugi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-10-01.

Method and apparatus for starting process task in semiconductor process device

Номер патента: EP4199039A1. Автор: Fangna WU,Sixue SHI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-21.

Nozzle cleaning method, substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and program

Номер патента: KR20220131173A. Автор: 타케오 하나시마,카즈히로 하라다,타쿠로 우시다. Владелец: 가부시키가이샤 코쿠사이 엘렉트릭. Дата публикации: 2022-09-27.

O3 equipment tail gas processing method and O3 equipment tail gas processing apparatus

Номер патента: CN105118892A. Автор: 彭义富. Владелец: Hubei Tianhe Optical Energy Co Ltd. Дата публикации: 2015-12-02.

Thin film semiconductor, manufacturing method and manufacturing apparatus and image processing apparatus

Номер патента: KR920010885A. Автор: 야스히로 모찌즈끼,카즈히로 오가와,타카시 아오야마,나오히로 몬마,카쯔히사 우사미. Владелец: 카나이 쯔또무. Дата публикации: 1992-06-27.

METHOD AND APPARATUS TO MONITOR A PROCESS APPARATUS

Номер патента: US20190214318A1. Автор: MULKENS Johannes Catharinus Hubertus,Gemmink Jan-Willem,TEN BERGE Peter,MASLOW Mark John,Van De Mast Franciscus,REIJNEN Liesbeth. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2019-07-11.

Method and apparatus to monitor a process apparatus

Номер патента: EP3291008A1. Автор: Johannes Catharinus Hubertus Mulkens,Franciscus Van De Mast,Peter Ten Berge,Mark John MASLOW,Jan-Willem GEMMINK,Liesbeth REIJNEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-03-07.

Method for detecting abnormal placement state of substrate, substrate processing method, computer-readable storage medium and substrate processing apparatus

Номер патента: CN101990707B. Автор: 茅野孝,五味晓志,宫下晃一,长泽稔,江田淑惠. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-03-06.

Processing method, processing member, production method therefor, and processing apparatus

Номер патента: WO2020066282A1. Автор: 千恵 金子. Владелец: 日立化成株式会社. Дата публикации: 2020-04-02.

Method for detecting abnormal mounting state of substrate, substrate processing method, computer-readable storage medium, and substrate processing apparatus

Номер патента: JP5501718B2. Автор: 晃一 宮下,稔 長澤,孝 茅野,暁志 五味,淑恵 江田. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-05-28.

Substrate processing method, method for manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and program

Номер патента: CN115810542A. Автор: 桥本良知,中谷公彦,早稻田崇之,宫田翔马. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-17.

Substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and program

Номер патента: KR102422162B1. Автор: 요시토모 하시모토,다츠루 마츠오카. Владелец: 가부시키가이샤 코쿠사이 엘렉트릭. Дата публикации: 2022-07-18.

Substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240222112A1. Автор: Takashi Ozaki,Naonori Akae,Tomiyuki SHIMIZU. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Coating processing method, program, computer storage medium, and coating processing apparatus

Номер патента: JP5091764B2. Автор: 孝介 吉原,克憲 一野,智弘 井関. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-12-05.

Method and system to monitor a process apparatus

Номер патента: US20200124968A1. Автор: Paul Christiaan Hinnen,Wim Tjibbo Tel,Frank Staals,Mark John MASLOW. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-04-23.

Method and system to monitor a process apparatus

Номер патента: EP3290911A1. Автор: Paul Christiaan Hinnen,Wim Tjibbo Tel,Frank Staals,Mark John MASLOW. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-03-07.

Method and system to monitor a process apparatus

Номер патента: WO2018041513A1. Автор: Paul Christiaan Hinnen,Wim Tjibbo Tel,Frank Staals,Mark John MASLOW. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2018-03-08.

Inspection method and storage medium for substrate processing apparatus

Номер патента: JP5271525B2. Автор: 智也 小泉. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-08-21.

Method and system to monitor a process apparatus

Номер патента: KR102308128B1. Автор: 빔 티보 텔,프랭크 스탈스,마크 존 매슬로우,폴 크리스티안 힌넨. Владелец: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.. Дата публикации: 2021-10-05.

Method and device for plasma processing of material

Номер патента: GB2271124A. Автор: Pavel Pavlovich Kulik,Oleg Vyacheslavovich Sinyagin,Iskander Malikovich Tokmulin,Vyacheslav Gennadie Shamshurin,Vladimir Valentinovic Zakharov,Nikolai Vasilievich Ermokhin. Владелец: OPA. Дата публикации: 1994-04-06.

Information processing system, information processing method, information processing apparatus, and control method and control program of information processing apparatus

Номер патента: US09509950B2. Автор: Yoshikazu Kobayashi. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Image Processing Apparatus, Projector, Image Processing Method, and Method For Controlling Image Processing Apparatus

Номер патента: US20090051816A1. Автор: Katsuya Ota. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2009-02-26.

Image processing apparatus, projector, image processing method, and method for controlling image processing apparatus

Номер патента: US8654257B2. Автор: Katsuya Ota. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2014-02-18.

Communication processing system, communication processing method, communication processing apparatus, communication managing apparatus, and control methods and control programs of communication processing apparatus and communication managing apparatus

Номер патента: US20200304341A1. Автор: Takeshi Hayashi. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2020-09-24.

Information processing method, carrier means, image forming apparatus, information processing apparatus, and information processing system

Номер патента: EP3647876A1. Автор: Masato Tanaka,Keiji Kunimi,Hiroki Matsuura. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-06.

Display control method and display control apparatus, video processing apparatus, and display system

Номер патента: US20240107112A1. Автор: Xinyi CHENG. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Information Processing Method, and Recording Medium and Information Processing Apparatus Therefor

Номер патента: US20100131223A1. Автор: Toshihiro Shima,Yuki Dogo,Kyoichi Kamijima,Byonhee Ryu. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2010-05-27.

Methods and apparatus for testing image processing apparatus

Номер патента: US5309376A. Автор: Ignazio Barraco,James Bradshaw. Владелец: Crosfield Electronics Ltd. Дата публикации: 1994-05-03.

Information processing system, information processing method, non-transitory recording medium, and information processing apparatus

Номер патента: US11973905B2. Автор: Makoto Aoki,Hajime Kawasaki. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Information processing system, information processing method, non-transitory recording medium, and information processing apparatus

Номер патента: US20230308558A1. Автор: Makoto Aoki,Hajime Kawasaki. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Image processing method, storage medium storing program and image processing apparatus

Номер патента: US20070263942A1. Автор: Keiji Hirose,Kon Ko. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2007-11-15.

Graph data processing method, method and device for publishing graph data computational tasks, storage medium, and computer apparatus

Номер патента: US11847488B2. Автор: QIAN CHEN,Bo Zheng,Zhibin Liu,Rijia LIU. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-19.

Method and device for increasing lateral uniformity and density of low-temperature plasma in wide-aperture microelectronics process reactors

Номер патента: RU2771009C1. Автор: Владимир Федорович Лукичев,Константин Васильевич Руденко,Юрий Федорович Семин,Сергей Николаевич Аверкин,Андрей Валерьевич Мяконьких,Александр Павлович Антипов,Алексей Анатольевич Рылов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Физико-технологический институт имени К.А. Валиева Российской академии наук. Дата публикации: 2022-04-25.

Wafer processing method and wafer processing apparatus

Номер патента: SG132691A1. Автор: Isamu Kawashima. Владелец: Tokyo Seimitsu Co Ltd. Дата публикации: 2007-06-28.

Plasma processing method and method for fabricating electronic component module using the same

Номер патента: EP1709674A1. Автор: Masaru Matsushita El.Ind.Co.Ltd. NONOMURA,Tatsuhiro Matsushita El. Ind. Co. MIZUKAMI. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2006-10-11.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: US20050037629A1. Автор: Ichiro Nakayama,Yoshihiro Yanagi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-02-17.

High frequency power source, plasma processing apparatus, inspection method for plasma processing apparatus, and plasma processing method

Номер патента: US20020113738A1. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2002-08-22.

Plasma processing method

Номер патента: US20020173161A1. Автор: Kiyoshi Arita,Tetsuhiro Iwai. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2002-11-21.

De-chuck control method and control device for plasma processing apparatus

Номер патента: US09466519B2. Автор: Atsushi Kawabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-11.

De-chuck control method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09966291B2. Автор: Junichi Sasaki,Masaaki Miyagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Method for fabricating electronic component module using a plasma processing method

Номер патента: MY137638A. Автор: Masaru Nonomura,Tatsuhiro Mizukami. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2009-02-27.

Plasma processing method

Номер патента: US09506154B2. Автор: Takahiro Abe,Takeshi Shimada,Masato Ishimaru,Makoto Suyama. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Plasma processing apparatus and lamination system for secondary battery comprising same

Номер патента: EP4428972A1. Автор: Sang-kyun Lee,Yong-Tae Lee,Hun-Hyeong Lee,Man-Woong HAN. Владелец: LG Energy Solution Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Method of adsorbing target object on mounting table and plasma processing apparatus

Номер патента: US09953854B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Akihito FUSHIMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Plasma processing method

Номер патента: US20240321583A1. Автор: Miyako Matsui,Kenichi Kuwahara. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Processing method of wafer

Номер патента: US20240312824A1. Автор: Masaru Nakamura. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device manufacturing apparatus

Номер патента: US8101507B2. Автор: Shigeru Tahara,Ryuichi Asako,Gousuke Shiraishi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-01-24.

Plasma processing method

Номер патента: US6723651B2. Автор: Kiyoshi Arita,Shoji Sakemi,Tetsuhiro Iwai. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2004-04-20.

Ashing method and ashing device

Номер патента: US20110143546A1. Автор: Katsuhiro Yamazaki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-06-16.

Processing method for semiconductor surface defects and preparation method for semiconductor devices

Номер патента: US12033857B2. Автор: Xianghong Jiang. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-07-09.

Modification processing method and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09911596B2. Автор: Kazuaki Nishimura,Tamotsu Morimoto,Yusuke Muraki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-06.

Reactor for plasma processing of semiconductor structures

Номер патента: RU2670249C1. Автор: Владимир Борисович Павлов,Александр Кириллович Петров,Наталья Борисовна Гусева,Вадим Александрович Сологуб,Александр Арменакович Айрапетов,Вадим Васильевич Одиноков,Георгий Яковлевич Павлов,Александр Михайлович Никонов,Михаил Георгиевич Бирюков,Константин Викторович Вавилин,Елена Александровна Кралькина,Полина Алексеевна Неклюдова,Елена Владимировна Карпенкова. Владелец: Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт точного машиностроения". Дата публикации: 2018-10-19.

Electrostatic clamping method and apparatus

Номер патента: US09793149B2. Автор: Michael Cooke,Yiping Song,Joao L G Ferreira. Владелец: OXFORD INSTRUMENTS NANOTECHNOLOGY TOOLS LTD. Дата публикации: 2017-10-17.

Image-based digital control of plasma processing

Номер патента: US12027426B2. Автор: Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-02.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20190378730A1. Автор: Toru Hisamatsu,Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-12.

Radical deactivation component, plasma processing apparatus using the same and radical deactivation method

Номер патента: US20190362939A1. Автор: Koji Yamagishi,Shinji Maekawa,Shota SASAKI,Daisuke Yoshikoshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-11-28.

Methods for etching metal films using plasma processing

Номер патента: US12057322B2. Автор: Qingyun Yang,Nathan P. Marchack,Devi Koty,Sebastian Ulrich Engelmann,Nicholas Joy. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Single crystal cathode materials using microwave plasma processing

Номер патента: CA3197618A1. Автор: Richard K. Holman,Adrian Pullen,John COLWELL,Gregory M. WROBEL. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2022-07-28.

Single crystal cathode materials using microwave plasma processing

Номер патента: EP4281215A1. Автор: Richard K. Holman,Adrian Pullen,John COLWELL,Gregory M. WROBEL. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2023-11-29.

Methods and apparatus for integrating and controlling a plasma processing system

Номер патента: US20120138085A1. Автор: Chung-Ho Huang,Cheng-Chieh Lin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-06-07.

Plasma processing of lithium transition metal oxides for lithium ion batteries

Номер патента: EP3897963A1. Автор: Richard K. Holman,Kamal Hadidi,Gregory Wrobel. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2021-10-27.

Component of substrate processing apparatus and method for forming a film thereon

Номер патента: US09828690B2. Автор: Koji Mitsuhashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

High selective ratio and high and uniform plasma processing method and system

Номер патента: US20030183599A1. Автор: Toshio Hayashi,Masashi Kikuchi,Hitoshi Ikeda,Kiyoshi Kuwahara,Takaei Sasaki,Noriyuki Harashima. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-02.

High selective ratio and high and uniform plasma processing method and system

Номер патента: US20060124245A1. Автор: Toshio Hayashi,Masashi Kikuchi,Hitoshi Ikeda,Kiyoshi Kuwahara,Takaei Sasaki,Noriyuki Harashima. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-06-15.

Plasma processing apparatus, thermal resistance acquisition method, and thermal resistance acquisition program

Номер патента: US20220084850A1. Автор: Shinsuke Oka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-17.

Plasma oxidizing method, plasma processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US20100015815A1. Автор: Takashi Kobayashi,Nobuhiko Yamamoto,Junichi Kitagawa,Yoshiro Kabe,Hikaru Adachi,Toshihiko Shiozawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-01-21.

Signal processing apparatus, signal processing method and receiving system

Номер патента: RU2459234C2. Автор: Такаси Ёкокава,Казухиро СИМИЦУ,Джон УИЛСОН,Сэмюель АТУНГСИРИ. Владелец: Сони Корпорейшн. Дата публикации: 2012-08-20.

Digital image signal processing method, medium for recording the method, and digital image signal processing apparatus

Номер патента: US09426359B2. Автор: Jang-Won Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-08-23.

Multimedia conference data processing method and apparatus, and electronic device

Номер патента: US11758087B2. Автор: MAO Li,Bin Cheng,Yuze GAO,Jingsheng Yang. Владелец: Douyin Vision Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-12.

Information processing apparatus, information processing method, and program

Номер патента: US11743520B2. Автор: Toshiya Hamada,Mitsuru Katsumata,Naotaka OJIRO. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2023-08-29.

All-around moving image distribution system, all-around moving image distribution method, image processing apparatus, communication terminal apparatus, and control methods and control programs of image processing apparatus and communication terminal apparatus

Номер патента: US09741091B2. Автор: Fumiaki Kobayashi,Shunichiro SATORI. Владелец: Unimoto Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Communication method and control method in information processing apparatus

Номер патента: US12068908B2. Автор: Yusuke Matsui. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-08-20.

Information processing method, device and apparatus, and computer readable storage medium

Номер патента: EP4007425A1. Автор: Li Chen,Erlin Zeng,Yali Zhao. Владелец: Datang Mobile Communications Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-01.

Information processing method, device and apparatus, and computer-readable storage medium

Номер патента: US20220322455A1. Автор: Li Chen,Erlin Zeng,Yali Zhao. Владелец: Datang Mobile Communications Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2022-10-06.

Data processing method

Номер патента: US09749396B2. Автор: Koji Kurihara,Takahisa Suzuki,Koichiro Yamashita,Hiromasa Yamauchi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2017-08-29.

Apparatus, method, and recording medium of information processing

Номер патента: US09641527B2. Автор: Hiroaki Uchiyama. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-02.

Method and device for plasma processing of material

Номер патента: WO1992012273A1. Автор: Pavel Pavlovich Kulik,Oleg Vyacheslavovich Sinyagin,Iskander Malikovich Tokmulin,Nikolai Vasilievich Ermokhin,Vyacheslav Gennadievich Shamshurin,Vladimir Valentinovich Zakharov. Владелец: Inzhenerny Tsentr ''plazmodinamika''. Дата публикации: 1992-07-23.

Information processing apparatus, information processing method and recording medium

Номер патента: RU2666967C2. Автор: Кохити ХИРАИ,Тадаси НАГАТА. Владелец: РИКОХ КОМПАНИ, ЛТД.. Дата публикации: 2018-09-13.

Authentication information processing method and apparatus and user terminal including authentication information processing method apparatus

Номер патента: EP3876120A1. Автор: Dong Hyun Kim,Jae Seong Lee. Владелец: ICTK Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-08.

Information processing method, computer-readable recording medium, and information processing apparatus

Номер патента: US09860060B2. Автор: Masahiko Takenaka,Masaya Yasuda,Yumi Sakemi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Image processing apparatus, image processing system, image processing method, and program

Номер патента: AU2021269399B2. Автор: Yasufumi Takama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-09-28.

COMMUNICATION PROCESSING SYSTEM, COMMUNICATION PROCESSING METHOD, COMMUNICATION PROCESSING APPARATUS, COMMUNICATION MANAGING APPARATUS, AND CONTROL METHODS AND CONTROL PROGRAMS OF COMMUNICATION PROCESSING APPARATUS AND COMMUNICATION MANAGING APPARATUS

Номер патента: US20200304341A1. Автор: Hayashi Takeshi. Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2020-09-24.

File processing method, file processing apparatus and electronic equipment

Номер патента: WO2016185258A1. Автор: Vinvent GUO. Владелец: Sony Mobile Communications (Usa) Inc.. Дата публикации: 2016-11-24.

Device, Differential Signal Line Processing Method and Differential Signal Line Processing Apparatus

Номер патента: US20190199314A1. Автор: Fangxi Hou. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2019-06-27.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, INFORMATION PROCESSING METHOD, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND CONTROL METHOD AND CONTROL PROGRAM OF INFORMATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20150116447A1. Автор: KOBAYASHI Yoshikazu. Владелец: . Дата публикации: 2015-04-30.

COMMUNICATION PROCESSING SYSTEM, GROUP MESSAGE PROCESSING METHOD, COMMUNICATION PROCESSING APPARATUS, AND CONTROL METHOD AND CONTROL PROGRAM OF COMMUNICATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20180279090A1. Автор: YAMADA Toru,Hasegawa Satoshi,Serizawa Masahiro,OKUYAMA Yumiko,SHIMOMA Masashi,KAMEI Akira,HIRATA Kyoji,SUGANO Hotaka. Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2018-09-27.

Information processing system, information processing method, information processing apparatus, and control method and control program of information processing apparatus

Номер патента: CA2867561A1. Автор: Yoshikazu Kobayashi. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2013-10-03.

Printing system, information processing apparatus, and method and program for controlling information processing apparatus

Номер патента: US20200036849A1. Автор: Nobuhiro Kawamura,Yusuke Kimura,Hiroya Igarashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-01-30.

ALL-AROUND MOVING IMAGE DISTRIBUTION SYSTEM, ALL-AROUND MOVING IMAGE DISTRIBUTION METHOD, IMAGE PROCESSING APPARATUS, COMMUNICATION TERMINAL APPARATUS, AND CONTROL METHODS AND CONTROL PROGRAMS OF IMAGE PROCESSING APPARATUS AND COMMUNICATION TERMINAL APPARATUS

Номер патента: US20170169540A1. Автор: KOBAYASHI Fumiaki,SATORI Shunichiro. Владелец: UNIMOTO INCORPORATED. Дата публикации: 2017-06-15.

Image processing apparatus, image processing method, and program for controlling image processing apparatus

Номер патента: US7953807B2. Автор: Hiroki Shono. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-05-31.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20230171362A1. Автор: Daitetsu Amada. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Information processing apparatus and information processing method of giving, transferring and releasing a usage right

Номер патента: US11856173B2. Автор: Daitetsu Amada. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Information processing system method, and program, registering an image processing apparatus via an information processing apparatus at a server apparatus

Номер патента: EP4064083A1. Автор: Kohtaro Koike. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-09-28.

Business support system, business support method, information processing apparatus, communication device, and control methods and control programs of information processing apparatus and communication device

Номер патента: US10382612B2. Автор: Satoshi Kimura,Kazumi Hatakeyama. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2019-08-13.

BUSINESS SUPPORT SYSTEM, BUSINESS SUPPORT METHOD, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, COMMUNICATION DEVICE, AND CONTROL METHODS AND CONTROL PROGRAMS OF INFORMATION PROCESSING APPARATUS AND COMMUNICATION DEVICE

Номер патента: US20170289342A1. Автор: Kimura Satoshi,HATAKEYAMA Kazumi. Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2017-10-05.

Information processing apparatus, information processing apparatus control method, and recording medium storing information processing apparatus control program

Номер патента: JP5565142B2. Автор: 真敏 木村. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2014-08-06.

PRINTING SYSTEM, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND METHOD AND PROGRAM FOR CONTROLLING INFORMATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20200036849A1. Автор: Igarashi Hiroya,Kimura Yusuke,Kawamura Nobuhiro. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-30.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS AND METHOD AND PROGRAM FOR CONTROLLING INFORMATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20180042056A1. Автор: Hosoda Yasuhiro. Владелец: . Дата публикации: 2018-02-08.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND METHOD AND PROGRAM FOR CONTROLLING INFORMATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20160269384A1. Автор: Suga Daisuke. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-15.

CONTROL SYSTEM FOR INFORMATION PROCESSING APPARATUS USING PORTABLE TERMINAL, PORTABLE TERMINAL, AND CONTROL METHOD AND CONTROL PROGRAM FOR INFORMATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20160360477A1. Автор: MORI Yuji,Saeki Takashi,HOSOZAWA Kazumasa. Владелец: . Дата публикации: 2016-12-08.

Image processing method, printer driver, image forming apparatus, image processing apparatus, and image forming system

Номер патента: JP4583887B2. Автор: 雅一 吉田,政徳 平野,茂高 榊原. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2010-11-17.

Printing system, information processing apparatus, and method and program for controlling information processing apparatus

Номер патента: EP3599548B1. Автор: Nobuhiro Kawamura,Yusuke Kimura,Hiroya Igarashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-03-27.

MAINTENANCE METHOD AND MAINTENANCE APPARATUS FOR INFORMATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20150131119A1. Автор: NARAHASHI Masaki,KAMISUWA Yoshikatsu,MIYAZAKI Sou,MURAKAMI Reiji. Владелец: . Дата публикации: 2015-05-14.

MAINTENANCE METHOD AND MAINTENANCE APPARATUS FOR INFORMATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20150138579A1. Автор: NARAHASHI Masaki,KAMISUWA Yoshikatsu,MIYAZAKI Sou,MURAKAMI Reiji. Владелец: . Дата публикации: 2015-05-21.

IMAGE PROCESSING METHOD, COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM, AND IMAGE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20140043504A1. Автор: ITO Kensei,TOIDA Maki,SAKUMA Izumi. Владелец: OLYMPUS IMAGING CORP.. Дата публикации: 2014-02-13.

Information processing method, computer-readable recording medium, and information processing apparatus

Номер патента: US20160204936A1. Автор: Masahiko Takenaka,Masaya Yasuda,Yumi Sakemi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2016-07-14.

Data processing method in network system connected with image processing apparatus

Номер патента: US20040057068A1. Автор: Toshihiro Kadowaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-03-25.

Data processing method in network system connected with image processing apparatus

Номер патента: US8014019B2. Автор: Toshihiro Kadowaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-09-06.

MOTION OR DEPTH ESTIMATION METHOD AND ESTIMATION UNIT, AND IMAGE PROCESSING APPARATUS HAVING SUCH MOTION ESTIMATION UNIT

Номер патента: JP2004534336A. Автор: アーンスト，ファビアン，イー,ウィリンスキ，ピオトル,オバーヴェルト，コーリウス，ダブリュー．，エイ．，エム ファン. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2004-11-11.

Data processing method in network system connected with image processing apparatus

Номер патента: US7154618B2. Автор: Toshihiro Kadowaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-12-26.

Image processing method, encoding device, decoding device, and image processing apparatus

Номер патента: CN102905126A. Автор: 新井洋. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2013-01-30.

Method and device for handling intersecting processes, apparatus, and storage medium

Номер патента: EP4044674A4. Автор: Yi Yang,MIN Yang,Gaopeng Du,Juntao Wang,Pengzhou Yan. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2023-11-15.

COMMUNICATION METHOD AND CONTROL METHOD IN INFORMATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20200204435A1. Автор: MATSUI Yusuke. Владелец: . Дата публикации: 2020-06-25.

Operating method and carrier cart for laser processing apparatus

Номер патента: JP2005527376A. Автор: ディートリヒ シュテファン,シュヒャルト ヨハネス. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2005-09-15.

GRAPH DATA PROCESSING METHOD, METHOD AND DEVICE FOR PUBLISHING GRAPH DATA COMPUTATIONAL TASKS, STORAGE MEDIUM, AND COMPUTER APPARATUS

Номер патента: US20200364084A1. Автор: Chen Qian,Zheng Bo,LIU Zhibin,LIU Rijia. Владелец: . Дата публикации: 2020-11-19.

Graph data processing method, method and device for publishing graph data computational tasks, storage medium, and computer apparatus

Номер патента: EP3771179A4. Автор: QIAN CHEN,Bo Zheng,Zhibin Liu,Rijia LIU. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-19.

Switch processing method, method and device for relocating terminal path

Номер патента: WO2011020239A1. Автор: 王燕,陈卓,张亮亮,焦斌,李亚娟,常俊仁,彭炎. Владелец: 华为技术有限公司. Дата публикации: 2011-02-24.

Information processing apparatus, tape printing apparatus, and method and program for controlling information processing apparatus

Номер патента: US20220288948A1. Автор: Hidetaka Watanabe. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2022-09-15.

User instruction recognition system, user instruction recognition method, information processing apparatus, portable terminal, and control methods and control programs of information processing apparatus and portable terminal

Номер патента: US20150277547A1. Автор: Yoshikazu Kobayashi. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2015-10-01.

Processing method of sound watermark and sound watermark processing apparatus

Номер патента: US12106764B2. Автор: Jia-Ren Chang,Po-Jen Tu,Kai-Meng Tzeng. Владелец: Acer Inc. Дата публикации: 2024-10-01.

Image processing method, imaging apparatus using the same, image processing apparatus, storage medium, and lens apparatus

Номер патента: US10949955B2. Автор: Takashi Oniki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-03-16.

Image processing method, program of the same, and image processing apparatus for searching images and producing realistic images

Номер патента: US7110615B2. Автор: Hideyasu Karasawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-09-19.

Image processing method, program of the same, and image processing apparatus

Номер патента: US20030165257A1. Автор: Hideyasu Karasawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-04.

Recording sheet usage count evaluation method and apparatus, and medical image processing apparatus

Номер патента: US20060219964A1. Автор: Naoki Mochizuki,Yasunori Ohta. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-10-05.

Information processing apparatus, information processing method, method, and information processing program

Номер патента: US10936850B2. Автор: Yutaka Hasegawa,Yoichi Mizutani,Naoki Tagami,Shigeatsu Yoshioka. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2021-03-02.

Information processing apparatus, information processing method, method, and information processing program

Номер патента: US20200151420A1. Автор: Yutaka Hasegawa,Yoichi Mizutani,Naoki Tagami,Shigeatsu Yoshioka. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2020-05-14.

Information processing apparatus, tape printing apparatus, and method and program for controlling information processing apparatus

Номер патента: US11904616B2. Автор: Hidetaka Watanabe. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-02-20.

Information processing method, non-transitory recording medium, and information processing apparatus

Номер патента: US11604507B2. Автор: Taiki Komoda. Владелец: Jins Holdings Inc. Дата публикации: 2023-03-14.

Information Processing Method, Non-Transitory Recording Medium, and Information Processing Apparatus

Номер патента: US20220035448A1. Автор: Taiki Komoda. Владелец: Jins Holdings Inc. Дата публикации: 2022-02-03.

Image data processing method, method and apparatus for constructing digital virtual human, device, storage medium, and computer program product

Номер патента: US20230342942A1. Автор: Xinwei Jiang. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Method and reactor for processing a gas

Номер патента: US20230272295A1. Автор: Shahram ROSHANPOUR,Anton Danilenko. Владелец: Ronda High TECH Srl. Дата публикации: 2023-08-31.

Method and reactor for processing a gas

Номер патента: WO2022013843A1. Автор: Shahram ROSHANPOUR,Anton Danilenko. Владелец: Ronda High TECH Srl. Дата публикации: 2022-01-20.

Atmospheric Pressure Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120291706A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Kiyoshi Yasutake,Hiroaki Kakiuchi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2012-11-22.

Method and apparatus for treating an elongated object with plasma

Номер патента: WO2008085047A2. Автор: Marcel Simor,Ales Fiala. Владелец: Nederlandse Organisatie voor toegepast-natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO. Дата публикации: 2008-07-17.

Plasma processing apparatus for powder and plasma processing method for powder

Номер патента: CA2488137C. Автор: Eiji Hirakawa,Gang Han,Shujiroh Uesaka. Владелец: Hitachi Metals Ltd. Дата публикации: 2009-05-12.

Method and device for filter material plasma treatment

Номер патента: RU2504310C2. Автор: Микеле МОЛА,Риккардо Д'АГОСТИНО,Пьетро ФАВИА,Николетта ДЕ-ВЬЕТРО,Франческо ФРАКАССИ. Владелец: Бритиш Америкэн Тобэкко (Инвестментс) Лимитед. Дата публикации: 2014-01-20.

METHOD AND DEVICE FOR PLASMA PROCESSING FILTER MATERIAL

Номер патента: RU2010144307A. Автор: Микеле МОЛА,Риккардо Д'АГОСТИНО,Пьетро ФАВИА,Николетта ДЕ-ВЬЕТРО,Франческо ФРАКАССИ,Микеле МОЛА (GB),Риккардо Д'АГОСТИНО (IT),Пьетро ФАВИА (IT),Николетта ДЕ-ВЬЕТРО (IT),Франческо ФРАКАССИ (IT). Владелец: Бритиш Америкэн Тобэкко (Инвестментс) Лимитед (GB). Дата публикации: 2012-05-10.

Data processing device and method, and related product

Номер патента: US20240176984A1. Автор: LE YIN,Ming Li,Xiaomeng Liu,Qingwei HE,Zhize Chen,Wenjuan DAI,Xiwen YU,Jiangmin ZHOU. Владелец: Cambricon Technologies Corp Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Image processing apparatus and method, and decoding apparatus

Номер патента: US20170069063A1. Автор: Dale YIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-03-09.

Plasma processing device and method, and plasma generating method

Номер патента: JP2005116821A. Автор: 剛 守屋,Takeshi Moriya,Hiroshi Nagaike,宏史 長池. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2005-04-28.

Method for processing image and image processing apparatus thereof

Номер патента: US20130300733A1. Автор: Seung-Cheon Baek,Jong-Keun Cho,Chul-Sang Chang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2013-11-14.

Method and Apparatus for Verifying Data Processing Apparatus

Номер патента: CA2105113A1. Автор: Shuntaro Fujioka,Hideaki Nabekura. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1994-05-19.

Optical Processing head, optical processing apparatus, and control method and control program of optical processing apparatus

Номер патента: US09959613B2. Автор: Takashi Obara,Hiroshi Ohno,Mitsuo Sasaki,Yuji Sasaki,Kazuyuki Masukawa. Владелец: Technology Research Association for Future Additive Manufacturing (TRAFAM). Дата публикации: 2018-05-01.

METHOD AND APPARATUS FOR PLASMA PROCESSING

Номер патента: US20140137059A1. Автор: Matsumoto Tsuyoshi,Nishio Ryoji,Kanekiyo Tadamitsu,Oota Yoshiyuki. Владелец: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2014-05-15.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: JPS55102237A. Автор: Takashi Tsuchimoto. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1980-08-05.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: GB2598934B. Автор: Howe Thomas,Seymour John-Mark. Владелец: Haydale Graphene Industries PLC. Дата публикации: 2023-10-18.

Data processing device and method, and related products

Номер патента: US20230367722A1. Автор: Siyuan He,Runsen YANG,Chunyuan WANG,Liutao ZHENG,Yashuai LV,Xuegang LIANG. Владелец: Shanghai Cambricon Information Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Information processing apparatus, information processing method, and program

Номер патента: US11874138B2. Автор: Hiroyuki Kamata,Kosei Yamashita,Haruto TAKEDA. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2024-01-16.

Linear processing method and apparatus in face image, terminal device, and storage medium

Номер патента: EP4068151A1. Автор: Yun Wang. Владелец: GUANGDONG OPPO MOBILE TELECOMMUNICATIONS CORP LTD. Дата публикации: 2022-10-05.

Information processing device, information processing method, and program

Номер патента: EP3845863A1. Автор: Hiroyuki Kamata,Kosei Yamashita,Haruto TAKEDA. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2021-07-07.

Information processing apparatus and information processing method, and control apparatus and image processing apparatus

Номер патента: US20200290503A1. Автор: Kazunori Kamio,Satoshi Kawata,Yuki TOKIZAKI. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2020-09-17.

Quantum computing task processing method, system and apparatus, and operating system

Номер патента: US20240104417A1. Автор: Lei Yu,Jing Wang,Wentao Wang,Dongyi ZHAO. Владелец: Origin Quantum Computing Technology Hefei Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Quantum computing task processing method, system and apparatus, and operating system

Номер патента: US12026590B2. Автор: Lei Yu,Jing Wang,Wentao Wang,Dongyi ZHAO. Владелец: Origin Quantum Computing Technology Hefei Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS AND INFORMATION PROCESSING METHOD, AND CONTROL APPARATUS AND IMAGE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20200290503A1. Автор: TOKIZAKI Yuki,Kawata Satoshi,Kamio Kazunori. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2020-09-17.

Method and apparatus with neural network parameter quantization

Номер патента: US11948074B2. Автор: Chang Kyu Choi,Changyong Son,Seohyung LEE,Sangil Jung,Jinwoo SON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-02.

Information processing method and information processing apparatus

Номер патента: US20210065225A1. Автор: Daiki KANEICHI,Takahiro Shiga. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2021-03-04.

Image processing method and image synthesis method, image processing apparatus and image synthesis apparatus, and storage medium

Номер патента: EP4030342A4. Автор: Xiaoyi Li,Mengren Qian. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-28.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, INFORMATION PROCESSING METHOD, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND CONTROL METHOD AND CONTROL PROGRAM OF INFORMATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20150178823A1. Автор: Tanaka Rie,Konishi Taku,Doi Shinichi,Itaya Satoko. Владелец: . Дата публикации: 2015-06-25.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, IMAGE PROCESSING METHOD, AND METHOD OF CONTROLLING IMAGE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20130077867A1. Автор: ISHIKAWA Hisashi,ITO Tadayuki,Shoami Koji. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2013-03-28.

Acoustic wave processing apparatus, signal processing method, and program for acoustic wave processing apparatus

Номер патента: US20160367222A1. Автор: Hiroaki Yamamoto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-12-22.

Image processing apparatus and image processing method

Номер патента: US20140333634A1. Автор: Yoshimichi Kanda. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-13.

ACOUSTIC WAVE PROCESSING APPARATUS, SIGNAL PROCESSING METHOD, AND PROGRAM FOR ACOUSTIC WAVE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20160367222A1. Автор: YAMAMOTO Hiroaki. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2016-12-22.

ACOUSTIC WAVE PROCESSING APPARATUS, SIGNAL PROCESSING METHOD, AND PROGRAM FOR ACOUSTIC WAVE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20160367224A1. Автор: YAMAMOTO Hiroaki. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2016-12-22.

Microchip with lid for analysis, sample processing method for microchip with lid, automatic sample processing method for microchip with lid, automatic sample processing apparatus based on the processing method, and application of automatic sample processing method Substance analysis equipment

Номер патента: JP4632064B2. Автор: 真知子 藤田. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2011-02-16.

Image processing apparatus, image processing method, and control program for image processing apparatus

Номер патента: JP6085411B2. Автор: 宏昌 四方,慎治 岡根. Владелец: Nintendo Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-22.

Medical image processing method, apparatus, and system

Номер патента: US20240090863A1. Автор: Bingjie ZHAO,Jingting LI,XueIi Wang,Tiegong ZHENG. Владелец: GE Precision Healthcare LLC. Дата публикации: 2024-03-21.

Extracting method, information processing method, computer product, extracting apparatus, and information processing apparatus

Номер патента: US20140059075A1. Автор: Masahiro Kataoka,Ryo Matsumura. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2014-02-27.

Information processing method, information processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20230306063A1. Автор: Yoshihiro Takayama. Владелец: Casio Computer Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Information processing apparatus, control method, and program

Номер патента: SG10201902650VA. Автор: Takashi Yagi. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2019-10-30.

EXTRACTING METHOD, INFORMATION PROCESSING METHOD, COMPUTER PRODUCT, EXTRACTING APPARATUS, AND INFORMATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20140059075A1. Автор: Kataoka Masahiro,Matsumura Ryo. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2014-02-27.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, TAPE PRINTING APPARATUS, AND METHOD AND PROGRAM FOR CONTROLLING INFORMATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20220288948A1. Автор: WATANABE Hidetaka. Владелец: SEIKO EPSON CORPORATION. Дата публикации: 2022-09-15.

Information processing apparatus, information processing method, method, and information processing program

Номер патента: US20200151420A1. Автор: Mizutani Yoichi,Hasegawa Yutaka,Yoshioka Shigeatsu,Tagami Naoki. Владелец: . Дата публикации: 2020-05-14.

IMAGE PROCESSING METHOD, IMAGING APPARATUS USING THE SAME, IMAGE PROCESSING APPARATUS, STORAGE MEDIUM, AND LENS APPARATUS

Номер патента: US20190213717A1. Автор: Oniki Takashi. Владелец: . Дата публикации: 2019-07-11.

EXTRACTING METHOD, INFORMATION PROCESSING METHOD, COMPUTER PRODUCT, EXTRACTING APPARATUS, AND INFORMATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20160321282A1. Автор: Kataoka Masahiro,Matsumura Ryo. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2016-11-03.

USER INSTRUCTION RECOGNITION SYSTEM, USER INSTRUCTION RECOGNITION METHOD, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, PORTABLE TERMINAL, AND CONTROL METHODS AND CONTROL PROGRAMS OF INFORMATION PROCESSING APPARATUS AND PORTABLE TERMINAL

Номер патента: US20150277547A1. Автор: KOBAYASHI Yoshikazu. Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2015-10-01.

EDUCATION SITE IMPROVEMENT SUPPORT SYSTEM, EDUCATION SITE IMPROVEMENT SUPPORT METHOD, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, COMMUNICATION TERMINAL, AND CONTROL METHODS AND CONTROL PROGRAMS OF INFORMATION PROCESSING APPARATUS AND COMMUNICATION TERMINAL

Номер патента: US20150294151A1. Автор: KOBAYASHI Yoshikazu. Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2015-10-15.

Education site improvement support system, education site improvement support method, information processing apparatus, communication terminal, and control methods and control programs of information processing apparatus and communication terminal

Номер патента: US9600722B2. Автор: Yoshikazu Kobayashi. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

TARGET EXTRACTION SYSTEM, TARGET EXTRACTION METHOD, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND CONTROL METHOD AND CONTROL PROGRAM OF INFORMATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20170016983A1. Автор: HOSHUYAMA Osamu. Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2017-01-19.

OPTICAL PROCESSING HEAD, OPTICAL PROCESSING APPARATUS, AND CONTROL METHOD AND CONTROL PROGRAM OF OPTICAL PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20170045462A1. Автор: Ohno Hiroshi,Sasaki Yuji,Masukawa Kazuyuki,Obara Takashi,SASAKI Mitsuo. Владелец: TECHNOLOGY RESEARCH ASSOCIATION FOR FUTURE ADDITIVE MANUFACTURING. Дата публикации: 2017-02-16.

ARTICLE MANAGEMENT SYSTEM, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND CONTROL METHOD AND CONTROL PROGRAM OF INFORMATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20210064909A1. Автор: Nomura Toshiyuki,Higa Kyota,Iwamoto Kota,HATTORI Wataru,OHASHI Keishi. Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2021-03-04.

Nozzle Cleaning Method, Substrate Processing Method, Method of Manufacturing Semiconductor Device, Substrate Processing Apparatus and Non-transitory Computer-readable Recording Medium

Номер патента: US20220298628A1. Автор: HARADA Kazuhiro,HANASHIMA Takeo,USHIDA Takuro. Владелец: . Дата публикации: 2022-09-22.

Optical processing head, optical processing apparatus, and control method and control program of optical processing apparatus

Номер патента: US20170186143A1. Автор: Takashi Obara,Hiroshi Ohno,Mitsuo Sasaki,Kazuyuki Masukawa,Yuji Sakaki. Владелец: Technology Research Association for Future Additive Manufacturing (TRAFAM). Дата публикации: 2017-06-29.

WINDOW CONTROL METHOD, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND CONTROL METHOD AND CONTROL PROGRAM OF INFORMATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20180232139A1. Автор: OKUDA Yoshifumi. Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2018-08-16.

MULTI-SCREEN DISPLAY POSITION EXCHANGE METHOD, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND CONTROL METHOD AND CONTROL PROGRAM OF INFORMATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20170255374A1. Автор: ISHII Satoru,YASUDA Tatsushi,KITADA Masato. Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2017-09-07.

METHOD OF ENLARGING CONTENT IN DIVIDED SCREEN, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND CONTROL METHOD AND CONTROL PROGRAM OF INFORMATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20170256031A1. Автор: KAMEI Akira. Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2017-09-07.

ARTICLE MANAGEMENT SYSTEM, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND CONTROL METHOD AND CONTROL PROGRAM OF INFORMATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20150379366A1. Автор: Nomura Toshiyuki,Higa Kyota,Iwamoto Kota,HATTORI Wataru,OHASHI Keishi. Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2015-12-31.

Article management system, information processing apparatus, and control method and control program of information processing apparatus

Номер патента: US20190392244A1. Автор: Keishi Ohashi,Toshiyuki Nomura,Wataru Hattori,Kota Iwamoto,Kyota Higa. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2019-12-26.

Pattern Recognition Method and Apparatus and Pattern Data Processing Apparatus

Номер патента: KR960011770A. Автор: 야스시 후꾸나가,도시미 요고따,히로시 쇼지마,소시로 구즈누끼,도시후미 아라이,마사끼 미우라,게이꼬 군지. Владелец: 가부시키가이샤 히다치 세사쿠쇼. Дата публикации: 1996-04-20.

Electric/electronic component waste processing method and electric/electronic component waste processing apparatus

Номер патента: JP7264936B2. Автор: 勝志 青木,弘 河野. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2023-04-25.

Address line fault processing apparatus, address line fault processing method, address line fault processing program, information processing apparatus, and memory controller

Номер патента: JP4893746B2. Автор: 賢司 鈴木. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2012-03-07.

Article management system, information processing apparatus, and control method and control program of information processing apparatus

Номер патента: US10885374B2. Автор: Keishi Ohashi,Toshiyuki Nomura,Wataru Hattori,Kota Iwamoto,Kyota Higa. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2021-01-05.

Information processing apparatus, assignment method and display method of information processing apparatus, and computer-readable program product

Номер патента: US20070118807A1. Автор: Yoshifumi Matsunaga,Akinori Komura. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2007-05-24.

MAINTENANCE METHOD AND MAINTENANCE APPARATUS OF INFORMATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20130163046A1. Автор: NARAHASHI Masaki,KAMISUWA Yoshikatsu,MIYAZAKI Sou,MURAKAMI Reiji. Владелец: . Дата публикации: 2013-06-27.

IMAGE PROCESSING SYSTEM, IMAGE PROCESSING APPARATUS CONTROL METHOD, AND RECORDING MEDIUM STORING IMAGE PROCESSING APPARATUS CONTROL PROGRAM

Номер патента: US20140268225A1. Автор: KUBOTA Hajime,Shibukawa Tomoki. Владелец: . Дата публикации: 2014-09-18.

Laser processing method, dividing method for workpiece, and laser processing apparatus

Номер патента: KR101241936B1. Автор: 이쿠요시 나카타니,쇼헤이 나가토모,미츠루 스가타. Владелец: 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤. Дата публикации: 2013-03-11.

METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: KR970023972A. Автор: 도오루 모리모토. Владелец: 이시다 아키라. Дата публикации: 1997-05-30.

Order processing system, method, and device

Номер патента: US20190333011A1. Автор: Liangfan WEN. Владелец: Alibaba Group Holding Ltd. Дата публикации: 2019-10-31.

Check Processing Method, Check Processing Program Medium, And Check Processing Apparatus

Номер патента: US20130251236A1. Автор: Murata Sadao. Владелец: SEIKO EPSON CORPORATION. Дата публикации: 2013-09-26.

Information Processing Method, Non-Transitory Recording Medium, and Information Processing Apparatus

Номер патента: US20220035448A1. Автор: KOMODA Taiki. Владелец: JINS HOLDINGS Inc.. Дата публикации: 2022-02-03.

IMAGE PROCESSING METHOD, COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM, AND INFORMATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20140153056A1. Автор: Takagi Yasunobu,Kamei Toshihito,Hoshino Yoshiaki,SATOH Taku. Владелец: . Дата публикации: 2014-06-05.

Check Processing Method, Check Processing Program Medium, And Check Processing Apparatus

Номер патента: US20150122882A1. Автор: Murata Sadao. Владелец: . Дата публикации: 2015-05-07.

ITEM NAME ASSOCIATION PROCESSING METHOD, COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM, AND INFORMATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20180322108A1. Автор: TANAKA TETSU,Noro Nobumi,Maita Tsuyoshi. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2018-11-08.

INFORMATION PROCESSING METHOD, PROGRAM, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, AND INFORMATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20190318386A1. Автор: TAKATA Tsugunori. Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2019-10-17.

Check processing method, check processing program medium, and check processing apparatus

Номер патента: US20050252960A1. Автор: Sadao Murata. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2005-11-17.

Image processing method, storage medium, electronic device, and image processing apparatus

Номер патента: CN113936220B. Автор: 张文俊,孙军欢,冀旭. Владелец: Shenzhen Zhixing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-04.

Check processing method, check processing program medium, and check processing apparatus

Номер патента: US7219831B2. Автор: Sadao Murata. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2007-05-22.

Burring Processing Method, Jig for Burring Processing and Burring Processing Apparatus

Номер патента: CA2168061A1. Автор: Yoshio Ohno. Владелец: Daitoh Inc. Дата публикации: 1996-07-27.

Processing method of sound watermark and sound watermark processing apparatus

Номер патента: US20230138678A1. Автор: Jia-Ren Chang,Po-Jen Tu,Kai-Meng Tzeng. Владелец: Acer Inc. Дата публикации: 2023-05-04.

Storage medium storing program for generating album data, image processing method for generating album data, and image processing apparatus for generating album data

Номер патента: US11887214B2. Автор: Takayuki Yamada,Hiroyasu Kunieda,Jumpei Takeichi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-01-30.

METHOD AND SYSTEM TO MONITOR A PROCESS APPARATUS

Номер патента: US20190196334A1. Автор: Staals Frank,Tel Wim Tjibbo,HINNEN Paul Christiaan,MASLOW Mark John. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2019-06-27.

Fault recovery method and storage controller in information processing apparatus

Номер патента: EP1011047A2. Автор: Hisao Honma,Takeo Fujimoto,Osamu Sakaguchi,Katsuhiro Okumoto. Владелец: Hitachi Software Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2000-06-21.

Fault recovery method and storage controller in information processing apparatus

Номер патента: EP1011047A3. Автор: Hisao Honma,Takeo Fujimoto,Osamu Sakaguchi,Katsuhiro Okumoto. Владелец: Hitachi Software Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2006-07-12.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: EP1282908A2. Автор: Michael Lee Fraim,Rick B. Spielman,Robert R. Schiewe. Владелец: Essox Research and Development Inc. Дата публикации: 2003-02-12.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: CA2409747A1. Автор: Michael Lee Fraim,Rick B. Spielman,Robert R. Schiewe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-15.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: CA3212927A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2022-10-06.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: AU2022252181A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2023-10-05.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: WO2022212192A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc.. Дата публикации: 2022-10-06.

Plasma Processing Apparatus and Method for Venting the Same to Atmosphere

Номер патента: US20090183683A1. Автор: Kenji Maeda,Hiroyuki Kobayashi,Kenetsu Yokogawa,Masaru Izawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2009-07-23.

Method and apparatus for determining cable length for plasma processing equipment

Номер патента: US20230194585A1. Автор: Ji Hyun Kim,Ja Myung GU,Tae Hoon JO,Hyo Seong SEONG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Method for reducing the amount of perfluorocompound gas contained in exhaust emissions from plasma processing

Номер патента: EP1124622A1. Автор: Calvin Todd Gabriel. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2001-08-22.

Method for plasma processing of metal products

Номер патента: RU2754915C1. Автор: Юрий Дмитриевич Щицын,Владислав Юрьевич Щицын,Сергей Дмитриевич Неулыбин,Роман Германович Никулин. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Пермский национальный исследовательский политехнический университет". Дата публикации: 2021-09-08.

Automated reverse action device for plasma processing of shoe preparations

Номер патента: RU2628988C1. Автор: Сергей Петрович Александров,Татьяна Владимировна Жуковская,Андрей Владимирович Шестов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный университет технологий и управления имени К.Г. Разумовского (Первый казачий университет" (ФГБОУ ВО "МГУТУ им. К.Г. Разумовского (ПКУ)"). Дата публикации: 2017-08-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160194817A1. Автор: Songying Mo,Qiming ZHENG,Wui Yin HO. Владелец: Hong Kong Research Institute of Textiles and Apparel Ltd. Дата публикации: 2016-07-07.

Plasma processing system and method

Номер патента: WO2004048942A1. Автор: Andrej S. Mitrovic. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2004-06-10.

Spatially resolved optical emission spectroscopy (OES) in plasma processing

Номер патента: US09970818B2. Автор: Zheng Yan,Yan Chen,Hanyou Chu,Junwei Bao,Holger Tuitje,Ching-Ling Meng,Mihail Mihaylov,Haixing Zou. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

METHODS AND APPARATUS FOR RADIO FREQUENCY (RF) PLASMA PROCESSING

Номер патента: US20120000888A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

MOVABLE GROUND RING FOR A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120003836A1. Автор: . Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

CONSUMABLE ISOLATION RING FOR MOVABLE SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY OF A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120000605A1. Автор: Dhindsa Rajinder,Kellogg Michael C.,Marakhtanov Alexei. Владелец: Lam Research Corporation.. Дата публикации: 2012-01-05.

C-SHAPED CONFINEMENT RING FOR A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120000608A1. Автор: Dhindsa Rajinder,Kellogg Michael C.,Marakhtanov Alexei. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: CA2207273A1. Автор: Jesse N. Matossian,Ronghua R. Wei,Peter Mikula,Deborah Clark. Владелец: Individual. Дата публикации: 1997-04-17.

COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM HAVING INFORMATION PROCESSING PROGRAM STORED THEREIN, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120004017A1. Автор: . Владелец: NINTENDO CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, SIGNAL PROCESSING APPARATUS, AND PROGRAM

Номер патента: US20120002074A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

PLASMA PROCESSING APPARATUS, PLASMA PROCESSING METHOD AND PROGRAM FOR PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: JP7298320B2. Автор: 敏彦 酒井,将喜 藤原,翼 岩苔. Владелец: Nissin Electric Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-27.

IMAGE PROCESSING APPARATUS AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002085A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

How to regenerate the electrode plate for plasma processing equipment and the electrode plate for plasma processing equipment

Номер патента: JP6853456B2. Автор: 聡 野村,野村　聡. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2021-03-31.

Plasma processing equipment and method and method for washing chamber

Номер патента: CN101996840A. Автор: 杨威风. Владелец: Beijing North Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2011-03-30.

PLASMA PROCESS, FILM DEPOSITION METHOD AND SYSTEM USING ROTARY CHUCK

Номер патента: US20130264308A1. Автор: Lin Chin-Hsiang,Xiao Ying,YANG Yu-Lung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2013-10-10.

Corner cutting method and apparatus using plasma processing machine

Номер патента: JP3838817B2. Автор: 哲也 加端,仁志 坂井. Владелец: KOMATSU LTD. Дата публикации: 2006-10-25.

Acoustic signal processing apparatus, acoustic signal processing method, acoustic reproduction system, and acoustic signal processing apparatus design method

Номер патента: JP3909065B2. Автор: 博文 柳川. Владелец: Chiba Institute of Technology. Дата публикации: 2007-04-25.

Image processing method, error missing item inspection method, image processing apparatus, and error missing item inspection apparatus

Номер патента: JP3996568B2. Автор: 恵介 黒木. Владелец: Daihatsu Motor Co Ltd. Дата публикации: 2007-10-24.

Job execution system, image processing apparatus, image processing apparatus control method, and program executed by image processing apparatus

Номер патента: JP6273929B2. Автор: 友紀郎 渡辺. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2018-02-07.

Image processing apparatus and sorting method and method using the image processing apparatus

Номер патента: JP4354021B2. Автор: 勇雄 今村. Владелец: 有限会社コムネット. Дата публикации: 2009-10-28.

Methods and apparatus for testing image processing apparatus

Номер патента: GB9022710D0. Автор: . Владелец: Crosfield Electronics Ltd. Дата публикации: 1990-11-28.

Image data processing method, image data processing system and information processing apparatus for executing the method

Номер патента: JP3885881B2. Автор: 中 一 義 田. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2007-02-28.

Document image processing apparatus, control method and program for document image processing apparatus

Номер патента: JP4543855B2. Автор: 健 古谷,裕義 上條,茂樹 石野,清隆 土渕,稔 袖浦,真之 久武,邦和 上野,晃一 藤井. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2010-09-15.

IMAGE PROCESSING METHOD, ENCODING DEVICE, DECODING DEVICE, AND IMAGE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20130028528A1. Автор: Arai Hiroshi. Владелец: . Дата публикации: 2013-01-31.

Development processing method, program, computer storage medium, and development processing apparatus

Номер патента: JP6007155B2. Автор: 真二 小林,小林　真二. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-12.

Display processing method, display processing program, and markup language processing apparatus

Номер патента: JP4652144B2. Автор: 洋平 猪口,タット ジェットソン. Владелец: Access Co Ltd. Дата публикации: 2011-03-16.

Processing method for planographic printing plate material and processing apparatus for same

Номер патента: JPH10198045A. Автор: Toshiya Takagi,利也 高木,Takaaki Kuroki,孝彰 黒木. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 1998-07-31.

Residual concrete processing method of concrete pump and residual concrete processing apparatus of concrete pump

Номер патента: JP4740039B2. Автор: 陽輔 松田. Владелец: 陽輔 松田. Дата публикации: 2011-08-03.

Information processing system, control method and program thereof, and image processing apparatus, control method and program thereof

Номер патента: JP6187000B2. Автор: 敦 醍醐. Владелец: Canon IT Solutions Inc. Дата публикации: 2017-08-30.

Page switching method and system and digital television processing apparatus

Номер патента: CN101364227B. Автор: 徐佳宏,代龙,周灯山. Владелец: Shenzhen Ipanel TV Inc. Дата публикации: 2016-05-25.

SERVICE PROCESSING METHOD, METHOD AND SERVICE NODE FOR ADJUSTING DELIVERED CONTENT

Номер патента: US20120317232A1. Автор: BAO Hongqiang. Владелец: Huawei Technologies Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-12-13.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120000886A1. Автор: NISHINO Masaru,HONDA Masanobu,Kubota Kazuhiro,Ooya Yoshinobu. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

Microwave Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120000610A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120000774A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE SUPPORT TABLE OF PLASMA PROCESSING DEVICE

Номер патента: US20120002345A1. Автор: . Владелец: MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

MASS FLOW CONTROL SYSTEM, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND FLOW CONTROL METHOD

Номер патента: US20120000607A1. Автор: ETO Hideo,Ito Atsushi. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and apparatus for plasma treatment of pieces

Номер патента: RU2063472C1. Автор: Юрий Александрович Хохлов,Валерий Афанасьевич Богатов,Михаил Константинович Марахтанов. Владелец: Михаил Константинович Марахтанов. Дата публикации: 1996-07-10.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120000629A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE STAGE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120000612A1. Автор: Muraki Yusuke,ODAGIRI Masaya,FUJIHARA Jin. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and device for ball plasma processing

Номер патента: RU2401310C1. Автор: Магомед-Эмин Хасаевич Исакаев,Александр Семенович Тюфтяев,Александр Эммануилович Яблонский. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Современные плазменные технологии". Дата публикации: 2010-10-10.

Device for replacement of plasmatron for installation for plasma processing of wastes

Номер патента: RU2579037C1. Автор: Алексей Александрович Кудринский,Александр Васильевич Переславцев,Сергей Сергеевич ТРЕСВЯТСКИЙ,Сергей Александрович Вощинин,Владимир Степанович Горохов. Владелец: Сергей Александрович Вощинин. Дата публикации: 2016-03-27.

COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM HAVING INFORMATION PROCESSING PROGRAM STORED THEREIN, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120001944A1. Автор: SAKURAI Masahiro,Machino Taichi,Ikeda Teppei. Владелец: NINTENDO CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120002071A1. Автор: Nishiyama Tomohiro. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, RADIATION IMAGING SYSTEM, IMAGE PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM STORING A PROGRAM

Номер патента: US20120002083A1. Автор: Machida Yoshihito. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002900A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING METHOD, AND PROGRAM

Номер патента: US20120001733A1. Автор: Kousaka Satoshi,Abeno Takashi. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120001937A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, METHOD, AND PROGRAM THAT CLASSIFIES DATA OF IMAGES

Номер патента: US20120002878A1. Автор: . Владелец: CASIO COMPUTER CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Unit for ion-ray and plasma processing

Номер патента: RU2496913C2. Автор: Аскар Джамилевич Мингажев,Анатолий Михайлович Смыслов,Василий Андреевич Гонтюрев,Марина Константиновна Смыслова,Вячеслав Юрьевич Гордеев,Игорь Борисович Степанов,Александр Ильич Рябчиков,Юрий Михаилович Дыбленко. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие "Уралавиаспецтехнология". Дата публикации: 2013-10-27.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, IMAGE PROCESSING METHOD, AND COMPUTER-READABLE ENCODING MEDIUM ENCODED WITH A COMPUTER PROGRAM

Номер патента: US20120002225A1. Автор: KIMURA Takashi,Hirano Masanori,Yoshida Masakazu,MURAI Hironobu. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

VIDEO SIGNAL PROCESSING APPARATUS AND VIDEO SIGNAL PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002009A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

Computer-aided feed-through device for plasma processing of upper blanks

Номер патента: RU2556166C2. Автор: Сергей Петрович Александров,Ирина Петровна Бердникова,Ильдар Шаукатович Абдулин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный университет технологий и управления" им. К.Г. Разумовского. Дата публикации: 2015-07-10.

A multi-electrode source assembly for plasma processing

Номер патента: WO2024226135A1. Автор: James Rogers,Rajinder Dhindsa,Linying CUI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-31.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.