Systems and methods for electrical and magnetic uniformity and skew tuning in plasma processing reactors
Номер патента: WO2016014442A1
Опубликовано: 28-01-2016
Автор(ы): Chunlei Zhang, Fernando M. SILVEIRA, HAITAO Wang, Jie Zhou, S. M. Reza Sadjadi, Tza-Jing Gung
Принадлежит: Applied Materials, Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 28-01-2016
Автор(ы): Chunlei Zhang, Fernando M. SILVEIRA, HAITAO Wang, Jie Zhou, S. M. Reza Sadjadi, Tza-Jing Gung
Принадлежит: Applied Materials, Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Workpiece holder, system, and operating method for pecvd
Номер патента: US20230349044A1. Автор: Jens-Uwe FUCHS,Ralf Reize,Mirko Tröller,Roland Leichtle. Владелец: Centrotherm International AG. Дата публикации: 2023-11-02.