Plasma processing apparatus and plasma processing method
Номер патента: US09859101B2
Опубликовано: 02-01-2018
Автор(ы): Shinji Kubota
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 02-01-2018
Автор(ы): Shinji Kubota
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
System, method and apparatus for RF power compensation in a plasma processing system
Номер патента: US09508529B2. Автор: Henry Povolny,John C. Valcore, JR.. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-11-29.