Film deposition apparatus, film deposition method and storage medium
Номер патента: US09453280B2
Опубликовано: 27-09-2016
Автор(ы): Hitoshi Kato, Katsuyuki Hishiya, Shigehiro Ushikubo
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 27-09-2016
Автор(ы): Hitoshi Kato, Katsuyuki Hishiya, Shigehiro Ushikubo
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Plasma processing member, deposition apparatus including the same, and depositing method using the same
Номер патента: US09963783B2. Автор: Se Yong Kim,Hyun Kyu Cho,Jin Su Lee,Ki Jong Kim. Владелец: Genitech Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.