• Главная
  • Plasma processing apparatus and plasma processing method

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

System, method and apparatus for RF power compensation in a plasma processing system

Номер патента: US09508529B2. Автор: Henry Povolny,John C. Valcore, JR.. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240355584A1. Автор: Masahiro Inoue,Chishio Koshimizu,Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12057294B2. Автор: Masahiro Inoue,Chishio Koshimizu,Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Apparatus and methods for plasma processing

Номер патента: WO2024210967A1. Автор: Qi Wang,Sergey Voronin,Andrew Metz,Hamed Hajibabaeinajafabadi. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-10-10.

Apparatus and Methods for Plasma Processing

Номер патента: US20240331979A1. Автор: Qi Wang,Sergey Voronin,Andrew Metz,Hamed Hajibabaeinajafabadi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Apparatus and method for plasma processing

Номер патента: WO2008069157A1. Автор: Georgy Vinogradov,Vladimir Menagarishvili. Владелец: Foi Corporation. Дата публикации: 2008-06-12.

Apparatus and method for plasma processing

Номер патента: KR101032084B1. Автор: 손형규. Владелец: 엘아이지에이디피 주식회사. Дата публикации: 2011-05-02.

Plasma Processing Methods Using Multiphase Multifrequency Bias Pulses

Номер патента: US20230411116A1. Автор: Alok Ranjan,Shyam Sridhar,Ya-Ming Chen,Peter Lowwell George Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Plasma processing apparatus and method of plasma processing

Номер патента: CN107275179B. Автор: 东条利洋,藤井祐希. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-06-14.

Plasma Processing Apparatus And Method For Controlling The Same

Номер патента: US20070210032A1. Автор: Ryoji Nishio. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-09-13.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20200161090A1. Автор: Jun Yoshikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-21.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12014903B2. Автор: Kohei Sato,Motohiro Tanaka,Takahiro Sakuragi,Tetsuo Kawanabe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-18.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20210074530A1. Автор: Hidehito Azumano. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2021-03-11.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20220384146A1. Автор: Hiroyuki Hayashi,Hiroki EHARA,Jun NAKAGOMI,Syouji YAMAGISHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Apparatus and method for plasma processing

Номер патента: EP1695370A1. Автор: Nityalendra Singh,Roger James Wilshire Croad. Владелец: Oxford Instruments Plasma Technology Ltd. Дата публикации: 2006-08-30.

Plasma processing apparatus, electrostatic chuck, and plasma processing method

Номер патента: US20240258078A1. Автор: Takahiko Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Processing apparatus and method for plasma processing

Номер патента: US5134965A. Автор: Toru Otsubo,Yasuhiro Yamaguchi,Mitsuo Tokuda,Junzou Azuma,Ichirou Sasaki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1992-08-04.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12136535B2. Автор: Koichi Nagami,Tatsuro Ohshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-05.

Plasma processing apparatus and processing method

Номер патента: US12125679B2. Автор: Masahiro Inoue,Shoichiro Matsuyama,Chishio Koshimizu,Gen Tamamushi,Yuto Kosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09870898B2. Автор: Koichi Nagami,Masafumi Urakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Voltage waveform generator, wafer processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US12002651B2. Автор: Hyejin Kim,Chanhee Park,Hyunbae Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-04.

Biasing system for a plasma processing apparatus

Номер патента: US20140106571A1. Автор: Richard M. White,Bon-Woong Koo. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2014-04-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09734992B2. Автор: Norikazu Yamada,Koichi Nagami,Koji Itadani,Toshifumi Tachikawa,Satoru Hamaishi. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Plasma processing method

Номер патента: US09455153B2. Автор: Genki Koguchi,Akio Morisaki,Yukinori Hanada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-27.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09478387B2. Автор: Akira Tanabe,Yoshinobu Ooya,Yoshinori Yasuta. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-25.

Monitoring method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240006163A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Jun Sato,Takashi Chiba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12094690B2. Автор: Koki HIDAKA,Hiroya Ogawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09663858B2. Автор: Koichi Nagami,Koji Itadani,Tsuyoshi Komoda. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Apparatus and method for radio frequency de-coupling and bias voltage control in a plasma reactor

Номер патента: EP1399944A1. Автор: Andreas Fischer. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-03-24.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09831064B2. Автор: Takashi SHIMOMOTO,Hiroo Konno. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-11-28.

Pulsed voltage plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20240145215A1. Автор: Shreeram Jyoti DASH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Pulsed voltage plasma processing apparatus and method

Номер патента: WO2024091280A1. Автор: Shreeram Jyoti DASH. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20140102638A1. Автор: Akira Tanabe,Yoshinobu Ooya,Yoshinori Yasuta. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-04-17.

Plasma processing system and method using radio frequency and microwave power

Номер патента: US12131887B2. Автор: Yunho Kim,Yanxiang Shi,Mingmei Wang. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Plasma processing apparatus of substrate and plasma processing method thereof

Номер патента: CN101277580B. Автор: 小岛章弘,宇井明生,林久贵,玉置直树,市川尚志. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2013-01-02.

Plasma processing apparatus of substrate and plasma processing method thereof

Номер патента: US20080057222A1. Автор: Akio Ui. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2008-03-06.

PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR PLASMA PROCESSING

Номер патента: US20190362946A1. Автор: MATSUURA Hiroyuki. Владелец: . Дата публикации: 2019-11-28.

Plasma processing apparatus and method of plasma processing

Номер патента: EP1213749A1. Автор: Masayuki Tokyo Electron AT Limited TOMOYASU. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2002-06-12.

Plasma processing system and method using radio frequency (RF) and microwave power

Номер патента: US11887815B2. Автор: Yunho Kim,Yanxiang Shi,Mingmei Wang. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Segmented electrode apparatus and method for plasma processing

Номер патента: US20030137250A1. Автор: Andrej Mitrovic. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2003-07-24.

Apparatus and method for plasma processing

Номер патента: KR101151250B1. Автор: 권기청,남창길. Владелец: 주성엔지니어링(주). Дата публикации: 2012-06-14.

Apparatus and method for plasma processing

Номер патента: KR100994502B1. Автор: 손형규. Владелец: 엘아이지에이디피 주식회사. Дата публикации: 2010-11-15.

Plasma processing apparatus and plasma processing method using the same

Номер патента: US20230124857A1. Автор: Jong Won Park,Yoon Seok Choi,Sang Jeong Lee,Soon Cheon Cho,Hyun Woo Jo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-20.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20060021700A1. Автор: Hideo Kitagawa,Nobumasa Suzuki,Shinzo Uchiyama,Yusuke Fukuchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-02-02.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20090275209A1. Автор: Hideo Kitagawa,Nobumasa Suzuki,Shinzo Uchiyama,Yusuke Fukuchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-11-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20230230815A1. Автор: Minsung Kim,Sungyeol KIM,Hosun Yoo,Jinyeong Yun,Jang-Yeob LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09583313B2. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12087552B2. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-09-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09502215B2. Автор: Hitoshi Kato,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Shigehiro Miura,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Method of controlling plasma processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240055229A1. Автор: Jung Hwan Lee,Min Keun Bae,Aixian Zhang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11990316B2. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-05-21.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20110240599A1. Автор: Masanobu Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-10-06.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12033832B2. Автор: Shinji Kubota,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12125676B2. Автор: Ken Kobayashi,Takahiro Takeuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Plasma processing with independent temperature control

Номер патента: US20240304422A1. Автор: WEI Liu,Lily Huang,Sandip Niyogi,Dileep Venkata Sai VADLADI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-12.

Inductively coupled plasma source for plasma processing

Номер патента: US09653264B2. Автор: Dongsoo Lee,Andreas Kadavanich,Vladimir Nagorny. Владелец: Mattson Technology Inc. Дата публикации: 2017-05-16.

Filter circuit and plasma processing apparatus

Номер патента: US12033833B2. Автор: Koji Yamagishi,Koichi Nagami,Yuji AOTA,Kota ISHIHARADA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Plasma Processing Apparatus and Plasma Control Method

Номер патента: US20240339304A1. Автор: Satoru Kawakami,Kazushi Kaneko,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Plasma processing apparatus and monitoring device

Номер патента: US12106948B2. Автор: Hiroki Endo,Ken Hirano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Plasma processing apparatus and waveform correction method

Номер патента: US09934947B2. Автор: Shinji Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-03.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09831096B2. Автор: Tsutomu Iida,Yuuzou Oohirabaru,Hiromitsu TERAUCHI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-28.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US5243259A. Автор: Junji Sato,Kazuo Suzuki,Takuya Fukuda,Satoru Todoroki,Shunichi Hirose. Владелец: Hitachi Engineering and Services Co Ltd. Дата публикации: 1993-09-07.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321562A1. Автор: Yoshihide Kihara,Nobuyuki Fukui,Maju TOMURA,Koki MUKAIYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Plasma processing apparatus and microwave radiation source

Номер патента: US20230178339A1. Автор: Kenta Kato,Taro Ikeda,Isao Gunji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Microwave plasma processing apparatus and microwave supplying method

Номер патента: US09633821B2. Автор: Toshihiko Iwao,Satoru Kawakami,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-25.

Inductively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US09543121B2. Автор: Kazuo Sasaki,Toshihiro Tojo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240249922A1. Автор: Ryota Sakane. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240087849A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Plasma process apparatus

Номер патента: US09887068B2. Автор: Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190088453A1. Автор: Koichi Yamamoto,Motohiro Tanaka,Naoki Yasui,Yasushi Sonoda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Plasma processing method

Номер патента: US09953811B2. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09805915B2. Автор: Ryoji Nishio,Masaharu Gushiken,Megumu Saitou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09574270B2. Автор: Jun Yoshikawa,Michitaka AITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Multi-electrode source assembly for plasma processing

Номер патента: US20240355587A1. Автор: James Rogers,Rajinder Dhindsa,Linying CUI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Multi-electrode source assembly for plasma processing

Номер патента: US20240355586A1. Автор: James Rogers,Rajinder Dhindsa,Linying CUI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09627181B2. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240186115A1. Автор: Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240242936A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190088454A1. Автор: Yuichi KUWAHARA,Ryou Son,Ryouhei SATOU,Syuntaro TAWARAYA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-03-21.

Plasma-processing apparatus

Номер патента: US20040245935A1. Автор: Tadahiro Ogawa,Masaaki Takayama. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2004-12-09.

Microwave plasma processing apparatus and microwave plasma processing method

Номер патента: US5985091A. Автор: Nobumasa Suzuki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-11-16.

Method for operating a semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20050089625A1. Автор: Hideyuki Yamamoto,Ken Yoshioka,Saburou Kanai,Ryoji Nishio,Seiichiro Kanno,Hideki Kihara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-04-28.

Plasma processing method

Номер патента: US09960016B2. Автор: Kumiko Ono,Koichi Nagami,Hiroshi Tsujimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Dielectric window supporting structure for inductively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US09818581B1. Автор: Saeng Hyun Cho. Владелец: Vni Solution Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20180294137A1. Автор: SATOSHI Tanaka,Naoki Matsumoto,Toru Ito,Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-10-11.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09991097B2. Автор: Yutaka Fujino,Shigenori Ozaki,Tomohito Komatsu,Jun NAKAGOMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11842885B2. Автор: Kenetsu Yokogawa,Masaru Izawa,Tooru Aramaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-12-12.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220359166A1. Автор: Masahiro Nagatani,Masahiro Sumiya,Kosa Hirota,Nanako TAMARI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-11-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160155613A1. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-06-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20230178340A1. Автор: Hiroyuki Miyashita,Isao Gunji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09807862B2. Автор: Hachishiro Iizuka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240242934A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20010008122A1. Автор: Makoto Ando,Naohisa Goto,Nobuo Ishii. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-07-19.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US5520771A. Автор: Saburo Kanai,Yoshinao Kawasaki,Seiichi Watanabe,Makoto Nawata,Kazuaki Ichihashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1996-05-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09761418B2. Автор: Takashi Suzuki,Masahiko Konno,Taizo Okada,Naoki Matsumoto,Hideo Kato,Masayuki SHINTAKU,Michitaka AITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-12.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: WO2009102151A1. Автор: Sang-Ho Woo,Il-Kwang Yang. Владелец: EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.. Дата публикации: 2009-08-20.

Atmospheric-pressure plasma processing apparatus for substrates

Номер патента: US09892907B2. Автор: Wenbin Hu,Wentong HUANG. Владелец: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Plasma processing apparatus and abnormal discharge control method

Номер патента: US20230060329A1. Автор: Takehiro Tanikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-03-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20210358722A1. Автор: Masahiro Sumiya,Anil PANDEY,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-11-18.

Substrate processing apparatus and method for aligning ring member

Номер патента: US20230386798A1. Автор: Masafumi Urakawa,Shinya Morikita,Mohd Fairuz BIN BUDIMAN. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

High-frequency plasma processing apparatus and high-frequency plasma processing method

Номер патента: CN104882376A. Автор: 佐佐木和男,东条利洋. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-09-02.

Autonomous operation of plasma processing tool

Номер патента: US20230352282A1. Автор: Alok Ranjan,Jun Shinagawa,Chungjong Lee,Masaki Kitsunezuka,Toshihiro KITAO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

PLASMA PROCESSING APPARATUS AND MEMBER OF PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20190326101A1. Автор: UEDA Kazuhiro,Sumiya Masahiro,IKENAGA Kazuyuki,TAMURA Tomoyuki. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-24.

Plasma processing apparatus and method for plasma processing

Номер патента: KR101445743B1. Автор: 권동희. Владелец: 참엔지니어링(주). Дата публикации: 2014-11-03.

Plasma processing apparatus and method of plasma processing

Номер патента: CN108630513A. Автор: 佐藤浩平,川上雅敏,田中基裕,园田靖,安井尚辉. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2018-10-09.

Substrate processing apparatus, shutter device and plasma processing apparatus

Номер патента: US20150187542A1. Автор: Toshifumi Ishida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-07-02.

Plasma processing equipment, plasma control method, and plasma control program

Номер патента: JP6797079B2. Автор: 潤 廣瀬,廣瀬 潤,康弘 戸部. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-09.

APPARATUS AND METHOD FOR PLASMA PROCESSING

Номер патента: US20210351012A1. Автор: KATO Hideo,ONUMA Yuji. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2021-11-11.

APPARATUSES AND METHODS FOR PLASMA PROCESSING

Номер патента: US20200365369A1. Автор: RANJAN ALOK,NAGASEKI Kazuya,CHEN Zhiying,Ventzek Peter,Blakeney Joel,Carruth Megan. Владелец: . Дата публикации: 2020-11-19.

APPARATUSES AND METHODS FOR PLASMA PROCESSING

Номер патента: US20200365372A1. Автор: RANJAN ALOK,NAGASEKI Kazuya,CHEN Zhiying,Ventzek Peter,Blakeney Joel. Владелец: . Дата публикации: 2020-11-19.

apparatus and method for plasma processing

Номер патента: KR20210137905A. Автор: 히데오 가토,유지 오누마. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2021-11-18.

Apparatus and method for plasma processing

Номер патента: US20070186854A1. Автор: Nityalendra Singh,Roger Croad. Владелец: Oxford Instruments Plasma Technology Ltd. Дата публикации: 2007-08-16.

Apparatuses and methods for plasma processing

Номер патента: WO2020231620A1. Автор: Alok Ranjan,Kazuya Nagaseki,Peter Ventzek,Zhiying Chen,Joel Blakeney. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2020-11-19.

Substrate processing apparatus for using neutral beam and its processing methods

Номер патента: KR100714898B1. Автор: 황성욱,박성찬. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2007-05-04.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20060027324A1. Автор: Takashi Kaneko,Akitaka Makino,Koichi Mishima,Toyoharu Okumoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2006-02-09.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20060081559A1. Автор: Tetsuji Sato,Koji Miyata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-04-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20090001052A1. Автор: Takashi Kaneko,Akitaka Makino,Koichi Mishima,Toyoharu Okumoto. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-01-01.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240266201A1. Автор: Shogo Okita,Minghui Zhao,Toshiyuki TAKASAKI. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09659754B2. Автор: Yoshio SUSA,Naoki Matsumoto,Jun Yoshikawa,Peter L. G. Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Plasma processing method

Номер патента: US09818582B2. Автор: Shigeru Senzaki,Hiroshi Tsujimoto,Keigo TOYODA,Nobutaka Sasaki,Takanori BANSE,Hiraku MURAKAMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Plasma Measuring Method and Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20240290589A1. Автор: Mitsutoshi ASHIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Plasma measurement method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240274417A1. Автор: Mitsutoshi ASHIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09484180B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Manabu Iwata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Plasma processing apparatus, information processing apparatus, plasma processing method, and correction method

Номер патента: US20240194451A1. Автор: Taro Hayakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20200279719A1. Автор: Norihiko Ikeda,Koichi Yamamoto,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-09-03.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20190088452A1. Автор: Norihiko Ikeda,Koichi Yamamoto,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US10699884B2. Автор: Norihiko Ikeda,Koichi Yamamoto,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-06-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09566821B2. Автор: Ryoji Nishio,Takamasa ICHINO,Shinji OBAMA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20200402809A1. Автор: Yasushi Sonoda. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-12-24.

Plasma Processing Method

Номер патента: US20080216865A1. Автор: Masamichi Sakaguchi,Yasuhiro Nishimori,Satoshi Une,Yutaka Kudou,Masunori Ishihara. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-09-11.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and storage medium

Номер патента: US9299540B2. Автор: Tatsuya Ogi,Kimihiro Fukasawa,Kazuhiro Kanaya,Wataru Ozawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-03-29.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and storage medium

Номер патента: US8864934B2. Автор: Tatsuya Ogi,Kimihiro Fukasawa,Kazuhiro Kanaya,Wataru Ozawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-10-21.

Plasma processing apparatus and operational method thereof

Номер патента: US09767997B2. Автор: Masahito Togami,Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kosa Hirota. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-09-19.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240234113A1. Автор: Jun Tamura,Takari YAMAMOTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Restoration apparatus and restoration method for plasma processing apparatus

Номер патента: US20190385818A1. Автор: Hiroyuki Mizuno. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-12-19.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20040040507A1. Автор: Muneo Furuse,Masanori Kadotani,Motohiko Yoshigai,Susumu Tauchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2004-03-04.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20040159639A1. Автор: Hideyuki Yamamoto,Tetsuo Ono,Katsumi Setoguchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-19.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20240212997A1. Автор: Pei-Yu Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Plasma processing apparatus and control method

Номер патента: US09991100B2. Автор: Ryota Sakane. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Closed loop process control of plasma processed materials

Номер патента: US20120328771A1. Автор: George Papasouliotis,Deven Raj,Harold Persing. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2012-12-27.

Closed loop process control of plasma processed materials

Номер патента: WO2012178175A1. Автор: George D. Papasouliotis,Deven Raj,Harold Persing. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2012-12-27.

High density plasma processing apparatus

Номер патента: WO2020039185A1. Автор: Michael Thwaites,Peter HOCKLEY. Владелец: Dyson Technology Limited. Дата публикации: 2020-02-27.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09966233B2. Автор: Hidetoshi Hanaoka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Plasma processing apparatus and upper electrode assembly

Номер патента: US09941101B2. Автор: Shin Matsuura,Jun Young Chung. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09589771B2. Автор: Mitsunori Ohata,Yuki Hosaka,Naokazu FURUYA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-07.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20090151638A1. Автор: Masaki Sugiyama,Toshiki Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-06-18.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240186113A1. Автор: Hiroshi Kondo,Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12094697B2. Автор: Kazuki Takahashi,Toshimasa Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321559A1. Автор: Satoshi Taga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Plasma processing device and plasma processing method

Номер патента: US09691593B2. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20110273094A1. Автор: Hiroshi Haji,Kiyoshi Arita,Masaru Nonomura. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2011-11-10.

Electrostatic Chuck Assembly for Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20240282614A1. Автор: Maolin Long. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US8450933B2. Автор: Hiroshi Haji,Kiyoshi Arita,Masaru Nonomura. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2013-05-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240242937A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Components for a plasma processing apparatus

Номер патента: SG175637A1. Автор: La Llera Anthony De,Saurabh J Ullal. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2011-11-28.

Microwave plasma processing apparatus, slot antenna, and semiconductor device

Номер патента: US09875882B2. Автор: Toshihiko Iwao,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09583314B2. Автор: Hitoshi Tamura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US8404050B2. Автор: Hiroyuki Nakayama,Tsuyoshi Moriya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-03-26.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20090134121A1. Автор: Hiroyuki Nakayama,Tsuyoshi Moriya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-05-28.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US8231800B2. Автор: Hiroyuki Nakayama,Tsuyoshi Moriya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-07-31.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20120285623A1. Автор: Hiroyuki Nakayama,Tsuyoshi Moriya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-11-15.

The plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20190006153A1. Автор: Hitoshi Tamura,Naoki Yasui,Nanako TAMARI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-01-03.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240222096A1. Автор: Takashi Uemura,Shengnan Yu,Shunsuke Tashiro. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Apparatus and method for current sensing using embedded electrodes

Номер патента: US20240312772A1. Автор: Michael Harris,Gordon Hill,Joseph Desjardins,Ilya Pokidov,Chiu-Ying Tai. Владелец: MKS Instruments Inc. Дата публикации: 2024-09-19.

Plasma processing apparatus, control method thereof and program for performing same

Номер патента: US20060005927A1. Автор: Satoshi Yamazaki,Taira Takase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-01-12.

Plasma processing apparatus, control method thereof and program for performing same

Номер патента: US7585385B2. Автор: Satoshi Yamazaki,Taira Takase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-09-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4451310A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Hyen Woo Chu. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-10-23.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11923177B2. Автор: Kazumasa Igarashi,Kazuo Yabe,Yamato Tonegawa,Keiji Tabuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297020A1. Автор: Hiroyuki Miyashita,Taro Ikeda,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240290581A1. Автор: Kohei Sato,Takashi Uemura,Shengnan Yu. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-29.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240331978A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20220068604A1. Автор: Shinji Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12046452B2. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4451311A1. Автор: Kwang Sung Yoo. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-10-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09691591B2. Автор: Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220230848A1. Автор: Yoshiyuki Kondo,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-07-21.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11961718B2. Автор: Tetsuji Sato,Shojiro Yahata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-16.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240212984A1. Автор: Isao Mori,Ryosuke Ochiai. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240038511A1. Автор: Hiroshi Shirouzu. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20200168441A1. Автор: Koichi Tateshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-28.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220301834A1. Автор: Hwajun Jung,Mitsunori Ohata,Yuki Hosaka,Wan Sung Jin. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11923171B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Hidetoshi Hanaoka,Junichi Sasaki,Tomohiko Akiyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Microwave applicator, plasma processing apparatus having same, and plasma processing method

Номер патента: US6870123B2. Автор: Nobumasa Suzuki,Shigenobu Yokoshima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-03-22.

Shared current loop, multiple field apparatus and process for plasma processing

Номер патента: CA1282840C. Автор: Stephen M. Bobbio,Yueh-Se Ho. Владелец: MCNC. Дата публикации: 1991-04-09.

Processing apparatus with an invertible collimator and a processing method therefor

Номер патента: US5584973A. Автор: Hiroshi Kobayashi,Yuichi Wada,Jiro Katsuki. Владелец: Tel Varian Ltd. Дата публикации: 1996-12-17.

Shared current loop,multiple field apparatus and process for plasma processing

Номер патента: IL83988A0. Автор: . Владелец: NORTH CAROLINA MICROELECTRON. Дата публикации: 1988-02-29.

Method of operating a plasma process system and a plasma process system

Номер патента: EP4442853A1. Автор: designation of the inventor has not yet been filed The. Владелец: Trumpf Huettinger Sp zoo. Дата публикации: 2024-10-09.

Substrate liquid processing apparatus, exhaust switching unit and substrate liquid processing method

Номер патента: US09842747B2. Автор: Junya Minamida,Keisuke Tsugao. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-12.

Upper electrode structure and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240249907A1. Автор: Tetsuji Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210143017A1. Автор: Takahiro Yokoyama,Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Diagnosis apparatus, plasma processing apparatus and diagnosis method

Номер патента: US12040167B2. Автор: Kenji Tamaki,Masaki Ishiguro,Shota Umeda,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-16.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: US8969211B2. Автор: Tetsuo Ono,Satoru Muto,Yasuo Ohgoshi,Hirofumi Eitoku. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-03-03.

Plasma processing method

Номер патента: US09502219B2. Автор: Yoshihide Kihara,Toshio Haga,Masaya Kawamata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Plasma processing system and plasma processing method

Номер патента: US20240170258A1. Автор: Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220122847A1. Автор: Yuzuru Sakai,Ryo Terashima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-04-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11817321B2. Автор: Yuzuru Sakai,Ryo Terashima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-14.

Apparatus and system for modulated plasma systems

Номер патента: US20200350140A1. Автор: Gideon van Zyl. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2020-11-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20150179408A1. Автор: Naotaka Noro,Kouji Shimomura,Eiichi Nishimura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-06-25.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: US20150170880A1. Автор: Tetsuo Ono,Satoru Muto,Yasuo Ohgoshi,Hirofumi Eitoku. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-06-18.

Plasma processing apparatus and plasma processing system

Номер патента: US12014909B2. Автор: Akira Kagoshima,Daisuke Shiraishi,Satomi Inoue,Shota Umeda,Ryoji ASAKURA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-18.

Method and apparatus for realtime wafer potential measurement in a plasma processing chamber

Номер патента: WO2023096730A1. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-06-01.

Stage and plasma processing apparatus

Номер патента: US11908666B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Hajime Tamura,Shin Yamaguchi,Tsuguto SUGAWARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Stage and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240153749A1. Автор: Yasuharu Sasaki,Hajime Tamura,Shin Yamaguchi,Tsuguto SUGAWARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

THERMAL SPRAYING METHOD OF COMPONENT FOR PLASMA PROCESSING APPARATUS AND COMPONENT FOR PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20190019654A1. Автор: KOBAYASHI Yoshiyuki. Владелец: . Дата публикации: 2019-01-17.

Plasma processing apparatus of substrate and plasma processing method thereof

Номер патента: US20080053818A1. Автор: Akio Ui. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2008-03-06.

Plasma processing apparatus and method of plasma processing

Номер патента: CN104641730B. Автор: 奥村智洋,川浦广. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-31.

Plasma processing apparatus and method of plasma processing

Номер патента: CN100573830C. Автор: 佐佐木胜,井出真司. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-12-23.

Plasma processing apparatus including a plurality of plasma processing units having reduced variation

Номер патента: US7225754B2. Автор: Tadahiro Ohmi,Akira Nakano. Владелец: Alps Electric Co Ltd. Дата публикации: 2007-06-05.

ETCHING PROCESSING APPARATUS, QUARTZ MEMBER AND PLASMA PROCESSING METHOD

Номер патента: US20220020596A1. Автор: NAGAYAMA Nobuyuki,KIKUCHI Toshihiko. Владелец: . Дата публикации: 2022-01-20.

Apparatus and method for plasma process measurement

Номер патента: KR101829811B1. Автор: 한재원. Владелец: 연세대학교 산학협력단. Дата публикации: 2018-02-20.

Apparatus and methods of plasma processing by using scan injectors

Номер патента: KR100842745B1. Автор: 김태호. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2008-07-01.

Apparatuses and methods for plasma processing

Номер патента: US11393662B2. Автор: Alok Ranjan,Kazuya Nagaseki,Peter Ventzek,Zhiying Chen,Joel Blakeney,Megan Carruth. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-07-19.

Substrate processing apparatus, focus ring heating method, and substrate processing method

Номер патента: US8941037B2. Автор: Daisuke Hayashi,Kazuya Nagaseki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-01-27.

A support unit, a substrate processing apparatus including the same, and a substrate processing method

Номер патента: KR102398674B1. Автор: 손덕현,심진우. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2022-05-17.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09997337B2. Автор: Masahito Mori,Naoshi Itabashi,Naoyuki Kofuji. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20180158650A1. Автор: Hideyuki Kobayashi,Ryota Sakane,Hiroshi Nagahata,Jungwoo Na. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-07.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09799495B2. Автор: Tomohiro Okumura,Shogo Okita,Bunji MIIZUNO. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12074076B2. Автор: Soichiro Eto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09741579B2. Автор: Naoki Yasui,Michikazu Morimoto,Nanako TAMARI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09502220B2. Автор: Tomohiro Okumura,Bunji Mizuno,Shogo Okita. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20170350014A1. Автор: Toshihiko Iwao,Satoru Kawakami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-07.

Plasma processing apparatus and prediction method of the condition of plasma processing apparatus

Номер патента: US12080529B2. Автор: Masahiro Sumiya,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09960031B2. Автор: Motohiro Tanaka,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09704731B2. Автор: Masaru Izawa,Go Miya,Takumi Tandou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09496147B2. Автор: Motohiro Tanaka,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20040173309A1. Автор: Toshio Masuda,Junichi Tanaka,Hiroyuki Kitsunai,Hideyuki Yamamoto,Go Miya. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-09.

Shower plate, plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12051564B2. Автор: Satoru Kawakami,Masaki Hirayama,Taro Ikeda. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-07-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12094687B2. Автор: Tetsuo Ono,Naoki Yasui,Masayuki SHIINA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09997332B2. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Kazuki Denpoh,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09865454B2. Автор: Hitoshi Kato,Jun Sato,Masato Yonezawa,Hiroyuki Kikuchi,Shigehiro Miura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09805940B2. Автор: Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09711375B2. Автор: Koichi Yamamoto,Tsutomu Iida,Hiromitsu TERAUCHI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-18.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20130045547A1. Автор: Kenji Nakata,Atsushi Itou,Kouichi Yamamoto,Masaru Izawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-02-21.

Plasma processing system and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297025A1. Автор: Kota Seno,Fumiaki ARIYOSHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12087556B2. Автор: Akio Ui,Yosuke Sato,Hisataka Hayashi. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Plasma processing method

Номер патента: US09941098B2. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09741629B2. Автор: Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi,Kosa Hirota. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12051595B2. Автор: Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09941132B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09911638B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-06.

Plasma generating apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20110068004A1. Автор: Yuichi Shiina. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2011-03-24.

State prediction apparatus and semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US12050455B2. Автор: Masaki Ishiguro,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-30.

Plasma processing apparatus and method for monitoring plasma processing apparatus

Номер патента: US09666417B2. Автор: Atsushi Shoji,Masahiko Orimoto. Владелец: Sakai Display Products Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Plasma generating apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US8562800B2. Автор: Yuichi Shiina. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2013-10-22.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20140141532A1. Автор: Takashi Sone,Eiichi Nishimura,Tadashi Kotsugi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-05-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20150110974A1. Автор: Yong-Suk Lee,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Mi-Ra An. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-23.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240240320A1. Автор: Yong-Suk Lee,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Mi-Ra An. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09953862B2. Автор: Shigeru Yoneda,Yen-Ting Lin,Akitoshi Harada,Chih-Hsuan CHEN,Ju-Chia Hsieh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Method of producing processing condition of plasma processing apparatus, and plasma processing apparatus

Номер патента: US09870901B2. Автор: Takashi Dokan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09805959B2. Автор: Naoki Matsumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus, analysis apparatus, plasma processing method, analysis method, and storage medium

Номер патента: US20240371603A1. Автор: Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Plasma processing apparatus and plasma generation antenna

Номер патента: US09543123B2. Автор: Shigeru Kasai,Taro Ikeda,Tomohito Komatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09460896B2. Автор: Akitoshi Harada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-04.

Plasma processing apparatus and method of cleaning the apparatus

Номер патента: US20010001185A1. Автор: Hajime Murakami,Eiji Setoyama,Kouji Ishiguro,Hirofumi Seki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2001-05-17.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: EP4428898A2. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20230420228A1. Автор: Akihiro Yokota,Ryo Terashima,Takaharu SAINO,Tomo MURAKAMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12125672B2. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Plasma processing method

Номер патента: US09824866B2. Автор: Akira Kagoshima,Daisuke Shiraishi,Yuji Nagatani. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Plasma processing apparatus and shower plate

Номер патента: US09663856B2. Автор: Shigeru Kasai,Taro Ikeda,Yutaka Fujino. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09601318B2. Автор: Hitoshi Kato,Jun Sato,Hiroyuki Kikuchi,Shigehiro Miura,Toshiyuki Nakatsubo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09570272B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-14.

Component for plasma processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US11948779B2. Автор: Shuichi Saito,Kazuhiro Ishikawa,Takashi Hino. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-04-02.

Substrate processing apparatus and method for processing substrate

Номер патента: US20230245858A1. Автор: Hitoshi Kato,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297027A1. Автор: Soichiro Eto,Shigeru Nakamoto,Kosuke Fukuchi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Plasma processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230402256A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Jun Sato,Takashi Chiba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Plasma processing apparatus and method for using plasma processing apparatus

Номер патента: US20230167553A1. Автор: Tetsuhiro Iwai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Plasma processing apparatus and control method

Номер патента: US12068208B2. Автор: Taro Ikeda,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220068658A1. Автор: Yasutaka HAMA,Shu Kino,Motoki NORO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and recording medium

Номер патента: US9583318B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Shigehiro Miura,Naohide Ito,Katsuaki Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and recording medium

Номер патента: US09583318B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Shigehiro Miura,Naohide Ito,Katsuaki Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing apparatus and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230065586A1. Автор: Nobuhiko Hori. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-03-02.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230307245A1. Автор: Atsushi Takahashi,Yoshihide Kihara,Takatoshi ORUI,Maju TOMURA,Koki MUKAIYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230268190A1. Автор: Yoshimitsu Kon,Atsuki Hashimoto,Sho SAITOH. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Method of cleaning stage in plasma processing apparatus, and the plasma processing apparatus

Номер патента: US12090529B2. Автор: Junichi Sasaki,Takamitsu Takayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US09653334B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Atsushi Harikai,Mitsuru Hiroshima. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Plasma processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US9237638B2. Автор: Osamu Morita,Kiyotaka Ishibashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-01-12.

Plasma processing method

Номер патента: US09922841B2. Автор: Ryosuke NIITSUMA,Haruto Kanamori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Plasma processing apparatus and measurement method

Номер патента: US09658106B2. Автор: Kohei Yamashita,Hirokazu Ueda,Yuuki Kobayashi,Peter L. G. Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Plasma processing apparatus and temperature control method

Номер патента: US20190376185A1. Автор: Koji Maruyama,Akihiro Yokota,Kazuki Moyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-12.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20190393031A1. Автор: Toru Hisamatsu,Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-26.

Plasma processing apparatus and substrate support body

Номер патента: US20240266154A1. Автор: Shinya Ishikawa,Daiki HARIU,Haruka ENDO,Miyuki AOYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Plasma processing apparatus and substrate support of plasma processing apparatus

Номер патента: US11972933B2. Автор: Masahiro DOGOME. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12112921B2. Автор: Hiroyuki Ikuta,Yutaka Fujino,Hirokazu Ueda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230127467A1. Автор: Yoshihide Kihara,Kae Takahashi,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-04-27.

Workpiece processing method

Номер патента: US09607811B2. Автор: Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Toru Hisamatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-28.

Plasma processing apparatus and plasma control method using magnetic field

Номер патента: US20230317427A1. Автор: Hyung Joon Kim,Duk Hyun SON,Dong Mok Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240290625A1. Автор: Masanori Hosoya,Mitsuhiro Iwano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Plasma processing apparatus, and temperature control method

Номер патента: US12063717B2. Автор: Shinsuke Oka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Plasma processing apparatus and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20240203707A1. Автор: Seiwa NISHIO. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma processing apparatus and method therefor

Номер патента: US09620336B2. Автор: Shogo Okita. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20140238301A1. Автор: Shinya Akano. Владелец: Chugai Ro Co Ltd. Дата публикации: 2014-08-28.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09653317B2. Автор: Tsutomu Ito,Shinichi Kozuka,Masaru Nishino,Ryosuke NIITSUMA,Takao FUNAKUBO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09779936B2. Автор: Toshio Nakanishi,Minoru Honda,Daisuke Katayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Deposition processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200273712A1. Автор: Yuji Nagai,Yoshimitsu Kon,Lifu Li,Atsushi UTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-08-27.

Plasma processing apparatus and plasma etching method

Номер патента: US20200286737A1. Автор: Toshifumi Nagaiwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-09-10.

Plasma processing apparatus and method for manufacturing mounting stage

Номер патента: US12033886B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Akira Nagayama,Ryo Chiba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Plasma processing device, and plasma processing method

Номер патента: US20240170260A1. Автор: Eiki Kamata,Taro Ikeda,Mitsutoshi ASHIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4231785A1. Автор: Kiyoshi Maeda,Yasuhiko Saito,Atsutoshi Inokuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220384151A1. Автор: Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Cleaning method of film layer in the plasma processing apparatus

Номер патента: US20240203708A1. Автор: Kazuhiro Ueda,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240331974A1. Автор: Norihiko Ikeda,Masaru Izawa,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-03.

Plasma processing method

Номер патента: US09349603B2. Автор: Masaki Fujii,Tetsuo Ono,Yoshiharu Inoue,Masakazu Miyaji,Michikazu Morimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-05-24.

Plasma processing apparatus and system

Номер патента: US12087591B2. Автор: Kazuya Nagaseki,Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US12094696B2. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Electrostatic chuck assembly for plasma processing apparatus

Номер патента: US12119254B2. Автор: Maolin Long,Weimin Zeng. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

Plasma processing apparatus and upper electrode assembly

Номер патента: US09773647B2. Автор: Shin Matsuura,Jun Young Chung,Keita KAMBARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12051566B2. Автор: Hitoshi Kato,Yuji Sawada,Hiroyuki Kikuchi,Shinji Asari. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190189403A1. Автор: Takashi Uemura,Junya Sasaki,Yasushi Sonoda,Tomoyoshi Ichimaru,Luke Joseph HIMBELE. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-06-20.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US20230282460A1. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US20230282461A1. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Film formation apparatus and moisture removal method thereof

Номер патента: US12043898B2. Автор: Koji Yoshimura,Shohei Tanabe. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2024-07-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09941097B2. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Kazuki Denpoh,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09899191B2. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Kazuki Denpoh,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Plasma processing method

Номер патента: US09673062B1. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Plasma processing apparatus and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20190371635A1. Автор: Tomoya Oori. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-12-05.

Plasma processing device and plasma processing method

Номер патента: US09984906B2. Автор: Naoki Matsumoto,Yugo Tomita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-29.

Plasma processing method

Номер патента: US09972776B2. Автор: Naohiro Yamamoto,Masato Ishimaru,Makoto Suyama,Hidenori TOYOOKA,Norihiro HOSAKA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-15.

Capacitive coupling plasma processing apparatus

Номер патента: US9412562B2. Автор: Shinji Himori,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Capacitive coupling plasma processing apparatus

Номер патента: US9038566B2. Автор: Shinji Himori,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-05-26.

Capacitive coupling plasma processing apparatus

Номер патента: US8070911B2. Автор: Shinji Himori,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-12-06.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12112925B2. Автор: Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Masahiro Sumiya,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-08.

Cleaning method and plasma treatment device

Номер патента: US12129544B2. Автор: Hiroyuki Ikuta,Yoshiyuki Kondo,Yutaka Fujino,Hideki Yuasa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Method of CVD plasma processing with a toroidal plasma processing apparatus

Номер патента: US09909215B2. Автор: William Holber,Robert J. BASNETT. Владелец: PLASMABILITY LLC. Дата публикации: 2018-03-06.

Plasma Processing Method

Номер патента: US20210142982A1. Автор: Tsuyoshi Moriya,Toshio Hasegawa,Shinya Iwashita,Naotaka Noro,Takamichi Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Plasma processing method and resist pattern modifying method

Номер патента: US20100055911A1. Автор: Jin Fujihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-03-04.

Plasma processing method

Номер патента: US20240203751A1. Автор: Tatsuya Hayashi,Mineaki Kodama,Masashi Kawabata,Tomoyoshi Ichimaru,Yujiro YONEDA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240347325A1. Автор: Yuki Onodera,Takamitsu Takayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09574267B2. Автор: Toshihisa Nozawa,Shinji Komoto,Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Ignition method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12080517B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Kazumasa Igarashi,Takeshi Ando. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09631274B2. Автор: Toshihisa Nozawa,Shinji Komoto,Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-25.

Plasma processing device, and plasma processing method

Номер патента: US09601330B2. Автор: Tomohiro Okumura,Hiroshi Kawaura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Plasma processing method, plasma processing apparatus, and control apparatus

Номер патента: US20210351010A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-11-11.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190096640A1. Автор: Noriyuki Kato. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12068139B2. Автор: Shin Matsuura,Jun Hirose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Plasma processing method

Номер патента: US12074033B2. Автор: Hitoshi Kobayashi,Masahito Mori,Ryota Takahashi,Chaomei Liu. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Microwave plasma source and plasma processing apparatus

Номер патента: US20160358757A1. Автор: Taro Ikeda,Tomohito Komatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-08.

Plasma processing method

Номер патента: US20240304456A1. Автор: Makoto Miura,Koichi Takasaki,Makoto Satake. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-12.

RF choke for gas delivery to an RF driven electrode in a plasma processing apparatus

Номер патента: US09761365B2. Автор: John M. White,Jozef Kudela,Carl A. Sorensen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-12.

Plasma processing method, plasma processing apparatus, and control apparatus

Номер патента: US11901158B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Plasma processing apparatus, power system, control method, and storage medium

Номер патента: US20240347320A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20210375588A1. Автор: Satoru Kawakami,Masaki Hirayama,Taro Ikeda. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2021-12-02.

Adjustment method for filter unit and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200126772A1. Автор: Nozomu Nagashima,Ryuichi Yui. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Method of processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US09530657B2. Автор: Masahiro Ogasawara,Rui Takahashi,Masafumi Urakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US10297489B2. Автор: Akihiro Itou,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-21.

Methods for plasma processing

Номер патента: US09443702B2. Автор: Stephen E. Savas,Carl Galewski,Allan B. Wiesnoski,Sai Mantripragada,Sooyun Joh. Владелец: AIXTRON SE. Дата публикации: 2016-09-13.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200303169A1. Автор: Hisanori Sakai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-09-24.

Wafer processing apparatus and wafer processing method using the same

Номер патента: US11990348B2. Автор: Sunggil Kang,Dongkyu Shin,Hoseop Choi,Sangjin AN,Chanyeong JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-21.

Plasma processing apparatus and prediction method of the condition of plasma processing apparatus

Номер патента: US20210082673A1. Автор: Masahiro Sumiya,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-03-18.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11996268B2. Автор: Toshihiko Iwao. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160358758A1. Автор: Toshihiko Iwao,Takahiro Hirano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20170092513A1. Автор: Toshiki Nakajima,Yoshihiro Umezawa,Yuki Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-30.

Plasma processing method

Номер патента: US09842750B2. Автор: Tetsuhiro Iwai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-12.

Substrate processing method

Номер патента: US09558962B2. Автор: Kandabara N. Tapily,Fumitaka Amano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: US09431263B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Atsushi Harikai,Mitsuru Hiroshima. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-30.

Batch-type remote plasma processing apparatus

Номер патента: US09373499B2. Автор: Kazuyuki Toyoda,Yasuhiro Inokuchi,Motonari Takebayashi,Nobuo Ishimaru,Tadashi Kontani. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-06-21.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200035501A1. Автор: Masahiro Tabata,Sho Kumakura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-01-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12046453B2. Автор: Atsushi Kubo,Nobuhiko Yamamoto,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Plasma processing method

Номер патента: US09384992B2. Автор: Manabu Sato,Takanori Sato,Kazuki Narishige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-07-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US9685305B2. Автор: Koji Maruyama,Akira Koshiishi,Masato Horiguchi,Tetsuri Matsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240014006A1. Автор: Naoki Fujiwara,Takahiro Takeuchi,Mitsunori Ohata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220020574A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2022-01-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20080217295A1. Автор: Seiichi Watanabe,Akitaka Makino,Naoki Yasui,Susumu Tauchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-09-11.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20200227270A1. Автор: Masahito Mori,Hayato Watanabe,Takao Arase,Taku Iwase,Satoshi Terakura. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-07-16.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20110088849A1. Автор: KATSUSHI Kishimoto,Yusuke Fukuoka. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2011-04-21.

Showerhead electrode assembly in a capacitively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US20150194291A1. Автор: Sang Ki Nam,Rajinder Dhindsa,Ryan Bise. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2015-07-09.

Plasma processing method

Номер патента: US09805917B2. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20210296090A1. Автор: Satoru Nakamura,Shinya Morikita,Fumiya TANIFUJI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-09-23.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11862436B2. Автор: Toru Fujii,Kohei Otsuki,Yoshitomo Konta. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11972925B2. Автор: Ken Kobayashi,Mitsunori Ohata,Bong seong Kim,Yoon Ho BAE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20210142988A1. Автор: Hiroyuki Matsuura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230377899A1. Автор: Takahiro Yonezawa,Tetsuya Nishizuka,Kenta Ono,Yusuke Takino. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220262631A1. Автор: Satoshi Itoh,Norifumi Kohama,Nathan Ip,Soudai EMORI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-18.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230386794A1. Автор: Satoru Nakamura,Shinya Morikita,Fumiya TANIFUJI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11688585B2. Автор: Hiroyuki Matsuura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-27.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US9165780B2. Автор: Akira Shimizu,Yu WAMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-10-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240222095A1. Автор: Takashi Yamamura,Yasutaka HAMA,Chunhsiang YANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Etching method and plasma processing system

Номер патента: US20230402289A1. Автор: Yoshihide Kihara,Kae Takahashi,Maju TOMURA,Noriyoshi ARIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Plasma processing method

Номер патента: US20040157447A1. Автор: Tomohiro Okumura,Mitsuo Saitoh. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-12.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230420225A1. Автор: Shuhei Ogawa,Cedric THOMAS,Tejung HUANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240213002A1. Автор: Ikko Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Image-based digital control of plasma processing

Номер патента: WO2022164661A1. Автор: Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-08-04.

Method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: IL167491A. Автор: Robert J Steger. Владелец: Robert J Steger. Дата публикации: 2009-08-03.

A method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: EP1540695B1. Автор: Robert J. Steger. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2010-03-03.

A method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: EP1540695A2. Автор: Robert J. Steger. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-06-15.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20150206715A1. Автор: Takayuki Ishii,Ryoichi Yoshida,Ken Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-07-23.

Synchronized pulsing of plasma processing source and substrate bias

Номер патента: EP4231328A1. Автор: Kevin Fairbairn,Daniel Carter,Denis Shaw. Владелец: Aes Global Holdings Pte Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

Modifying work function of a metal film with a plasma process

Номер патента: US20180218911A1. Автор: WEI Liu,Johanes S. Swenberg,Houda Graoui,Steven C. H. Hung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-08-02.

Apparatus and methods for handling workpieces of different sizes

Номер патента: US09385017B2. Автор: David K. Foote,James D. Getty,James P. Fazio. Владелец: Nordson Corp. Дата публикации: 2016-07-05.

Apparatus and method for plasma processing

Номер патента: TW201130392A. Автор: Chang-Kil Nam. Владелец: Jusung Eng Co Ltd. Дата публикации: 2011-09-01.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230326757A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake,Michiyoshi Yamashita. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-10-12.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4207246A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake,Michiyoshi Yamashita. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-07-05.

Substrate Processing Apparatus, Exhaust Pipe Coating Method and Substrate Processing Method

Номер патента: US20180312969A1. Автор: Katsutoshi Ishii. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-11-01.

Substrate processing apparatus, semiconductor device manufacturing method, and substrate processing method

Номер патента: JP6084202B2. Автор: 武夫 佐藤. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-02-22.

Substrate processing apparatus, liquid film freezing method, and substrate processing method

Номер патента: JP4767138B2. Автор: 勝彦 宮,昭 泉,直澄 藤原. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2011-09-07.

A transfer unit, a substrate processing apparatus including the same, and a substrate processing method

Номер патента: KR102319199B1. Автор: 방제오. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2021-10-29.

Substrate processing apparatus with flow control ring, and substrate processing method

Номер патента: TW202246564A. Автор: 辻直人. Владелец: 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司. Дата публикации: 2022-12-01.

Substrate processing apparatus with flow control ring, and substrate processing method

Номер патента: US20220259731A1. Автор: Naoto Tsuji. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-08-18.

Plasma processing apparatus for powder and plasma processing method for powder

Номер патента: CA2488137C. Автор: Eiji Hirakawa,Gang Han,Shujiroh Uesaka. Владелец: Hitachi Metals Ltd. Дата публикации: 2009-05-12.

Information processing apparatus, program, information processing system, and information processing method

Номер патента: US09898243B2. Автор: Morio Miki. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Medical image processing apparatus, medical image processing system, medical image processing method, and program

Номер патента: US11991478B2. Автор: Shumpei KAMON. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-05-21.

Data Processing Apparatus, Storage Medium Storing Program, and Data Processing Method

Номер патента: US20180032810A1. Автор: Yuki Oguro. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2018-02-01.

Data processing apparatus, computer readable storage medium, and data processing method

Номер патента: US20230360541A1. Автор: Eiji Nakazawa. Владелец: SoftBank Corp. Дата публикации: 2023-11-09.

Information processing apparatus, movable body control system, and information processing method

Номер патента: US20240147087A1. Автор: Makoto Oigawa,Kazuya Nobayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Plasma processing method

Номер патента: US20020173161A1. Автор: Kiyoshi Arita,Tetsuhiro Iwai. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2002-11-21.

Wafer processing method and wafer processing apparatus

Номер патента: SG132691A1. Автор: Isamu Kawashima. Владелец: Tokyo Seimitsu Co Ltd. Дата публикации: 2007-06-28.

Method for fabricating electronic component module using a plasma processing method

Номер патента: MY137638A. Автор: Masaru Nonomura,Tatsuhiro Mizukami. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2009-02-27.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: US20050037629A1. Автор: Ichiro Nakayama,Yoshihiro Yanagi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-02-17.

Plasma processing method

Номер патента: US09506154B2. Автор: Takahiro Abe,Takeshi Shimada,Masato Ishimaru,Makoto Suyama. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Method of adsorbing target object on mounting table and plasma processing apparatus

Номер патента: US09953854B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Akihito FUSHIMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Plasma processing method

Номер патента: US20240321583A1. Автор: Miyako Matsui,Kenichi Kuwahara. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Processing method of wafer

Номер патента: US20240312824A1. Автор: Masaru Nakamura. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Plasma processing method

Номер патента: US6723651B2. Автор: Kiyoshi Arita,Shoji Sakemi,Tetsuhiro Iwai. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2004-04-20.

Component of substrate processing apparatus and method for forming a film thereon

Номер патента: US09828690B2. Автор: Koji Mitsuhashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

De-chuck control method and control device for plasma processing apparatus

Номер патента: US09466519B2. Автор: Atsushi Kawabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-11.

Processing method for semiconductor surface defects and preparation method for semiconductor devices

Номер патента: US12033857B2. Автор: Xianghong Jiang. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-07-09.

De-chuck control method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09966291B2. Автор: Junichi Sasaki,Masaaki Miyagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Image-based digital control of plasma processing

Номер патента: US12027426B2. Автор: Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-02.

Image processing apparatus and method for correcting image based on edge detection

Номер патента: US09699358B2. Автор: Yun-Tae Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-07-04.

Plasma processing apparatus for powder and plasma processing method for powder

Номер патента: US7381363B2. Автор: Eiji Hirakawa,Gang Han,Shujiroh Uesaka. Владелец: Hitachi Metals Ltd. Дата публикации: 2008-06-03.

Storage medium, information processing apparatus, and line-of-sight information processing method

Номер патента: US20210081697A1. Автор: Kiyonori Morioka,Shanshan Yu. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2021-03-18.

Information processing apparatus, network node, and information processing method

Номер патента: US09912508B2. Автор: Lei Wang,YE Wu,Deli Qiao. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-06.

Image processing apparatus, image capturing apparatus, lens apparatus, image processing method, and program

Номер патента: EP3236651B1. Автор: Yoshiaki Ida,Shigenobu Sugita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-06-10.

Cho resource processing method, apparatus and system

Номер патента: US20220264390A1. Автор: LI YANG,Zijiang Ma,Yin Gao. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2022-08-18.

CHO resource processing method, apparatus and system

Номер патента: US12126990B2. Автор: LI YANG,Zijiang Ma,Yin Gao. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2024-10-22.

Image processing apparatus for time-lapse moving image, image processing method, and storage medium

Номер патента: US09489979B2. Автор: Nobuyoshi NISHIZAKA. Владелец: Casio Computer Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

Information processing device, information processing system, information processing method, and program

Номер патента: EP3833044A1. Автор: Yuhki Mitsufuji,Keiichi Osako. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2021-06-09.

Information processing apparatus and method of detecting malfunction in data communication

Номер патента: US11909925B2. Автор: Ryuuichi Satoh,Nobuyuki Nitta. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Image processing apparatus, computer-readable recording medium, and image processing method

Номер патента: US09417712B2. Автор: Takahiro Yagishita. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-16.

Information processing device, information processing system, information processing method, and program

Номер патента: US7873037B2. Автор: Hajime Maekawa,Kunio Gobara. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2011-01-18.

information processing apparatus and method, server apparatus, server processing method, and, program

Номер патента: BR112014014585A2. Автор: KITAZATO Naohisa,Kitahara Jun. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2017-06-13.

SIGNAL PROCESSING APPARATUS, IMAGE CAPTURING APPARATUS, CONTROL APPARATUS, SIGNAL PROCESSING METHOD, AND CONTROL METHOD

Номер патента: US20170257591A1. Автор: Kobuse Takenori. Владелец: . Дата публикации: 2017-09-07.

Medical image processing apparatus, medical image processing system, medical image processing method, and program

Номер патента: US20240205374A1. Автор: Shumpei KAMON. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Image processing apparatus, imaging apparatus, moveable body, and image processing method

Номер патента: US20220024452A1. Автор: Yoshitake OHWADA,Hisanori Fukushima,Ryosuke MOTEKI. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2022-01-27.

Image processing apparatus, multi-lens image capture apparatus, image processing method and program

Номер патента: US20140104382A1. Автор: Koji Mori. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-04-17.

STORAGE MEDIUM, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND LINE-OF-SIGHT INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20210081697A1. Автор: MORIOKA Kiyonori,YU Shanshan. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2021-03-18.

Out-of-head localization processing apparatus and out-of-head localization processing method

Номер патента: US20180206058A1. Автор: Masaya Konishi,Hisako Murata,Yumi Fujii. Владелец: JVCKenwood Corp. Дата публикации: 2018-07-19.

SIGNAL PROCESSING APPARATUS, APPARATUS AND METHOD FOR MONITORING CHANNEL SPACING AND SYSTEM

Номер патента: US20170310440A1. Автор: Tao Zhenning,DOU Liang,ZHAO Ying,Li Huihui. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2017-10-26.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, IMAGE CAPTURING APPARATUS, MOBILE BODY, IMAGE PROCESSING METHOD, AND PROGRAM

Номер патента: US20200412945A1. Автор: Shao Ming. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-31.

Image processing apparatus, imaging apparatus, image processing system, image processing method, and image processing program

Номер патента: JP6468791B2. Автор: 法人 日浅. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-02-13.

Image processing apparatus, imaging apparatus including the same, image processing method, and image processing program

Номер патента: JP6460653B2. Автор: 淳郎 岡澤. Владелец: Olympus Corp. Дата публикации: 2019-01-30.

Image processing apparatus, imaging apparatus, imaging system, and data processing method

Номер патента: JP5803402B2. Автор: 祐司 渡会. Владелец: Socionext Inc. Дата публикации: 2015-11-04.

Image processing apparatus, computer-readable storage medium, and image processing method

Номер патента: US20130039602A1. Автор: Fumihiro Sasaki. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2013-02-14.

Data Processing Apparatus, Storage Medium Storing Program, and Data Processing Method

Номер патента: US20180032810A1. Автор: Yuki Oguro. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2018-02-01.

IMAGE PROCESSING APPARATUS FOR TIME-LAPSE MOVING IMAGE, IMAGE PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20150043893A1. Автор: NISHIZAKA Nobuyoshi. Владелец: . Дата публикации: 2015-02-12.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, IMAGING SYSTEM, MOBILE BODY, AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20210073971A1. Автор: YOKOTA Tadashi. Владелец: KYOCERA CORPORATION. Дата публикации: 2021-03-11.

MEDICAL IMAGE PROCESSING APPARATUS, MEDICAL IMAGE PROCESSING SYSTEM, MEDICAL IMAGE PROCESSING METHOD, AND PROGRAM

Номер патента: US20210097331A1. Автор: KAMON Shumpei. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2021-04-01.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, TERMINAL, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20160105407A1. Автор: OHBITSU Toshiro. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2016-04-14.

Information processing apparatus, program, information processing system, and information processing method

Номер патента: US20150153996A1. Автор: Morio Miki. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2015-06-04.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, PROGRAM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20210210107A1. Автор: Hayakawa Tomonobu,Ishiwata Takaaki. Владелец: . Дата публикации: 2021-07-08.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS FOR SERVICE REQUEST PROCESSING AND INFORMATION PROCESSING METHOD FOR SERVICE REQUEST PROCESSING

Номер патента: US20200226654A1. Автор: Okamura Atsushi. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-16.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, NON-TRANSITORY COMPUTER READABLE MEDIUM, INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20170277370A1. Автор: FUJII Hideo. Владелец: FUJI XEROX CO., LTD.. Дата публикации: 2017-09-28.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, NON-TRANSITORY STORAGE MEDIUM, AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20190354320A1. Автор: Ito Naoki,Miyauchi Takashi,Kamata Yutaro. Владелец: . Дата публикации: 2019-11-21.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, NON-TRANSITORY STORAGE MEDIUM, AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20190356790A1. Автор: Ito Naoki,Miyauchi Takashi,Kamata Yutaro. Владелец: . Дата публикации: 2019-11-21.

The signal processing apparatus of solid-state imager and signal processing method and camera head

Номер патента: CN100546392C. Автор: 木下雅也,田中正人,宇根英辅. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2009-09-30.

Image processing apparatus, image pick-up device and image processing method

Номер патента: CN103426147B. Автор: 田中伸. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-06-15.

Image processing apparatus, three-dimensional measurement system, and image processing method

Номер патента: CN114341940A. Автор: 松本慎也. Владелец: Omron Corp. Дата публикации: 2022-04-12.

Video signal processing apparatus, color video camera, and video signal processing method

Номер патента: JP3709566B2. Автор: 文彦 須藤,斉 中村,誠司 河. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2005-10-26.

There is the image processing apparatus of image compensation and its image processing method

Номер патента: CN106128373B. Автор: 黄国松,王世邦. Владелец: DIVA LABORATORIES Ltd. Дата публикации: 2018-07-10.

Video signal processing apparatus, information processing system, and video signal processing method

Номер патента: JP3622270B2. Автор: 聡史 平島. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2005-02-23.

Information processing apparatus, mobile-body control system, and information processing method

Номер патента: US20230251098A1. Автор: Yuichi Yano. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2023-08-10.

Call processing method, apparatus, and system

Номер патента: EP4351103A1. Автор: Tuo Li,Kai Huang,Hongda LIN,Wenjun Ou. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-10.

Data exchange processing method, apparatus, and system

Номер патента: CA2997998C. Автор: Yi Zhang. Владелец: 10353744 Canada Ltd. Дата публикации: 2024-02-06.

Data processing method, apparatus, and device

Номер патента: US20230030044A1. Автор: BIN Li,Jiaqi GU. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-02.

Cho resource processing method, apparatus and system

Номер патента: EP4007362A1. Автор: LI YANG,Zijiang Ma,Yin Gao. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2022-06-01.

Data processing method, apparatus, and device

Номер патента: US11936476B2. Автор: BIN Li,Jiaqi GU. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-19.

Printing apparatus and its control method, job processing method, and printing system

Номер патента: CN1766762A. Автор: 冈田英之,牛山和彦. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-05-03.

Printing apparatus and its control method, job processing method, and printing system

Номер патента: US20110249283A1. Автор: Hideyuki Okada,Kazuhiko Ushiyama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-10-13.

Mobile storage device, apparatus and data encryption and decryption processing method

Номер патента: CN110912677A. Автор: 曾德智,徐华军,张俏鹏,朱海钫. Владелец: Zhuhai Jieli Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-24.

Dimensional video processor, stereoscopic imaging apparatus and three-dimensional video-frequency processing method

Номер патента: CN103329549B. Автор: 中村敏. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-03-09.

Apparatus and method for plasma processing

Номер патента: CA2194323C. Автор: David Alan Martin. Владелец: Becton Dickinson and Co. Дата публикации: 2001-03-27.

Information processing apparatus, non-transitory storage medium, and information processing method

Номер патента: US20170052833A1. Автор: Takaharu Osawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-02-23.

Information processing apparatus including NAND flash memory, and information processing method for the same

Номер патента: US20050157554A1. Автор: Katsuhiko Yanagawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-07-21.

Image processing apparatus for endoscope, endoscope system and image processing method for endoscope

Номер патента: US09651767B2. Автор: Mitsunobu Ono. Владелец: Olympus Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Image processing apparatus, neural network training method, and image processing method

Номер патента: US12093831B2. Автор: Fukashi Yamazaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Information processing apparatus, non-transitory storage medium, and information processing method

Номер патента: US20210158255A1. Автор: Daiki KANEICHI. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2021-05-27.

Information processing apparatus, server, information processing system and information processing method

Номер патента: EP2745255A1. Автор: Masahiro Sueyoshi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2014-06-25.

Image Processing Apparatus, Printer Including the Same, and Image Processing Method

Номер патента: US20090073497A1. Автор: Kosuke Shingai. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2009-03-19.

Image processing apparatus for generating virtual viewpoint image, image processing method, and storage medium

Номер патента: US20240296615A1. Автор: Ryuta Suzuki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-09-05.

Image processing apparatus that identifies image area, and image processing method

Номер патента: US09652855B2. Автор: Xiaoyan Dai. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-05-16.

Image processing apparatus, microscope system, endoscope system, and image processing method

Номер патента: US09517013B2. Автор: Yoshioki Kaneko. Владелец: Olympus Corp. Дата публикации: 2016-12-13.

X-ray CT apparatus and X-ray CT image processing method

Номер патента: US09420986B2. Автор: Shinichi Kojima,Keisuke Yamakawa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2016-08-23.

Information processing apparatus, medical information management system, and information processing method

Номер патента: US11869653B2. Автор: Seiji Nomura. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2024-01-09.

Image processing apparatus, image processing system, imaging apparatus, image processing method

Номер патента: EP4354383A1. Автор: Kenichiroh Nomura. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-17.

Information processing apparatus, control system for mobile object, information processing method, and storage medium

Номер патента: US20230023651A1. Автор: Hitoshi Fukamachi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-01-26.

Information processing apparatus evaluating similarity between medical data, information processing method, and storage medium

Номер патента: US20210020310A1. Автор: Toru Kikuchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-01-21.

Information processing apparatus, computer-readable storage medium, and information processing method

Номер патента: US20230316826A1. Автор: Shunji Kamo,Kazuhiro Kodaira. Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Image processing apparatus for search of an image, image processing method and storage medium

Номер патента: US20240152549A1. Автор: Yasuo Bamba. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Information processing apparatus, nonverbal information conversion system, and information processing method

Номер патента: US12026979B2. Автор: Satomi Tanaka. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Atmospheric Pressure Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120291706A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Kiyoshi Yasutake,Hiroaki Kakiuchi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2012-11-22.

Magnetic domain image processing apparatus and magnetic domain image processing method

Номер патента: US11587226B2. Автор: Ryoko Araki,Teruo Kohashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2023-02-21.

Medical image processing apparatus, medical image processing method, endoscope system, and medical image processing program

Номер патента: EP4201301A1. Автор: Misaki MEGURO. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-06-28.

Apparatus and Method for Plasma Processing

Номер патента: KR970058872A. Автор: 데이비드 알렌 마틴. Владелец: 벡톤, 디킨슨 앤드 컴퍼니. Дата публикации: 1997-08-12.

Apparatus and method for plasma processing

Номер патента: KR100219873B1. Автор: 데이비드 알렌 마틴. Владелец: 벡톤 디킨슨 앤드 컴퍼니. Дата публикации: 1999-09-01.

Apparatus and method for plasma processing

Номер патента: CA2194323A1. Автор: David Alan Martin. Владелец: Becton Dickinson and Co. Дата публикации: 1997-07-31.

Apparatus and method for plasma processing

Номер патента: AU713728B2. Автор: David Alan Martin. Владелец: Becton Dickinson and Co. Дата публикации: 1999-12-09.

Sheet binding processing apparatus, image forming system, and sheet binding processing method

Номер патента: US20180229531A1. Автор: Yousuke KOZIMA. Владелец: Canon Finetech Nisca Inc. Дата публикации: 2018-08-16.

Imaging apparatus and imaging method

Номер патента: US9996967B2. Автор: Yun-Tae Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-06-12.

Magnetic Domain Image Processing Apparatus and Magnetic Domain Image Processing Method

Номер патента: US20220309636A1. Автор: Ryoko Araki,Teruo Kohashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2022-09-29.

Information processing apparatus, information processing system, information processing method, and program

Номер патента: US11875334B2. Автор: Atsushi Yamada. Владелец: Gurunavi Inc. Дата публикации: 2024-01-16.

Signal processing apparatus, control circuit, storage medium, and signal processing method

Номер патента: EP4286809A1. Автор: Yuji Akiyama. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2023-12-06.

Medical image processing device, endoscope system, medical image processing method, and medical image processing program

Номер патента: EP4302680A1. Автор: Shumpei KAMON. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-01-10.

Medical image processing apparatus, endoscope system, medical image processing method, and program

Номер патента: US20220151467A1. Автор: Misaki MEGURO. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-05-19.

Medical image processing device, endoscope system, medical image processing method, and medical image processing program

Номер патента: EP4306059A1. Автор: Misaki GOTO. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-01-17.

Information processing apparatus, information processing system, information processing method, and program

Номер патента: US20230238118A1. Автор: Keigo Nakamura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-07-27.

Medical image processing device, endoscope system, medical image processing method, and medical image processing program

Номер патента: EP4316384A1. Автор: Toshihiro USUDA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-02-07.

Image processing device, image processing system, image processing method, and image processing program

Номер патента: EP4338683A1. Автор: Seiya TAKENOUCHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-03-20.

Information processing apparatus, information processing method, and non-transitory computer readable medium storing program

Номер патента: US20210012437A1. Автор: Michihiko YUSA. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2021-01-14.

MEDICAL IMAGE PROCESSING APPARATUS, X-RAY DIAGNOSTIC APPARATUS, MEDICAL IMAGE PROCESSING METHOD AND X-RAY DIAGNOSTIC METHOD

Номер патента: US20150010221A1. Автор: Abe Shingo. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-08.

MEDICAL IMAGE PROCESSING APPARATUS, X-RAY DIAGNOSTIC APPARATUS, MEDICAL IMAGE PROCESSING METHOD AND X-RAY DIAGNOSTIC METHOD

Номер патента: US20160015348A1. Автор: OHISHI Satoru. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-21.

MEDICAL IMAGE PROCESSING APPARATUS, X-RAY DIAGNOSTIC APPARATUS, MEDICAL IMAGE PROCESSING METHOD AND X-RAY DIAGNOSTIC METHOD

Номер патента: US20160022236A1. Автор: OHISHI Satoru. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-28.

Image Processing Apparatus, Image Forming Apparatus, Display Apparatus, Image Processing Method, and Storage Medium

Номер патента: US20200387730A1. Автор: Misaki FUNATO. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2020-12-10.

Medical image processing device, processor device, medical image processing method, and program

Номер патента: EP3854295A1. Автор: Maiko Endo. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-07-28.

Image processing apparatus, image display system, image processing method, and program

Номер патента: US20230005222A1. Автор: Masaki Miyamoto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-01-05.

Image processing apparatus, image display system, image processing method, and program

Номер патента: US20220415484A1. Автор: Kenta Yamada. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-12-29.

Image processing apparatus, image processing system, image processing method, and storage medium

Номер патента: US20220050648A1. Автор: Soichiro Katayama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-02-17.

Image processing device, endoscope system, and image processing method

Номер патента: EP3804605A1. Автор: Shumpei KAMON. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-04-14.

VOICE PROCESSING APPARATUS, WEARABLE APPARATUS, MOBILE TERMINAL, AND VOICE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20180108356A1. Автор: NAKADAI Kazuhiro,Mizumoto Takeshi. Владелец: . Дата публикации: 2018-04-19.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, IMAGE PROCESSING SYSTEM, IMAGING APPARATUS, IMAGE PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20200167885A1. Автор: Kimura Yoshinori. Владелец: . Дата публикации: 2020-05-28.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, STEREO CAMERA APPARATUS, VEHICLE, AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20180285660A1. Автор: OHARA Naoto,INOUE Shushin. Владелец: KYOCERA CORPORATION. Дата публикации: 2018-10-04.

Glass rod-shaped body processing apparatus and glass rod-shaped body processing method using the same

Номер патента: JP4593240B2. Автор: 富夫 畔蒜,克之 水田. Владелец: Fujikura Ltd. Дата публикации: 2010-12-08.

Information processing apparatus selecting highlight section from video, information processing method, and program

Номер патента: US20190384988A1. Автор: Tatsuya Yamamoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-12-19.

Bio signal processing apparatus, apparatus and method for living body information detecting

Номер патента: KR20180060724A. Автор: 권의근,윤승근. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2018-06-07.

DATA PROCESSING APPARATUS, NON-TEMPORARY RECORDING MEDIUM, AND DATA PROCESSING METHOD

Номер патента: US20130159844A1. Автор: Tamura Takashi. Владелец: KYOCERA Document Solutions Inc.. Дата публикации: 2013-06-20.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM, AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20130307773A1. Автор: YAGISHITA Takahiro. Владелец: . Дата публикации: 2013-11-21.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, SERVER, INFORMATION PROCESSING SYSTEM AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20140081970A1. Автор: Sueyoshi Masahiro. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2014-03-20.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS EVALUATING SIMILARITY BETWEEN MEDICAL DATA, INFORMATION PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20210020310A1. Автор: Kikuchi Toru. Владелец: . Дата публикации: 2021-01-21.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, NON-TRANSITORY STORAGE MEDIUM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20170052833A1. Автор: Osawa Takaharu. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-23.

Information processing apparatus, medical information management system, and information processing method

Номер патента: US20210065883A1. Автор: Seiji Nomura. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2021-03-04.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20190065098A1. Автор: IMAMURA Satoshi. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2019-02-28.

Image Processing Apparatus That Performs Color Conversion and Image Processing Method

Номер патента: US20140153824A1. Автор: Nishizawa Akira. Владелец: KYOCERA Document Solutions Inc.. Дата публикации: 2014-06-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS FOR IDENTIFYING REGION WITHIN IMAGE, INFORMATION PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20180089835A1. Автор: Honda Kinya. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-29.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, MICROSCOPE SYSTEM, ENDOSCOPE SYSTEM, AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20150119722A1. Автор: KANEKO Yoshioki. Владелец: OLYMPUS CORPORATION. Дата публикации: 2015-04-30.

SUBSTRATE LIQUID PROCESSING APPARATUS, EXHAUST SWITCHING UNIT AND SUBSTRATE LIQUID PROCESSING METHOD

Номер патента: US20160124438A1. Автор: Tsugao Keisuke,Minamida Junya. Владелец: . Дата публикации: 2016-05-05.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, NON-TRANSITORY STORAGE MEDIUM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20210158255A1. Автор: KANEICHI Daiki. Владелец: TOYOTA JIDOSHA KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2021-05-27.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, NONVERBAL INFORMATION CONVERSION SYSTEM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20220301347A1. Автор: TANAKA Satomi. Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2022-09-22.

Image processing apparatus that identifies image area, and image processing method

Номер патента: US20150213611A1. Автор: Xiaoyan Dai. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-07-30.

PROCESSING APPARATUS, RECORDING MEDIUM STORING PROCESSING PROGRAM, AND PROCESSING METHOD

Номер патента: US20140298076A1. Автор: Kanayama Tomoyuki. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2014-10-02.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20190205487A1. Автор: TAMIYA Yutaka. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2019-07-04.

MEDICAL PROCESSING APPARATUS, X-RAY DIAGNOSIS SYSTEM, AND MEDICAL PROCESSING METHOD

Номер патента: US20200205751A1. Автор: Taguchi Hiroki. Владелец: Canon Medical Systems Corporation. Дата публикации: 2020-07-02.

SHEET BINDING PROCESSING APPARATUS, IMAGE FORMING SYSTEM, AND SHEET BINDING PROCESSING METHOD

Номер патента: US20180229531A1. Автор: Kozima Yousuke. Владелец: . Дата публикации: 2018-08-16.

Image processing apparatus, computer-readable recording medium, and image processing method

Номер патента: US20150242726A1. Автор: Shinichi Hatanaka,Norimasa SOHGAWA. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-27.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20170255346A1. Автор: Hatada Koki. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2017-09-07.

Information processing apparatus, computer-readable storage medium, and information processing method

Номер патента: US20170263000A1. Автор: Katsuhiro Wada. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-09-14.

SHEET POST-PROCESSING APPARATUS, IMAGE FORMING SYSTEM AND SHEET POST-PROCESSING METHOD

Номер патента: US20170269534A1. Автор: Yamamoto Mikio. Владелец: . Дата публикации: 2017-09-21.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS THAT CONTROLS STORAGE UNIT AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20190265892A1. Автор: Hikichi Atsushi. Владелец: . Дата публикации: 2019-08-29.

IMAGE PROCESSING APPARATUS FOR ENDOSCOPE, ENDOSCOPE SYSTEM AND IMAGE PROCESSING METHOD FOR ENDOSCOPE

Номер патента: US20140375781A1. Автор: ONO Mitsunobu. Владелец: OLYMPUS CORPORATION. Дата публикации: 2014-12-25.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, NON-TRANSITORY RECORDING MEDIUM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20190286385A1. Автор: MINEGISHI Youichi. Владелец: . Дата публикации: 2019-09-19.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, MACHINING SYSTEM, DATA STRUCTURE, AND DATA PROCESSING METHOD

Номер патента: US20180299867A1. Автор: Hashimoto Tatsuki. Владелец: MURATA MACHINERY, LTD.. Дата публикации: 2018-10-18.

Information processing apparatus selecting highlight section from video, information processing method, and program

Номер патента: US20190384988A1. Автор: Tatsuya Yamamoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-12-19.

Image processing apparatus, in-vehicle camera system, and image processing method

Номер патента: CN111572450A. Автор: 秦野敏信. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-25.

Image processing apparatus, program, information storage medium and image processing method

Номер патента: CN105612249B. Автор: 尾崎良太,织田英人,加藤典司. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-19.

Information processing apparatus including print job retrieval function, information processing method

Номер патента: CN101206558B. Автор: 成川智子. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-08-24.

Information processing apparatus capable of customizing device driver, information processing method, and control program

Номер патента: CN1841307A. Автор: 饭田光则. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-10-04.

Medical Image Processing Apparatus Using Augmented Reality and Medical Image Processing Method Using The Same

Номер патента: KR101977650B1. Автор: 박종현,설동표. Владелец: (주)레벨소프트. Дата публикации: 2019-05-13.

Tag information processing apparatus, tag information processing system, tag information processing method, and program

Номер патента: JP5182564B2. Автор: 直正 岩橋. Владелец: Omron Corp. Дата публикации: 2013-04-17.

Information processing apparatus, device manufacturing processing system, device manufacturing processing method, program

Номер патента: JP5128065B2. Автор: 晋一 沖田. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2013-01-23.

Tag information processing apparatus, tag information processing system, tag information processing method, and program

Номер патента: JP5256793B2. Автор: 直正 岩橋. Владелец: Omron Corp. Дата публикации: 2013-08-07.

Laser processing apparatus having focus measurement function and laser processing method

Номер патента: WO2015016624A1. Автор: 손현기,노지환,강희신. Владелец: 한국기계연구원. Дата публикации: 2015-02-05.

Information processing apparatus, storage medium provided therewith, and information processing method

Номер патента: US20010014869A1. Автор: Katsumi Yoshizawa. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2001-08-16.

Image processing apparatus, evaluation system, recording medium and image processing method

Номер патента: EP3992609B1. Автор: Sho Onozawa,Sohichiro Nakamura,Ryusuke Osaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-04-17.

Signal processing apparatus, control circuit, storage medium, and signal processing method

Номер патента: EP4286809A4. Автор: Yuji Akiyama. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2024-01-10.

Data processing methods, apparatuses and storage media

Номер патента: US20210097296A1. Автор: CHEN CHEN,Xuecheng Wang,Lingfeng PAN. Владелец: Beijing Sensetime Technology Development Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-01.

Task processing method, apparatus, and system

Номер патента: WO2019204572A1. Автор: Jiaguo MIAO. Владелец: Alibaba Group Holding Linited. Дата публикации: 2019-10-24.

Task processing method, apparatus, and system

Номер патента: EP3782098A1. Автор: Jiaguo MIAO. Владелец: Alibaba Group Holding Ltd. Дата публикации: 2021-02-24.

Data processing methods, apparatuses and storage media

Номер патента: US11335098B2. Автор: CHEN CHEN,Xuecheng Wang,Lingfeng PAN. Владелец: Beijing Sensetime Technology Development Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-17.

Task processing method, apparatus, and system

Номер патента: US20190324797A1. Автор: Jiaguo MIAO. Владелец: Alibaba Group Holding Ltd. Дата публикации: 2019-10-24.

ULTRASOUND DIAGNOSTIC APPARATUS AND ULTRASOUND DIAGNOSTIC IMAGE DATA PROCESSING METHOD

Номер патента: US20150080733A1. Автор: YAMAMOTO Hiroaki. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2015-03-19.

X-ray ct apparatus and x-ray ct image processing method

Номер патента: US20150190106A1. Автор: Shinichi Kojima,Keisuke Yamakawa. Владелец: Hitachi Medical Corp. Дата публикации: 2015-07-09.

Magnetic resonance imaging apparatus and magnetic resonance imaging data processing method

Номер патента: US7358728B2. Автор: Seiji Nozaki,Yoshimori Kassai. Владелец: Toshiba Medical Systems Corp. Дата публикации: 2008-04-15.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: EP1282908A2. Автор: Michael Lee Fraim,Rick B. Spielman,Robert R. Schiewe. Владелец: Essox Research and Development Inc. Дата публикации: 2003-02-12.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: CA2409747A1. Автор: Michael Lee Fraim,Rick B. Spielman,Robert R. Schiewe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-15.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: CA3212927A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2022-10-06.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: AU2022252181A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2023-10-05.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: WO2022212192A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc.. Дата публикации: 2022-10-06.

METHODS AND APPARATUS FOR RADIO FREQUENCY (RF) PLASMA PROCESSING

Номер патента: US20120000888A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

MOVABLE GROUND RING FOR A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120003836A1. Автор: . Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

C-SHAPED CONFINEMENT RING FOR A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120000608A1. Автор: Dhindsa Rajinder,Kellogg Michael C.,Marakhtanov Alexei. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Method for manufacturing component in plasma processing apparatus and component in plasma processing apparatus

Номер патента: JP4113406B2. Автор: 崇明 根津. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-07-09.

Apparatus and method for plasma processing

Номер патента: AU2002329753A1. Автор: Eric J. Strang. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2003-03-18.

Plasma processing apparatus, method thereof and plasma product

Номер патента: JP2002134436A. Автор: Taketo Tanimoto,健人 谷本. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-05-10.

GAS EXHAUST STRUCTURE, AND APPARATUS AND METHOD FOR PLASMA PROCESSING

Номер патента: US20120132619A1. Автор: . Владелец: MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2012-05-31.

Substrate processing apparatus, focus ring heating method, and substrate processing method

Номер патента: JP4792381B2. Автор: 大輔 林,一也 永関. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-10-12.

Information Processing Apparatus Performing Various Bit Operation and Information Processing Method Thereof

Номер патента: US20120047355A1. Автор: Okada Ryohei,Iwata Eiji. Владелец: . Дата публикации: 2012-02-23.

Video processing apparatus, display device, television receiver, and video processing method

Номер патента: JP2014175793A. Автор: 欣也 藤本,Kinya Fujimoto. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2014-09-22.

Information processing apparatus, information processing system, program, and information processing method

Номер патента: JP6281249B2. Автор: 律子 田中,芳孝 向山. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2018-02-21.

Information processing apparatus, storage device used therefor, and information processing method

Номер патента: JP5049431B2. Автор: 智 岡田,隆二 梅津,高伸 中島. Владелец: Nintendo Co Ltd. Дата публикации: 2012-10-17.

Ruled line processing apparatus, corrugated cardboard box, and ruled line processing method

Номер патента: JP2023086156A. Автор: Yoshiro Ito,善郎 伊藤. Владелец: Oji Holdings Corp. Дата публикации: 2023-06-22.

MEDICAL IMAGE DIAGNOSTIC APPARATUS AND MEDICAL IMAGE CONTOUR EXTRACTION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120281895A1. Автор: Chono Tomoaki,Kashiyama Takahiro. Владелец: HITACHI MEDICAL CORPORATION. Дата публикации: 2012-11-08.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120000886A1. Автор: NISHINO Masaru,HONDA Masanobu,Kubota Kazuhiro,Ooya Yoshinobu. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

Microwave Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120000610A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120000774A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MASS FLOW CONTROL SYSTEM, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND FLOW CONTROL METHOD

Номер патента: US20120000607A1. Автор: ETO Hideo,Ito Atsushi. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120000629A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE STAGE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120000612A1. Автор: Muraki Yusuke,ODAGIRI Masaya,FUJIHARA Jin. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE SUPPORT TABLE OF PLASMA PROCESSING DEVICE

Номер патента: US20120002345A1. Автор: . Владелец: MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

A multi-electrode source assembly for plasma processing

Номер патента: WO2024226135A1. Автор: James Rogers,Rajinder Dhindsa,Linying CUI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-31.

Polishing method, polishing apparatus and GaN wafer

Номер патента: US20120001193A1. Автор: YAMAUCHI Kazuto,Sano Yasuhisa,MURATA Junji,YAGI Keita,Sadakuni Shun. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE TRANSFER METHOD ADOPTED IN SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120004753A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120002071A1. Автор: Nishiyama Tomohiro. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

SIGNAL PROCESSING SYSTEM AND SIGNAL PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002827A1. Автор: . Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002900A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

Ultrasonic diagnosis apparatus and ultrasonic diagnosis method

Номер патента: US20120004551A1. Автор: KATSUYAMA Kimito. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING METHOD, AND PROGRAM

Номер патента: US20120001733A1. Автор: Kousaka Satoshi,Abeno Takashi. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120001937A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, METHOD, AND PROGRAM THAT CLASSIFIES DATA OF IMAGES

Номер патента: US20120002878A1. Автор: . Владелец: CASIO COMPUTER CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.