Plasma processing apparatus and method.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20120285623A1
Опубликовано: 15-11-2012
Автор(ы): Hiroyuki Nakayama, Tsuyoshi Moriya
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US8404050B2. Автор: Hiroyuki Nakayama,Tsuyoshi Moriya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-03-26.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20090134121A1. Автор: Hiroyuki Nakayama,Tsuyoshi Moriya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-05-28.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US8231800B2. Автор: Hiroyuki Nakayama,Tsuyoshi Moriya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-07-31.

Particle removal apparatus and method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20050039773A1. Автор: Tsuyoshi Moriya,Hiroshi Nagaike. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2005-02-24.

Microwave plasma apparatus and methods for processing materials using an interior liner

Номер патента: WO2023229928A1. Автор: Richard K. Holman,Saurabh Ullal. Владелец: 6K Inc.. Дата публикации: 2023-11-30.

Microwave plasma apparatus and methods for processing materials using an interior liner

Номер патента: US20230377848A1. Автор: Richard K. Holman,Saurabh Ullal. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Apparatus for processing plasma and method of processing plasma and manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20240128055A1. Автор: Jihwan Kim,Juho Lee,SeungBo SHIM,Hyunjae Lee,Sangki NAM,Hyunbae Kim,Daeun Son,Hyunhak Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-18.

Ion beam generator and ion beam plasma processing apparatus

Номер патента: US09422623B2. Автор: Yasushi Kamiya,Einstein Noel Abarra,Yuta Konno. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2016-08-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321550A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Plasma processing apparatus and electrode for same

Номер патента: US8888951B2. Автор: Shinji Himori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-11-18.

Plasma processing systems with matching network and methods

Номер патента: US20240339297A1. Автор: Qiang Wang,Mitsunori Ohata,Peter Lowell George Ventzek,Shyam Sridhar. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

PLASMA PROCESSING SYSTEMS INCLUDING SIDE COILS AND METHODS RELATED TO THE PLASMA PROCESSING SYSTEMS

Номер патента: US20160225584A1. Автор: LONG Maolin,Paterson Alex. Владелец: . Дата публикации: 2016-08-04.

DIELECTRIC WINDOW, PLASMA PROCESSING SYSTEM INCLUDING THE WINDOW, AND METHOD OF FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SYSTEM

Номер патента: US20170084427A1. Автор: Kim Dong-wook,Um Jung-Hwan,PARK Sung-moon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2017-03-23.

Apparatus for arcing diagnosis, plasma process equipment having the same, and method for arcing diagnosis

Номер патента: KR20230050500A. Автор: 김경현,장성호,김영도,임창순,남상기,강대원,강찬수,이균진,피종훈. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2023-04-17.

Dielectric window, plasma processing system including the window, and method of fabricating semiconductor device using the system

Номер патента: US09812293B2. Автор: Dong-Wook Kim,Jung-hwan UM,Sung-moon PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-11-07.

Inductively coupled plasma source for plasma processing

Номер патента: US09653264B2. Автор: Dongsoo Lee,Andreas Kadavanich,Vladimir Nagorny. Владелец: Mattson Technology Inc. Дата публикации: 2017-05-16.

Plasma processing apparatus and plasma processing method using the same

Номер патента: US20230124857A1. Автор: Jong Won Park,Yoon Seok Choi,Sang Jeong Lee,Soon Cheon Cho,Hyun Woo Jo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-20.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20240212997A1. Автор: Pei-Yu Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Apparatus and method for plasma processing

Номер патента: EP1695370A1. Автор: Nityalendra Singh,Roger James Wilshire Croad. Владелец: Oxford Instruments Plasma Technology Ltd. Дата публикации: 2006-08-30.

Plasma processing apparatus and operational method thereof

Номер патента: US09767997B2. Автор: Masahito Togami,Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kosa Hirota. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-09-19.

Filter circuit and plasma processing apparatus

Номер патента: US12033833B2. Автор: Koji Yamagishi,Koichi Nagami,Yuji AOTA,Kota ISHIHARADA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Plasma processing apparatus and plasma control method

Номер патента: US20240203692A1. Автор: Osamu Sakai,Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Taro Ikeda,Shin Oowada,Kazushi Kaneko,Masaaki Matsukuma. Владелец: University of Shiga Prefecture. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma processing apparatus and monitoring device

Номер патента: US12106948B2. Автор: Hiroki Endo,Ken Hirano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Plasma processing apparatus and waveform correction method

Номер патента: US09934947B2. Автор: Shinji Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-03.

Plasma uniformity control system and methods

Номер патента: US20240258070A1. Автор: Kartik Ramaswamy,Carlaton WONG,Michael Andrew STEARNS. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Plasma uniformity control system and methods

Номер патента: WO2024163026A1. Автор: Kartik Ramaswamy,Carlaton WONG,Michael Andrew STEARNS. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-08.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12125676B2. Автор: Ken Kobayashi,Takahiro Takeuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240355584A1. Автор: Masahiro Inoue,Chishio Koshimizu,Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Plasma processing apparatus and microwave radiation source

Номер патента: US20230178339A1. Автор: Kenta Kato,Taro Ikeda,Isao Gunji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Multi-electrode source assembly for plasma processing

Номер патента: US20240355587A1. Автор: James Rogers,Rajinder Dhindsa,Linying CUI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Multi-electrode source assembly for plasma processing

Номер патента: US20240355586A1. Автор: James Rogers,Rajinder Dhindsa,Linying CUI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220028665A1. Автор: Koji Maruyama,Kazunobu Fujiwara,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Koichi Nagami,Takashi Dokan,Tatsuro Ohshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-01-27.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12033832B2. Автор: Shinji Kubota,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Apparatus and method for delivering a plurality of waveform signals during plasma processing

Номер патента: US20230298856A1. Автор: James Rogers,Katsumasa Kawasaki. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-21.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09734992B2. Автор: Norikazu Yamada,Koichi Nagami,Koji Itadani,Toshifumi Tachikawa,Satoru Hamaishi. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Apparatus and methods for plasma processing

Номер патента: WO2024210967A1. Автор: Qi Wang,Sergey Voronin,Andrew Metz,Hamed Hajibabaeinajafabadi. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-10-10.

Apparatus and Methods for Plasma Processing

Номер патента: US20240331979A1. Автор: Qi Wang,Sergey Voronin,Andrew Metz,Hamed Hajibabaeinajafabadi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240234113A1. Автор: Jun Tamura,Takari YAMAMOTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240242937A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Pulsed voltage plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20240145215A1. Автор: Shreeram Jyoti DASH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Pulsed voltage plasma processing apparatus and method

Номер патента: WO2024091280A1. Автор: Shreeram Jyoti DASH. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20210074530A1. Автор: Hidehito Azumano. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2021-03-11.

Improved application of modulating supplies in a plasma processing system

Номер патента: EP3711082A1. Автор: Kevin Fairbairn,Gideon van Zyl,Denis Shaw. Владелец: Aes Global Holdings Pte Ltd. Дата публикации: 2020-09-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20220384146A1. Автор: Hiroyuki Hayashi,Hiroki EHARA,Jun NAKAGOMI,Syouji YAMAGISHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Application of modulating supplies in a plasma processing system

Номер патента: US20210074513A1. Автор: Kevin Fairbairn,Gideon van Zyl,Denis Shaw. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2021-03-11.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190088454A1. Автор: Yuichi KUWAHARA,Ryou Son,Ryouhei SATOU,Syuntaro TAWARAYA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-03-21.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321562A1. Автор: Yoshihide Kihara,Nobuyuki Fukui,Maju TOMURA,Koki MUKAIYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Method for operating a semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20050089625A1. Автор: Hideyuki Yamamoto,Ken Yoshioka,Saburou Kanai,Ryoji Nishio,Seiichiro Kanno,Hideki Kihara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-04-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20180294137A1. Автор: SATOSHI Tanaka,Naoki Matsumoto,Toru Ito,Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-10-11.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240290581A1. Автор: Kohei Sato,Takashi Uemura,Shengnan Yu. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-29.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09831064B2. Автор: Takashi SHIMOMOTO,Hiroo Konno. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-11-28.

Plasma processing apparatus, and method of maintaining interior of processing container of the plasma processing apparatus

Номер патента: US20210066048A1. Автор: Shin Okamoto,Atsutoshi Inokuchi,Kohei MIZOTA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4451311A1. Автор: Kwang Sung Yoo. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-10-23.

Systems and Methods for Extracting Process Control Information from Radiofrequency Supply System of Plasma Processing System

Номер патента: US20230298857A1. Автор: Alexei Marakhtanov,John Holland,Felix Leib Kozakevich,Ranadeep BHOWMICK. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220359166A1. Автор: Masahiro Nagatani,Masahiro Sumiya,Kosa Hirota,Nanako TAMARI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-11-10.

Distortion current mitigation in a radio frequency plasma processing chamber

Номер патента: US12106938B2. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-01.

Systems and methods for extracting process control information from radiofrequency supply system of plasma processing system

Номер патента: US12131886B2. Автор: Alexei Marakhtanov,John Holland,Felix Leib Kozakevich,Ranadeep BHOWMICK. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Pulsed voltage source for plasma processing applications

Номер патента: US20240234087A1. Автор: Yang Yang,Fernando Silveira,Kartik Ramaswamy,Yue Guo,A N M Wasekul AZAD. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09640368B2. Автор: Shunichi Ito,Ryuji Ohtani,Naoyuki Umehara,Kazutaka Sei,Tomomasa Nishida. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-05-02.

Plasma processing apparatus and coil holder for holding plasma excitation antenna

Номер патента: US20240105422A1. Автор: Masaki Tsunoda,Masato Ozawa,Chanseong AHN. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240038511A1. Автор: Hiroshi Shirouzu. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Plasma processing apparatus and operational method thereof

Номер патента: US20150021294A1. Автор: Masahito Togami,Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kosa Hirota. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-01-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220301834A1. Автор: Hwajun Jung,Mitsunori Ohata,Yuki Hosaka,Wan Sung Jin. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-22.

Improved methods and apparatus for controlled partial ashing in a variable-gap plasma processing chamber

Номер патента: WO1998042014A1. Автор: David M. Bullock. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1998-09-24.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US11923179B2. Автор: Pei-Yu Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220230848A1. Автор: Yoshiyuki Kondo,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-07-21.

Plasma processing apparatus and method for using plasma processing apparatus

Номер патента: US20230170186A1. Автор: Toshihiro Wada,Yoshiyuki Wada,Shogo Okita,Naoaki Takeda,Toshiyuki TAKASAKI,Takahiro Miyai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Plasma processing method

Номер патента: US09953811B2. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20220375730A1. Автор: Ryota Sakane. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-11-24.

Workpiece processing apparatus with plasma and thermal processing systems

Номер патента: US11837447B2. Автор: Joseph Cibere,Michael Yang,Dixit Desai,Rolf Bremensdorfer,Dieter HEZLER,Alex Wansidler,Pete LEMBESIS. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Plasma processing apparatus and method of manufacturing magnetic recording medium

Номер патента: US8317971B2. Автор: Akio Sato,Kazuto Yamanaka. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2012-11-27.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240030008A1. Автор: Taro Hayakawa,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Plasma processing apparatus and gas supply method

Номер патента: US20230207276A1. Автор: Takashi Aramaki,Lifu Li,Kota Shihommatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Plasma processing apparatus and method of manufacturing magnetic recording medium

Номер патента: US20110284497A1. Автор: Akio Sato,Kazuto Yamanaka. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2011-11-24.

Plasma Processing Methods Using Multiphase Multifrequency Bias Pulses

Номер патента: US20230411116A1. Автор: Alok Ranjan,Shyam Sridhar,Ya-Ming Chen,Peter Lowwell George Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Multi-range voltage sensor and method for a voltage controlled interface of a plasma processing system

Номер патента: US09741543B2. Автор: Gary M. Lemson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Method of cleaning plasma processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240063000A1. Автор: Nobuaki Shindo,Yasutaka HAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-22.

Method of cleaning plasma processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US11887824B2. Автор: Nobuaki Shindo,Yasutaka HAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Workpiece Processing Apparatus with Thermal Processing Systems

Номер патента: US20240055242A1. Автор: Joseph Cibere,Michael Yang,Dixit Desai,Rolf Bremensdorfer,Dieter HEZLER,Alex Wansidler,Pete LEMBESIS. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Filter circuit and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220246400A1. Автор: Koji Yamagishi,Koichi Nagami,Yuji AOTA,Kota ISHIHARADA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-04.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US5891252A. Автор: Shinichi Tachi,Masahito Mori,Keizo Suzuki,Kazunori Tsujimoto,Tetsuo Ono,Naoshi Itabashi,Ken'etsu Yokogawa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1999-04-06.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20210013015A1. Автор: Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Mitsunori Ohata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-01-14.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12020899B2. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Erosion resistant plasma processing chamber components

Номер патента: US20230317424A1. Автор: LIN Xu,Harmeet Singh,Justin Charles CANNIFF,Robin Koshy,Simon Gosselin,Adrian Radocea. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Cleaning method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230402269A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11887817B2. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210159049A1. Автор: Shinji Kubota,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Cleaning method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11804368B2. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-31.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240145218A1. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Atmospheric plasma processing method and atmospheric plasma processing apparatus

Номер патента: US20230253194A1. Автор: Akihisa Yoshida. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-08-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240014009A1. Автор: Naoaki Takeda. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20240087853A1. Автор: Kazuhiko Nakamura. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Plasma process system for multi-station

Номер патента: US20240162006A1. Автор: Jin Huh,Sae Hoon Uhm,Se Hong PARK,Dong Jegal,Yeonghoon SOHN,Gyueng Hyuen CHOE. Владелец: En2Core Technology Inc. Дата публикации: 2024-05-16.

Plasma Measuring Method and Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20240290589A1. Автор: Mitsutoshi ASHIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Apparatus and method for current sensing using embedded electrodes

Номер патента: US20240312772A1. Автор: Michael Harris,Gordon Hill,Joseph Desjardins,Ilya Pokidov,Chiu-Ying Tai. Владелец: MKS Instruments Inc. Дата публикации: 2024-09-19.

Device of preventing substrate of plasma processing apparatus from breakdown and method of thereof

Номер патента: KR101312292B1. Автор: 황영주. Владелец: 엘아이지에이디피 주식회사. Дата публикации: 2013-09-27.

PLASMA PROCESSING SYSTEM, ELECTRON BEAM GENERATOR, AND METHOD OF FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20190122860A1. Автор: Nam Sang Ki,Kang Sunggil,HAN Kyuhee,HEO Kwangyoub,LEE YEONGKWANG. Владелец: . Дата публикации: 2019-04-25.

PLASMA PROCESSING SYSTEM, ELECTRON BEAM GENERATOR, AND METHOD OF FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20190279846A1. Автор: Nam Sang Ki,Kang Sunggil,HAN Kyuhee,HEO Kwangyoub,LEE YEONGKWANG. Владелец: . Дата публикации: 2019-09-12.

Plasma processing method and apparatus, and autorunning program for variable matching unit

Номер патента: US7794615B2. Автор: Hiroshi Ogawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-09-14.

Substrate Processing Apparatus, Electrode Structure and Method of Manufacturing Semiconductor Device

Номер патента: US20230307212A1. Автор: Tsuyoshi Takeda,Hiroshi Nakajo,Daisuke Hara,Iichiro Tsuchikura. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus, susceptor cover, and method for manufacturing semiconductor apparatus

Номер патента: WO2021053724A1. Автор: 康寿坪田,保井　毅,稲田　哲明. Владелец: 株式会社ＫｏｋｕｓａｉＥｌｅｃｔｒｉｃ. Дата публикации: 2021-03-25.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20060021700A1. Автор: Hideo Kitagawa,Nobumasa Suzuki,Shinzo Uchiyama,Yusuke Fukuchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-02-02.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20090275209A1. Автор: Hideo Kitagawa,Nobumasa Suzuki,Shinzo Uchiyama,Yusuke Fukuchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-11-05.

Apparatus and method for plasma processing high-speed semiconductor circuits with increased yield

Номер патента: US20020025686A1. Автор: Kazue Takahashi,Ken Yoshioka,Saburou Kanai,Yutaka Ohmoto,Hironobu Kawahara. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2002-02-28.

Apparatus and method for plasma processing high-speed semiconductor circuits with increased yield

Номер патента: US20020023716A1. Автор: Kazue Takahashi,Ken Yoshioka,Saburou Kanai,Yutaka Ohmoto,Hironobu Kawahara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-02-28.

Plasma Processing Apparatus And Method For Controlling The Same

Номер патента: US20070210032A1. Автор: Ryoji Nishio. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-09-13.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20240212992A1. Автор: Kiho Lee,Junghyun Cho,Sangho Lee,Sangheun LEE,Sangki NAM,Seoyeon CHOI,Kuihyun YOON,Changheon Lee,Jaemin Rhee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-27.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20060027324A1. Автор: Takashi Kaneko,Akitaka Makino,Koichi Mishima,Toyoharu Okumoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2006-02-09.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US09490105B2. Автор: Masashi Saito,Manabu Sato,Masaru Sugimoto,Hidetoshi Hanaoka,Naoki Matsumoto,Akira Koshiishi,Noriyuki Kobayashi,Manabu Iwata,Hiroki Yamazaki,Chishio Koshimizu,Kazuo Kibi,Daisuke Yano,Yohei Yamazawa,Toshihiro Hayami,Kunihiko Hinata,Ryuji Ohtani,Yoshinobu Ohya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

Plasma measurement method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240274417A1. Автор: Mitsutoshi ASHIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Method of controlling plasma processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240055229A1. Автор: Jung Hwan Lee,Min Keun Bae,Aixian Zhang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Closed loop process control of plasma processed materials

Номер патента: US20120328771A1. Автор: George Papasouliotis,Deven Raj,Harold Persing. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2012-12-27.

Closed loop process control of plasma processed materials

Номер патента: WO2012178175A1. Автор: George D. Papasouliotis,Deven Raj,Harold Persing. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2012-12-27.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240266201A1. Автор: Shogo Okita,Minghui Zhao,Toshiyuki TAKASAKI. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20060081559A1. Автор: Tetsuji Sato,Koji Miyata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-04-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09659754B2. Автор: Yoshio SUSA,Naoki Matsumoto,Jun Yoshikawa,Peter L. G. Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20230230815A1. Автор: Minsung Kim,Sungyeol KIM,Hosun Yoo,Jinyeong Yun,Jang-Yeob LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20090001052A1. Автор: Takashi Kaneko,Akitaka Makino,Koichi Mishima,Toyoharu Okumoto. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-01-01.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09859101B2. Автор: Shinji Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Plasma uniformity control system and methods

Номер патента: US20240266152A1. Автор: Kartik Ramaswamy,Alok Ranjan,Timothy Joseph Franklin,Peng Tian,Carlaton WONG,Chris Blank,Michael Andrew STEARNS. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Plasma processing apparatus and liner assembly for tuning electrical skews

Номер патента: WO2012012200A1. Автор: Shahid Rauf,Kenneth S. Collins,James D. Carducci,Zhigang Chen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-26.

Plasma uniformity control system and methods

Номер патента: WO2024167618A1. Автор: Kartik Ramaswamy,Alok Ranjan,Timothy Joseph Franklin,Peng Tian,Carlaton WONG,Chris Blank,Michael Andrew STEARNS. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-15.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12136535B2. Автор: Koichi Nagami,Tatsuro Ohshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-05.

Plasma Processing Apparatus and Plasma Control Method

Номер патента: US20240339304A1. Автор: Satoru Kawakami,Kazushi Kaneko,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09583313B2. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing apparatus and plasma processing coil

Номер патента: US20220108871A1. Автор: Naoki Fujiwara,Yohei Yamazawa,Takehisa SAITO,Daisuke Kurashina,Kaori Fujiwara,Yuki Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-04-07.

Method for processing workpiece, plasma processing apparatus and semiconductor device

Номер патента: US12009220B2. Автор: FEI Yu,Junliang Li,Mengyang Xin. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12087552B2. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-09-10.

Method for processing workpiece, plasma processing apparatus and semiconductor device

Номер патента: US20240355634A1. Автор: FEI Yu,Junliang Li,Mengyang Xin. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Antenna, dielectric window, plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09595425B2. Автор: Naoki Matsumoto,Jun Yoshikawa,Osamu Morita,Kiyotaka Ishibashi,Kazuki Moyama,Wataru Yoshikawa,Takehiro Tanikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09502215B2. Автор: Hitoshi Kato,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Shigehiro Miura,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20200279719A1. Автор: Norihiko Ikeda,Koichi Yamamoto,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-09-03.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20190088452A1. Автор: Norihiko Ikeda,Koichi Yamamoto,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Plasma processing apparatus and assembly method of resonator array structure

Номер патента: US20240186114A1. Автор: Hiroshi Kondo,Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Shin Oowada,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US10699884B2. Автор: Norihiko Ikeda,Koichi Yamamoto,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-06-30.

Plasma processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20210142985A1. Автор: Akira Koshiishi,Jongwoo SUN,Yongwoo Lee,Masato Horiguchi,Dowon Kim,Yunhwan Kim,Kyohyeok KIM,Youngjin Noh,Taeil Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-05-13.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11990316B2. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-05-21.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20110240599A1. Автор: Masanobu Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-10-06.

Mode-Switching Plasma Systems and Methods of Operating Thereof

Номер патента: US20210151296A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Michael Hummel,Mitsunori Ohata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09566821B2. Автор: Ryoji Nishio,Takamasa ICHINO,Shinji OBAMA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Restoration apparatus and restoration method for plasma processing apparatus

Номер патента: US20190385818A1. Автор: Hiroyuki Mizuno. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-12-19.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20200402809A1. Автор: Yasushi Sonoda. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-12-24.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20040040507A1. Автор: Muneo Furuse,Masanori Kadotani,Motohiko Yoshigai,Susumu Tauchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2004-03-04.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US5243259A. Автор: Junji Sato,Kazuo Suzuki,Takuya Fukuda,Satoru Todoroki,Shunichi Hirose. Владелец: Hitachi Engineering and Services Co Ltd. Дата публикации: 1993-09-07.

Plasma processing method

Номер патента: US09818582B2. Автор: Shigeru Senzaki,Hiroshi Tsujimoto,Keigo TOYODA,Nobutaka Sasaki,Takanori BANSE,Hiraku MURAKAMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US09741538B2. Автор: Tomohiro Okumura,Satoshi Suemasu. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12057294B2. Автор: Masahiro Inoue,Chishio Koshimizu,Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09484180B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Manabu Iwata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Plasma processing apparatus, information processing apparatus, plasma processing method, and correction method

Номер патента: US20240194451A1. Автор: Taro Hayakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and storage medium

Номер патента: US9299540B2. Автор: Tatsuya Ogi,Kimihiro Fukasawa,Kazuhiro Kanaya,Wataru Ozawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-03-29.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and storage medium

Номер патента: US8864934B2. Автор: Tatsuya Ogi,Kimihiro Fukasawa,Kazuhiro Kanaya,Wataru Ozawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-10-21.

Plasma processing apparatus and control method

Номер патента: US09991100B2. Автор: Ryota Sakane. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Microwave plasma processing apparatus and microwave supplying method

Номер патента: US09633821B2. Автор: Toshihiko Iwao,Satoru Kawakami,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-25.

Voltage waveform generator, wafer processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US12002651B2. Автор: Hyejin Kim,Chanhee Park,Hyunbae Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-04.

Apparatus and method for radio frequency de-coupling and bias voltage control in a plasma reactor

Номер патента: EP1399944A1. Автор: Andreas Fischer. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-03-24.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09660182B2. Автор: Takashi Sone,Eiichi Nishimura,Fumiko Yamashita,Masato Kushibiki,Daisuke Urayama,Nao Koizumi,Wataru Kume. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Inductively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US09543121B2. Автор: Kazuo Sasaki,Toshihiro Tojo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09478387B2. Автор: Akira Tanabe,Yoshinobu Ooya,Yoshinori Yasuta. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-25.

Plasma processing apparatus and processing method

Номер патента: US12125679B2. Автор: Masahiro Inoue,Shoichiro Matsuyama,Chishio Koshimizu,Gen Tamamushi,Yuto Kosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

System, method and apparatus for RF power compensation in a plasma processing system

Номер патента: US09508529B2. Автор: Henry Povolny,John C. Valcore, JR.. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240249922A1. Автор: Ryota Sakane. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Plasma Processing Method

Номер патента: US20080216865A1. Автор: Masamichi Sakaguchi,Yasuhiro Nishimori,Satoshi Une,Yutaka Kudou,Masunori Ishihara. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-09-11.

High density plasma processing apparatus

Номер патента: WO2020039185A1. Автор: Michael Thwaites,Peter HOCKLEY. Владелец: Dyson Technology Limited. Дата публикации: 2020-02-27.

Apparatus and method for tuning a plasma profile using a tuning electrode in a processing chamber

Номер патента: US09865431B2. Автор: Jian J. Chen,Mohamad A. Ayoub,Amit Kumar BANSAL. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-01-09.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240087849A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12094690B2. Автор: Koki HIDAKA,Hiroya Ogawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Biasing system for a plasma processing apparatus

Номер патента: US20140106571A1. Автор: Richard M. White,Bon-Woong Koo. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2014-04-17.

Plasma processing with independent temperature control

Номер патента: US20240304422A1. Автор: WEI Liu,Lily Huang,Sandip Niyogi,Dileep Venkata Sai VADLADI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-12.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09966233B2. Автор: Hidetoshi Hanaoka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Plasma processing apparatus and upper electrode assembly

Номер патента: US09941101B2. Автор: Shin Matsuura,Jun Young Chung. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma process apparatus

Номер патента: US09887068B2. Автор: Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09589771B2. Автор: Mitsunori Ohata,Yuki Hosaka,Naokazu FURUYA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-07.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20090151638A1. Автор: Masaki Sugiyama,Toshiki Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-06-18.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240186113A1. Автор: Hiroshi Kondo,Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09779919B2. Автор: Kenetsu Yokogawa,Masahito Mori,Takao Arase,Takamasa ICHINO,Yuusuke Takegawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Apparatus for the deposition of a conformal film on a substrate and methods therefor

Номер патента: US09384979B2. Автор: Eric Hudson,Sangheon Lee,Dae-Han Choi,Jisoo Kim,S. M. Reza Sadjadi,Conan Chiang. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-07-05.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190088453A1. Автор: Koichi Yamamoto,Motohiro Tanaka,Naoki Yasui,Yasushi Sonoda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09805915B2. Автор: Ryoji Nishio,Masaharu Gushiken,Megumu Saitou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09574270B2. Автор: Jun Yoshikawa,Michitaka AITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Plasma processing apparatus, plasma processing method and high frequency generator

Номер патента: US09418822B2. Автор: Naoki Matsumoto,Hideo Kato,Koji Koyama,Kiyotaka Ishibashi,Kazushi Kaneko,Kazunori Funazaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-16.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20200161090A1. Автор: Jun Yoshikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-21.

Plasma processing device and method of monitoring plasma discharge state in plasma processing device

Номер патента: US20100176085A1. Автор: Kiyoshi Arita,Masaru Nonomura,Tatsuhiro Mizukami. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2010-07-15.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12094697B2. Автор: Kazuki Takahashi,Toshimasa Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321559A1. Автор: Satoshi Taga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20110273094A1. Автор: Hiroshi Haji,Kiyoshi Arita,Masaru Nonomura. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2011-11-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12014903B2. Автор: Kohei Sato,Motohiro Tanaka,Takahiro Sakuragi,Tetsuo Kawanabe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-18.

Plasma processing apparatus, electrostatic chuck, and plasma processing method

Номер патента: US20240258078A1. Автор: Takahiko Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Electrostatic Chuck Assembly for Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20240282614A1. Автор: Maolin Long. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09831096B2. Автор: Tsutomu Iida,Yuuzou Oohirabaru,Hiromitsu TERAUCHI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09627181B2. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US8450933B2. Автор: Hiroshi Haji,Kiyoshi Arita,Masaru Nonomura. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2013-05-28.

Processing apparatus and method for plasma processing

Номер патента: US5134965A. Автор: Toru Otsubo,Yasuhiro Yamaguchi,Mitsuo Tokuda,Junzou Azuma,Ichirou Sasaki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1992-08-04.

Components for a plasma processing apparatus

Номер патента: SG175637A1. Автор: La Llera Anthony De,Saurabh J Ullal. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2011-11-28.

Synchronization of plasma processing components

Номер патента: US20230268162A1. Автор: Kevin Fairbairn,Gideon van Zyl,Denis Shaw. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2023-08-24.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240186115A1. Автор: Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240242936A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Atmospheric-pressure plasma processing apparatus for substrates

Номер патента: US09892907B2. Автор: Wenbin Hu,Wentong HUANG. Владелец: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Microwave plasma processing apparatus, slot antenna, and semiconductor device

Номер патента: US09875882B2. Автор: Toshihiko Iwao,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-23.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09870898B2. Автор: Koichi Nagami,Masafumi Urakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09583314B2. Автор: Hitoshi Tamura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Spatial and temporal control of ion bias voltage for plasma processing

Номер патента: EP4376061A3. Автор: Kevin Fairbairn,Daniel Carter,Denis Shaw. Владелец: Aes Global Holdings Pte Ltd. Дата публикации: 2024-08-21.

Spatial monitoring and control of plasma processing environments

Номер патента: US20210241996A1. Автор: Kevin Fairbairn,Victor Brouk,Daniel Carter,Denis Shaw. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2021-08-05.

Mode-switching plasma systems and methods of operating thereof

Номер патента: US20210027991A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Michael Hummel,Mitsunori Ohata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-01-28.

Plasma-processing apparatus

Номер патента: US20040245935A1. Автор: Tadahiro Ogawa,Masaaki Takayama. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2004-12-09.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20040159639A1. Автор: Hideyuki Yamamoto,Tetsuo Ono,Katsumi Setoguchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-19.

Monitoring method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240006163A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Jun Sato,Takashi Chiba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240222096A1. Автор: Takashi Uemura,Shengnan Yu,Shunsuke Tashiro. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Power generation systems and methods for plasma stability and control

Номер патента: US11721524B2. Автор: Merritt Funk,Kazuki Moyama,Kazushi Kaneko,Justin Moses,Chelsea DuBose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-08.

Dielectric window supporting structure for inductively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US09818581B1. Автор: Saeng Hyun Cho. Владелец: Vni Solution Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Methods for real-time pulse measurement and pulse timing adjustment to control plasma process performance

Номер патента: US12057293B2. Автор: Merritt Funk,Alok Ranjan,Peter Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Voltage waveform generator for ion energy control in plasma processing

Номер патента: NL2033565B1. Автор: Lemmen Erik,YU Qihao,Joannes Daniël Vermulst Bastiaan. Владелец: Prodrive Tech Innovation Services B V. Дата публикации: 2024-05-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09991097B2. Автор: Yutaka Fujino,Shigenori Ozaki,Tomohito Komatsu,Jun NAKAGOMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09663858B2. Автор: Koichi Nagami,Koji Itadani,Tsuyoshi Komoda. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160155613A1. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-06-02.

Plasma processing apparatus, control method thereof and program for performing same

Номер патента: US20060005927A1. Автор: Satoshi Yamazaki,Taira Takase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-01-12.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20230178340A1. Автор: Hiroyuki Miyashita,Isao Gunji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Plasma processing apparatus, control method thereof and program for performing same

Номер патента: US7585385B2. Автор: Satoshi Yamazaki,Taira Takase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-09-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4451310A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Hyen Woo Chu. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-10-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09807862B2. Автор: Hachishiro Iizuka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus and method for carrying out plasma processing by using such plasma processing apparatus

Номер патента: US5567268A. Автор: Shingo Kadomura. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1996-10-22.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240242934A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Apparatus and methods for controlling ion energy distribution

Номер патента: EP4244883A1. Автор: James Rogers,Linying CUI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-20.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20010008122A1. Автор: Makoto Ando,Naohisa Goto,Nobuo Ishii. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-07-19.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297020A1. Автор: Hiroyuki Miyashita,Taro Ikeda,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240331978A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Feedforward temperature control for plasma processing apparatus

Номер патента: US09338871B2. Автор: Kartik Ramaswamy,Douglas A. Buchberger, Jr.,Sergio Fukuda Shoji,Hamid Noorbakhsh,Chunlei Zhang,Shane C. NEVIL,Walter R. Merry,Duy D. Nguyen,Brad L. MAYS,Chetan MAHADESWARASWAMY,Fernando M. SILVEIRA,Yashaswini B. PATTAR,Tina TSONG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-05-10.

Plasma processing apparatus, data analysis apparatus, and semiconductor device manufacturing system

Номер патента: US20240203712A1. Автор: Akira Kagoshima,Daisuke Shiraishi,Shunta NOSAKA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20220068604A1. Автор: Shinji Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12046452B2. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Plasma processing apparatus with reduced parasitic capacity and loss in RF power

Номер патента: US20040238126A1. Автор: Akihiro Kojima,Kazuhiro Tomioka,Hisataka Hayashi,Itsuko Sakai,Tokuhisa Ohiwa. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2004-12-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09691591B2. Автор: Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Plasma processing system and method of processing substrate

Номер патента: US12020898B2. Автор: Akihiro Yokota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Plasma processing system and method using radio frequency and microwave power

Номер патента: US12131887B2. Автор: Yunho Kim,Yanxiang Shi,Mingmei Wang. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09761418B2. Автор: Takashi Suzuki,Masahiko Konno,Taizo Okada,Naoki Matsumoto,Hideo Kato,Masayuki SHINTAKU,Michitaka AITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-12.

Microwave plasma processing apparatus and microwave plasma processing method

Номер патента: US5985091A. Автор: Nobumasa Suzuki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-11-16.

Method and device for attenuating harmonics in semiconductor plasma processing systems

Номер патента: EP1264328A1. Автор: Andrej S. Mitrovic,Wayne L. Johnson,Thomas H. Windhorn. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2002-12-11.

Systems for real-time pulse measurement and pulse timing adjustment to control plasma process performance

Номер патента: US20240347319A1. Автор: Merritt Funk,Alok Ranjan,Peter Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

The plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20190006153A1. Автор: Hitoshi Tamura,Naoki Yasui,Nanako TAMARI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-01-03.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11923177B2. Автор: Kazumasa Igarashi,Kazuo Yabe,Yamato Tonegawa,Keiji Tabuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Plasma monitoring system and method of monitoring plasma

Номер патента: US20240274419A1. Автор: Kwangho Lee,Sungho Jang,Sangki NAM,Jitae PARK,Seongjin IN,Keonhee LIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-15.

Controlling ion energy distribution in plasma processing systems

Номер патента: US09887069B2. Автор: Eric Hudson,Andreas Fischer. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-06.

Components for a plasma processing apparatus

Номер патента: WO2008063324A3. Автор: La Llera Anthony De,Saurabh J Ullal. Владелец: Saurabh J Ullal. Дата публикации: 2008-07-31.

Components for a plasma processing apparatus

Номер патента: WO2008063324A2. Автор: Anthony de la Llera,Saurabh J. Ullal. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2008-05-29.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190393058A1. Автор: Tsutomu Nakamura,Hiroho Kitada,Hideki Kihara,Masatoshi Kawakami,Hironori Kusumoto,Hidenobu Tanimura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-12-26.

Matching unit for semiconductor plasma processing apparatus

Номер патента: US20050098116A1. Автор: Yukio Sato,Katsumi Takahashi,Etsuo Yamagishi,Taku Fukada. Владелец: Pearl Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2005-05-12.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20180174805A1. Автор: Yoshinobu Ooya,Ryohei Takeda,Maju TOMURA,Ryuichi TAKASHIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-21.

Plasma processing apparatus, control method, power supply system, and storage medium

Номер патента: US20240304418A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Pulsed voltage source for plasma processing applications

Номер патента: US12125673B2. Автор: Fabrice CUBAYNES,Dmitry GRISHIN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-22.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12125685B2. Автор: Yoshihisa Hirano,Jae Hoon Kim,Young Jin Noh,Jun Soo Lee,Sung Moon Park,Hyung Kyu Choi,Seung Kyu Lim,Kyeong Seok Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-22.

Method for impedance matching of plasma processing apparatus

Номер патента: US09736921B2. Автор: Norikazu Yamada,Koichi Nagami,Naoyuki Umehara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Electrode assembly and plasma processing apparatus

Номер патента: US09520276B2. Автор: Takashi Suzuki,Takashi Yamamoto,Masato Horiguchi,Chikako Takahashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-13.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240213004A1. Автор: Soichiro Eto,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Tsubasa Okamoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12051570B2. Автор: Yoshinobu Ooya,Ryohei Takeda,Maju TOMURA,Ryuichi TAKASHIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20220384154A1. Автор: Kazuya Matsumoto,Atsushi Sasaki,Shingo Takahashi,Koichi Nagami,Yusuke HAYASAKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Atmospheric pressure plasma generating method, plasma processing method and component mounting method using same, and device using these methods

Номер патента: WO2007142166A2. Автор: Kazuhiro Inoue,Hiroyuki Tsuji. Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2007-12-13.

Plasma processing systems and methods for chemical processing a substrate

Номер патента: WO2022046461A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Mitsunori Ohata. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2022-03-03.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240170259A1. Автор: Hiroshi Kondo,Eiki Kamata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09805916B2. Автор: Hiroo Konno,Shunsuke Kadooka. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Apparatus and method for uniform microwave plasma processing using TE1101 modes

Номер патента: US5302803A. Автор: Joseph L. Cecchi,James E. Stevens. Владелец: Consortium for Surface Processing Inc. Дата публикации: 1994-04-12.

Confinement ring assembly of plasma processing apparatus

Номер патента: US20060283551A1. Автор: Sung-Ku Son. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-12-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11842885B2. Автор: Kenetsu Yokogawa,Masaru Izawa,Tooru Aramaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-12-12.

Oes device, plasma processing apparatus including the same and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20190252164A1. Автор: In-Joong Kim,Il Gu Yun. Владелец: Industry Academic Cooperation Foundation of Yonsei University. Дата публикации: 2019-08-15.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: WO2009091195A2. Автор: Sang-Ho Woo,Il-Kwang Yang. Владелец: EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.. Дата публикации: 2009-07-23.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240212984A1. Автор: Isao Mori,Ryosuke Ochiai. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Plasma processing device, plasma processing method and manufacturing method of electronic device

Номер патента: US09978593B2. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Method and apparatus for the detection of arc events during the plasma processing of a wafer, surface of substrate

Номер патента: US09842726B2. Автор: Paul Maguire,Stephen Daniels,Shane Glynn,Felipe Soberon. Владелец: Verity Instruments Inc. Дата публикации: 2017-12-12.

Plasma processing apparatus and method for processing object

Номер патента: US20150245460A1. Автор: Ryoichi Yoshida,Nobutaka Sasaki,Hiraku MURAKAMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-08-27.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20200168441A1. Автор: Koichi Tateshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-28.

Helical resonator type plasma processing apparatus

Номер патента: EP1530230A3. Автор: Dae-Il 204-1401 Ohyun Jugong Apr Kim,Gook-yoon A-201 Geumgang Villa Kim,Dong-joon 6-1108 Plaza Apt Ma,Sung-Kyo Wellrich 206 242-2 Jung-ri Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-06-07.

Plasma process monitoring apparatus and plasma processing apparatus comprising the same

Номер патента: US20200013596A1. Автор: Il Gu Yun. Владелец: Industry Academic Cooperation Foundation of Yonsei University. Дата публикации: 2020-01-09.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: WO2009102151A1. Автор: Sang-Ho Woo,Il-Kwang Yang. Владелец: EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.. Дата публикации: 2009-08-20.

Method and apparatus for predicting plasma-process surface profiles

Номер патента: WO1999045567A1. Автор: Richard A. Gottscho,Vahid Vahedi,Maria E. Barone. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1999-09-10.

Plasma processing device and plasma processing method

Номер патента: US09691593B2. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US5024748A. Автор: Shuzo Fujimura. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1991-06-18.

Performance evaluation method for plasma processing apparatus for continuously maintaining a desired performance level

Номер патента: EP1720196A1. Автор: Tadahiro Ohmi,Akira Nakano. Владелец: Alps Electric Co Ltd. Дата публикации: 2006-11-08.

Plasma processing apparatus and method, and storage medium

Номер патента: US8440050B2. Автор: Hiroyuki Nakayama,Masanobu Honda,Manabu Iwata,Kenji Masuzawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-05-14.

System and method for managing a plasma process and method for manufacturing an electronic device

Номер патента: US20070062802A1. Автор: Takashi Shimizu,Shinji Mori,Katsuyuki Sekine. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-03-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11923171B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Hidetoshi Hanaoka,Junichi Sasaki,Tomohiko Akiyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Plasma processing apparatus and control method

Номер патента: US20200211823A1. Автор: Chishio Koshimizu,Michishige Saito,Ryuji HISATOMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Matching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200335306A1. Автор: Masato Kon. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-10-22.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11961718B2. Автор: Tetsuji Sato,Shojiro Yahata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-16.

Plasma processing apparatus and high-frequency power application method of plasma processing apparatus

Номер патента: US12027347B2. Автор: Naoki Matsumoto,Masaru Sasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Plasma processing apparatus and wear amount measurement method

Номер патента: US12033838B2. Автор: Takehito Watanabe,Joji TAKAYOSHI,Ryuta Akimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Electrode orientation and parallelism adjustment mechanism for plasma processing systems

Номер патента: US20120291954A1. Автор: James E. Tappan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2012-11-22.

Electrode orientation and parallelism adjustment mechanism for plasma processing systems

Номер патента: WO2009100288A2. Автор: James E. Tappan. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2009-08-13.

Acoustic energy utilization in plasma processing

Номер патента: WO2013151898A1. Автор: Ian J. Kenworthy,Daniel A. Brown,Cliff E. LA CROIX,Josh A. CORMIER. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2013-10-10.

Guard aperture to control ion angular distribution in plasma processing

Номер патента: US09514918B2. Автор: Ludovic Godet,Sang Ki Nam. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US5520771A. Автор: Saburo Kanai,Yoshinao Kawasaki,Seiichi Watanabe,Makoto Nawata,Kazuaki Ichihashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1996-05-28.

Plasma processing apparatus for generating uniform strip-shaped plasma by propagating microwave through rectangular slit

Номер патента: US5315212A. Автор: Akira Ishii,Michio Taniguchi,Syoichiro Minomo,Masato Sugiyo. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 1994-05-24.

Plasma processing apparatus and power supply control method

Номер патента: US20230411128A1. Автор: Koichi Nagami,Tatsuro Ohshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Plasma processing apparatus and lower stage

Номер патента: US11929234B2. Автор: Satoru Kawakami,Masaki Hirayama,Taro Ikeda,Sumi Tanaka. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-03-12.

Plasma processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240112891A1. Автор: Masaru ISAGO,Ryoya Abe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-04.

Plasma processing apparatus and abnormal discharge control method

Номер патента: US20230060329A1. Автор: Takehiro Tanikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-03-02.

Plasma processing apparatus and power supply control method

Номер патента: US11776795B2. Автор: Koichi Nagami,Tatsuro Ohshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Shower head assembly and plasma processing apparatus having the same

Номер патента: US20200365373A1. Автор: Heechul LEE,Joonsung Lee,Youngwon Shin,Hyungchul CHO,Hyunjae JUNG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-11-19.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12020909B2. Автор: Minsung Kim,Sungyeol KIM,Hosun Yoo,Jinyeong Yun,Jang-Yeob LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-25.

Rotatable faraday cleaning apparatus and plasma processing system

Номер патента: US20220297168A1. Автор: NA Li,Haiyang Liu,Xiaobo Liu,Zhihao WU,Song Guo,Dongdong HU,Shiran CHENG,Kaidong Xu. Владелец: Jiangsu Leuven Instruments Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-22.

Spark plasma sintered component for cryo-plasma processing chamber

Номер патента: WO2023183330A1. Автор: LIN Xu,John Daugherty,Harmeet Singh,Satish Srinivasan,Pankaj HAZARIKA. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-09-28.

Rotatable faraday cleaning apparatus and plasma processing system

Номер патента: US12009188B2. Автор: NA Li,Haiyang Liu,Xiaobo Liu,Zhihao WU,Song Guo,Dongdong HU,Shiran CHENG,Kaidong Xu. Владелец: Jiangsu Leuven Instruments Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

High power generator and method of supplying high power pulses

Номер патента: EP4235736A1. Автор: designation of the inventor has not yet been filed The. Владелец: Trumpf Huettinger Sp zoo. Дата публикации: 2023-08-30.

Plasma processing method of semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US20110250758A1. Автор: Ki-sang Kim,Jong-Bum Kim,In-Joong Kim,Hyun-Su JUN,Seung-Heong Lee,Min-Woung Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2011-10-13.

Plasma processing devices having multi-port valve assemblies

Номер патента: US12100575B2. Автор: Michael C. Kellogg,Allan K. Ronne,James E. Tappan,Daniel A. Brown,Leonard J. Sharpless. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-09-24.

Apparatus and method for surface processing such as plasma processing

Номер патента: US20070123041A1. Автор: Yoshinori Nakano,Toshimasa Takeuchi,Eiji Miyamoto,Shinichi Kawasaki,Junichiro Anzai,Satoshi Mayumi,Sumio Nakatake. Владелец: Sekisui Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2007-05-31.

Plasma processing apparatus comprising a compensating-process-gas supply means in synchronism with a rotating magnetic field

Номер патента: US5980687A. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1999-11-09.

Method and apparatus for inspecting process performance for use in a plasma processing apparatus

Номер патента: US20080174324A1. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-07-24.

Plasma processing apparatus

Номер патента: EP1869692A1. Автор: Kiyoshi c/o Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. ARITA,Akira c/o Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. NAKAGAWA. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2007-12-26.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240112892A1. Автор: Pei Ye. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-04.

Temperature measuring method and plasma processing system

Номер патента: US20150221482A1. Автор: Takahiro Senda,Naoki Matsumoto,Yusuke Yoshida,Masayuki Kohno,Ryou Son. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-08-06.

Apparatus for indirect atmospheric pressure plasma processing

Номер патента: US12080525B2. Автор: Erwin Van Hoof,Annick Vanhulsel,Jan Cools. Владелец: VITO NV. Дата публикации: 2024-09-03.

Plasma process chambers employing distribution grids having focusing surfaces thereon enabling angled fluxes to reach a substrate, and related methods

Номер патента: US09534289B2. Автор: Jun Xue,Qiwei Liang,Ludovic Godet. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Temperature measuring method and plasma processing system

Номер патента: US09412565B2. Автор: Takahiro Senda,Naoki Matsumoto,Yusuke Yoshida,Masayuki Kohno,Ryou Son. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20070235426A1. Автор: SATOSHI Tanaka,Hidetoshi Hanaoka,Naoki Matsumoto,Manabu Iwata,Chishio Koshimizu,Yoshinobu Hayakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-10-11.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US6165274A. Автор: Kazuhiko Takada,Hitoshi Murayama,Tatsuyuki Aoike,Kazuyoshi Akiyama,Toshiyasu Shirasuna,Ryuji Okamura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2000-12-26.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20110174440A9. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-07-21.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US5810963A. Автор: Kazuhiro Tomioka. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1998-09-22.

Method for processing workpiece, plasma processing apparatus and semiconductor device

Номер патента: US20230005752A1. Автор: FEI Yu,Junliang Li,Mengyang Xin. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20180130643A1. Автор: Motoko Hara,Tetsuhiro Iwai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20130333617A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Tetsuya Suzuki,Hisanori Matsumoto,Hideyuki Nagaishi,Mayui NOBORISAKA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2013-12-19.

Plasma processing apparatus and cleaning method

Номер патента: US20150357165A1. Автор: Syuichi Takahashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-12-10.

Plasma processing apparatus and processing method

Номер патента: US11581170B2. Автор: Shinji Kubota,Chishio Koshimizu,Yuji AOTA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-02-14.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220199363A1. Автор: Yusuke Aoki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-06-23.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20160225585A1. Автор: Toshiharu Wada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-04.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US9583317B2. Автор: Toshiharu Wada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20170309451A1. Автор: Tomohiro Okumura,Satoshi Suemasu. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-26.

Plasma processing apparatus with tunable electrical characteristic

Номер патента: WO2022256407A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Yun Han,Mitsunori Ohata. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2022-12-08.

Plasma processing apparatus and processing method

Номер патента: US20210066040A1. Автор: Shinji Kubota,Chishio Koshimizu,Yuji AOTA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Antenna for plasma generation and plasma processing device having the same

Номер патента: US09947511B2. Автор: Yasunori Ando,Dongwei Li. Владелец: Nissin Electric Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-17.

Bias voltage frequency controlled angular ion distribution in plasma processing

Номер патента: US09520267B2. Автор: Jun Xue,Ludovic Godet,Prashanth Kothnur,Umesh M. Kelkar,Matthew D. Scotney-Castle. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-12-13.

Plasma processing method

Номер патента: US09455153B2. Автор: Genki Koguchi,Akio Morisaki,Yukinori Hanada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-27.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US5685942A. Автор: Nobuo Ishii. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1997-11-11.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11854772B2. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2023-12-26.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240006154A1. Автор: Shinji Himori,Chishio Koshimizu,Koichi Nagami,Takenobu Ikeda,Shin Hirotsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Plasma processing apparatus and control method

Номер патента: US11830704B2. Автор: Chishio Koshimizu,Shin Hirotsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-28.

Plasma processing apparatus for adjusting plasma processing through detecting plasma processing state within chamber

Номер патента: US20030173028A1. Автор: Junichi Tanaka,Hideyuki Yamamoto,Shoji Ikuhara. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2003-09-18.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11764034B2. Автор: Shinji Himori,Chishio Koshimizu,Koichi Nagami,Takenobu Ikeda,Shin Hirotsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Plasma processing apparatus and control method

Номер патента: US20200273670A1. Автор: Chishio Koshimizu,Shin Hirotsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-08-27.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11094512B2. Автор: Norihiko Ikeda,Koichi Yamamoto,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-08-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20140102638A1. Автор: Akira Tanabe,Yoshinobu Ooya,Yoshinori Yasuta. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-04-17.

Temperature controlling method and apparatus for a plasma processing chamber

Номер патента: AU3079597A. Автор: Neil Benjamin,William S. Kennedy,Joel M. Cook,Thomas E. Wicker,Robert A. Maraschin. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 1998-01-05.

Methods and apparatus for gas delivery into plasma processing chambers

Номер патента: WO2012087919A2. Автор: Robert P. Chebi,Alan Cheshire,Stanley Detmar,Alfredo Granados,Gabriel Roupillard. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-06-28.

High frequency antenna and plasma processing device

Номер патента: EP3896717A1. Автор: Akinori Ebe,Hajime Tsuda,Hideki Moriuchi. Владелец: EMD Corp. Дата публикации: 2021-10-20.

Symmetric plasma process chamber

Номер патента: US09741546B2. Автор: Shahid Rauf,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Andrew Nguyen,Ajit Balakrishna,Douglas A. Buchberger, Jr.,James D. Carducci,Zhigang Chen,Hamid Tavassoli. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Inductively coupled plasma processing apparatus for very large area using dual frequency

Номер патента: US20070012250A1. Автор: Kyong-Nam Kim,Geun-Young Yeom. Владелец: Sungkyunkwan University Foundation For Corporate Collaboration. Дата публикации: 2007-01-18.

Substrate processing apparatus and method for aligning ring member

Номер патента: US20230386798A1. Автор: Masafumi Urakawa,Shinya Morikita,Mohd Fairuz BIN BUDIMAN. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240014005A1. Автор: Hiroyuki Matsuura,Taro Ikeda,Nobuo Matsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Plasma processing systems including side coils and methods related to the plasma processing systems

Номер патента: US09336996B2. Автор: Alex Paterson,Maolin Long. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-05-10.

Plasma processing system and apparatus and a sample processing method

Номер патента: US20040118517A1. Автор: Kazue Takahashi,Toshio Masuda,Hideyuki Yamamoto,Mitsuru Suehiro,Hiroshi Kanekiyo,Tatehito Usui,Hiromichi Enami. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-06-24.

Substrate processing apparatus, substrate retainer and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11961715B2. Автор: Tsuyoshi Takeda,Kenji Ono,Kazuhiko Yamazaki,Daisuke Hara,Takashi Yahata. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-04-16.

ION BEAM PROCESSING APPARATUS, ELECTRODE ASSEMBLY, AND METHOD OF CLEANING ELECTRODE ASSEMBLY

Номер патента: US20160056016A1. Автор: Yasumatsu Yasushi,Tsujiyama Masashi,Okamoto Naoyuki,SUZUKI Fumihito. Владелец: . Дата публикации: 2016-02-25.

ION BEAM PROCESSING APPARATUS, ELECTRODE ASSEMBLY, AND METHOD OF CLEANING ELECTRODE ASSEMBLY

Номер патента: US20210104377A1. Автор: Yasumatsu Yasushi,Tsujiyama Masashi,Okamoto Naoyuki,SUZUKI Fumihito. Владелец: . Дата публикации: 2021-04-08.

ION BEAM PROCESSING APPARATUS, ELECTRODE ASSEMBLY, AND METHOD OF CLEANING ELECTRODE ASSEMBLY

Номер патента: US20190108973A1. Автор: Yasumatsu Yasushi,Tsujiyama Masashi,Okamoto Naoyuki,SUZUKI Fumihito. Владелец: . Дата публикации: 2019-04-11.

Ion beam processing apparatus, electrode assembly, and method of cleaning electrode assembly

Номер патента: US20220262598A1. Автор: Naoyuki Okamoto,Fumihito Suzuki,Masashi Tsujiyama,Yasushi Yasumatsu. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2022-08-18.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20080280451A1. Автор: Tsunehiko Tsubone,Ken Yoshioka,Mamoru Yakushiji,Yutaka Kouzuma,Yutaka Ohmoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-11-13.

Method of operating a plasma process system and a plasma process system

Номер патента: EP4442853A1. Автор: designation of the inventor has not yet been filed The. Владелец: Trumpf Huettinger Sp zoo. Дата публикации: 2024-10-09.

Method of operating a plasma process system and a plasma process system

Номер патента: WO2024208908A1. Автор: Wojciech Gajewski,Anna Oniszczuk,Piotr Różański,Cezary KAMINSKI. Владелец: Trumpf Huettinger Sp. Z O. O.. Дата публикации: 2024-10-10.

Thermal processing apparatus using microwaves and method of operating same

Номер патента: US20240206027A1. Автор: Yoon Seok Choi,Han Lim KANG,Sung Suk WI. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Oxidation process apparatus, oxidation method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US09905441B2. Автор: Takuya Seino,Yoshimitsu Shimane. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Substrate processing apparatus, storage device, and method of transporting substrate storing container

Номер патента: US09728434B2. Автор: Yukihiko Inagaki,Jun Yamamoto,Kensaku ONISHI. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

Substrate processing apparatus, recording medium and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09595460B2. Автор: Tsukasa Iida. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-03-14.

Substrate processing apparatus, recording medium and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20160307783A1. Автор: Tsukasa Iida. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-10-20.

Plasma processing method and apparatus, and mode converter for plasma processing apparatus

Номер патента: JPH0754759B2. Автор: 浩志西村,誠太郎松尾,幹保木内. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1995-06-07.

PLASMA PROCESSING APPARATUS, PROCESSING SYSTEM, AND METHOD OF ETCHING POROUS FILM

Номер патента: US20200411293A1. Автор: Tahara Shigeru. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2020-12-31.

Plasma processing systems including side coils and methods related to the plasma processing systems

Номер патента: SG192846A1. Автор: Alex Paterson,Maolin Long. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2013-09-30.

Plasma processing systems including side coils and methods related to the plasma processing systems

Номер патента: KR101961499B1. Автор: 알렉스 패터슨,마오린 롱. Владелец: 램 리써치 코포레이션. Дата публикации: 2019-03-22.

Plasma head and plasma processing system for removing photoresist and method of removing photoresist using the same

Номер патента: KR100972811B1. Автор: 전병준. Владелец: (주) 엠에이케이. Дата публикации: 2010-07-28.

Plasma processing method and apparatus, and storage medium

Номер патента: US7326358B2. Автор: Masaru Sugimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-02-05.

Substrate processing apparatus, substrate retainer and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20210183670A1. Автор: Tsuyoshi Takeda,Kenji Ono,Kazuhiko Yamazaki,Daisuke Hara,Takashi Yahata. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2021-06-17.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, EXHAUST DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20220403511A1. Автор: Suzaki Kenichi,Yamazaki Hirohisa,NAGATOMI Yoshimasa. Владелец: KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION. Дата публикации: 2022-12-22.

Processing apparatus, patterning structure and method of making the same

Номер патента: TWI795094B. Автор: 薛君,李達,瑪利安馬楠皮爾,暹華陳,正義游. Владелец: 美商蘭姆研究公司. Дата публикации: 2023-03-01.

Processing apparatus, recording medium, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240006206A1. Автор: Makoto Nomura,Masako Sueyoshi,Taku Hisada. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-01-04.

Upper electrode structure and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240249907A1. Автор: Tetsuji Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210143017A1. Автор: Takahiro Yokoyama,Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Method for determining amount of wear of edge ring, plasma processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US20240212979A1. Автор: Atsushi TERASAWA,Ikko Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240006165A1. Автор: Tong Wu,Hiroki Endo,Yoshihiro Yanagi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Plasma processing apparatus and substrate support

Номер патента: US20220415627A1. Автор: Akira Ishikawa,Ryota Nishi,Genki HIRATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-29.

Plasma processing apparatus and method for monitoring plasma processing apparatus

Номер патента: US09666417B2. Автор: Atsushi Shoji,Masahiko Orimoto. Владелец: Sakai Display Products Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12074076B2. Автор: Soichiro Eto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Apparatus and method for controlling ion energy distribution in process plasmas

Номер патента: WO2019199635A1. Автор: Scott White,Yusuke Yoshida,Alok Ranjan,Sergey Voronin,David Coumou. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2019-10-17.

Plasma processing apparatus and method of cleaning the apparatus

Номер патента: US20010001185A1. Автор: Hajime Murakami,Eiji Setoyama,Kouji Ishiguro,Hirofumi Seki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2001-05-17.

Electrode plate for plasma processing apparatus and method for regenerating electrode plate for plasma processing apparatus

Номер патента: US20200043707A1. Автор: Satoshi Nomura,Syuji Fujimori. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Plasma processing apparatus and prediction method of the condition of plasma processing apparatus

Номер патента: US12080529B2. Автор: Masahiro Sumiya,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Plasma processing apparatus and method for manufacturing electronic component

Номер патента: US09786472B2. Автор: Tetsuhiro Iwai,Shogo Okita,Syouzou Watanabe. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Substrate processing apparatus and method for processing substrate

Номер патента: US20230245858A1. Автор: Hitoshi Kato,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Plasma processing apparatus and method for using plasma processing apparatus

Номер патента: US20230167553A1. Автор: Tetsuhiro Iwai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Diagnosis device, diagnosis method, plasma processing apparatus, and semiconductor device manufacturing system

Номер патента: US20240213003A1. Автор: Kenji Tamaki,Shota Umeda,Masahiro Sumiya,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11776792B2. Автор: Takashi Uemura,Masahiro Nagatani,Yasushi Sonoda,Kiyohiko Sato,Shengnan Yu,Shunsuke Tashiro. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-03.

Plasma processing system and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297025A1. Автор: Kota Seno,Fumiaki ARIYOSHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Method for producing plasma flow, method for plasma processing, apparatus for producing plasma, and apparatus for plasma processing

Номер патента: US09426875B2. Автор: Yoshifumi Noguchi,Keisuke Sagisaka. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2016-08-23.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US09653334B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Atsushi Harikai,Mitsuru Hiroshima. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20180158650A1. Автор: Hideyuki Kobayashi,Ryota Sakane,Hiroshi Nagahata,Jungwoo Na. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-07.

Plasma generating apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20110068004A1. Автор: Yuichi Shiina. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2011-03-24.

State prediction apparatus and semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US12050455B2. Автор: Masaki Ishiguro,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09799495B2. Автор: Tomohiro Okumura,Shogo Okita,Bunji MIIZUNO. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Diagnosis apparatus, plasma processing apparatus and diagnosis method

Номер патента: US12040167B2. Автор: Kenji Tamaki,Masaki Ishiguro,Shota Umeda,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-16.

Plasma generating apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US8562800B2. Автор: Yuichi Shiina. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2013-10-22.

Structure and method for solving parasitic plasma in plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321554A1. Автор: CHEN CHEN,Dengzhi WANG,Fengming WANG,Qingyuan QU,Xueyong HE,Wangjun LI. Владелец: Suzhou Maizheng Technology Co ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Component for plasma processing apparatus and method for manufacturing component for plasma processing apparatus

Номер патента: US09988702B2. Автор: Michio Sato,Takashi Hino,Masashi Nakatani. Владелец: Toshiba Materials Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Method of producing processing condition of plasma processing apparatus, and plasma processing apparatus

Номер патента: US09870901B2. Автор: Takashi Dokan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09741579B2. Автор: Naoki Yasui,Michikazu Morimoto,Nanako TAMARI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09502220B2. Автор: Tomohiro Okumura,Bunji Mizuno,Shogo Okita. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Wafer processing apparatus and wafer processing method using the same

Номер патента: US20240282586A1. Автор: Sunggil Kang,Dongkyu Shin,Hoseop Choi,Sangjin AN,Chanyeong JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09997337B2. Автор: Masahito Mori,Naoshi Itabashi,Naoyuki Kofuji. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Plasma processing apparatus and plasma generation antenna

Номер патента: US09543123B2. Автор: Shigeru Kasai,Taro Ikeda,Tomohito Komatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Plasma-processing apparatus with upper electrode plate and method for performing plasma treatment process

Номер патента: US09431221B2. Автор: Chih-ching Cheng,Po-Ju Chen,Xiao-Meng Chen,Hsin-Yi Tsai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-08-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20170350014A1. Автор: Toshihiko Iwao,Satoru Kawakami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-07.

Bottom electrode assembly, plasma processing apparatus, and method of replacing focus ring

Номер патента: US12094693B2. Автор: Zengdi LIAN,Rason Zuo,Dee Wu,Jiangtao PEI. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09960031B2. Автор: Motohiro Tanaka,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Plasma processing apparatus and shower plate

Номер патента: US09663856B2. Автор: Shigeru Kasai,Taro Ikeda,Yutaka Fujino. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Plasma processing apparatus and method therefor

Номер патента: US09620336B2. Автор: Shogo Okita. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09496147B2. Автор: Motohiro Tanaka,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Component for plasma processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US11948779B2. Автор: Shuichi Saito,Kazuhiro Ishikawa,Takashi Hino. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-04-02.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20040173309A1. Автор: Toshio Masuda,Junichi Tanaka,Hiroyuki Kitsunai,Hideyuki Yamamoto,Go Miya. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-09.

Plasma processing apparatus and control method

Номер патента: US12068208B2. Автор: Taro Ikeda,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12094687B2. Автор: Tetsuo Ono,Naoki Yasui,Masayuki SHIINA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09997332B2. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Kazuki Denpoh,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09865454B2. Автор: Hitoshi Kato,Jun Sato,Masato Yonezawa,Hiroyuki Kikuchi,Shigehiro Miura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09711375B2. Автор: Koichi Yamamoto,Tsutomu Iida,Hiromitsu TERAUCHI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-18.

Substrate processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220068658A1. Автор: Yasutaka HAMA,Shu Kino,Motoki NORO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20130045547A1. Автор: Kenji Nakata,Atsushi Itou,Kouichi Yamamoto,Masaru Izawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-02-21.

Plasma processing apparatus and method for manufacturing mounting stage

Номер патента: US12033886B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Akira Nagayama,Ryo Chiba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Multi-zone heating apparatus, bottom electrode assembly, plasma processing apparatus, and temperature adjusting method

Номер патента: US12046458B2. Автор: Jie Du,Sha Rin. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2024-07-23.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12087556B2. Автор: Akio Ui,Yosuke Sato,Hisataka Hayashi. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Plasma processing apparatus and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230065586A1. Автор: Nobuhiko Hori. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-03-02.

Method of cleaning stage in plasma processing apparatus, and the plasma processing apparatus

Номер патента: US12090529B2. Автор: Junichi Sasaki,Takamitsu Takayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US12106945B2. Автор: Takafumi Noguchi,SIQING Lu,Cheonkyu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-01.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12131964B2. Автор: Soichiro Eto,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi,Ryoji ASAKURA,Tsubasa Okamoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09941132B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Shower plate, plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12051564B2. Автор: Satoru Kawakami,Masaki Hirayama,Taro Ikeda. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-07-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09911638B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-06.

Plasma processing apparatus and measurement method

Номер патента: US09658106B2. Автор: Kohei Yamashita,Hirokazu Ueda,Yuuki Kobayashi,Peter L. G. Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09583355B2. Автор: Tetsuhiro Iwai,Nobuhiro Nishizaki,Atsushi Harikai,Mitsuru Hiroshima. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing apparatus and temperature control method

Номер патента: US20190376185A1. Автор: Koji Maruyama,Akihiro Yokota,Kazuki Moyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-12.

Plasma processing apparatus and substrate support body

Номер патента: US20240266154A1. Автор: Shinya Ishikawa,Daiki HARIU,Haruka ENDO,Miyuki AOYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09704731B2. Автор: Masaru Izawa,Go Miya,Takumi Tandou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Plasma processing apparatus and substrate support of plasma processing apparatus

Номер патента: US11972933B2. Автор: Masahiro DOGOME. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Plasma processing apparatus and operating method of plasma processing apparatus

Номер патента: US09934946B2. Автор: Yohei Kawaguchi,Masahito Togami,Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09805940B2. Автор: Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09741629B2. Автор: Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi,Kosa Hirota. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20150110974A1. Автор: Yong-Suk Lee,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Mi-Ra An. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-23.

Electrostatic chuck and plasma processing apparatus including the same

Номер патента: US20200161157A1. Автор: SeungBo SHIM,Myungsun Choi,Yongwoo Lee,Jaehak LEE,Youngjin Noh,Minyoung HUR. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-05-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240240320A1. Автор: Yong-Suk Lee,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Mi-Ra An. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Method For Processing Workpiece, Plasma Processing Apparatus And Semiconductor Device

Номер патента: US20230005739A1. Автор: FEI Yu,Junliang Li,Mengyang Xin. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-05.

Apparatus for plasma processing on optical surfaces and methods of manufacturing and use thereof

Номер патента: WO2018045285A1. Автор: Mark Andrew Franklin,Addison Randolph CROCKETT. Владелец: Mark Andrew Franklin. Дата публикации: 2018-03-08.

Plasma processing method

Номер патента: US09941098B2. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09805959B2. Автор: Naoki Matsumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus and plasma control method using magnetic field

Номер патента: US20230317427A1. Автор: Hyung Joon Kim,Duk Hyun SON,Dong Mok Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12051595B2. Автор: Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240290625A1. Автор: Masanori Hosoya,Mitsuhiro Iwano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Plasma processing apparatus, and temperature control method

Номер патента: US12063717B2. Автор: Shinsuke Oka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20230420228A1. Автор: Akihiro Yokota,Ryo Terashima,Takaharu SAINO,Tomo MURAKAMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Plasma processing apparatus and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20240203707A1. Автор: Seiwa NISHIO. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma processing assembly using pulsed-voltage and radio-frequency power

Номер патента: US11776789B2. Автор: Kartik Ramaswamy,James Rogers,Rajinder Dhindsa,Olivier Luere,Yue Guo,Leonid Dorf,Evgeny KAMENETSKIY,Linying CUI,Valentin N. Todorow,Daniel Sang BYUN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09570272B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-14.

Plasma processing method and plasma processing apparatus including applying a voltage to a lower electrode in a substrate support with a gas supplied into a chamber

Номер патента: US20240222085A1. Автор: Koichiro Nakamura,Norihisa Kiyofuji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20140238301A1. Автор: Shinya Akano. Владелец: Chugai Ro Co Ltd. Дата публикации: 2014-08-28.

Plasma processing apparatus, substrate bonding system including the same, and substrate bonding method using the same

Номер патента: US20230215698A1. Автор: Ho Kim,Youngho Kim,SeungDae SEOK,Yongin LEE,Se-Hoon Jang,Donggap Shin,Siwoong Woo,Inhwa Baek. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Plasma processing apparatus, analysis apparatus, plasma processing method, analysis method, and storage medium

Номер патента: US20240371603A1. Автор: Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Plasma processing apparatus and plasma etching method

Номер патента: US20200286737A1. Автор: Toshifumi Nagaiwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-09-10.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20140141532A1. Автор: Takashi Sone,Eiichi Nishimura,Tadashi Kotsugi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-05-22.

Methods for plasma processing

Номер патента: US09443702B2. Автор: Stephen E. Savas,Carl Galewski,Allan B. Wiesnoski,Sai Mantripragada,Sooyun Joh. Владелец: AIXTRON SE. Дата публикации: 2016-09-13.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: US8969211B2. Автор: Tetsuo Ono,Satoru Muto,Yasuo Ohgoshi,Hirofumi Eitoku. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-03-03.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and recording medium

Номер патента: US09583318B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Shigehiro Miura,Naohide Ito,Katsuaki Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and recording medium

Номер патента: US9583318B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Shigehiro Miura,Naohide Ito,Katsuaki Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09953862B2. Автор: Shigeru Yoneda,Yen-Ting Lin,Akitoshi Harada,Chih-Hsuan CHEN,Ju-Chia Hsieh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Apparatus and system for modulated plasma systems

Номер патента: US20200350140A1. Автор: Gideon van Zyl. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2020-11-05.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297027A1. Автор: Soichiro Eto,Shigeru Nakamoto,Kosuke Fukuchi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Plasma processing device, plasma processing method and method of manufacturing electronic devices

Номер патента: US09627183B2. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09460896B2. Автор: Akitoshi Harada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-04.

Cleaning method of film layer in the plasma processing apparatus

Номер патента: US20240203708A1. Автор: Kazuhiro Ueda,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US9237638B2. Автор: Osamu Morita,Kiyotaka Ishibashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-01-12.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240331974A1. Автор: Norihiko Ikeda,Masaru Izawa,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-03.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12125672B2. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Plasma processing method

Номер патента: US09824866B2. Автор: Akira Kagoshima,Daisuke Shiraishi,Yuji Nagatani. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09601318B2. Автор: Hitoshi Kato,Jun Sato,Hiroyuki Kikuchi,Shigehiro Miura,Toshiyuki Nakatsubo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Plasma processing apparatus and system

Номер патента: US12087591B2. Автор: Kazuya Nagaseki,Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US12094696B2. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Electrostatic chuck assembly for plasma processing apparatus

Номер патента: US12119254B2. Автор: Maolin Long,Weimin Zeng. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: EP4428898A2. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Plasma processing apparatus and upper electrode assembly

Номер патента: US09773647B2. Автор: Shin Matsuura,Jun Young Chung,Keita KAMBARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Device and method for processing of gaseous medium and application of said device for processing of gaseous medium, solid body, surface of their whatever combination

Номер патента: RU2572895C2. Автор: Жан-Мишель БОДУЭН. Владелец: Жан-Мишель БОДУЭН. Дата публикации: 2016-01-20.

Plasma processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230402256A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Jun Sato,Takashi Chiba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12051566B2. Автор: Hitoshi Kato,Yuji Sawada,Hiroyuki Kikuchi,Shinji Asari. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190189403A1. Автор: Takashi Uemura,Junya Sasaki,Yasushi Sonoda,Tomoyoshi Ichimaru,Luke Joseph HIMBELE. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-06-20.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US20230282460A1. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US20230282461A1. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Film formation apparatus and moisture removal method thereof

Номер патента: US12043898B2. Автор: Koji Yoshimura,Shohei Tanabe. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2024-07-23.

Synchronized pulsing of plasma processing source and substrate bias

Номер патента: EP4231328A1. Автор: Kevin Fairbairn,Daniel Carter,Denis Shaw. Владелец: Aes Global Holdings Pte Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

Method and apparatus for forming a plasma resistant coating, component, and plasma processing apparatus

Номер патента: US12123089B2. Автор: Xiang Sun,Sheng Guo,Xingjian CHEN,Jiao DUAN. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2024-10-22.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09941097B2. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Kazuki Denpoh,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09899191B2. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Kazuki Denpoh,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Method for monitoring process conditions of, and method for controlling, a plasma pvd process

Номер патента: SE2030116A1. Автор: Daniel Lundin,Ulf Helmersson. Владелец: Ionautics AB. Дата публикации: 2021-10-07.

Method for monitoring process conditions of, and method for controlling, a plasma pvd process

Номер патента: EP4133118A1. Автор: Daniel Lundin,Ulf Helmersson. Владелец: Ionautics AB. Дата публикации: 2023-02-15.

Method for monitoring process conditions of, and method for controlling, a plasma pvd process

Номер патента: US20230151476A1. Автор: Daniel Lundin,Ulf Helmersson. Владелец: Ionautics AB. Дата публикации: 2023-05-18.

Systems and methods for electrical and magnetic uniformity and skew tuning in plasma processing reactors

Номер патента: WO2016014442A1. Автор: HAITAO Wang,Jie Zhou,Chunlei Zhang,S. M. Reza Sadjadi,Tza-Jing Gung,Fernando M. SILVEIRA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2016-01-28.

Plasma processing apparatus and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20190371635A1. Автор: Tomoya Oori. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-12-05.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12071687B2. Автор: Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Toru Hisamatsu,Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Michiko Nakaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Component of a plasma processing apparatus having a protective in situ formed layer on a plasma exposed surface

Номер патента: US09449797B2. Автор: Harmeet Singh,Thorsten Lill. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Method for monitoring process conditions of, and method for controlling, a plasma pvd process

Номер патента: WO2021206609A1. Автор: Daniel Lundin,Ulf Helmersson. Владелец: Ionautics AB. Дата публикации: 2021-10-14.

Capacitive coupling plasma processing apparatus

Номер патента: US9412562B2. Автор: Shinji Himori,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Capacitive coupling plasma processing apparatus

Номер патента: US9038566B2. Автор: Shinji Himori,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-05-26.

Capacitive coupling plasma processing apparatus

Номер патента: US8070911B2. Автор: Shinji Himori,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-12-06.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12112925B2. Автор: Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Masahiro Sumiya,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-08.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230307245A1. Автор: Atsushi Takahashi,Yoshihide Kihara,Takatoshi ORUI,Maju TOMURA,Koki MUKAIYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230268190A1. Автор: Yoshimitsu Kon,Atsuki Hashimoto,Sho SAITOH. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Plasma processing apparatus, electrostatic attraction method, and electrostatic attraction program

Номер патента: US11764038B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Shoichiro Matsuyama,Naoki Tamaru. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Precleaning chamber and plasma processing apparatus

Номер патента: US20170330769A1. Автор: Peng Chen,Peijun Ding,Kui Xu,Mengxin Zhao,qing She,Guodong Bian. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-16.

Method of CVD plasma processing with a toroidal plasma processing apparatus

Номер патента: US09909215B2. Автор: William Holber,Robert J. BASNETT. Владелец: PLASMABILITY LLC. Дата публикации: 2018-03-06.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230127467A1. Автор: Yoshihide Kihara,Kae Takahashi,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-04-27.

Image-based digital control of plasma processing

Номер патента: WO2022164661A1. Автор: Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-08-04.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20190393031A1. Автор: Toru Hisamatsu,Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-26.

Atmospheric plasma processing systems and methods for manufacture of microelectronic workpieces

Номер патента: US20180096827A1. Автор: Anton J. deVilliers,Mirko Vukovic,Brandon Byrns. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-05.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240347325A1. Автор: Yuki Onodera,Takamitsu Takayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Plasma processing method

Номер патента: US09922841B2. Автор: Ryosuke NIITSUMA,Haruto Kanamori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Systems and methods for detection of plasma instability by electrical measurement

Номер патента: US09824941B2. Автор: Adrien Lavoie,Ishtak Karim,Ramesh Chandrasekharan,Douglas Keil,Edward Augustyniak,Yukinori Sakiyama,Yaswanth Rangineni. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12112921B2. Автор: Hiroyuki Ikuta,Yutaka Fujino,Hirokazu Ueda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Apparatus and method for depositing electronically conductive pasting material

Номер патента: US09666416B2. Автор: Wei D. Wang,John C. Forster,Anantha Subramani. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09574267B2. Автор: Toshihisa Nozawa,Shinji Komoto,Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Ignition method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12080517B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Kazumasa Igarashi,Takeshi Ando. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09631274B2. Автор: Toshihisa Nozawa,Shinji Komoto,Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-25.

Switchable matching network and an inductively coupled plasma processing apparatus having such network

Номер патента: US20200090908A1. Автор: Hiroshi Iizuka,Tuqiang Ni,Kui Zhao,Xiaobei Pang. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2020-03-19.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190096640A1. Автор: Noriyuki Kato. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12068139B2. Автор: Shin Matsuura,Jun Hirose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Microwave plasma source and plasma processing apparatus

Номер патента: US20160358757A1. Автор: Taro Ikeda,Tomohito Komatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-08.

RF choke for gas delivery to an RF driven electrode in a plasma processing apparatus

Номер патента: US09761365B2. Автор: John M. White,Jozef Kudela,Carl A. Sorensen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-12.

Plasma processing device, and plasma processing method

Номер патента: US20240170260A1. Автор: Eiki Kamata,Taro Ikeda,Mitsutoshi ASHIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Systems And Methods For Workpiece Processing Using Neutral Atom Beams

Номер патента: US20200043775A1. Автор: Stephen E. Savas. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-02-06.

Plasma processing apparatus, power system, control method, and storage medium

Номер патента: US20240347320A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Hollow cathode device and method for using the device to control the uniformity of a plasma process

Номер патента: US09455133B2. Автор: LIN Xu,Lee Chen,Kazuki Denpoh,Peter L G Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-27.

Adjustment method for filter unit and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200126772A1. Автор: Nozomu Nagashima,Ryuichi Yui. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, program, and memory medium

Номер патента: EP4425529A2. Автор: Tadashi Inoue,Masaharu Tanabe,Atsushi Takeda,Tatsunori SATO,Kazunari Sekiya,Hiroshi Sasamoto,Nobuaki Tsuchiya. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2024-09-04.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09653317B2. Автор: Tsutomu Ito,Shinichi Kozuka,Masaru Nishino,Ryosuke NIITSUMA,Takao FUNAKUBO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Method of processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US09530657B2. Автор: Masahiro Ogasawara,Rui Takahashi,Masafumi Urakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Plasma processing method

Номер патента: US09502219B2. Автор: Yoshihide Kihara,Toshio Haga,Masaya Kawamata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09779936B2. Автор: Toshio Nakanishi,Minoru Honda,Daisuke Katayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Plasma processing apparatus and prediction method of the condition of plasma processing apparatus

Номер патента: US20190088455A1. Автор: Masahiro Sumiya,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Plasma processing apparatus and prediction method of the condition of plasma processing apparatus

Номер патента: US20210082673A1. Автор: Masahiro Sumiya,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-03-18.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160358758A1. Автор: Toshihiko Iwao,Takahiro Hirano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20170092513A1. Автор: Toshiki Nakajima,Yoshihiro Umezawa,Yuki Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-30.

Batch-type remote plasma processing apparatus

Номер патента: US09373499B2. Автор: Kazuyuki Toyoda,Yasuhiro Inokuchi,Motonari Takebayashi,Nobuo Ishimaru,Tadashi Kontani. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-06-21.

Plasma processing system and plasma processing method

Номер патента: US20240170258A1. Автор: Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Heat transfer plate for a showerhead electrode assembly of a capacitively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US20160079041A1. Автор: Sang Ki Nam,Rajinder Dhindsa,Ryan Bise. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-03-17.

Systems and Methods for UV-Based Suppression of Plasma Instability

Номер патента: US20190057864A1. Автор: Shankar Swaminathan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2019-02-21.

Systems and Methods for UV-Based Suppression of Plasma Instability

Номер патента: US20200111666A1. Автор: Shankar Swaminathan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2020-04-09.

Systems and Methods for UV-Based Suppression of Plasma Instability

Номер патента: US20180076028A1. Автор: Shankar Swaminathan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-15.

Systems and methods for UV-based suppression of plasma instability

Номер патента: US11120989B2. Автор: Shankar Swaminathan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2021-09-14.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12046453B2. Автор: Atsushi Kubo,Nobuhiko Yamamoto,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Microwave probe, plasma monitoring system including the microwave probe, and method for fabricating semiconductor device using the system

Номер патента: US09601397B1. Автор: Vasily Pashkovskiy,Woong Ko,Doug-Yong Sung,Se-Jin Oh,Ki-Ho Hwang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-03-21.

Plasma processing apparatus utilizing a microwave window having a thinner inner area

Номер патента: US6091045A. Автор: Tomomi Murakami,Hiroshi Mabuchi,Katsuo Katayama,Toshihiro Hayami,Junya Tsuyuguchi,Hideo Ida,Naohiko Takeda. Владелец: Sumitomo Metal Industries Ltd. Дата публикации: 2000-07-18.

Method for Producing Plasma Flow, Method for Plasma Processing, Apparatus for Producing Plasma, and Apparatus for Plasma Processing

Номер патента: US20130034668A1. Автор: Yoshifumi Noguchi,Keisuke Sagisaka. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2013-02-07.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220122847A1. Автор: Yuzuru Sakai,Ryo Terashima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-04-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11817321B2. Автор: Yuzuru Sakai,Ryo Terashima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-14.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20110088849A1. Автор: KATSUSHI Kishimoto,Yusuke Fukuoka. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2011-04-21.

Showerhead electrode assembly in a capacitively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US20150194291A1. Автор: Sang Ki Nam,Rajinder Dhindsa,Ryan Bise. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2015-07-09.

Plasma processing device and plasma processing method

Номер патента: US09984906B2. Автор: Naoki Matsumoto,Yugo Tomita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-29.

Heat transfer plate for a showerhead electrode assembly of a capacitively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US09396910B2. Автор: Sang Ki Nam,Rajinder Dhindsa,Ryan Bise. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-07-19.

Plasma processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20150371832A1. Автор: Yukinori Aburatani,Shin Hiyama,Hidehiro Yanai,Toshiya Shimada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2015-12-24.

Movable grounding arrangements in a plasma processing chamber and methods therefor

Номер патента: WO2013081844A2. Автор: Rajinder Dhindsa,Alexei Marakhtanov,Anthony de la Llera,Michael C. KELLOG. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2013-06-06.

Plasma confinement apparatus, and method for confining a plasma

Номер патента: US10187965B2. Автор: Ye Wang,Tuqiang Ni,Jinyuan Chen,Zhaoyang Xu,Qing Qian,Yuehong Fu,Xusheng Zhou. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2019-01-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20210375588A1. Автор: Satoru Kawakami,Masaki Hirayama,Taro Ikeda. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2021-12-02.

Plasma processing method, plasma processing apparatus, and control apparatus

Номер патента: US11901158B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Plasma processing method, plasma processing apparatus, and control apparatus

Номер патента: US20210351010A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-11-11.

Etching method and plasma processing system

Номер патента: US20230402289A1. Автор: Yoshihide Kihara,Kae Takahashi,Maju TOMURA,Noriyoshi ARIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Plasma processing apparatus, data processing apparatus and data processing method

Номер патента: US20160336154A1. Автор: Seiichi Watanabe,Satomi Inoue,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-17.

Radio frequency electrode assembly for plasma processing apparatus, and plasma processing apparatus

Номер патента: US11875970B2. Автор: Jie Liang,Weina Wang,Leyi Tu,Longbao Chen. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2024-01-16.

Plasma processing system and method of supporting plasma ignition

Номер патента: US11923174B2. Автор: Yuji Kitamura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11996268B2. Автор: Toshihiko Iwao. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-28.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220384151A1. Автор: Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: IL167491A. Автор: Robert J Steger. Владелец: Robert J Steger. Дата публикации: 2009-08-03.

A method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: EP1540695B1. Автор: Robert J. Steger. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2010-03-03.

A method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: EP1540695A2. Автор: Robert J. Steger. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-06-15.

Systems and methods for using electrical asymmetry effect to control plasma process space in semiconductor fabrication

Номер патента: US09644271B1. Автор: Adrien Lavoie,Ishtak Karim,Douglas Keil,Karl Leeser,Edward Augustyniak,Yukinori Sakiyama,Chunhai Ji,Yaswanth Rangineni. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-05-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20150179408A1. Автор: Naotaka Noro,Kouji Shimomura,Eiichi Nishimura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-06-25.

Plasma processing method, plasma processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the apparatus

Номер патента: US20210202276A1. Автор: Jin-Young Park,Chan-hoon Park,Je-woo Han,Jong-Woo Sun,Seung-Yoon Song,Jung-Mo Sung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-07-01.

Structure and method for dealing with parasitic plasma in plasma processing device

Номер патента: EP4353865A1. Автор: CHEN CHEN,Dengzhi WANG,Fengming WANG,Qingyuan QU,Xueyong HE,Wangjun LI. Владелец: Suzhou Maizheng Technology Co ltd. Дата публикации: 2024-04-17.

Wafer processing apparatus and wafer processing method using the same

Номер патента: US11990348B2. Автор: Sunggil Kang,Dongkyu Shin,Hoseop Choi,Sangjin AN,Chanyeong JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing system

Номер патента: US12014909B2. Автор: Akira Kagoshima,Daisuke Shiraishi,Satomi Inoue,Shota Umeda,Ryoji ASAKURA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-18.

Forming method of component and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240234099A1. Автор: Kazuya Nagaseki,Michishige Saito,Shota Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Systems and methods for using electrical asymmetry effect to control plasma process space in semiconductor fabrication

Номер патента: US09941113B2. Автор: Adrien Lavoie,Ishtak Karim,Douglas Keil,Karl Leeser,Edward Augustyniak,Yukinori Sakiyama,Chunhai Ji,Yaswanth Rangineni. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09767993B2. Автор: Osamu Morita,Kiyotaka Ishibashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Insulated dielectric window assembly of an inductively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US09437400B2. Автор: Brett C. Richardson,David Setton,Gautam Bhattacharyya. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-09-06.

Plasma processing method

Номер патента: US09349603B2. Автор: Masaki Fujii,Tetsuo Ono,Yoshiharu Inoue,Masakazu Miyaji,Michikazu Morimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-05-24.

Method of surface plasma processing

Номер патента: RU2426608C2. Автор: МИХЕЛЬ Томас,Ойген ШЛИТТЕНХАРДТ. Владелец: Фраунхофер-Гезелльшафт Цур Фёрдерунг Дер Ангевандтен Форшунг Э.Ф.. Дата публикации: 2011-08-20.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US10297489B2. Автор: Akihiro Itou,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US9685305B2. Автор: Koji Maruyama,Akira Koshiishi,Masato Horiguchi,Tetsuri Matsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-20.

Plasma processing apparatus and methods for removing extraneous material from selected areas on a substrate

Номер патента: US20100075505A1. Автор: James D. Getty,James S. Tyler,Robert S. Condrashoff. Владелец: Nordson Corp. Дата публикации: 2010-03-25.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20110092073A1. Автор: Takashi Hosono,Makoto Muto,Hideyuki Nitta,Takefumi Minato,Yoshihisa Kase. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2011-04-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11875978B2. Автор: Atsushi Sekiguchi,Miyako Matsui,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Tsubasa Okamoto,Naohiro Kawamoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-01-16.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240014006A1. Автор: Naoki Fujiwara,Takahiro Takeuchi,Mitsunori Ohata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Plasma processing apparatus and plasma state estimation method

Номер патента: US20240030015A1. Автор: Eiki Kamata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220020574A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2022-01-20.

Inspection method of plasma processing apparatus

Номер патента: US12046456B2. Автор: Masahiro Nagatani,Yusuke TAKEGAWA,Kota Kakimoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297021A1. Автор: Yoshinori Yoshida,Yutaka Kouzuma,Kazuyuki Hirozane. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240339305A1. Автор: Hajime Tamura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11862436B2. Автор: Toru Fujii,Kohei Otsuki,Yoshitomo Konta. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20230282491A1. Автор: Ryoji Hamasaki,Masahito Mori,Toshiaki Nishida,Naoyuki Kofuji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-09-07.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11972925B2. Автор: Ken Kobayashi,Mitsunori Ohata,Bong seong Kim,Yoon Ho BAE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US9941133B2. Автор: Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Masahiro Sumiya,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20210142988A1. Автор: Hiroyuki Matsuura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20200227270A1. Автор: Masahito Mori,Hayato Watanabe,Takao Arase,Taku Iwase,Satoshi Terakura. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-07-16.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200303169A1. Автор: Hisanori Sakai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-09-24.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200035501A1. Автор: Masahiro Tabata,Sho Kumakura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-01-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11688585B2. Автор: Hiroyuki Matsuura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-27.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20070235425A1. Автор: Tadahiro Ohmi,Masayuki Kitamura,Kazuaki Nishimura,Masaki Hirayama,Shinsuke Oka,Takahiro Horiguchi. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2007-10-11.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US7432468B2. Автор: Tadahiro Ohmi,Masayuki Kitamura,Kazuaki Nishimura,Masaki Hirayama,Shinsuke Oka,Takahiro Horiguchi. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2008-10-07.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20180190502A1. Автор: Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Masahiro Sumiya,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-07-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20190333772A1. Автор: Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Masahiro Sumiya,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-10-31.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US9165780B2. Автор: Akira Shimizu,Yu WAMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-10-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240222095A1. Автор: Takashi Yamamura,Yasutaka HAMA,Chunhsiang YANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Near-substrate supplemental plasma density generation with low bias voltage within inductively coupled plasma processing chamber

Номер патента: WO2018136121A1. Автор: Qing Xu,Qian Fu,Yiting Zhang,Saravanapriyan Sriraman,Alex Paterson,Ying Wu,Zhongkui Tan. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2018-07-26.

Methods for preventing plasma un-confinement events in a plasma processing chamber

Номер патента: US09928995B2. Автор: Andreas Fischer,Rajinder Dhindsa. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Plasma processing method

Номер патента: US09673062B1. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Plasma processing apparatus and method of manufacture

Номер патента: US20230377857A1. Автор: Se Jin Oh,Doug Yong SUNG,Jong Hun Pi,Jung Min Ko,Yeong Kwang Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-23.

Plasma processing with independent temperature control

Номер патента: US11854770B2. Автор: WEI Liu,Rene George,Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Plasma processing with independent temperature control

Номер патента: WO2022154968A1. Автор: WEI Liu,Rene George,Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-07-21.

Plasma processing-apparatus processing object support platform, plasma processing apparatus, and plasma processing method

Номер патента: US20190096731A1. Автор: Hideo Eto. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Plasma processing apparatus, wafer to wafer bonding system and wafer to wafer bonding method

Номер патента: US20240038536A1. Автор: Wooyoung Kim,Jiwon Moon,SeungDae SEOK,Yongin LEE,Donggap Shin,Bumki Moon,Siwoong Woo,Sehoon JANG,Inhwa Baek. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-01.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20080217295A1. Автор: Seiichi Watanabe,Akitaka Makino,Naoki Yasui,Susumu Tauchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-09-11.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230377899A1. Автор: Takahiro Yonezawa,Tetsuya Nishizuka,Kenta Ono,Yusuke Takino. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Plasma processing apparatus and processing gas supply structure thereof

Номер патента: US20120090783A1. Автор: Hachishiro Iizuka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-04-19.

Plasma processing with independent temperature control

Номер патента: US20240170263A1. Автор: WEI Liu,Rene George,Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-23.

Plasma processing with independent temperature control

Номер патента: EP4278373A1. Автор: WEI Liu,Rene George,Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-22.

Temperature controller, temperature measurer, and plasma processing apparatus including the same

Номер патента: US20190385813A1. Автор: Hak-Young Kim,Bi-Ah SHIN,Bo-Ra YOON,Jun-Ho IM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-12-19.

Semiconductor manufacturing apparatus and semiconductor manufacturing method

Номер патента: US20180202945A1. Автор: Naoto Kanzaki,Kotaro Horikoshi,Toru Shinaki. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2018-07-19.

Restoring method for inner wall member of plasma processing apparatus

Номер патента: US20240240300A1. Автор: Taku Watanabe,Tadayoshi Kawaguchi,Shoichiro Mizunashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Plasma processing method

Номер патента: US09972776B2. Автор: Naohiro Yamamoto,Masato Ishimaru,Makoto Suyama,Hidenori TOYOOKA,Norihiro HOSAKA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-15.

Method for cleaning plasma processing chamber and substrate

Номер патента: US09595448B2. Автор: Yu-Cheng Liu,Shih-Ping Hong. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Detection method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240030012A1. Автор: Naoki Matsumoto,Satoru Nakamura,Yusuke Shimizu,Toshihisa Ozu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Substrate processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US11881410B2. Автор: Yasutaka HAMA,Shu Kino,Motoki NORO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-23.

Plasma processing apparatus and ceiling wall

Номер патента: US20230343561A1. Автор: Satoshi Itoh,Eiki Kamata,Taro Ikeda,Shigenori Ozaki,Soudai EMORI,Masashi Imanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Plasma processing apparatus and method for releasing sample

Номер патента: US20180040491A1. Автор: Masaki Ishiguro,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-02-08.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220262631A1. Автор: Satoshi Itoh,Norifumi Kohama,Nathan Ip,Soudai EMORI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-18.

Manufacturing method and inspection method of interior member of plasma processing apparatus

Номер патента: US11987880B2. Автор: Masaru Kurihara,Kazuhiro Ueda,Tomoyuki Tamura,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-05-21.

Method for preventing explosion of exhaust gas in decompression processing apparatus

Номер патента: US10168049B2. Автор: Norikazu Sasaki,Norihiko Amikura,Risako Miyoshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-01-01.

Member for plasma processing device and plasma processing device provided with same

Номер патента: US12065727B2. Автор: Shuichi Saito,Kazuhiro Ishikawa,Takashi Hino. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

Guard aperture to control ion angular distribution in plasma processing

Номер патента: US20160093409A1. Автор: Ludovic Godet,Sang Ki Nam. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-03-31.

Arrangement for plasma processing system control based on RF voltage

Номер патента: US09911577B2. Автор: John C. Valcore, JR.,Henry S. Povolny. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-06.

Microwave Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20070283887A1. Автор: Toshihisa Nozawa,Caizhong Tian. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-12-13.

Method and apparatus for realtime wafer potential measurement in a plasma processing chamber

Номер патента: WO2023096730A1. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-06-01.

Plasma Processing Apparatus and Plasma Processing Method

Номер патента: US20120145323A1. Автор: Hitoshi Tamura,Seiichi Watanabe,Naoki Yasui. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-06-14.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200032395A1. Автор: Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Toru Hisamatsu,Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Michiko Nakaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-01-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20160293469A1. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-06.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20160293456A1. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-06.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20230420220A1. Автор: Kenta Doi,Toshiyuki Nakamura,Yasuhiro Morikawa,Taichi Suzuki. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20130029492A1. Автор: Masaki Fujii,Tetsuo Ono,Yoshiharu Inoue,Masakazu Miyaji,Michikazu Morimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-01-31.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200402805A1. Автор: Jun Abe,Kazunobu Fujiwara,Yusuke Aoki,Koichi Nagami,Shinya Morikita,Toshikatsu Tobana,Fumiya TAKATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-24.

Plasma processing apparatus and member of plasma processing chamber

Номер патента: US20190326101A1. Автор: Kazuhiro Ueda,Tomoyuki Tamura,Masahiro Sumiya,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-10-24.

Apparatus for monitoring a plasma process

Номер патента: US20230317439A1. Автор: Minsung Kim,Sungyeol KIM,Hosun Yoo,Taekjin Kim,Meehyun Lim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-10-05.

Method and apparatus for performing plasma process on particles

Номер патента: US20020148812A1. Автор: Naoki Tamitani. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-17.

Plasma processing device

Номер патента: US20220277932A1. Автор: Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-01.

System and method for detecting a process point in multi-mode pulse processes

Номер патента: US09640371B2. Автор: Andrew D. Bailey, III,Ramkumar Subramanian,Yassine Kabouzi,Yoko Yamaguchi,Mehmet Derya Tetiker,Jorge Luque. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-05-02.

Plasma processing device, and plasma processing method

Номер патента: US09601330B2. Автор: Tomohiro Okumura,Hiroshi Kawaura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Arrangement for plasma processing system control based on RF voltage

Номер патента: US09455126B2. Автор: John C. Valcore, JR.,Henry S. Povolny. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-09-27.

Plasma-enhanced etching in an augmented plasma processing system

Номер патента: US09418859B2. Автор: Andrew D. Bailey, III,Rajinder Dhindsa,Eric A. Hudson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-08-16.

Method of cleaning stage in plasma processing apparatus, and the plasma processing apparatus

Номер патента: US11865591B2. Автор: Junichi Sasaki,Takamitsu Takayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-09.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20210296090A1. Автор: Satoru Nakamura,Shinya Morikita,Fumiya TANIFUJI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-09-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20170298514A1. Автор: Toshihiko Iwao,Takaaki Kato,Takahiro Hirano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-19.

Plasma processing apparatus and method therefor

Номер патента: US20150126038A1. Автор: Shogo Okita. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2015-05-07.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: US20150170880A1. Автор: Tetsuo Ono,Satoru Muto,Yasuo Ohgoshi,Hirofumi Eitoku. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-06-18.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230420225A1. Автор: Shuhei Ogawa,Cedric THOMAS,Tejung HUANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11967485B2. Автор: Mikio Sato,Nobuhiko Yamamoto,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230386794A1. Автор: Satoru Nakamura,Shinya Morikita,Fumiya TANIFUJI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US7895971B2. Автор: Toshihisa Nozawa,Caizhong Tian. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-03-01.

Holding method of edge ring, plasma processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US11984303B2. Автор: Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-14.

Plasma Processing Method

Номер патента: US20210142982A1. Автор: Tsuyoshi Moriya,Toshio Hasegawa,Shinya Iwashita,Naotaka Noro,Takamichi Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Lower electrode and plasma processing apparatus

Номер патента: US20150206722A1. Автор: Takashi Yamamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-07-23.

Plasma processing method and resist pattern modifying method

Номер патента: US20100055911A1. Автор: Jin Fujihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-03-04.

Plasma processing method

Номер патента: US20240203751A1. Автор: Tatsuya Hayashi,Mineaki Kodama,Masashi Kawabata,Tomoyoshi Ichimaru,Yujiro YONEDA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200365380A1. Автор: Takehiro Ueda,Jun Hirose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-11-19.

Plasma processing method

Номер патента: US09842750B2. Автор: Tetsuhiro Iwai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-12.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US5685913A. Автор: Toru Takayama,Naoki Hirose,Takashi Inujima. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 1997-11-11.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US5858259A. Автор: Toru Takayama,Naoki Hirose,Takashi Inujima. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 1999-01-12.

Electron beam generator, plasma processing apparatus having the same and plasma processing method using the same

Номер патента: US11195696B2. Автор: Akira Koshiishi,Soonam Park,Dongkyu Shin,Kyuhee Han,Sangki NAM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-12-07.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20090229755A1. Автор: Tadahiro Ohmi,Masaki Hirayama,Tetsuya Goto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-09-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US11908663B2. Автор: Taro Ikeda,Toshifumi KITAHARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20230377844A1. Автор: Shingo Takahashi,Jenhung HUANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11830751B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Takashi Nishijima,Shoichiro Matsuyama,Jinyoung Park,Daiki Satoh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-28.

Method of processing substrate, device manufacturing method, and plasma processing apparatus

Номер патента: US11081351B2. Автор: Satoru Nakamura,Yusuke Aoki,Shinya Morikita,Toshikatsu Tobana. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-08-03.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20160293455A1. Автор: Tomohiro Okumura,Satoshi Suemasu. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-06.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20180122665A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Kenetsu Yokogawa,Tomoyuki Watanabe,Masaru Izawa,Satoshi Sakai,Naoyuki Kofuji,Nobuya MIYOSHI,Kazunori Shinoda,Yutaka Kouzuma,Tatehito Usui. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-03.

Plasma processing apparatus and electrostatic chuck

Номер патента: US20240047182A1. Автор: Makoto Kato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Plasma processing apparatus and storage medium

Номер патента: US20230268165A1. Автор: Yusuke Aoki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160079043A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Makoto Nawata,Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-03-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US9607874B2. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Makoto Nawata,Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Plasma processing system, plasma processing apparatus, and etching method

Номер патента: US20240112918A1. Автор: Atsushi Takahashi,Noboru Saito,Shinya Ishikawa,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-04.

Method of processing substrate, device manufacturing method, and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210057212A1. Автор: Satoru Nakamura,Yusuke Aoki,Shinya Morikita,Toshikatsu Tobana. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-02-25.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12014930B2. Автор: Masanori Hosoya,Mitsuhiro Iwano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-18.

Plasma processing apparatus and electrostatic chuck including a dielectric structure and an electrostatic claim electrode inside the dielectric structure

Номер патента: US20240222092A1. Автор: Takahiko Sato,Tetsuo Yoshida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240213002A1. Автор: Ikko Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Apparatus for ion energy analysis of plasma processes

Номер патента: US12136542B2. Автор: James Doyle,Tigran Poghosyan,Paul Scullin,David Gahan,J J Lennon. Владелец: IMPEDANS LTD. Дата публикации: 2024-11-05.

Plasma processing chamber with a grounded electrode assembly

Номер патента: US09905402B2. Автор: Arnold Kholodenko,Anwar Husain. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US6155201A. Автор: Takashi Ohtsuka,Hitoshi Murayama,Kazuyoshi Akiyama,Kazuto Hosoi,Toshiyasu Shirasuna,Ryuji Okamura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2000-12-05.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: CA1299773C. Автор: Hiroshi Nishimura,Seitaro Matsuo,Mikiho Kiuchi. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1992-04-28.

Plasma processing method

Номер патента: US11915951B2. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Kenetsu Yokogawa,Tomoyuki Watanabe,Masaru Izawa,Satoshi Sakai,Naoyuki Kofuji,Nobuya MIYOSHI,Kazunori Shinoda,Yutaka Kouzuma,Tatehito Usui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-02-27.

Plasma processing method

Номер патента: US20170278676A1. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-28.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220285169A1. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230360882A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Broadband Plasma Processing Systems and Methods

Номер патента: US20210082667A1. Автор: Peter Ventzek,Jianping Zhao. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-18.

Plasma processing apparatus and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230335380A1. Автор: Takaaki Kato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240018660A1. Автор: Hiroyuki Matsuura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Plasma processing method

Номер патента: US20100029024A1. Автор: Kenji Maeda,Masatoshi Miyake,Kenetsu Yokogawa,Masaru Izawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2010-02-04.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200227241A1. Автор: Seiji Yokoyama,Shunichi Kawasaki,Taichi Okano,Sho Oikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-07-16.

Immersible plasma coil assembly and method for operating the same

Номер патента: WO2012074741A1. Автор: Matthew Davis. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-06-07.

Substrate treating apparatus and impedance matching method

Номер патента: US12051565B2. Автор: Young Kuk Kim,Ja Myung GU,Tae Hoon JO,Goon Ho PARK. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Plasma processing method

Номер патента: US20240304456A1. Автор: Makoto Miura,Koichi Takasaki,Makoto Satake. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-12.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US5849455A. Автор: Shigenori Ueda,Junichiro Hashizume,Shinji Tsuchida. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1998-12-15.

Control method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11887825B2. Автор: Mikio Sato,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Control method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210125814A1. Автор: Mikio Sato,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-04-29.

Imprint apparatus, information processing apparatus, imprint method, and method of manufacturing article

Номер патента: US20210181623A1. Автор: Toyoaki Sugimoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-06-17.

Method of processing substrate, substrate processing apparatus, recording medium, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11753716B2. Автор: Takeo Hanashima,Koei KURIBAYASHI,Hiroki HATTA,Shin SONE. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-12.

Method of processing substrate, substrate processing apparatus, recording medium, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12094708B2. Автор: Yoshitomo Hashimoto,Masaya Nagato. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus, control system, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20190301020A1. Автор: Hiroki OKAMIYA,Kazuo NAKAYA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2019-10-03.

Lithography method, determination method, information processing apparatus, storage medium, and method of manufacturing article

Номер патента: KR102134203B1. Автор: 가즈시 미즈모토. Владелец: 캐논 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2020-07-15.

Substrate supporting device for vacuum processing apparatus, vacuum processing apparatus having same, and method for examining breakage of substrate

Номер патента: KR101418989B1. Автор: 최일권,김완승. Владелец: 주식회사 원익아이피에스. Дата публикации: 2014-07-11.

OXIDATION PROCESS APPARATUS, OXIDATION METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20150318466A1. Автор: Shimane Yoshimitsu,Seino Takuya. Владелец: . Дата публикации: 2015-11-05.

METHOD OF PROCESSING SUBSTRATE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, RECORDING MEDIUM, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20220415659A1. Автор: ITO Takumi,NAKATANI Kimihiko,KAWANISHI Masato. Владелец: KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION. Дата публикации: 2022-12-29.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, recording medium and method of processing substrate

Номер патента: US20230170215A1. Автор: Hideki Horita,Ryota HORIIKE. Владелец: Kokusai Electric Corpotation. Дата публикации: 2023-06-01.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, recording medium, and method of processing substrate

Номер патента: US11515143B2. Автор: Yoshitomo Hashimoto,Tatsuru Matsuoka. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-11-29.

Vaporizer, substrate processing apparatus, cleaning method and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: KR20210117950A. Автор: 히로히사 야마자키,켄이치 스자키,겐 리. Владелец: 가부시키가이샤 코쿠사이 엘렉트릭. Дата публикации: 2021-09-29.

Substrate processing apparatus inspection method and method for reducing quantity of particles on substrate

Номер патента: US7871471B2. Автор: Yoshiyuki Kato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-01-18.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE SUPPORTER AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20140004710A1. Автор: Sakata Masakazu,Yanai Hidehiro. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC.. Дата публикации: 2014-01-02.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, LID COVER AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20180033645A1. Автор: Saido Shuhei,URUSHIHARA Mika,OKAJIMA Yusaku. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC.. Дата публикации: 2018-02-01.

Substrate processing apparatus, substrate support, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20210035835A1. Автор: Kenichi Suzaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2021-02-04.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE RETAINER AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20220093435A1. Автор: Saido Shuhei,Sasaki Shinya,YAMAMOTO Tetsuo,SHINOZAKI Kenji,MICHITA Noriaki,YANAGISAWA Yoshihiko. Владелец: KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION. Дата публикации: 2022-03-24.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, EXHAUST SYSTEM AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20180144953A1. Автор: Sakata Masakazu,Ozaki Takashi,Yamada Tomoyuki,Kasai Takeshi,YAMADA Masayuki,Kanayama Kenji,Ogawa Unryu,NAKASHIMA Seiyo,OKUNO Masanori,YONEJIMA Toshihiko,OKAMIYA Hiroki,NOGAMI Katsuaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC.. Дата публикации: 2018-05-24.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, PROCESS CONTAINER, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20140287599A1. Автор: Hirose Yoshiro,KAMAKURA Tsukasa. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC.. Дата публикации: 2014-09-25.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, STORAGE DEVICE, AND METHOD OF TRANSPORTING SUBSTRATE STORING CONTAINER

Номер патента: US20140341681A1. Автор: Yamamoto Jun,INAGAKI Yukihiko,ONISHI Kensaku. Владелец: . Дата публикации: 2014-11-20.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, RECORDING MEDIUM AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20160307783A1. Автор: IIDA Tsukasa. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC.. Дата публикации: 2016-10-20.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, CONTROL SYSTEM, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20190301020A1. Автор: NAKAYA Kazuo,OKAMIYA Hiroki. Владелец: KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION. Дата публикации: 2019-10-03.

Substrate Processing Apparatus, Reaction Tube and Method of Manufacturing Semiconductor Device

Номер патента: US20190330738A1. Автор: SASAKI Takafumi,Saido Shuhei,Yoshida Hidenari,OKAJIMA Yusaku. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-31.

Substrate Processing Apparatus, Gas Nozzle and Method of Manufacturing Semiconductor Device

Номер патента: US20200392625A1. Автор: Takebayashi Yuji,Fujino Toshiki,Ogawa Unryu,HADA Yukihito,TSUNODA Naoko. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-17.

PART HAVING CORROSION-RESISTANT LAYER, MANUFACTURING PROCESS APPARATUS HAVING SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING PART

Номер патента: US20220411340A1. Автор: Ahn Bum Mo,Song Tae Hwan,EOM Young Heum. Владелец: POINT ENGINEERING CO., LTD.. Дата публикации: 2022-12-29.

Substrate processing apparatus, substrate support, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: JP5689483B2. Автор: 英博野内,坂田　雅和,雅和坂田,野内　英博. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2015-03-25.

Substrate processing apparatus, substrate support, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: JPWO2012099064A1. Автор: 英博野内,坂田　雅和,雅和坂田,野内　英博. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2014-06-30.

Substrate processing apparatus, storage device, and method of transporting substrate storing container

Номер патента: US8827621B2. Автор: Yukihiko Inagaki,Jun Yamamoto,Kensaku ONISHI. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2014-09-09.

Substrate processing apparatus, exhaust system and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US10163663B2. Автор: Tomoyuki Yamada,Masayuki Yamada,Masakazu Sakata,Takashi Ozaki,Takeshi Kasai,Kenji Kanayama,Unryu Ogawa,Toshihiko Yonejima,Masanori OKUNO,Hiroki OKAMIYA,Katsuaki NOGAMI,Seiyo Nakashima. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2018-12-25.

Substrate processing apparatus, monitoring program and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: KR20180048290A. Автор: 카즈요시 야마모토,히로유키 이와쿠라,히데모토 하야시하라,카즈히데 아사이,미츠루 후쿠다,카요코 야시키,타카유키 카와기시. Владелец: 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키. Дата публикации: 2018-05-10.

Substrate processing apparatus, nozzle base and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: JP6550029B2. Автор: 吉田　秀成,秀成吉田. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2019-07-24.

Substrate processing apparatus, substrate suppport and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20220157628A1. Автор: Yusaku OKAJIMA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-05-19.

Substrate processing apparatus, ceiling heater and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: KR102384004B1. Автор: 히토시 무라타,슈헤이 사이도,테츠야 코스기. Владелец: 가부시키가이샤 코쿠사이 엘렉트릭. Дата публикации: 2022-04-06.

Substrate processing apparatus, substrate support, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: KR102552458B1. Автор: 겐이치 스자키. Владелец: 가부시키가이샤 코쿠사이 엘렉트릭. Дата публикации: 2023-07-06.

Liquid processing apparatus for substrate, and method for generating processing liquid

Номер патента: CN102024693B. Автор: 江岛和善. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-03-26.

Processing apparatus, exhaust system and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: KR20230130775A. Автор: 마사카즈 사카타,마사미치 야치,마사노리 오쿠노,토시히코 요네지마. Владелец: 가부시키가이샤 코쿠사이 엘렉트릭. Дата публикации: 2023-09-12.

Substrate processing apparatus, recording medium, and method of processing substrate

Номер патента: US20220119949A1. Автор: Yoshimasa Nagatomi,Takafumi Sasaki,Mika URUSHIHARA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-04-21.

Substrate processing apparatus, recording medium, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230257883A1. Автор: Masaaki Ueno,Hideto Yamaguchi,Shuhei Maeda,Tetsuya Kosugi,Masashi Sugishita,Seiya SHIGEMATSU. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-08-17.

Substrate processing apparatus, substrate support, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11929272B2. Автор: Kenichi Suzaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-12.

Fluid supply system, processing apparatus, recording medium, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230279550A1. Автор: Kaoru Yamamoto,Kentaro GOSHIMA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-07.

Information processing system, information processing apparatus, apparatus, and non-transitory computer readable medium storing information processing program

Номер патента: US09300631B2. Автор: Takayuki Suzuki. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2016-03-29.

Radio communication apparatus, information processing apparatus, communication system, and method of controlling a radio communication apparatus according to user selection

Номер патента: US20160057763A1. Автор: Takashi Usui,Shinichiro Abe,Shinichiro Tsuda,Kazuhisa Takamura. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2016-02-25.

Radio communication apparatus, information processing apparatus, communication system, and method of controlling a radio communication apparatus according to information controlling a condition in which an access request is to be executed

Номер патента: US20170273093A1. Автор: Takashi Usui,Shinichiro Abe,Shinichiro Tsuda,Kazuhisa Takamura. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2017-09-21.

Radio communication apparatus, information processing apparatus, communication system, and method of controlling a radio communication apparatus according to information controlling a condition in which an access request is to be executed

Номер патента: US09699799B2. Автор: Takashi Usui,Shinichiro Abe,Shinichiro Tsuda,Kazuhisa Takamura. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2017-07-04.

Image processing apparatus, recording medium, and method

Номер патента: US10044905B2. Автор: Tatsuya Miyadera,Masahiko Oikawa. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-07.

Audio signal processing apparatus, audio system, and method for enhancing low-frequency sound sensation

Номер патента: EP4243445A1. Автор: Ryosuke Tachi. Владелец: Alps Alpine Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-13.

Image processing apparatus, recording medium, and method

Номер патента: US20170180604A1. Автор: Tatsuya Miyadera,Masahiko Oikawa. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-22.

Endoscopic image processing apparatus, endoscope system, and method of operating endoscopic image processing apparatus

Номер патента: US12067672B2. Автор: Hideaki Takahashi. Владелец: Evident Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

Information processing apparatus, program product, and method

Номер патента: US09973897B2. Автор: Hiroyoshi Kuroda,Fumihiko Hashizume,Tadahiro TAKATA. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Accelerated processing apparatus for transaction and method thereof

Номер патента: US11507565B2. Автор: Sang Won Lee,Ki Woon Sung,Kyu Sang Lee,Chang Suk Yoon,Hwa Yong OH. Владелец: Samsung SDS Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-22.

Information processing apparatus, authentication system, and method of deleting card information

Номер патента: US11113369B2. Автор: Akihiro Yamashita. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-07.

Image processing apparatus, server device, and method thereof

Номер патента: US20240346569A1. Автор: Takayuki Sawada. Владелец: Toshiba TEC Corp. Дата публикации: 2024-10-17.

Information processing apparatus, positioning system and method for positioning a communication device

Номер патента: US09820092B1. Автор: Akihiko Fujiwara,Mika Hirama. Владелец: Toshiba TEC Corp. Дата публикации: 2017-11-14.

Information processing apparatus, terminal apparatus, information providing system, program for causing computer to function as information processing apparatus, recording medium, and method for controlling information processing apparatus

Номер патента: US20200221174A1. Автор: Yuki Fujiwara. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2020-07-09.

Information processing apparatus, meeting system, and method

Номер патента: US11804974B2. Автор: Takehiro Fujita. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-31.

Information processing system, information processing apparatus, recording medium, and method

Номер патента: US20220294929A1. Автор: Keiichiro Hitomi. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-15.

Signal processing apparatus, transmitter, receiver and method

Номер патента: CA2769608C. Автор: STOJANOVIC Nebojsa. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2016-01-05.

Accelerated processing apparatus for transaction and method thereof

Номер патента: EP3748914A1. Автор: Sang Won Lee,Ki Woon Sung,Kyu Sang Lee,Chang Suk Yoon,Hwa Yong OH. Владелец: Samsung SDS Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-09.

Information processing apparatus terminal, device and method for adjusting operating modes of terminal

Номер патента: US10419596B2. Автор: Junjie Zhao. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-17.

Information processing apparatus terminal, device and method for adjusting operating modes of terminal

Номер патента: US20180191891A1. Автор: Junjie Zhao. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-05.

Audio signal processing apparatus, audio system, and method for enhancing low-frequency sound sensation

Номер патента: US20230292044A1. Автор: Ryosuke Tachi. Владелец: Alps Alpine Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Accelerated processing apparatus for transaction and method thereof

Номер патента: US20200379981A1. Автор: Sang Won Lee,Ki Woon Sung,Kyu Sang Lee,Chang Suk Yoon,Hwa Yong OH. Владелец: Samsung SDS Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-03.

Information processing apparatus, authentication system, and method of deleting card information

Номер патента: US20190205509A1. Автор: Akihiro Yamashita. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-04.

Data processing apparatus, memory system, and method of processing data

Номер патента: US20190181881A1. Автор: Atsushi Matsumura,Takuya Matsuo. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-06-13.

Signal processing apparatus, transmitter, receiver and method

Номер патента: US20120213530A1. Автор: Nebojsa Stojanovic. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2012-08-23.

Image processing apparatus, imaging system, and method for estimating error in reconstructed images

Номер патента: US20240037798A1. Автор: Motoki Yako,Takayuki Kiyohara. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

High frequency power source, plasma processing apparatus, inspection method for plasma processing apparatus, and plasma processing method

Номер патента: US20020113738A1. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2002-08-22.

Plasma processing apparatus and lamination system for secondary battery comprising same

Номер патента: EP4428972A1. Автор: Sang-kyun Lee,Yong-Tae Lee,Hun-Hyeong Lee,Man-Woong HAN. Владелец: LG Energy Solution Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Component of substrate processing apparatus and method for forming a film thereon

Номер патента: US09828690B2. Автор: Koji Mitsuhashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Plasma processing method and method for fabricating electronic component module using the same

Номер патента: EP1709674A1. Автор: Masaru Matsushita El.Ind.Co.Ltd. NONOMURA,Tatsuhiro Matsushita El. Ind. Co. MIZUKAMI. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2006-10-11.

Image-based digital control of plasma processing

Номер патента: US12027426B2. Автор: Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-02.

Systems and methods for detecting endpoint for through-silicon via reveal applications

Номер патента: US09543225B2. Автор: Qing Xu,Jorge Luque,Alan Jeffrey MILLER,Evelio Sevillano,Andrew D Bailey, Iii. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Plasma processing method

Номер патента: US20020173161A1. Автор: Kiyoshi Arita,Tetsuhiro Iwai. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2002-11-21.

Method of adsorbing target object on mounting table and plasma processing apparatus

Номер патента: US09953854B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Akihito FUSHIMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Single crystal cathode materials using microwave plasma processing

Номер патента: CA3197618A1. Автор: Richard K. Holman,Adrian Pullen,John COLWELL,Gregory M. WROBEL. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2022-07-28.

Single crystal cathode materials using microwave plasma processing

Номер патента: EP4281215A1. Автор: Richard K. Holman,Adrian Pullen,John COLWELL,Gregory M. WROBEL. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2023-11-29.

De-chuck control method and control device for plasma processing apparatus

Номер патента: US09466519B2. Автор: Atsushi Kawabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-11.

Semiconductor device and method for fabricating the same

Номер патента: US6856020B2. Автор: Shinichi Imai,Nobuhiro Jiwari. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2005-02-15.

Plasma process uniformity by wafer back side doping

Номер патента: US20240112904A1. Автор: Kwang Jae Shin,Kezia Cheng,Alan Sangone Chen,Taecheol Shon,Yong Woo Jeon. Владелец: Skyworks Global Pte Ltd. Дата публикации: 2024-04-04.

Wafer processing method and wafer processing apparatus

Номер патента: SG132691A1. Автор: Isamu Kawashima. Владелец: Tokyo Seimitsu Co Ltd. Дата публикации: 2007-06-28.

Semiconductor structure and method of forming the same

Номер патента: US20240282700A1. Автор: Li Han Lin. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-08-22.

De-chuck control method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09966291B2. Автор: Junichi Sasaki,Masaaki Miyagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Reactor for plasma processing of semiconductor structures

Номер патента: RU2670249C1. Автор: Владимир Борисович Павлов,Александр Кириллович Петров,Наталья Борисовна Гусева,Вадим Александрович Сологуб,Александр Арменакович Айрапетов,Вадим Васильевич Одиноков,Георгий Яковлевич Павлов,Александр Михайлович Никонов,Михаил Георгиевич Бирюков,Константин Викторович Вавилин,Елена Александровна Кралькина,Полина Алексеевна Неклюдова,Елена Владимировна Карпенкова. Владелец: Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт точного машиностроения". Дата публикации: 2018-10-19.

Thin film batteries and methods for manufacturing same

Номер патента: EP2291876A2. Автор: Michael Stowell,Nety Krishna,Byung Sung Kwak. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-03-09.

Plasma cvd method, method for forming silicon nitride film and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20120178268A1. Автор: Toshio Nakanishi,Masayuki Kohno,Tatsuo Nishita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-07-12.

Radical deactivation component, plasma processing apparatus using the same and radical deactivation method

Номер патента: US20190362939A1. Автор: Koji Yamagishi,Shinji Maekawa,Shota SASAKI,Daisuke Yoshikoshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-11-28.

Plasma oxidizing method, plasma processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US20100015815A1. Автор: Takashi Kobayashi,Nobuhiko Yamamoto,Junichi Kitagawa,Yoshiro Kabe,Hikaru Adachi,Toshihiko Shiozawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-01-21.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: US20050037629A1. Автор: Ichiro Nakayama,Yoshihiro Yanagi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-02-17.

Apparatus and methods for handling workpieces of different sizes

Номер патента: US09385017B2. Автор: David K. Foote,James D. Getty,James P. Fazio. Владелец: Nordson Corp. Дата публикации: 2016-07-05.

Methods for etching metal films using plasma processing

Номер патента: US12057322B2. Автор: Qingyun Yang,Nathan P. Marchack,Devi Koty,Sebastian Ulrich Engelmann,Nicholas Joy. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Method for fabricating electronic component module using a plasma processing method

Номер патента: MY137638A. Автор: Masaru Nonomura,Tatsuhiro Mizukami. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2009-02-27.

Modifying work function of a metal film with a plasma process

Номер патента: US20180218911A1. Автор: WEI Liu,Johanes S. Swenberg,Houda Graoui,Steven C. H. Hung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-08-02.

Semiconductor device and method for fabricating the same

Номер патента: US10672772B2. Автор: Hun Lee,Deok-Sin Kil,Beom-Yong Kim. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2020-06-02.

Modification processing method and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09911596B2. Автор: Kazuaki Nishimura,Tamotsu Morimoto,Yusuke Muraki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-06.

Plasma processing method

Номер патента: US09506154B2. Автор: Takahiro Abe,Takeshi Shimada,Masato Ishimaru,Makoto Suyama. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Current collector for electrical energy storage device and method of fabrication thereof

Номер патента: WO2024205487A1. Автор: Koichi Fukuda,Yoshihiko Kinoshita,Chang Chieh Hang. Владелец: Sodion Energy Pte. Ltd.. Дата публикации: 2024-10-03.

Plasma processing method

Номер патента: US20240321583A1. Автор: Miyako Matsui,Kenichi Kuwahara. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Wireless communication apparatus, information processing apparatus, communication system, and method of controlling wireless communication apparatus

Номер патента: US09998465B2. Автор: Masanori Sato. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Image processing apparatus, robot system and method for processing an image

Номер патента: EP2998079B1. Автор: Nobuyuki Setsuda,Masanobu Nishitani. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2020-05-27.

Wireless communication apparatus, information processing apparatus, communication system, and method of controlling wireless communication apparatus

Номер патента: US9363666B2. Автор: Masanori Sato. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2016-06-07.

Wireless communication apparatus, information processing apparatus, communication system, and method of controlling wireless communication apparatus

Номер патента: US20140194119A1. Автор: Masanori Sato. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2014-07-10.

SIGNAL PROCESSING APPARATUS, APPARATUS AND METHOD FOR MONITORING CHANNEL SPACING AND SYSTEM

Номер патента: US20170310440A1. Автор: Tao Zhenning,DOU Liang,ZHAO Ying,Li Huihui. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2017-10-26.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, TERMINAL APPARATUS, INFORMATION PROVIDING SYSTEM, PROGRAM FOR CAUSING COMPUTER TO FUNCTION AS INFORMATION PROCESSING APPARATUS, RECORDING MEDIUM, AND METHOD FOR CONTROLLING INFORMATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20200221174A1. Автор: FUJIWARA YUKI. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-09.

RADIO COMMUNICATION APPARATUS, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, COMMUNICATION SYSTEM, AND METHOD OF CONTROLLING A RADIO COMMUNICATION APPARATUS ACCORDING TO USER SELECTION

Номер патента: US20160057763A1. Автор: Takamura Kazuhisa,Tsuda Shinichiro,ABE SHINICHIRO,Usui Takashi. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2016-02-25.

WIRELESS COMMUNICATION APPARATUS, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, COMMUNICATION SYSTEM, AND METHOD OF CONTROLLING WIRELESS COMMUNICATION APPARATUS

Номер патента: US20140194119A1. Автор: Sato Masanori. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2014-07-10.

Wireless Communication Apparatus, Information Processing Apparatus, Communication System, and Method of Controlling Wireless Communication Apparatus

Номер патента: US20160269414A1. Автор: Sato Masanori. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-15.

RADIO COMMUNICATION APPARATUS, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, COMMUNICATION SYSTEM, AND METHOD OF CONTROLLING A RADIO COMMUNICATION APPARATUS ACCORDING TO INFORMATION CONTROLLING A CONDITION IN WHICH AN ACCESS REQUEST IS TO BE EXECUTED

Номер патента: US20170273093A1. Автор: Takamura Kazuhisa,Tsuda Shinichiro,ABE SHINICHIRO,Usui Takashi. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2017-09-21.

Imagine apparatus, information processing apparatus, imaging system and methods thereof for management of image data

Номер патента: US8810685B2. Автор: Takaki Kameyama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-08-19.

Information processing apparatus, communication system, and method for controlling information processing apparatus

Номер патента: WO2013024638A1. Автор: 伊東　克俊,佐藤　雅典,善江原,信次高江. Владелец: ソニー株式会社. Дата публикации: 2013-02-21.

ENDOSCOPIC IMAGE PROCESSING APPARATUS, ENDOSCOPE SYSTEM, AND METHOD OF OPERATING ENDOSCOPIC IMAGE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20220051472A1. Автор: Takahashi Hideaki. Владелец: OLYMPUS CORPORATION. Дата публикации: 2022-02-17.

MEDICAL IMAGE PROCESSING APPARATUS, ENDOSCOPE SYSTEM, AND METHOD FOR OPERATING MEDICAL IMAGE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20210204794A1. Автор: YUMBE Hirona. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2021-07-08.

Image processing apparatus, endoscope system, and method of operating image processing apparatus

Номер патента: JP6420492B2. Автор: 睦朗今井. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-11-07.

Image processing apparatus, endoscope system, and method of operating image processing apparatus

Номер патента: JP6461739B2. Автор: 昌之蔵本. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-01-30.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, SERVER DEVICE, AND METHOD THEREOF

Номер патента: US20190026593A1. Автор: SAWADA Takayuki. Владелец: . Дата публикации: 2019-01-24.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, POSITIONING SYSTEM AND METHOD FOR POSITIONING A COMMUNICATION DEVICE

Номер патента: US20180054700A1. Автор: FUJIWARA Akihiko,Hirama Mika. Владелец: . Дата публикации: 2018-02-22.

PROCESSING APPARATUS, VEHICULAR SYSTEM AND METHOD FOR PROCESSING AUDIO DATA

Номер патента: US20170118580A1. Автор: Tian Peng. Владелец: . Дата публикации: 2017-04-27.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, SERVER DEVICE, AND METHOD THEREOF

Номер патента: US20210182598A1. Автор: SAWADA Takayuki. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-17.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, RECORDING MEDIUM, AND METHOD

Номер патента: US20220294929A1. Автор: Hitomi Keiichiro. Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2022-09-15.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, MOBILE TERMINAL, AND METHODS FOR CONTROLLING THE SAME

Номер патента: US20180159990A1. Автор: Hasegawa Yuya. Владелец: . Дата публикации: 2018-06-07.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, RECORDING MEDIUM, AND METHOD

Номер патента: US20170180604A1. Автор: MIYADERA Tatsuya,Oikawa Masahiko. Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2017-06-22.

Data processing apparatus, memory system, and method of processing data

Номер патента: US20190181881A1. Автор: Atsushi Matsumura,Takuya Matsuo. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-06-13.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS TERMINAL, DEVICE AND METHOD FOR ADJUSTING OPERATING MODES OF TERMINAL

Номер патента: US20180191891A1. Автор: ZHAO Junjie. Владелец: . Дата публикации: 2018-07-05.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AUTHENTICATION SYSTEM, AND METHOD OF DELETING CARD INFORMATION

Номер патента: US20190205509A1. Автор: YAMASHITA Akihiro. Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2019-07-04.

DECOMPRESSION CONTAINER, PROCESSING APPARATUS, PROCESSING SYSTEM, AND METHOD OF PRODUCING FLAT PANEL DISPLAY

Номер патента: US20180213656A1. Автор: OHTA Akira,Mori Jumpei. Владелец: . Дата публикации: 2018-07-26.

AUDIO SIGNAL PROCESSING APPARATUS, AUDIO SYSTEM, AND METHOD OF PROCESSING AUDIO SIGNAL

Номер патента: US20200241831A1. Автор: TAKAHASHI Daisuke,Morikawa Tadashi. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-30.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, PROGRAM PRODUCT, AND METHOD

Номер патента: US20170257748A1. Автор: KURODA Hiroyoshi,HASHIZUME Fumihiko,TAKATA Tadahiro. Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2017-09-07.

DATA PROCESSING APPARATUS, OUTPUT SYSTEM AND METHOD OF OUTPUTTING

Номер патента: US20160274826A1. Автор: MATSUURA Kiichi. Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2016-09-22.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, COMMUNICATION SYSTEM, AND METHOD OF CONTROLLING COMMUNICATION ROUTE

Номер патента: US20180278516A1. Автор: Ota Hiroshi. Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2018-09-27.

Data processing apparatus, controller, cache and method

Номер патента: US20160323407A1. Автор: Håkan Persson,Roko GRUBISIC,Jesus Javier de los REYES DARIAS,Vinod Pisharath Hari PAI. Владелец: ARM LTD. Дата публикации: 2016-11-03.

Accelerated processing apparatus for transaction and method thereof

Content processing apparatus using sound and method thereof

Номер патента: KR102023059B1. Автор: 홍현수,심승섭,박경하. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2019-09-20.

Image-processing Apparatus for Car and Method of Processing Data Using The Same

Номер патента: KR102337472B1. Автор: 박상호,김형철,임상우,이창성. Владелец: 팅크웨어(주). Дата публикации: 2021-12-09.

Image-processing Apparatus for Car and Method of Providing Information Using The Same

Номер патента: KR102151515B1. Автор: 이세호. Владелец: 팅크웨어(주). Дата публикации: 2020-09-03.

Information processing apparatus, terminal, program and method

Номер патента: JP5959070B2. Автор: 直史津村,クリストファーホッキングス,フィリップナイ. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-08-02.

Message processing apparatus, wireless device and method of storing a message in a wireless device

Номер патента: US20090054038A1. Автор: Uma Ranjan,Brajesh Kumar,Dipu Vikram. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2009-02-26.

Medical image processing apparatus, endoscope system, and method for emphasizing region of interest

Номер патента: US11627864B2. Автор: Hirona YUMBE. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-04-18.

Image-processing Apparatus for Car and Method of Managing Power Supply Using The Same

Номер патента: KR102117575B1. Автор: 임상우. Владелец: 팅크웨어(주). Дата публикации: 2020-06-01.

Image-processing Apparatus for Car and Method of Sharing Data Using The Same

Номер патента: KR102111758B1. Автор: 강정규,정진길,한태규. Владелец: 팅크웨어(주). Дата публикации: 2020-06-08.

Image-processing Apparatus for Car and Method of Processing Data Using The Same

Номер патента: KR102073700B1. Автор: 박순우. Владелец: 팅크웨어(주). Дата публикации: 2020-03-02.

Image processing apparatus, robot system and method for processing an image

Номер патента: EP2998079A3. Автор: Nobuyuki Setsuda,Masanobu Nishitani. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2016-06-15.

Information processing system, information processing apparatus, information terminal, and method for control thereof

Номер патента: US20020161454A1. Автор: Atsushi Tanaka,Akira Ito,Masaki Mukai,Osamu Kamo,Osamu Sameshima. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-31.

Information processing apparatus, meeting system, and method

Номер патента: US20230068678A1. Автор: Takehiro Fujita. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-02.

Data processing apparatus, controller, cache and method

Номер патента: GB201507190D0. Автор: . Владелец: Advanced Risc Machines Ltd. Дата публикации: 2015-06-10.

Signal processing apparatus, transmitter, receiver and method

Номер патента: EP2502365A4. Автор: Nebojsa Stojanovic. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2012-09-26.

Image processing apparatus for vehicle and method for displaying visual information on display included in vehicle

Номер патента: EP4137926A4. Автор: Sunghwan CHOI,Dukyung JUNG,Namyong Park. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2024-01-10.

Accelerated processing apparatus for transaction and method thereof

Номер патента: EP3748914B1. Автор: Sang Won Lee,Ki Woon Sung,Kyu Sang Lee,Chang Suk Yoon,Hwa Yong OH. Владелец: Samsung SDS Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-10.

Information processing apparatus, authentication system, and method of deleting card information

Номер патента: EP3509338B1. Автор: Akihiro Yamashita. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-12.

Plasma processing system component analysis software and methods and systems for creating the same

Номер патента: WO2008019256A3. Автор: Gean Hsu,Theresa Moriguchi. Владелец: Theresa Moriguchi. Дата публикации: 2008-11-06.

Plasma processing system component analysis software and methods and systems for creating the same

Номер патента: EP2049989A2. Автор: Gean Hsu,Theresa Moriguchi. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2009-04-22.

Plasma processing system component analysis software and methods and systems for creating the same

Номер патента: WO2008019256B1. Автор: Gean Hsu,Theresa Moriguchi. Владелец: Theresa Moriguchi. Дата публикации: 2008-12-18.

Plasma processing system component analysis software and methods and systems for creating the same

Номер патента: WO2008019256A2. Автор: Gean Hsu,Theresa Moriguchi. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2008-02-14.

Medical image processing apparatus, endoscope system, and method of operating medical image processing apparatus

Номер патента: EP4339900A2. Автор: Masaaki Oosake. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-03-20.

Abnormality processing apparatus, network system, and method for providing procedure with respect to abnormality having occurred in robot system

Номер патента: US20240280979A1. Автор: Shinji Kurihara. Владелец: FANUC Corp. Дата публикации: 2024-08-22.

Medical image processing apparatus, endoscope system, and method of operating medical image processing apparatus

Номер патента: EP4339900A3. Автор: Masaaki Oosake. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-06-19.

Information processing apparatus, Ising device, and method for controlling information processing apparatus

Номер патента: US10929750B2. Автор: Yasumoto Tomita,Hirotaka Tamura. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2021-02-23.

Atmospheric Pressure Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120291706A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Kiyoshi Yasutake,Hiroaki Kakiuchi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2012-11-22.

Method for treating an elongated object, apparatus and method

Номер патента: US09956585B2. Автор: Marcel Simor,Ales Fiala. Владелец: Nederlandse Organisatie voor Toegepast Natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO. Дата публикации: 2018-05-01.

Operating plasma arc processing systems at reduced current and gas pressure levels and related systems and methods

Номер патента: WO2018039580A4. Автор: Zheng Duan,Shreyansh Patel,Junsong Mao,Qinghua Liu,Richard Pavlik,Bruce ALTOBELLI. Владелец: Hypertherm, Inc.. Дата публикации: 2018-05-03.

Operating plasma arc processing systems at reduced current and gas pressure levels and related systems and methods

Номер патента: EP3504023A1. Автор: Zheng Duan,Shreyansh Patel,Junsong Mao,Qinghua Liu,Richard Pavlik,Bruce ALTOBELLI. Владелец: Hypertherm Inc. Дата публикации: 2019-07-03.

Operating plasma arc processing systems at reduced current and gas pressure levels and related systems and methods

Номер патента: WO2018039580A1. Автор: Zheng Duan,Shreyansh Patel,Junsong Mao,Qinghua Liu,Richard Pavlik,Bruce ALTOBELLI. Владелец: Hypertherm, Inc.. Дата публикации: 2018-03-01.

Apparatus and method for treating an object

Номер патента: WO2010077138A1. Автор: Marcel Simor,Paul Petrus Maria Blom. Владелец: Nederlandse Organisatie voor toegepast-natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO. Дата публикации: 2010-07-08.

Apparatus and method for treating an object

Номер патента: EP2382849A1. Автор: Marcel Simor,Paul Petrus Maria Blom. Владелец: Nederlandse Organisatie voor Toegepast Natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO. Дата публикации: 2011-11-02.

Processing object modifying apparatus, printing apparatus, printing system, and method for manufacturing printout

Номер патента: US09643429B2. Автор: Hiroyoshi Matsumoto,Junji Nakai. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Plasma injection and confinement systems and methods

Номер патента: GB2617747A. Автор: Choudhury Ayan,Harris Paul,GOLINGO Raymond,Btaiche Jean-Christoph,Seifollahi Moghadam Zahra,Tochon Pierre. Владелец: Fuse Energy Technologies Corp. Дата публикации: 2023-10-18.

Enciphering apparatus and method, deciphering apparatus and method as well as information processing apparatus and method

Номер патента: US09467287B2. Автор: Hisato Shima,Makoto Sato,Yoshio Osakabe,Tomoyuki Asano,Yoshitomo Osawa,Ryuji Ishiguro. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2016-10-11.

Communications system and method, information processing apparatus and method, information management apparatus and method, recording medium and program

Номер патента: US09451327B2. Автор: Makoto Sato,Kazuyuki Ogawa,Yuji Takimoto,Kayo Sugimoto. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Apparatus for plasma-processing flexible printed circuit boards

Номер патента: US20080308042A1. Автор: Chih-Yi Tu,Ze Long,Szu-Min Huang. Владелец: Foxconn Advanced Technology Inc. Дата публикации: 2008-12-18.

Controlling Power Consumption in a Data Processing Apparatus

Номер патента: US20090300382A1. Автор: Alistair Crone Bruce,Robin Hotchkiss,Louisa Jayne Mcelwee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-12-03.

Controlling power consumption in a data processing apparatus

Номер патента: EP2038728A1. Автор: Alistair Crone Bruce,Robin Hotchkiss,Louisa Jayne Mcelwee. Владелец: Advanced Risc Machines Ltd. Дата публикации: 2009-03-25.

Plasma processing system component analysis software and methods and systems for creating the same

Номер патента: EP2049989A4. Автор: Gean Hsu,Theresa Moriguchi. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2009-09-02.

Plasma processing system component analysis software and methods and systems for creating the same

Номер патента: TW200823758A. Автор: Gean Hsu,Theresa Moriguchi. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2008-06-01.

Image processing method, image processing apparatus, recording medium, and method of manufacturing assembly

Номер патента: US09996770B2. Автор: Masaki Ishii. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-06-12.

Bio signal processing apparatus, apparatus and method for living body information detecting

Номер патента: KR20180060724A. Автор: 권의근,윤승근. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2018-06-07.

reusable fuel processing apparatus, apparatus and method for cleaning carbon carbon from vapors

Номер патента: BR112018076624A2. Автор: Fowler David,OLUWASEUN Oluwadare,F. Tenore Anthony,N. Tenore Anthony. Владелец: Golden Renewable Energy, LLC. Дата публикации: 2019-04-02.

IMPRINT APPARATUS, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, IMPRINT METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING ARTICLE

Номер патента: US20210181623A1. Автор: Sugimoto Toyoaki. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-17.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, ISING DEVICE, AND METHOD FOR CONTROLLING INFORMATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20180005114A1. Автор: TAMURA Hirotaka,TOMITA Yasumoto. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2018-01-04.

MEDICAL IMAGE PROCESSING APPARATUS, ENDOSCOPE SYSTEM, AND METHOD FOR OPERATING MEDICAL IMAGE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20210153720A1. Автор: USUDA Toshihiro. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2021-05-27.

MEDICAL IMAGE PROCESSING APPARATUS, ENDOSCOPE SYSTEM, AND METHOD FOR OPERATING MEDICAL IMAGE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20210169306A1. Автор: OOSAKE Masaaki. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2021-06-10.

LITHOGRAPHY METHOD, DETERMINATION METHOD, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, STORAGE MEDIUM, AND METHOD OF MANUFACTURING ARTICLE

Номер патента: US20170351182A1. Автор: Mizumoto Kazushi. Владелец: . Дата публикации: 2017-12-07.

Data processing apparatus, data file, and method for controlling the data processing apparatus

Номер патента: EP2570915A2. Автор: Hitoshi Hayamizu. Владелец: Kyocera Document Solutions Inc. Дата публикации: 2013-03-20.

Image processing apparatus, setting device and method for image processing apparatus

Номер патента: CN102244715A. Автор: 亀井洋一. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-11-16.

Medical image processing apparatus, endoscope system, and method for operating medical image processing apparatus

Номер патента: CN115381379A. Автор: 藤仓哲也. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-11-25.

Liquid crystal display device, and video display apparatus, information processing apparatus using it and method thereof

Номер патента: TW546515B. Автор: Yoshio Iwai,Naoki Kato,Hisanori Yamaguchi,Tomoaki Sekime. Владелец: Matsushita Electric Ind Co Ltd. Дата публикации: 2003-08-11.

Medical image processing apparatus, endoscope system, and method for operating medical image processing apparatus

Номер патента: US12029384B2. Автор: Toshihiro USUDA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-09.

IMAGE PROCESSING METHOD, IMAGE PROCESSING APPARATUS, RECORDING MEDIUM, AND METHOD OF MANUFACTURING ASSEMBLY

Номер патента: US20170032513A1. Автор: Ishii Masaki. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-02.

Controlling method, information processing apparatus, storage medium, and method of detecting failure

Номер патента: US20140289562A1. Автор: Toshihiro Ozawa. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2014-09-25.

Controlling method, information processing apparatus, storage medium, and method of detecting failure

Номер патента: US9378078B2. Автор: Toshihiro Ozawa. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2016-06-28.

Processing Apparatus, Processing Method and Method of Processing Innoxious Object

Номер патента: US20080255401A1. Автор: Kazunori Suzuki,Hitoshi Mizuno,Tsuyoshi Abe. Владелец: Hoei Shokai Co Ltd. Дата публикации: 2008-10-16.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, STORE SYSTEM AND METHOD

Номер патента: US20130182899A1. Автор: Naito Hidehiro,SUGASAWA Hiroshi,IIZAKA Hitoshi. Владелец: TOSHIBA TEC KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2013-07-18.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, RECORDING MEDIUM, AND METHOD OF PROCESSING SUBSTRATES

Номер патента: US20170057094A1. Автор: NISHINO Teruhide. Владелец: ASM IP HOLDING B.V.. Дата публикации: 2017-03-02.

SURGICAL IMAGING SYSTEM, IMAGE PROCESSING APPARATUS FOR SURGERY, AND METHOD FOR CONTROLLING AN IMAGING PROCEDURE

Номер патента: US20200085282A1. Автор: Sakaguchi Tatsumi,Maeda Takeshi,Wada Seiji,MATSUURA KANA. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2020-03-19.

Touch Sensitive Processing Apparatus, Electronic System and Method Thereof for Configuring Interconnection Parameters with Touch Panel

Номер патента: US20180095599A1. Автор: YEH SHANG-TAI,CHANG CHIN-FU. Владелец: . Дата публикации: 2018-04-05.

Touch Sensitive Processing Apparatus, Electronic System and Method Thereof for Configuring Interconnection Parameters with Touch Panel

Номер патента: US20180095600A1. Автор: YEH SHANG-TAI,CHANG CHIN-FU. Владелец: . Дата публикации: 2018-04-05.

Touch Sensitive Processing Apparatus, Electronic System and Method Thereof for Detecting Defects of Touch Panel

Номер патента: US20180095601A1. Автор: Chin-Fu Chang,Shang-Tai Yeh. Владелец: Egalax Empia Technology Inc. Дата публикации: 2018-04-05.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, STORE SYSTEM AND METHOD

Номер патента: US20160140534A1. Автор: IIZAKA Hitoshi. Владелец: . Дата публикации: 2016-05-19.

COMMODITY SALES DATA PROCESSING APPARATUS, PORTABLE TERMINAL AND METHOD

Номер патента: US20140222598A1. Автор: Konishi Shota. Владелец: TOSHIBA TEC KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2014-08-07.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, ANALYSIS SYSTEM, AND METHOD FOR PROCESSING IMAGES

Номер патента: US20180140923A1. Автор: IWAMOTO Kenji,NOJIMA Osamu. Владелец: CASIO COMPUTER CO., LTD.. Дата публикации: 2018-05-24.

Tip rack, sample processing apparatus, rack body, and method of attaching nozzle tip

Номер патента: US20180147577A1. Автор: Ryutaro Shinya. Владелец: Sysmex Corp. Дата публикации: 2018-05-31.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, STORE SYSTEM AND METHOD FOR RECOGNIZING OBJECT

Номер патента: US20150193668A1. Автор: Fukuda Masatsugu. Владелец: . Дата публикации: 2015-07-09.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, STORE SYSTEM AND METHOD FOR RECOGNIZING OBJECT

Номер патента: US20150194025A1. Автор: Tsunoda Youji. Владелец: . Дата публикации: 2015-07-09.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, STORAGE MEDIUM, AND METHOD

Номер патента: US20180217788A1. Автор: Nakagawa Masashi. Владелец: . Дата публикации: 2018-08-02.

Information processing apparatus, storage device, and method performed by host system

Номер патента: US20190220082A1. Автор: Masayoshi Sato. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-07-18.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, COMMUNICATION SYSTEM, AND METHOD FOR PROCESSING INFORMATION

Номер патента: US20180232138A1. Автор: KATO Yoshinaga,KOYAMA Takeshi,KASATANI Kiyoshi,KANEMATSU Shoichiro. Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2018-08-16.

MEDICAL INFORMATION PROCESSING APPARATUS, ORDERING SYSTEM AND METHOD

Номер патента: US20200342964A1. Автор: Shimada Tetsuo,IKEZAKI Aina. Владелец: Canon Medical Systems Corporation. Дата публикации: 2020-10-29.

Commodity sales data processing apparatus, portable terminal and method

Номер патента: US20160379197A1. Автор: Shota Konishi. Владелец: Toshiba TEC Corp. Дата публикации: 2016-12-29.

Processing apparatus for casting and method of using the same

Номер патента: KR101881291B1. Автор: 이종식. Владелец: 이종식. Дата публикации: 2018-07-24.

Image-processing Apparatus for Car and Method of Providing Information Using The Same

Номер патента: KR20140128837A. Автор: 강정규,정진길,한태규. Владелец: 인텔렉추얼디스커버리 주식회사. Дата публикации: 2014-11-06.

Touch sensitive processing apparatus, electronic system and method thereof for configuring interconnection parameters with touch panel

Номер патента: TW201814471A. Автор: 葉尚泰,張欽富. Владелец: 禾瑞亞科技股份有限公司. Дата публикации: 2018-04-16.

Video signal processing apparatus, imaging processor and method of controlling dynamic range of a video signal.

Номер патента: FR2695229A1. Автор: Herscovich Israel. Владелец: Israel Ministry of Defence. Дата публикации: 1994-03-04.

Oil sand processing apparatus control system and method

Номер патента: CA2614173A1. Автор: William L. Strand. Владелец: Bitmin Resources Inc.. Дата публикации: 2007-01-13.

Commodity sales data processing apparatus, portable terminal and method

Номер патента: US9639833B2. Автор: Shota Konishi. Владелец: Toshiba TEC Corp. Дата публикации: 2017-05-02.

Information processing apparatus, computer program, and method for controlling execution of jobs

Номер патента: US9189272B2. Автор: Calton Pu,Yasuhiko Kanemasa,Motoyuki Kawaba,Qingyang Wang. Владелец: Georgia Tech Research Corp. Дата публикации: 2015-11-17.

Touch sensitive processing apparatus, electronic system and method thereof for configuring interconnection parameters with touch panel

Номер патента: TW201830200A. Автор: 葉尚泰,張欽富. Владелец: 禾瑞亞科技股份有限公司. Дата публикации: 2018-08-16.

Information processing apparatus, store system and method

Номер патента: EP3021299A1. Автор: Hitoshi Iizaka. Владелец: Toshiba TEC Corp. Дата публикации: 2016-05-18.

Information processing apparatus, recording medium, and method for using them

Номер патента: US7069262B1. Автор: Naomi Go. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2006-06-27.

Processing apparatus of skull and method thereof

Номер патента: KR102103389B1. Автор: 신정수,엄광수. Владелец: 주식회사 포스코. Дата публикации: 2020-04-22.

Tip rack, sample processing apparatus, rack body, and method of attaching nozzle tip

Номер патента: US20180147577A1. Автор: Ryutaro Shinya. Владелец: Sysmex Corp. Дата публикации: 2018-05-31.

Beverage dispensing apparatus and method for active pressure control thereof

Номер патента: CA3209495A1. Автор: Paul Fletcher,Stephen HOBDEN. Владелец: Lavazza Professional UK Ltd. Дата публикации: 2020-02-20.

Beverage dispensing apparatus and method for active pressure control thereof

Номер патента: CA3209401A1. Автор: Paul Fletcher,Stephen HOBDEN. Владелец: Lavazza Professional UK Ltd. Дата публикации: 2020-02-20.

Beverage dispensing apparatus and method for active pressure control thereof

Номер патента: CA3109475C. Автор: Paul Fletcher,Stephen HOBDEN. Владелец: Lavazza Professional UK Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Apparatus and and method for growing discrete ultralong cylindrical sp2 carbon structures

Номер патента: EP3810547A1. Автор: F. Keith Perkins,Adam L. Friedman,Erin Cleveland,Ignacio Perez De Leon,Paul M. Campbell. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2021-04-28.

Plasma Processing Apparatus and Method for Venting the Same to Atmosphere

Номер патента: US20090183683A1. Автор: Kenji Maeda,Hiroyuki Kobayashi,Kenetsu Yokogawa,Masaru Izawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2009-07-23.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: CA3212927A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2022-10-06.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: AU2022252181A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2023-10-05.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: WO2022212192A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc.. Дата публикации: 2022-10-06.

Method and apparatus for diagnosing status of parts in real time in plasma processing equipment

Номер патента: US09541514B2. Автор: Roger Patrick. Владелец: I Am Research Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Device and method for highly concentrated plasma recovery from whole blood

Номер патента: RU2578418C2. Автор: Хон КИМ. Владелец: Хон КИМ. Дата публикации: 2016-03-27.

Plasma processing system and method

Номер патента: WO2004048942A1. Автор: Andrej S. Mitrovic. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2004-06-10.

Systems and methods for synthesis of spheroidized metal powders

Номер патента: US20240342791A1. Автор: Makhlouf Redjdal,Sunil Bhalchandra Badwe,Scott Joseph Turchetti,Sudip Bhattacharya. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2024-10-17.

Hot plasma disease treatment system and method of use thereof

Номер патента: US11793715B2. Автор: Yi Li,Yupeng Wang. Владелец: Yantai Healing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-24.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: EP1282908A2. Автор: Michael Lee Fraim,Rick B. Spielman,Robert R. Schiewe. Владелец: Essox Research and Development Inc. Дата публикации: 2003-02-12.

Unique feedstocks for spherical powders and methods of manufacturing

Номер патента: EP4414470A2. Автор: Makhlouf Redjdal,Sunil Bhalchandra Badwe,Scott Joseph Turchetti. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2024-08-14.

Unique feedstocks for spherical powders and methods of manufacturing

Номер патента: EP4414470A3. Автор: Makhlouf Redjdal,Sunil Bhalchandra Badwe,Scott Joseph Turchetti. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2024-10-23.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: CA2409747A1. Автор: Michael Lee Fraim,Rick B. Spielman,Robert R. Schiewe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-15.

Method for reducing the amount of perfluorocompound gas contained in exhaust emissions from plasma processing

Номер патента: EP1124622A1. Автор: Calvin Todd Gabriel. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2001-08-22.

Method for plasma processing of metal products

Номер патента: RU2754915C1. Автор: Юрий Дмитриевич Щицын,Владислав Юрьевич Щицын,Сергей Дмитриевич Неулыбин,Роман Германович Никулин. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Пермский национальный исследовательский политехнический университет". Дата публикации: 2021-09-08.

Die repairing method and method for manufacturing functional film using same

Номер патента: US20150015961A1. Автор: Hidekazu Hayashi. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2015-01-15.

Die repairing method and method for manufacturing functional film using same

Номер патента: US09873213B2. Автор: Hidekazu Hayashi. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2018-01-23.

Automated reverse action device for plasma processing of shoe preparations

Номер патента: RU2628988C1. Автор: Сергей Петрович Александров,Татьяна Владимировна Жуковская,Андрей Владимирович Шестов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный университет технологий и управления имени К.Г. Разумовского (Первый казачий университет" (ФГБОУ ВО "МГУТУ им. К.Г. Разумовского (ПКУ)"). Дата публикации: 2017-08-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160194817A1. Автор: Songying Mo,Qiming ZHENG,Wui Yin HO. Владелец: Hong Kong Research Institute of Textiles and Apparel Ltd. Дата публикации: 2016-07-07.

Soft ocular lens and method for manufacturing same

Номер патента: US20240288711A1. Автор: Izumi Ichinose,Kunio JONIN,Risako Yamanaka. Владелец: Seed Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

High strength carbon nanotube plasma-treated fibers and methods of making

Номер патента: US09676630B2. Автор: Charles R. Welch,Charles P. Marsh,Dustin L. Majure,Charles F. Cornwell,Benjamin Ulmen. Владелец: US Department of Army. Дата публикации: 2017-06-13.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: EP4313447A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2024-02-07.

Spatially resolved optical emission spectroscopy (OES) in plasma processing

Номер патента: US09970818B2. Автор: Zheng Yan,Yan Chen,Hanyou Chu,Junwei Bao,Holger Tuitje,Ching-Ling Meng,Mihail Mihaylov,Haixing Zou. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Processing of waste using a plasma processing unit

Номер патента: WO2009156761A3. Автор: Leonid Rusnac. Владелец: Horizon Ventures Limited. Дата публикации: 2010-04-01.

PLASMA PROCESSING SYSTEMS INCLUDING SIDE COILS AND METHODS RELATED TO THE PLASMA PROCESSING SYSTEMS

Номер патента: US20120217222A1. Автор: LONG Maolin,Paterson Alex. Владелец: . Дата публикации: 2012-08-30.

RADIO COMMUNICATION APPARATUS, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, COMMUNICATION SYSTEM, AND METHOD OF CONTROLLING RADIO COMMUNICATION APPARATUS

Номер патента: US20120302218A1. Автор: Takamura Kazuhisa,Tsuda Shinichiro,ABE SHINICHIRO,Usui Takashi. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-11-29.

DATA PROCESSING APPARATUS, DATA FILE, AND METHOD FOR CONTROLLING THE DATA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20130070274A1. Автор: HAYAMIZU Hitoshi. Владелец: . Дата публикации: 2013-03-21.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, IMAGE PROCESSING APPARATUS MANAGING SYSTEM, AND METHOD OF PROCESSING INFORMATION

Номер патента: US20120066083A1. Автор: Inoue Eijiro,Itoh Akinori. Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2012-03-15.

Thermal field assembly loading apparatus, semiconductor processing apparatus, loading system and method

Номер патента: CN114348917A. Автор: 郭雪娇,杨钦淞. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-15.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, APPARATUS, AND NON-TRANSITORY COMPUTER READABLE MEDIUM STORING INFORMATION PROCESSING PROGRAM

Номер патента: US20130246506A1. Автор: Suzuki Takayuki. Владелец: FUJI XEROX CO., LTD.. Дата публикации: 2013-09-19.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, GAS NOZZLE AND METHOD OF PROCESSING SUBSTRATE

Номер патента: US20120076936A1. Автор: Hirano Makoto. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC.. Дата публикации: 2012-03-29.

AUDIO PROCESSING APPARATUS, AUDIO RECEIVER AND METHOD FOR PROVIDING AUDIO THEREOF

Номер патента: US20120148055A1. Автор: LEE Tae-hyung,HEO Chang-yong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-06-14.

SIGNAL PROCESSING APPARATUS, TRANSMITTER, RECEIVER AND METHOD

Номер патента: US20120213530A1. Автор: . Владелец: Huawei Technologies Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-08-23.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, WAFER HOLDER, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120220107A1. Автор: . Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC.. Дата публикации: 2012-08-30.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, PRINTING SYSTEM, AND METHOD FOR CONTROLLING THE SAME

Номер патента: US20120224197A1. Автор: Suzuki Shinya. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-09-06.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, COMPUTER PROGRAM, AND METHOD FOR CONTROLLING EXECUTION OF JOBS

Номер патента: US20140068623A1. Автор: Pu Calton,KAWABA Motoyuki,Kanemasa Yasuhiko,Wang Qingyang. Владелец: . Дата публикации: 2014-03-06.

DEVICE FOR PROCESSING APPARATUS OIL GASES AND METHOD OF ITS OPERATION

Номер патента: RU2010127225A. Автор: Владимир Александрович Собянин,Валерий Александрович Кириллов,Павел Валерьевич Снытников,Николай Алексеевич Кузин,Владимир Дмитриевич Беляев,Юрий Иванович Амосов,Виктор Викторович Киреенков,Мария Михайловна Попова,Татьяна Викторовна Полянская,Дмитрий Игоревич Потемкин,Валерий Александрович Кириллов (RU),Николай Алексеевич Кузин (RU),Виктор Викторович Киреенков (RU),Юрий Иванович Амосов (RU),Владимир Дмитриевич Беляев (RU),Владимир Александрович Собянин (RU),Павел Валерьевич Снытников (RU),Мария Михайловна Попова (RU),Татьяна Викторовна Полянская (RU),Дмитрий Игоревич Потемкин (RU). Владелец: Учреждение Российской академии наук Институт катализа им. Г.К. Борескова Сибирского отделения РАН (ИК СО РАН) (RU). Дата публикации: 2012-01-10.

Information processing apparatus, program, system, and method for executing user registration

Номер патента: JP5149919B2. Автор: 俊二菅谷. Владелец: Optim Corp. Дата публикации: 2013-02-20.

Information processing apparatus, cooling module, and method of identifying cooling module

Номер патента: TWI264632B. Автор: Takahiro Nakazato. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2006-10-21.

Data processing apparatus, control device and method

Номер патента: GB201916272D0. Автор: . Владелец: Sony Interactive Entertainment Inc. Дата публикации: 2019-12-25.

METHOD FOR FORMING SILICON OXIDE FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120003842A1. Автор: Tanaka Yoshinobu,Ueda Hirokazu,Ohsawa Yusuke. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

Microwave Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120000610A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120000774A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120000886A1. Автор: NISHINO Masaru,HONDA Masanobu,Kubota Kazuhiro,Ooya Yoshinobu. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

MASS FLOW CONTROL SYSTEM, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND FLOW CONTROL METHOD

Номер патента: US20120000607A1. Автор: ETO Hideo,Ito Atsushi. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

PLASMA UNIFORMITY SYSTEM AND METHOD

Номер патента: US20120000606A1. Автор: Hadidi Kamal,Dorai Rajesh,Jagtap Mayur. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120000629A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE STAGE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120000612A1. Автор: Muraki Yusuke,ODAGIRI Masaya,FUJIHARA Jin. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE SUPPORT TABLE OF PLASMA PROCESSING DEVICE

Номер патента: US20120002345A1. Автор: . Владелец: MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Compositions and Methods of Using Living and Non-Living Bioactive Devices with Components Derived from Self-Renewing Colony Forming Cells Cultured and Expanded In Vitro

Номер патента: US20120003188A1. Автор: KOPEN Gene,RAGAGLIA Vanessa,BRAYFIELD Candace. Владелец: Garnet Biotherapeutics, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

A multi-electrode source assembly for plasma processing

Номер патента: WO2024226135A1. Автор: James Rogers,Rajinder Dhindsa,Linying CUI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-31.

Method for processing disperse thermo-plastic materials by induction-linked plasma and method for forming a flow of material for realization thereof

Номер патента: RU2257689C2. Автор: Л.А. Иванов,Н.Н. Киселев,В.А. Слугин,В.А. Побережный,М.В. Побережный. Владелец: Закрытое акционерное общество "СПЕЦХИММОНТАЖ" (ЗАО "СХМ"). Дата публикации: 2005-07-27.

METHODS AND APPARATUS FOR RADIO FREQUENCY (RF) PLASMA PROCESSING

Номер патента: US20120000888A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

MOVABLE GROUND RING FOR A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120003836A1. Автор: . Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

CONSUMABLE ISOLATION RING FOR MOVABLE SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY OF A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120000605A1. Автор: Dhindsa Rajinder,Kellogg Michael C.,Marakhtanov Alexei. Владелец: Lam Research Corporation.. Дата публикации: 2012-01-05.

C-SHAPED CONFINEMENT RING FOR A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120000608A1. Автор: Dhindsa Rajinder,Kellogg Michael C.,Marakhtanov Alexei. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Device for replacement of plasmatron for installation for plasma processing of wastes

Номер патента: RU2579037C1. Автор: Алексей Александрович Кудринский,Александр Васильевич Переславцев,Сергей Сергеевич ТРЕСВЯТСКИЙ,Сергей Александрович Вощинин,Владимир Степанович Горохов. Владелец: Сергей Александрович Вощинин. Дата публикации: 2016-03-27.

IMAGE PHOTOGRAPHING APPARATUS AND METHOD OF CONTROLLING THE SAME

Номер патента: US20120002065A1. Автор: PARK Wan Je,Seung Jung Ah. Владелец: Samsung Electronics Co., Ltd. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120002071A1. Автор: Nishiyama Tomohiro. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

System For Monitoring Foreign Particles, Process Processing Apparatus And Method Of Electronic Commerce

Номер патента: US20120002196A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

HOLOGRAM RECORDING MEDIUM AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, HOLOGRAM REPRODUCTION APPARATUS, AND HOLOGRAM REPRODUCTION METHOD

Номер патента: US20120002257A1. Автор: Shirakura Akira,Baba Shigeyuki,Arai Toshiyuki,Higashihara Teruaki. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION

Номер патента: US20120003396A1. Автор: . Владелец: Nederlandse Organisatie voor toegepast-natuurweten schappelijk onderzoek TNO. Дата публикации: 2012-01-05.