Method of manufacturing electrode plate for plasma processing device and electrode plate for plasma processing device
Номер патента: WO2021192481A1
Опубликовано: 30-09-2021
Автор(ы): 東 浩司
Принадлежит: 三菱マテリアル株式会社
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 30-09-2021
Автор(ы): 東 浩司
Принадлежит: 三菱マテリアル株式会社
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of manufacturing electrode plate for plasma processing device and electrode plate for plasma processing device
Номер патента: US20230077433A1. Автор: Koji Higashi. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2023-03-16.