Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

Filament power conpensation for magnetron

Номер патента: US4835353A
Опубликовано: 30-05-1989
Автор(ы): Flavian Reising, Jr., Peter H. Smith, deceased, Thomas R. Payne
Принадлежит: General Electric Co
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Filament power compensation for magnetron

Номер патента: CA1311805C. Автор: Peter Harold Smith,Thomas Roy Payne,Flavian Reising, Jr.. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1992-12-22.

High frequency heating apparatus using power supply of switching type for magnetron

Номер патента: EP0493604A1. Автор: Naoyoshi 385-75 Tawaramotocho Yao Maehara,Daisuke 15-308 Heijyo Daiichidanchi Bessyo,Yuji 393 Matsukasacho Nakabayashi,Takahiro 8-9 Awa 3-Chome Matsumoto. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1992-07-08.

Power control circuit for magnetron

Номер патента: CA1241702A. Автор: Peter H. Smith. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1988-09-06.

Power supply source for magnetron

Номер патента: RU2572086C2. Автор: Лидстром ЧЕЛЛЬ. Владелец: Сиравижэн Лимитед. Дата публикации: 2015-12-27.

Power supply means for magnetron

Номер патента: US4005370A. Автор: Noboru Kurata,Shigeru Kusunoki,Teruhisa Takano,Hirofumi Yoshimura. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1977-01-25.

Power supply unit for magnetron including noise reduction circuit

Номер патента: KR101533632B1. Автор: 최재구,최영욱,김관호. Владелец: 한국전기연구원. Дата публикации: 2015-07-06.

Power supply means for magnetron

Номер патента: AU496806B2. Автор: Teruhisa Takano Hirofumi Yoshimura Noboru Kurata Shigeru Kusunoki. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1978-11-02.

Relay control circuit for magnetron control of electronic range

Номер патента: KR930004882Y1. Автор: 황인영. Владелец: 이헌조. Дата публикации: 1993-07-23.

Power supply unit for magnetron including correction circuit

Номер патента: KR101520251B1. Автор: 최재구,최영욱,김관호,전석기. Владелец: 한국전기연구원. Дата публикации: 2015-05-15.

Adaptive Preheating and Filament Current Control for Magnetron Power Supply

Номер патента: US20190281669A1. Автор: Pacheco Jorge. Владелец: . Дата публикации: 2019-09-12.

Cooling device for magnetron and high voltage transformer

Номер патента: KR0145023B1. Автор: 박의순. Владелец: 대우전자주식회사. Дата публикации: 1998-10-01.

Adaptive preheating and filament current control for magnetron power supply

Номер патента: US11277889B2. Автор: Jorge Pacheco. Владелец: Koninkiijke Fabriek Inventum BV. Дата публикации: 2022-03-15.

METHOD AND DEVICE FOR POWERING UP A SUPPLY CIRCUIT FOR MAGNETRON AND CIRCUIT PROVIDED WITH SUCH A DEVICE

Номер патента: FR2557360A1. Автор: Jean-Claude Geay,Laurent Didier. Владелец: Esswein Sa. Дата публикации: 1985-06-28.

METHOD AND DEVICE FOR POWERING UP A SUPPLY CIRCUIT FOR MAGNETRON AND CIRCUIT PROVIDED WITH SUCH A DEVICE

Номер патента: FR2557360B1. Автор: Jean-Claude Geay,Laurent Didier. Владелец: Esswein Sa. Дата публикации: 1986-10-24.

ELECTRICAL SUPPLY FOR MAGNETRON HEATING FILAMENT

Номер патента: FR2579822B1. Автор: Robert Longmuir Sinclair. Владелец: Ferranti PLC. Дата публикации: 1989-04-28.

Temperature measuring device for magnetron for electronic oven

Номер патента: JPH10260081A. Автор: Charles Denis,Jean-Claude Derobert,ジヤン−クロード デロベル,シヤルル デニ. Владелец: Moulinex SA. Дата публикации: 1998-09-29.

Power supply apparatus for magnetron driving

Номер патента: EP0513842B1. Автор: Lee Kyong-Keun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1996-11-20.

Leakage prevention device for magnetron

Номер патента: KR950002860Y1. Автор: 이종수. Владелец: 이헌조. Дата публикации: 1995-04-15.

High-friquency leakage interference device for magnetron

Номер патента: KR950000309Y1. Автор: 이종수. Владелец: 이헌조. Дата публикации: 1995-01-16.

Cooling apparatus for magnetron

Номер патента: KR930009236B1. Автор: 강성택. Владелец: 이헌조. Дата публикации: 1993-09-24.

Bracket structure for magnetron mounting in microwave oven

Номер патента: KR20070066346A. Автор: 배금랑. Владелец: 주식회사 대우일렉트로닉스. Дата публикации: 2007-06-27.

Mounting device for magnetron for microwave oven

Номер патента: DE69826212D1. Автор: Dong-Wan Seo,Jong-Soo Kang. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2004-10-21.

Filament power supply for electron accelerator and electron accelerator

Номер патента: CA3060468C. Автор: Wei Jia,Wei Li,Yaohong Liu,Jinsheng Liu,Xinshui Yan. Владелец: Nuctech Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Filament power supply for electron accelerator and electron accelerator

Номер патента: CA3060468A1. Автор: Wei Jia,Wei Li,Yaohong Liu,Jinsheng Liu,Xinshui Yan. Владелец: Nuctech Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-29.

Magnetic-field-generating apparatus for magnetron sputtering

Номер патента: US09580797B2. Автор: Masahiro Mita,Yoshihiko Kuriyama. Владелец: Hitachi Metals Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Filament power supply circuit for vacuum fluorescent display tube

Номер патента: CN101561995B. Автор: 芝田和久,诸冈直之,秋山瑞季,小滨徹. Владелец: Noritake Itron Corp. Дата публикации: 2011-12-14.

Filament power supply circuit for vacuum fluorescent display

Номер патента: TW200949785A. Автор: Toru Kohama,Naoyuki Morooka,Kazuhisa Shibata,Mizuki Akiyama. Владелец: Noritake Itron Corp. Дата публикации: 2009-12-01.

Microwave generator for magnetron

Номер патента: KR200363694Y1. Автор: 임현길. Владелец: 임현길. Дата публикации: 2004-10-06.

POWER SOURCE FOR MAGNETRON

Номер патента: FR2324116A1. Автор: Hiroshi Fujieda,Naoyoshi Maehara,Tatsuo Saka. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1977-04-08.

Power supplier for magnetron

Номер патента: AU1769476A. Автор: HIROSHI FUJIEDA and TATSUO SAKA NAOYOSHI MAEHARA. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1978-03-23.

Power supply unit for magnetron

Номер патента: KR101478800B1. Автор: 최재구,최영욱,김관호. Владелец: 한국전기연구원. Дата публикации: 2015-01-06.

Capacitor for magnetron of a microwave oven

Номер патента: EP1517343A1. Автор: Won-Pyo Hong. Владелец: Daewoo Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2005-03-23.

Acousto optical modulation with conpensation for variations in incident light

Номер патента: GB2022856B. Автор: . Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1982-05-12.

Cathode unit for magnetron sputtering device, and magnetron sputtering device

Номер патента: WO2022158034A1. Автор: 辰徳 磯部,僚也 北沢,弘敏 阪上. Владелец: 株式会社アルバック. Дата публикации: 2022-07-28.

Cathode unit for magnetron sputtering device and magnetron sputtering device

Номер патента: KR20230038770A. Автор: 마코토 아라이,토시야 아오야기,사토루 타카사와. Владелец: 가부시키가이샤 알박. Дата публикации: 2023-03-21.

FILAMENT POWER SUPPLY FOR ELECTRON ACCELERATOR AND ELECTRON ACCELERATOR

Номер патента: US20200137868A1. Автор: Li Wei,Liu Yaohong,Jia Wei,Liu Jinsheng,YAN Xinshui. Владелец: . Дата публикации: 2020-04-30.

Control circuit and the controlling method for filament power supply of rf electron accelerator

Номер патента: KR101452935B1. Автор: 김민석,이병철,이병노,박형달,차형기. Владелец: 한국원자력연구원. Дата публикации: 2014-10-22.

Filament power supply for electron accelerator and electron accelerator

Номер патента: EP3648327B1. Автор: Wei Jia,Wei Li,Yaohong Liu,Jinsheng Liu,Xinshui Yan. Владелец: Nuctech Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-25.

Magnetic field generation device for magnetron sputtering

Номер патента: CN103328683B. Автор: 三田正裕,栗山义彦. Владелец: Hitachi Metals Ltd. Дата публикации: 2015-04-15.

Frequency control apparatus and method for magnetron in rf electron accelerator

Номер патента: KR101588690B1. Автор: 김민석,이병철,이병노,박형달,차형기. Владелец: 한국원자력연구원. Дата публикации: 2016-01-28.

Magnetic field generator for magnetron plasma

Номер патента: EP1369898A2. Автор: Koji Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. MIYATA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2003-12-10.

Magnetic field generation device for magnetron sputtering

Номер патента: WO2012102092A1. Автор: 正裕 三田,栗山　義彦. Владелец: 日立金属株式会社. Дата публикации: 2012-08-02.

Microwave generator apparatus comprising controller for automatically adjusting filament power of a magnetron

Номер патента: US5721470A. Автор: Noboru Kuriyama,Yoshiki Fukumoto,Hiroaki Oichi. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 1998-02-24.

Tube filament power supply

Номер патента: US3826989A. Автор: E Keith. Владелец: Magnavox Co. Дата публикации: 1974-07-30.

System for Generating Low-frequerncy Electron Tube Filament Power Supply

Номер патента: DK181094B1. Автор: Espen Vangsy Tommy. Владелец: Espen Vangsy Tommy. Дата публикации: 2022-12-12.

System for Generating Low-frequerncy Electron Tube Filament Power Supply

Номер патента: DK202101274A1. Автор: Espen Vangsy Tommy. Владелец: Espen Vangsy Tommy. Дата публикации: 2022-12-12.

Dynamic uniformity control for magnetron sputtering processes

Номер патента: WO2024188564A1. Автор: Wilmert De Bosscher,Ivan Van De Putte. Владелец: Soleras Advanced Coatings Bv. Дата публикации: 2024-09-19.

External cooling system for magnetron sputtering systems

Номер патента: WO2024136802A1. Автор: Mustafa Tolga YURTCAN. Владелец: Atatürk Üni̇versi̇tesi̇ Fi̇kri̇ Mülki̇yet Haklari Koordi̇natörlüğü Döner Sermaye İşletmesi̇. Дата публикации: 2024-06-27.

Ferrite mode suppressor for magnetrons

Номер патента: US3636403A. Автор: Robert E Edwards,John M Oscpchuk. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 1972-01-18.

Racetrack-shaped magnetic-field-generating apparatus for magnetron sputtering

Номер патента: US09378934B2. Автор: Yoshihiko Kuriyama. Владелец: Hitachi Metals Ltd. Дата публикации: 2016-06-28.

Target for magnetron sputtering

Номер патента: US20150211109A1. Автор: Yasuyuki Goto,Yasunobu Watanabe,Yusuke Kobayashi. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2015-07-30.

Manufacturing method for target for magnetron sputtering

Номер патента: US20150214017A1. Автор: Yasuyuki Goto,Yasunobu Watanabe,Yusuke Kobayashi. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2015-07-30.

Target for magnetron sputtering

Номер патента: US09435024B2. Автор: Yasuyuki Goto,Yasunobu Watanabe,Yusuke Kobayashi. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2016-09-06.

Method and apparatus for magnetron sputtering

Номер патента: EP1273028A2. Автор: Konstantin K. Tzatzov,Alexander S. Gorodetsky. Владелец: Surface Engineered Products Corp. Дата публикации: 2003-01-08.

Cathode for magnetron

Номер патента: US4686413A. Автор: Yoshihiko Sato,Nobuaki Yamamoto. Владелец: New Japan Radio Co Ltd. Дата публикации: 1987-08-11.

Method for manufacturing cathodes for magnetron sputtering installations made of refractory metals

Номер патента: RU2763719C1. Автор: Алексей Аркадьевич Фёдоров,Сергей Валерьевич Петроченко,Николай Владимирович Бобков,Юлия Олеговна Бредгауэр,Антон Сергеевич Демин,Денис Андреевич Полонянкин,Александр Иосифович Блесман. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Омский государственный технический университет"(ОмГТУ). Дата публикации: 2021-12-30.

Method of producing silicon targets for magnetron sputtering

Номер патента: RU2631372C1. Автор: Дмитрий Николаевич Борисенко,Сергей Константинович Брантов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики твердого тела Российской академии наук (ИФТТ РАН). Дата публикации: 2017-09-21.

Methods of and apparatus for magnetron sputtering

Номер патента: US20210050193A1. Автор: Hartmut Rohrmann,Martin BLESS,Claudiu Valentin FALUB. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2021-02-18.

Asymmetric rotating sidewall magnet ring for magnetron sputtering

Номер патента: US20040020768A1. Автор: Wei Wang,Praburam Gopalraja. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-02-05.

Rotation plus vibration magnet for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US09574265B2. Автор: Chung-En Kao,You-Hua Chou,Ming-Chih Tsai,Bo-Hung Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Electronic configuration for magnetron sputter deposition systems

Номер патента: EP2811509A1. Автор: Wilmert De Bosscher. Владелец: Soleras Advanced Coatings Bv. Дата публикации: 2014-12-10.

Cathode unit for magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US12112929B2. Автор: Koji Suzuki,Katsuya Hara,Hideto Nagashima,Hideki Mataga. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-10-08.

Power supply for magnetron in microwave oven or the like

Номер патента: US3651371A. Автор: Egbert M Tingley. Владелец: Roper Corp. Дата публикации: 1972-03-21.

Anode structure for magnetron sputtering systems

Номер патента: CA2123479C. Автор: Stephen C. Schulz,Russell J. Hill,Peter A. Sieck,John L. Vossen. Владелец: Boc Group Inc. Дата публикации: 1999-07-06.

Anode structure for magnetron sputtering systems

Номер патента: US5487821A. Автор: Stephen C. Schulz,Russell J. Hill,Peter A. Sieck,John L. Vossen. Владелец: Boc Group Inc. Дата публикации: 1996-01-30.

Methods of and apparatus for magnetron sputtering

Номер патента: US11848179B2. Автор: Hartmut Rohrmann,Martin BLESS,Claudiu Valentin FALUB. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2023-12-19.

Apparatus and method for magnetron in-situ cleaning of plasma reaction chamber

Номер патента: WO1996009641A1. Автор: Larry D. Hartsough,Dean R. Denison,Paul K. Shufflebotham. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1996-03-28.

Improvements in or relating to indirectly heated cathode structures for magnetrons

Номер патента: GB783294A. Автор: Alan Hugh Pickering,Maurice Esterson,Archie Watson Crook,Arthur James Young. Владелец: English Electric Valve Co Ltd. Дата публикации: 1957-09-18.

Rotation plus vibration magnet for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US20150307985A1. Автор: Chung-En Kao,You-Hua Chou,Ming-Chih Tsai,Bo-Hung Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-10-29.

Connection of high-performance pulse discharge plasma generator, especially for magnetron sputtering

Номер патента: US12051578B2. Автор: Jan Sykora,Roman Sykora,Lubomir Caplovic,Jana Bohovicova,Marcel Mesko. Владелец: Slovenka Technicka Univerzita V Bratilasve. Дата публикации: 2024-07-30.

Target made of magnetic material for magnetron sputtering

Номер патента: EP4450675A1. Автор: Pāvels NAZAROVS,Vladimirs LENCEVSKIS,Valery Mitin,Vladimirs Kovalenko. Владелец: Naco Technologies Sia. Дата публикации: 2024-10-23.

Method and apparatus for magnetron sputtering

Номер патента: US4824540A. Автор: Robley V. Stuart. Владелец: Individual. Дата публикации: 1989-04-25.

For magnetron magnetic field generation equipment, using new magnetron replace magnetic control part old magnetron method and magnetic control part

Номер патента: CN105706211B. Автор: 马库斯·里奇曼,克劳斯·J·米格. Владелец: Pastoral Ltd By Share Ltd. Дата публикации: 2018-04-27.

Improvements in or relating to magnet systems for magnetrons

Номер патента: GB826822A. Автор: . Владелец: Philips Electrical Industries Ltd. Дата публикации: 1960-01-20.

Filament power supply circuit for tube testers

Номер патента: US3230417A. Автор: Jr Elmer A Taylor. Владелец: Heath Co. Дата публикации: 1966-01-18.

Improvements in and relating to anode structures for magnetrons

Номер патента: GB642703A. Автор: . Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1950-09-13.

Magnet structure body and cathode unit for magnetron sputtering apparatus and the magnetron sputtering apparatus

Номер патента: TW200724703A. Автор: Takahiko Kondo,Nobuo Yoneyama,Takanobu Hori,Yasukuni Iwasaki. Владелец: Shinmaywa Ind Ltd. Дата публикации: 2007-07-01.

End hat for magnetron, process for producing same, and magnetron

Номер патента: WO2012008580A1. Автор: 勉 森岡,斉 青山. Владелец: 東芝マテリアル株式会社. Дата публикации: 2012-01-19.

Anode structures for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US5106474A. Автор: Eric R. Dickey,Erik J. Bjornard,James J. Hoffmann. Владелец: Viratec Thin Films Inc. Дата публикации: 1992-04-21.

Cathode unit for magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US20230138552A1. Автор: Koji Suzuki,Katsuya Hara,Hideto Nagashima,Hideki Mataga. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2023-05-04.

End hat for magnetron, process for producing same, and magnetron

Номер патента: CN103003909A. Автор: 森冈勉,青山齐. Владелец: Toshiba Materials Co Ltd. Дата публикации: 2013-03-27.

Radiating subassembly for magnetron and the magnetron with it

Номер патента: CN108389765A. Автор: 陈文�. Владелец: Guangdong Witol Vacuum Electronic Manufacture Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-10.

Magnet structure for magnetron sputtering system, cathode electrode unit and magnetron sputtering system

Номер патента: CN101300372A. Автор: 堀崇展,米山信夫,近藤隆彦,岩崎安邦. Владелец: Shinmaywa Industries Ltd. Дата публикации: 2008-11-05.

Method for magnetron sputtering

Номер патента: EP1070767B1. Автор: Takayuki Suzuki,Hitoshi Nishio. Владелец: Kaneka Corp. Дата публикации: 2007-08-22.

SUPPORTING MEMBER FOR MAGNETRON SPUTTERING ANODE BAR AND MAGNETRON SPUTTERING DEVICE INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20150122643A1. Автор: Xie Jinping. Владелец: . Дата публикации: 2015-05-07.

End hat for magnetron, process for producing same, and magnetron

Номер патента: KR101368145B1. Автор: 츠토무 모리오카,히토시 아오야마. Владелец: 도시바 마테리알 가부시키가이샤. Дата публикации: 2014-02-27.

Cathode structure for magnetrons

Номер патента: GB783836A. Автор: . Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1957-10-02.

Supporting Member for Magnetron Sputtering Anode Bar and Magnetron Sputtering Device Including the Same

Номер патента: GB2539326B. Автор: Xie Jinping. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-03.

Method of magnetron sputtering and apparatus for magnetron sputtering

Номер патента: RU2378415C2. Автор: Ацуси ОТА,Синитиро ТАГУТИ,Исао СУГИУРА,Нориаки ТАНИ,Макото АРАИ,Дзуниа КИЙОТА. Владелец: Улвак, Инк.. Дата публикации: 2010-01-10.

Magnet structure for magnetron sputtering and cathode electrode unit and magnetron sputtering equipment

Номер патента: EP1930466A4. Автор: Takahiko Kondo,Nobuo Yoneyama,Yasukuni Iwasaki,Takahiko Hori. Владелец: Shinmaywa Industries Ltd. Дата публикации: 2010-03-31.

Magnet unit for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US11239064B2. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2022-02-01.

High-voltage floating high-frequency direct-current filament power supply

Номер патента: CN113839559A. Автор: 张辰,邓永峰,印长豹,何柱,芮庆. Владелец: Anhui Mingbian Electronic Technology Co ltd. Дата публикации: 2021-12-24.

Indirect heater for magnetron

Номер патента: US2927241A. Автор: Ernest C Okress. Владелец: Individual. Дата публикации: 1960-03-01.

Switching circuit for magnetron beam switching tube

Номер патента: US2884560A. Автор: Moss Hilary. Владелец: Burroughs Corp. Дата публикации: 1959-04-28.

Target for magnetron sputtering and manufacturing method therefor

Номер патента: SG11201502542XA. Автор: Yasuyuki Goto,Yasunobu Watanabe,Yusuke Kobayashi. Владелец: Tanaka Precious Metal Ind. Дата публикации: 2015-05-28.

Method for magnetron strap mounting

Номер патента: US2845576A. Автор: Ernest C Okress. Владелец: Individual. Дата публикации: 1958-07-29.

Rotary cathodes for magnetron sputtering system

Номер патента: EP2739763A4. Автор: Daniel Theodore CROWLEY,Michelle Lynn Neal. Владелец: Sputtering Components Inc. Дата публикации: 2015-07-22.

Bushing for magnetron

Номер патента: US2822497A. Автор: Albert D Larue. Владелец: Individual. Дата публикации: 1958-02-04.

Mechanical tuning for magnetrons

Номер патента: US2805362A. Автор: Kline Jack. Владелец: Raytheon Manufacturing Co. Дата публикации: 1957-09-03.

Racetrack-shaped magnetic-field-generating apparatus for magnetron sputtering

Номер патента: US20140085024A1. Автор: Yoshihiko Kuriyama. Владелец: Hitachi Metals Ltd. Дата публикации: 2014-03-27.

METHODS OF AND APPARATUS FOR MAGNETRON SPUTTERING

Номер патента: US20210050193A1. Автор: Rohrmann Hartmut,Bless Martin,Falub Claudiu Valentin. Владелец: . Дата публикации: 2021-02-18.

Systems and methods for magnetron deposition

Номер патента: US8308915B2. Автор: Makoto Nagashima. Владелец: 4D S Pty Ltd. Дата публикации: 2012-11-13.

Tuning device for magnetron

Номер патента: FR1082808A. Автор: Paul W Cbaruchettes. Владелец: International Standard Electric Corp. Дата публикации: 1955-01-03.

Magnet arrangement with variable magnetic field - useful for magnetron sputtering unit

Номер патента: DE4102102A1. Автор: Thomas Gebele. Владелец: Leybold AG. Дата публикации: 1992-08-06.

End hat parts for magnetron and manufacturing method thereof

Номер патента: KR980011615A. Автор: 야스유키 이노세,도시유키 마츠자키,마츠오 가와이. Владелец: 원본미기재. Дата публикации: 1998-04-30.

Target for magnetron sputtering

Номер патента: JP6490589B2. Автор: 康之 後藤,後藤　康之,優輔 小林,恭伸 渡邉. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2019-03-27.

Magnet unit and sputtering apparatus for magnetron sputtering electrode

Номер патента: JP5386329B2. Автор: 辰徳 磯部,淳也 清田,新井　　真,善勝 佐藤,重光 佐藤,敬臣 倉田. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2014-01-15.

Magnetic field generator for magnetron plasma, and plasma etching apparatus and method comprising the magnetic field generator

Номер патента: AU2001280200A1. Автор: Kazuhiro Kubota,Koji Miyata,Jun Hirose,Shigeki Tozawa,Yuki Chiba,Akira Kodashima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2002-03-22.

Magnetic field generator for magnetron plasma

Номер патента: JP5306425B2. Автор: 浩二 宮田,茂樹 戸澤,祐毅 千葉,和宏 久保田,潤 広瀬,章 小田島. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-10-02.

Methods of and apparatus for magnetron sputtering

Номер патента: EP3753039B1. Автор: Hartmut Rohrmann,Valentin FALUB CLAUDIU,Martin BLESS. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2023-09-27.

Gas Configuration for Magnetron Deposition Systems

Номер патента: US20170076922A1. Автор: Wilmert De Bosscher. Владелец: Soleras Advanced Coatings Bv. Дата публикации: 2017-03-16.

MANUFACTURING METHOD FOR TARGET FOR MAGNETRON SPUTTERING

Номер патента: US20150214017A1. Автор: Goto Yasuyuki,Kobayashi Yusuke,WATANABE Yasunobu. Владелец: . Дата публикации: 2015-07-30.

Magnet Unit for Magnetron Sputtering Apparatus

Номер патента: US20210249241A1. Автор: Fujii Yoshinori,Nakamura Shinya. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2021-08-12.

TARGET FOR MAGNETRON SPUTTERING

Номер патента: US20160276143A1. Автор: Goto Yasuyuki,Kobayashi Yusuke,WATANABE Yasunobu. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-22.

Rotation plus vibration magnet for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US20150307985A1. Автор: Chung-En Kao,You-Hua Chou,Ming-Chih Tsai,Bo-Hung Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-10-29.

MAGNETIC-FIELD-GENERATING APPARATUS FOR MAGNETRON SPUTTERING

Номер патента: US20150340211A1. Автор: Kuriyama Yoshihiko. Владелец: HITACHI METALS, LTD.. Дата публикации: 2015-11-26.

Pulsed power module with pulse and ion flux control for magnetron sputtering

Номер патента: US20180358213A1. Автор: David N. Ruzic,Robert Andrew Stubbers,Brian Edward Jurczyk. Владелец: Starfire Industries LLC. Дата публикации: 2018-12-13.

METHODS AND APPARATUS FOR MAGNETRON ASSEMBLIES IN SEMICONDUCTOR PROCESS CHAMBERS

Номер патента: US20190378699A1. Автор: Wang Wei,Wang Xiaodong,Wang Rongjun. Владелец: . Дата публикации: 2019-12-12.

Rotary cathode unit for magnetron sputtering apparatuses

Номер патента: KR20200066377A. Автор: 슈우지 사이토. Владелец: 가부시키가이샤 알박. Дата публикации: 2020-06-09.

End hat for magnetron

Номер патента: JPS5832339A. Автор: Ryunosuke Furuyama,古山　龍之助. Владелец: Toho Kinzoku Co Ltd. Дата публикации: 1983-02-25.

Method and apparatus for magnetron sputtering

Номер патента: KR102337791B1. Автор: 존 디. 부쉬. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2021-12-08.

Cylindrical target with oscillating magnet for magnetron sputtering

Номер патента: US7993496B2. Автор: Klaus Hartig,John E. Madocks,Steve E. Smith. Владелец: General Plasma Inc. Дата публикации: 2011-08-09.

Movable magnet array for magnetron sputtering

Номер патента: WO2021183729A1. Автор: Mark George,Michael G. Simmons,Joshua D. MISEK. Владелец: Intellivation Llc. Дата публикации: 2021-09-16.

Magnetic field generator for magnetron sputtering

Номер патента: JP6607251B2. Автор: 義彦 栗山. Владелец: Hitachi Metals Ltd. Дата публикации: 2019-11-20.

Magnetic field generator for magnetron sputtering

Номер патента: JPWO2016148058A1. Автор: 義彦 栗山,栗山　義彦. Владелец: Hitachi Metals Ltd. Дата публикации: 2018-01-11.

Pulsed power module with pulse and ion flux control for magnetron sputtering

Номер патента: US20210343513A1. Автор: David N. Ruzic,Robert Andrew Stubbers,Brian Edward Jurczyk. Владелец: Starfire Industries LLC. Дата публикации: 2021-11-04.

Constant current power supply circuit for magnetron

Номер патента: JPS5330758A. Автор: Hiroshi Sakurada,Toshihiko Tojo. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1978-03-23.

Cooling apparatus for magnetron and plasma lighting apparatus with that

Номер патента: KR100451231B1. Автор: 이용수. Владелец: 엘지전자 주식회사. Дата публикации: 2004-10-02.

Tuning mechanism for magnetrons

Номер патента: FR1492677A. Автор: . Владелец: SFD LAB. Дата публикации: 1967-08-18.

F-ceramic of cathode for magnetron

Номер патента: KR940008587Y1. Автор: 장용기. Владелец: 이헌조. Дата публикации: 1994-12-23.

Capacitor for magnetron

Номер патента: KR960014523B1. Автор: 김진태. Владелец: 배순훈. Дата публикации: 1996-10-16.

Improvements in frequency variation devices for magnetron

Номер патента: FR1038197A. Автор: . Владелец: Societe Francaise Radio Electrique. Дата публикации: 1953-09-25.

Method and device for magnetron sputtering

Номер патента: AU7381594A. Автор: Stanislav Kadlec,Jindrich Musil,Antonin Rajsky. Владелец: Institute of Physics Czech Academy of Sciences. Дата публикации: 1995-02-28.

Cold cathode for magnetron

Номер патента: FR1306999A. Автор: . Владелец: CIE FRANCAISE DE MICRO ONDES. Дата публикации: 1962-10-19.

Method for magnetron sputtering

Номер патента: WO2004038756A2. Автор: Patrick Lefevre,Guy Clavareau. Владелец: Alloys For Technical Applications S.A.. Дата публикации: 2004-05-06.

Target for magnetron type sputtering

Номер патента: JPS6039158A. Автор: Hisaharu Obinata,Shozo Yamazaki,小日向　久治,山崎　昭造. Владелец: Nihon Shinku Gijutsu KK. Дата публикации: 1985-02-28.

Output unit structure for magnetron

Номер патента: KR100446973B1. Автор: 김민호. Владелец: 주식회사 엘지이아이. Дата публикации: 2004-09-01.

Cathode for magnetron

Номер патента: GB2172426B. Автор: Yoshihiko Sato,Nobuaki Yamamoto. Владелец: New Japan Radio Co Ltd. Дата публикации: 1989-06-14.

High voltage condenser for magnetron

Номер патента: KR100591309B1. Автор: 이용수,이종수. Владелец: 엘지전자 주식회사. Дата публикации: 2006-06-19.

Cathode for magnetron

Номер патента: US6420821B1. Автор: Yukio Torikai,Toshihiko Yamashita,Hideyuki Obata,Kiyoshi Kishiki. Владелец: New Japan Radio Co Ltd. Дата публикации: 2002-07-16.

A-seal brazing structure for magnetron

Номер патента: KR100480101B1. Автор: 문현록. Владелец: 엘지전자 주식회사. Дата публикации: 2005-04-06.

Cylindrical cathode, reserve type, in particular for magnetrons

Номер патента: FR1073995A. Автор: . Владелец: Philips Gloeilampenfabrieken NV. Дата публикации: 1954-09-30.

Magnetic circuit device for magnetron sputtering and its manufacturing method

Номер патента: CN101107381A. Автор: 栗山义彦,汤浅宏昭. Владелец: Xinwang Magnetic Mechanic Co Ltd. Дата публикации: 2008-01-16.

Target for magnetron sputtering

Номер патента: JPS59232271A. Автор: Keiji Harada,Takeo Ozawa,啓二 原田,小沢　丈夫. Владелец: Nippon Electric Co Ltd. Дата публикации: 1984-12-27.

Apparatus and method for magnetron-enhanced plasma-assisted chemical vapor deposition

Номер патента: US4668365A. Автор: ROBERT Foster,Sasson Somekh,Dan Maydan,David N. Wang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1987-05-26.

Magnetic field generating device for magnetron plasma

Номер патента: JPH11329788A. Автор: Koji Miyata,浩二 宮田. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1999-11-30.

Circuit organization for magnetrons

Номер патента: US2270160A. Автор: Berger Hermann. Владелец: Telefunken AG. Дата публикации: 1942-01-13.

Connection of high-performance pulse discharge plasma generator, especially for magnetron sputtering

Номер патента: US20230124940A1. Автор: Jan Sykora,Roman Sykora,Lubomir Caplovic,Jana Bohovicova,Marcel Mesko. Владелец: Slovenka Technicka Univerzita V Bratilasve. Дата публикации: 2023-04-20.

A Negative Portion for Magnetron and Apparatus there use

Номер патента: KR100769749B1. Автор: 이와오 오가사와라,켄이치로 유키,오사무 시즈마,요시히로 카시와자키,카츠미 후나코시. Владелец: 토호 긴조쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2007-10-23.

Apparatus of assembling antenna for magnetron of electronic range

Номер патента: KR920006856Y1. Автор: 김송만. Владелец: 강진구. Дата публикации: 1992-09-28.

Magnetic field generating device for magnetron sputtering

Номер патента: TWI607106B. Автор: 栗山義彥. Владелец: 日立金屬股份有限公司. Дата публикации: 2017-12-01.

Anode structures for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: CA2096735A1. Автор: James J. Hofmann,Eric R. Dickey,Erik J. Bjornard. Владелец: Individual. Дата публикации: 1992-05-22.

High voltage input apparatus for magnetron

Номер патента: US20050141585A1. Автор: Jong Lee,Yong Lee. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2005-06-30.

Noise cover device for magnetron

Номер патента: KR960014522B1. Автор: 김진태. Владелец: 배순훈. Дата публикации: 1996-10-16.

Magnet unit for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: JP2009209386A. Автор: AKIHIKO Fujisaki,Atsushi Furuya,Nobuyoshi Yamaoka,明彦 藤▲崎▼,伸嘉 山岡,篤史 古屋. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2009-09-17.

Method and device for magnetron sputtering

Номер патента: WO2005059197A3. Автор: Bernd Szyszka,Andreas Pflug. Владелец: Andreas Pflug. Дата публикации: 2005-10-27.

magnetic spacer for magnetron

Номер патента: KR100320466B1. Автор: 방현중. Владелец: 엘지전자주식회사. Дата публикации: 2002-01-16.

Anode Structure for Magnetron

Номер патента: KR100300859B1. Автор: 이종수. Владелец: 구자홍. Дата публикации: 2001-09-26.

Stripping method for magnetron sputtering in surface acoustic wave filter

Номер патента: CN112951755B. Автор: 张倩,徐浩,王君,吴兵,闫彬,袁燕,张玉涛,倪烨,孟腾飞. Владелец: Beijing Aerospace Micro Electronics Technology Co ltd. Дата публикации: 2023-06-13.

Small type Anode for magnetron

Номер патента: KR100519340B1. Автор: 이용수,이종수. Владелец: 엘지전자 주식회사. Дата публикации: 2005-10-07.

Manufacture of cathode supporting structure for magnetron

Номер патента: JPS6091531A. Автор: Kaoru Uesawa,上沢　馨. Владелец: Matsushita Electronics Corp. Дата публикации: 1985-05-22.

Device for magnetron sputtering has an outer plasma electrode with a first potential arranged between a target and a counter electrode with a second potential

Номер патента: DE19947932C1. Автор: Klaus Goedicke,Hagen Bartzsch,Peter Frach,Christian Gottfried,Andreas Holfeld. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 2001-04-26.

Method for magnetron sputter deposition

Номер патента: WO2007115253A3. Автор: Ronghua Wei,Kuang-Tsan Kenneth CHIANG,Edward Langa. Владелец: Edward Langa. Дата публикации: 2008-11-27.

Cathode electrode for magnetron sputtering

Номер патента: JP3720101B2. Автор: 司 小林,智雄 内山. Владелец: アネルバ株式会社. Дата публикации: 2005-11-24.

Pulsed power module with pulse and ion flux control for magnetron sputtering

Номер патента: CN110771022A. Автор: 大卫·N.·鲁左克,罗伯特·安德鲁·斯图伯斯,布莱恩·爱德华·尤尔兹克. Владелец: Starfire Industries LLC. Дата публикации: 2020-02-07.

Method for magnetron sputtering with compensation of the target erosion

Номер патента: DE102011115145A1. Автор: Ralf Bandorf. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 2013-03-28.

COAXIAL TRANSFER FOR MAGNETRON

Номер патента: SE8505773D0. Автор: P O G Risman. Владелец: Por Microtrans Ab. Дата публикации: 1985-12-06.

Input part sealing structure for magnetron

Номер патента: KR100451235B1. Автор: 박상호. Владелец: 엘지전자 주식회사. Дата публикации: 2004-10-02.

System and apparatus for magnetron sputter deposition

Номер патента: US20060076235A1. Автор: Ronghua Wei. Владелец: Southwest Research Institute SwRI. Дата публикации: 2006-04-13.

Cooling device for magnetron

Номер патента: KR101042329B1. Автор: 김진기,윤수현,서인진. Владелец: (주) 세아그린텍. Дата публикации: 2011-06-17.

High voltage input apparatus for magnetron

Номер патента: CN100533616C. Автор: 李容守,李钟寿,白承源. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2009-08-26.

Magnet unit for magnetron sputter electrode and sputtering apparutus

Номер патента: KR101944975B1. Автор: 마코토 아라이,시게미츠 사토,타쯔노리 이소베,준야 기요타,타카오미 구라타,요시가츠 사토. Владелец: 가부시키가이샤 알박. Дата публикации: 2019-02-01.

Input part sealing structure for magnetron

Номер патента: KR20030089308A. Автор: 박상호. Владелец: 엘지전자 주식회사. Дата публикации: 2003-11-21.

Choke Coil Connection Device for Magnetron

Номер патента: KR100276177B1. Автор: 박철우. Владелец: 대우전자주식회사. Дата публикации: 2001-01-15.

Cathode heater for magnetrons

Номер патента: EP0447206A3. Автор: Geoffrey Thornber,Christopher Martin Walker,Robert C. English. Владелец: Litton Systems Inc. Дата публикации: 1992-04-01.

Manufacturing method of cathode structure for magnetron

Номер патента: JPS55166844A. Автор: Jinzo Nakagawa. Владелец: Matsushita Electronics Corp. Дата публикации: 1980-12-26.

Rotating magnet arrays for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US7585399B1. Автор: Kang Song,Kwok F. Lai,Douglas B. Hayden. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2009-09-08.

Step-up transformer for magnetron drive

Номер патента: JP3061052B1. Автор: 伸一 酒井,誠 三原,和穂 坂本. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2000-07-10.

Magnetic-field-generating apparatus for magnetron sputtering

Номер патента: US10280503B2. Автор: Yoshihiko Kuriyama. Владелец: Hitachi Metals Ltd. Дата публикации: 2019-05-07.

Method and device for magnetron sputtering

Номер патента: PL1697555T3. Автор: Bernd Szyszka,Andreas Pflug. Владелец: Fraunhofer Ges Forschung. Дата публикации: 2010-05-31.

Filter device for magnetron

Номер патента: JPH01187735A. Автор: ソン ジェオン−ファン,Jeong-Hwan Son,Yan Hieon-Mo,ヤン ヒェオン−モ. Владелец: LG Semicon Co Ltd. Дата публикации: 1989-07-27.

Connection of high performance pulse discharge plasma generators especially for magnetron sputtering

Номер патента: JP2023518170A. Автор: ロマン シコラ,ヤン シコラ,ルボミール チャプロビッチ,ヤナ ボホヴィコヴァ,マルセル メシュコ. Владелец: スロベンスカ テクニッカ ウニベラヂッタ べ ブラチスラバ. Дата публикации: 2023-04-28.

Method and device for magnetron sputtering

Номер патента: WO2005059197A2. Автор: Bernd Szyszka,Andreas Pflug. Владелец: FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FORDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.. Дата публикации: 2005-06-30.

Magnet control system for magnetron sputtering device

Номер патента: WO2018182168A1. Автор: 김정건,소병호,고무석,이구현,전명우. Владелец: 한국알박(주). Дата публикации: 2018-10-04.

Inverter for magnetron

Номер патента: KR100500268B1. Автор: 김갑순. Владелец: 주식회사 우림. Дата публикации: 2005-07-11.

Antenna seal for magnetron

Номер патента: KR970005953Y1. Автор: 임종호. Владелец: 구자홍. Дата публикации: 1997-06-16.

Anode Structure for Magnetron Sputtering Systems

Номер патента: CA2123479A1. Автор: Stephen C. Schulz,Russell J. Hill,Peter A. Sieck,John L. Vossen. Владелец: Boc Group Inc. Дата публикации: 1995-01-02.

Connection of high-performance pulse discharge plasma generator, especially for magnetron sputtering

Номер патента: WO2021181295A1. Автор: Jan Sykora,Roman Sykora,Lubomir Caplovic,Jana Bohovicova,Marcel Mesko. Владелец: Slovenska Technicka Univerzita V Bratislave. Дата публикации: 2021-09-16.

Method of manufacturing cathode for magnetron

Номер патента: JPS5835838A. Автор: Takao Tanabe,Jinkan Sakauchi,坂内　仁侃,田部　貴雄. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1983-03-02.

Anode cylinder for magnetron

Номер патента: JPS57191938A. Автор: Yoshio Kado. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1982-11-25.

Cooling system for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US6641701B1. Автор: Avi Tepman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-11-04.

High voltage capacitor for magnetron

Номер патента: DE602004006365D1. Автор: Yong Soo Lee,Seung Won Baek. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2007-06-21.

Electron emission monitor for magnetron-type ionization gauge

Номер патента: US3239715A. Автор: James M Lafferty. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1966-03-08.

Cathode structure for magnetrons

Номер патента: US2463398A. Автор: Kusch Polykarp. Владелец: Individual. Дата публикации: 1949-03-01.

Finned cooler of the solid block type for magnetrons

Номер патента: US3551717A. Автор: Yoshio Nakagawa,Yoshio Kato,Osamu Konosu. Владелец: Matsushita Electronics Corp. Дата публикации: 1970-12-29.

Target for magnetron sputtering and process for production thereof

Номер патента: TW201211298A. Автор: Yasuyuki Goto,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Precious Metal Ind. Дата публикации: 2012-03-16.

Magnetron control method, magnetron service life judgment method, microwave generation device, magnetron service life judgment device, processing device, computer program, and storage medium

Номер патента: US7915827B2. Автор: Shigeru Kasai,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-03-29.

High-power microwave vacuum tube filament power source system and working method thereof

Номер патента: CN105592615A. Автор: 卢波,姚涛,王洁琼. Владелец: Southwestern Institute of Physics. Дата публикации: 2016-05-18.

Carousel type installation for magnetron sputtering of multilayer coatings and a method of magnetron sputtering of equal thickness nanocoating

Номер патента: RU2015120001A. Автор: Сергей Борисович Одиноков,Гайк Рафаэлович Сагателян,Михаил Сергеевич Ковалев,Алексей Станиславович Кузнецов,Екатерина Андреевна Дроздова,Андрей Владимирович Шишлов,Павел Сергеевич Демидов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный технический университет имени Н.Э. Баумана" (МГТУ им. Н.Э. Баумана). Дата публикации: 2016-12-20.

Target back plate for magnetron sputtering and magnetron sputtering device

Номер патента: CN105734516A. Автор: 李冬青,王小军,吴斌,邢宏伟,穆慧慧,石旭,吴祥一. Владелец: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-06.

Laser induced ionization of inert and reactive gasses for magnetron sputtering

Номер патента: US20240263297A1. Автор: Patrick Morse. Владелец: Arizona Thin Film Research Llc. Дата публикации: 2024-08-08.

Filament cutting devices for magnetron

Номер патента: KR900006161Y1. Автор: 원종상. Владелец: 안시환. Дата публикации: 1990-07-09.

MAGNETIC-FIELD-GENERATING APPARATUS FOR MAGNETRON SPUTTERING

Номер патента: US20130299349A1. Автор: Kuriyama Yoshihiko,Mita Masahiro. Владелец: HITACHI METALS, LTD.. Дата публикации: 2013-11-14.

MAGNETIC-FIELD-GENERATING APPARATUS FOR MAGNETRON SPUTTERING

Номер патента: US20180023189A1. Автор: Kuriyama Yoshihiko. Владелец: HITACHI METALS, LTD.. Дата публикации: 2018-01-25.

Rotary Cathode Unit for Magnetron Sputtering Apparatus

Номер патента: US20180030591A1. Автор: Saitou Shuuji. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2018-02-01.

TARGET FOR MAGNETRON SPUTTERING

Номер патента: US20150211109A1. Автор: Goto Yasuyuki,Kobayashi Yusuke,WATANABE Yasunobu. Владелец: . Дата публикации: 2015-07-30.

Target base for magnetron sputtering of magnetic material

Номер патента: JPS6389662A. Автор: 茂 庄司,Shigeru Shoji,Shuichi Sawada,修一 沢田,Atsushi Tsuchida,厚志 土田. Владелец: Yamaha Corp. Дата публикации: 1988-04-20.

Carrier for magnetron sputtering

Номер патента: CN107794505A. Автор: 吴惠明,葛青,郝立鹏,杜成锐. Владелец: Kersen Technology Dongtai Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-13.

Target for magnetron sputtering

Номер патента: JPS63227772A. Автор: 元良 村上,正博 尾留川,Masahiro Orukawa,Kiyoshi Uchida,清 内田,Motoyoshi Murakami,Hideji Kawabata,川端　秀次. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1988-09-22.

Anode forging device for magnetron in microwave oven

Номер патента: KR200318727Y1. Автор: 이계영. Владелец: 이계영. Дата публикации: 2003-07-02.

Rare earth alloy target material for magnetron sputtering grain boundary diffusion and preparation method thereof

Номер патента: CN113957405A. Автор: 郭帅,范晓东,郑波,陈仁杰,闫阿儒,范庆伟,丁广飞,冯智俊. Владелец: Ningbo Institute of Material Technology and Engineering of CAS. Дата публикации: 2022-01-21.

A kind of online real-time monitoring device and method for magnetron sputtering method production transparent conductive film

Номер патента: CN108165948A. Автор: 朱家宽,高锦龙,孙朋超,张啸潮,陆建嘉. Владелец: Asahi New Energy Ltd By Share Ltd. Дата публикации: 2018-06-15.

Reciprocating type feeding device and feeding method for magnetron sputtering production line

Номер патента: CN112897034B. Автор: 冷长志,李启炎. Владелец: Zhejiang Yundu New Material Technology Co ltd. Дата публикации: 2023-01-31.

A kind of black ball automatic detection sorter for magnetron

Номер патента: CN106733735A. Автор: 陈志�,章建华. Владелец: Dongguan Qiushi Testing Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-31.

Cobalt based alloy target for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP0659901B1. Автор: Martin Dr. Weigert,Martin Dr. Schlott,Bruce Dr. Gehman,Kwei Teng. Владелец: Leybold Materials GmbH. Дата публикации: 1998-04-15.

Power supply for magnetron drive

Номер патента: JP3183144B2. Автор: 大介 別荘,健治 安井,圭一 佐藤. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2001-07-03.

Geometries and configurations for magnetron sputtering apparatus

Номер патента: EP0428358A3. Автор: Thomas H. Allen,Paul M. LeFebvre,Bryant P. Hichwa,Richard I. Seddon,Michael A. Scobey,Michael D. Temple,David L. Soberanis,James W. Seeser,Erik R. Dickey,Rolf F. Illsley,Robert F. Klinger,Craig C. Van Horn,Patrick R. Wentworth. Владелец: Optical Coating Laboratory Inc. Дата публикации: 1991-07-24.

Filament cutting device for magnetron

Номер патента: KR890004517U. Автор: 원종상. Владелец: 삼성전자 주식회사. Дата публикации: 1989-04-17.

Composite target for magnetron sputtering

Номер патента: RU2695716C1. Автор: Юрий Аркадьевич Дудин,Евгений Сергеевич Демидов,Виктор Владимирович Сдобняков,Юрий Исаакович Чигиринский,Валерий Павлович Лесников. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского". Дата публикации: 2019-07-25.

Electronic ballast for parallel lamp operation with program start

Номер патента: WO2011114245A1. Автор: Yuhong Fang. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.. Дата публикации: 2011-09-22.

Event and arc detection in lamps

Номер патента: US20030218426A1. Автор: Gil Shultz,Ben Flaster. Владелец: Yazaki North America Inc. Дата публикации: 2003-11-27.

Glow discharge lamp

Номер патента: US5150009A. Автор: William J. Roche,Michael R. Kling. Владелец: GTE Products Corp. Дата публикации: 1992-09-22.

Soft start of lamp filament

Номер патента: US5451841A. Автор: Joseph W. Goode, III,William R. Dunn,James E. Strickling, III. Владелец: Avionic Displays Corp. Дата публикации: 1995-09-19.

Electronic ballast for parallel lamp operation with program start

Номер патента: EP2548417A1. Автор: Yuhong Fang. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2013-01-23.

Fluorescent lamp dimming switch

Номер патента: US4686427A. Автор: Robert V. Burke. Владелец: Magnetek Inc. Дата публикации: 1987-08-11.

Retrofit fluorescent lamp energy management/dimming system

Номер патента: US4604552A. Автор: Paul G. Huber,Joseph M. Sullivan,Robert P. Alley. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1986-08-05.

X-ray device and ct-equipment, which contains it

Номер патента: RU2652588C2. Автор: Хуапин ТАН,Чуаньсян ТАН,Хуайби ЧЭНЬ,Яохун ЛЮ,Хуаи ЧЖАН,Вэньхуэй ХУАН,Шусинь ЧЖЭН. Владелец: Нактек Компани Лимитед. Дата публикации: 2018-04-27.

X-ray apparatus and a CT device having the same

Номер патента: US09734979B2. Автор: Chuanxiang Tang,Huaibi Chen,Yaohong Liu,Huaping Tang,Huayi Zhang,Wenhui HUANG,Shuxin Zheng. Владелец: Nuctech Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Preheat circuit for x-ray tubes

Номер патента: CA1110777A. Автор: David Cowell. Владелец: Sybron Corp. Дата публикации: 1981-10-13.

Traveling-wave tube power supply device

Номер патента: RU2717337C1. Автор: Виктор Иванович Серов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственная фирма "Плазмаинформ". Дата публикации: 2020-03-23.

Pulse amplifier shf

Номер патента: RU2634226C1. Автор: Виктор Иванович Серов,Игорь Николаевич Коростелев,Андрей Владимирович Суховерхий,Константин Геннадиевич Чистовский. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственная фирма "Плазмаинформ". Дата публикации: 2017-10-24.

X-ray device and ct equipment containing it

Номер патента: RU2690024C2. Автор: Чуаньсян ТАН,Хуайби ЧЭНЬ,Цзиньшэн ЛЮ,Хуаи ЧЖАН,Вэньхуэй ХУАН,Шусинь ЧЖЭН,Хуапни ТАН. Владелец: Нактек Компани Лимитед. Дата публикации: 2019-05-30.

Improvements in or relating to thermionic valves

Номер патента: GB249948A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1926-04-08.

Extended lifetime dual indirectly-heated cathode ion source

Номер патента: US11798775B2. Автор: Jonathan DAVID,Neil Bassom,Wilhelm Platow. Владелец: Axcelis Technologies Inc. Дата публикации: 2023-10-24.

Extended lifetime dual indirectly-heated cathode ion source

Номер патента: WO2023055451A1. Автор: Jonathan DAVID,Neil Bassom,Wilhelm Platow. Владелец: AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2023-04-06.

Magnetron source, magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: US09399817B2. Автор: Xu Liu,Xuewei Wu,Bo GENG,Guoqing Qiu,Yangchao Li. Владелец: Beijing NMC Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-26.

Control system for indirectly heated cathode ion source

Номер патента: EP1285452A1. Автор: Anthony Renau,Daniel Distaso,Joseph C. Olson. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2003-02-26.

Control system for indirectly heated cathode ion source

Номер патента: WO2001088947A1. Автор: Anthony Renau,Daniel Distaso,Joseph C. Olson. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2001-11-22.

Magnetron source, magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method

Номер патента: US20130277205A1. Автор: Xu Liu,Xuewei Wu,Bo GENG,Guoqing Qiu,Yangchao Li. Владелец: Beijing NMC Co Ltd. Дата публикации: 2013-10-24.

Magnetron source, magnetron sputtering device and magnetron sputtering method

Номер патента: SG191806A1. Автор: Xu Liu,Xuewei Wu,Bo GENG,Guoqing Qiu,Yangchao Li. Владелец: Beijing NMC Co Ltd. Дата публикации: 2013-08-30.

Magnetron maintenance

Номер патента: EP4218041A1. Автор: Anurag GEHLOT,Chris FLINT. Владелец: Elekta Ltd. Дата публикации: 2023-08-02.

X-ray apparatus and a CT device having the same

Номер патента: US09653247B2. Автор: Chuanxiang Tang,Huaibi Chen,Huaping Tang,Jinsheng Liu,Huayi Zhang,Wenhui HUANG,Shuxin Zheng. Владелец: Nuctech Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Deposition by impulse magnetron dispersion with pre-ionisation

Номер патента: RU2364661C2. Автор: Михай ГАНЧИУ-ПЕТКУ,Мишель ЭКК,Жан-Пьер ДОШО,Стефано КОНСТАНТИНИДИС,Жан БРЕТАНЬ,ПУККЕ Людовик ДЕ,Мишель ТУЗО. Владелец: Юниверсите Пари-Сюд. Дата публикации: 2009-08-20.

Magnetron maintenance

Номер патента: US20230376652A1. Автор: Anurag GEHLOT,Chris FLINT. Владелец: Elekta Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Electron beam regulator

Номер патента: US3794878A. Автор: E Sickafus. Владелец: Ford Motor Co. Дата публикации: 1974-02-26.

Distributed-array magnetron-plasma processing module and method

Номер патента: US5082542A. Автор: Mehrdad M. Moslehi,Cecil J. Davis. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1992-01-21.

Multiple scanning magnetrons

Номер патента: WO2006132806A3. Автор: Akihiro Hosokawa,Hien-Minh Huu Le. Владелец: Hien-Minh Huu Le. Дата публикации: 2007-04-12.

High-power sputtering source

Номер патента: RU2602571C2. Автор: Зигфрид КРАССНИТЦЕР,Курт РУМ. Владелец: Эрликон Серфиз Солюшнз Аг, Пфеффикон. Дата публикации: 2016-11-20.

Rotary magnetron sputtering with individually adjustable magnetic field

Номер патента: EP3734643A1. Автор: Dominik Dr. Wagner. Владелец: Interpane Entwicklungs und Beratungs GmbH and Co KG. Дата публикации: 2020-11-04.

End block for rotating target with electrical connection between current collector and rotor with pressure less than atmospheric pressure

Номер патента: RU2667143C2. Автор: Марсель ШЛОРЕМБЕРГ,Жильбер ГАЛАН,Жан-Филипп ЮЗЕЛЬДИНГ,Ги КОМАН. Владелец: Сантр Люксамбуржуа Де Решерш Пур Ле Верр Э Ля Серамик (С.Р.В.С.) Сарл. Дата публикации: 2018-09-17.

Hollow cathode target and method of manufacture of such target

Номер патента: RU2261288C2. Автор: Роберт Б. ФОРД,Кристофер А. МИЧАЛУК. Владелец: Кабот Корпорейшн. Дата публикации: 2005-09-27.

Copper or copper alloy target/copper alloy backing plate assembly

Номер патента: US09472383B2. Автор: Hirohito Miyashita,Takeo Okabe. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Planar magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US6432285B1. Автор: William P. Kastanis,M. Elizabeth Wescott. Владелец: Cierra Photonics Inc. Дата публикации: 2002-08-13.

Magnetron device for sputtering target

Номер патента: EP4283011A1. Автор: Andreas Glenz,Krzysztof Fronc,Michal CHOJNACKI. Владелец: Prevac Spolka Z Ograniczona Odpowiedzialnoscia. Дата публикации: 2023-11-29.

A wholly sealed microwave sulfur lamp

Номер патента: WO2008006291A1. Автор: Zhenda Li. Владелец: Zhenda Li. Дата публикации: 2008-01-17.

Microwave plasma source

Номер патента: US5480533A. Автор: Yoshikazu Yoshida. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1996-01-02.

Sputtering device

Номер патента: US6461484B2. Автор: Naoki Yamada,Shuji Kumagai,Kamikura Yo,Terushige Takeyama. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 2002-10-08.

Shared current loop, multiple field apparatus and process for plasma processing

Номер патента: CA1282840C. Автор: Stephen M. Bobbio,Yueh-Se Ho. Владелец: MCNC. Дата публикации: 1991-04-09.

Carburized lutetium oxide doped molybdenum cathode and its fabrication method

Номер патента: US9646796B1. Автор: XIANG Liu,WEI Liu,Qiang Wang,Fan Zhou,jin-shu Wang,mei-ling Zhou,Li-Ran Dong,Tie-Yong Zuo. Владелец: BEIJING UNIVERSITY OF TECHNOLOGY. Дата публикации: 2017-05-09.

Pneumatic gas cylinder weapon

Номер патента: RU2298757C1. Автор: Алексей Валентинович Паршин. Владелец: Алексей Валентинович Паршин. Дата публикации: 2007-05-10.

Method for processing residues from magnetron sputtering of a target

Номер патента: RU2755498C1. Автор: Геннадий Григорьевич Михайлов,Андрей Владимирович Шунайлов,Анатолий Владимирович Сенин,Иван Сергеевич Барышев,Андрей Геннадьевич Рязанов. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования «Южно-Уральский государственный университет (национальный исследовательский университет)» ФГАОУ ВО «ЮУрГУ (НИУ)». Дата публикации: 2021-09-16.

Predicting the End of Service Life for a Vacuum Electron Device

Номер патента: US20150355264A1. Автор: Louis R. Falce,John B. Overstreet,Michael J. Cascone,John A. Lazar. Владелец: Communications and Power Industries LLC. Дата публикации: 2015-12-10.

Predicting the end of service life for a vacuum electron device

Номер патента: US09625515B2. Автор: Louis R. Falce,John B. Overstreet,Michael J. Cascone,John A. Lazar. Владелец: Communications and Power Industries LLC. Дата публикации: 2017-04-18.

Method of purifying acid mine water and mobile process complex for implementation thereof

Номер патента: RU2739259C1. Автор: Борис Борисович Зобнин,Олег Павлович Пономарев,Виталий Викторович Кочетков,Артем Владимирович Вожегов,Александр Иванович Семячков,Миша Багратович Матевосян. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования «Уральский государственный горный университет». Дата публикации: 2020-12-22.

Material for gas-thermal application, method of its manufacture and method of its application

Номер патента: RU2646299C2. Автор: Марат Хаджи-Муратович Абдуев,Аслан Хаджимуратович Абдуев,Абил Шамсудинович Асваров,Ахмед Кадиевич Ахмедов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "ТСО материалы". Дата публикации: 2018-03-02.

Method of making zinc oxide-based target

Номер патента: RU2491252C2. Автор: Марат Хаджи-Муратович Абдуев,Аслан Хаджимуратович Абдуев,Ибрагимхан Камилович Камилов,Абил Шамсудинович Асваров,Ахмед Кадиевич Ахмедов. Владелец: Учреждение Российской Академии наук "Институт физики им. Х.И. Амирханова Дагестанского научного центра РАН". Дата публикации: 2013-08-27.

Method for producing anti-corrosive coating on articles from monolithic titanium nickelide

Номер патента: RU2751704C1. Автор: Сергей Викторович Гюнтер,Екатерина Сергеевна Марченко,Юрий Феодосович Ясенчук,Гульшарат Аманболдыновна Байгонакова,Сергей Петрович Зенкин,Кирилл Максимович Дубовиков,Арина Андреевна Шишелова. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования «Национальный исследовательский Томский государственный университет». Дата публикации: 2021-07-15.

Dispenser soaked cathode for magnetron

Номер патента: RU2342732C1. Автор: Вячеслав Александрович Смирнов,В чеслав Александрович Смирнов,Елена Николаевна Синицына,Людмила Ивановна Куликова,Тамара Федоровна Гусева. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-производственное предприятие "Торий". Дата публикации: 2008-12-27.

Manufacturing method of cast target from tantalum-based alloy for magnetron sputtering

Номер патента: RU2454483C2. Автор: Вадим Георгиевич Глебовский. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики твердого тела Российской академии наук (ИФТТ РАН). Дата публикации: 2012-06-27.

Manufacturing method of cast target from molybdenum-based alloy for magnetron sputtering

Номер патента: RU2454484C2. Автор: Вадим Георгиевич Глебовский. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики твердого тела Российской академии наук (ИФТТ РАН). Дата публикации: 2012-06-27.

Power supply for magnetron and the like loads

Номер патента: CA1162983A. Автор: William P. Kornrumpf. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1984-02-28.

Method and device for magnetron sputtering

Номер патента: RU2135634C1. Автор: В.Г. Васильев. Владелец: Санкт-Петербургский государственный технический университет. Дата публикации: 1999-08-27.

Electron-emitting member for magnetron, cathode structural body for the magnetron, and the magnetron

Номер патента: JPH11283516A. Автор: Hitoshi AOYAMA,斉 青山. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1999-10-15.

Seat for magnetron sputtering target and magnetron sputtering apparatus using same

Номер патента: TW201102452A. Автор: Tai-Sheng Tsai. Владелец: Hon Hai Prec Ind Co Ltd. Дата публикации: 2011-01-16.

Magnetron and connection system for magnetron

Номер патента: AU5946969A. Автор: Arnoldus Vonk Marinus. Владелец: Philips Gloeilampenfabrieken NV. Дата публикации: 1971-02-18.

Insulating block for magnetron sputtering and magnetron sputtering equipment

Номер патента: CN210193987U. Автор: Shixin Qi,齐士新. Владелец: Tianjin CSG Energy Conservation Glass Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-27.

Magnetron and connection system for magnetron

Номер патента: CA870285A. Автор: A. Vonk Marinus. Владелец: Philips Gloeilampenfabrieken NV. Дата публикации: 1971-05-04.

Fluorescent display lamp filament power control unit

Номер патента: JPS55155393A. Автор: Satoru Matsumori. Владелец: Nissan Motor Co Ltd. Дата публикации: 1980-12-03.

Filament power supply means

Номер патента: CA301049A. Автор: E. Danley Warren. Владелец: FANSTEEL PRODUCTS Co. Дата публикации: 1930-06-10.

Method of preparing and restoring target for magnetron atomization in vacuum

Номер патента: RU2068886C1. Автор: В.С. Шустеров,Ю.И. Беляков,В.А. Хрусталев,В.В. Тимофеев,Е.Ф. Сильникова,В.Н. Сильников,Э.С. Кейзман,Н.В. Симченко,Е.П. Жолобова,Ю.В. Бахаров,Ю.Н. Витошинский. Владелец: Акционерное общество открытого типа "Всероссийский алюминиево-магниевый институт". Дата публикации: 1996-11-10.

Modulation system and method for magnetron generators

Номер патента: AU142892B2. Автор: . Владелец: Stateof New South Wales Common' Between Cathode And Anode Ina Manner Wealth Of Australia Hereby Declare This In Whereby Anode Isaf A Positive Potential Vention Andthe Manner Inwhich Itis Tobe With Respect Tothe Cathode A Substant. Дата публикации: 1948-09-14.

Method of manufacturing target for magnetron spraying from special- purity aluminium

Номер патента: RU2091501C1. Автор: Ю.И. Беляков,В.А. Хрусталев,Е.Ф. Сильникова,Ю.В. Бахарев,В.Н. Сильников,Н.В. Симченко,Е.П. Желобова,М.Т. Беличко,Э.С. Кейзмов,В.А. Пендюрин. Владелец: Акционерное общество открытого типа "Всероссийский алюминиево-магниевый институт". Дата публикации: 1997-09-27.

Variable ramp for magnetron

Номер патента: AU150664B2. Автор: . Владелец: Standard Telephone and Cables Pty Ltd. Дата публикации: 1949-10-06.

Tuning means for magnetrons

Номер патента: CA497827A. Автор: C. Okress Ernest. Владелец: Westinghouse Electric Corp. Дата публикации: 1953-11-17.

Improvements in or relating to indirectly heated cathode structure for magnetrons

Номер патента: AU205985B2. Автор: Maurice Esterson Alan Hugh Pickering and Archie Watson Crook Arthur James Young. Владелец: English Electric Valve Co Ltd. Дата публикации: 1956-05-10.

Tuner mechanism for magnetron

Номер патента: CA792945A. Автор: E. Glenfield George. Владелец: S-F-D LABORATORIES. Дата публикации: 1968-08-20.

Improvements in or relating to magnet systems for magnetrons

Номер патента: AU3647158A. Автор: Anthonioz vande Goor Johannes. Владелец: Philips Gloeilampenfabrieken NV. Дата публикации: 1958-09-25.

Tuning means for magnetrons

Номер патента: CA469043A. Автор: P. Quitter John. Владелец: Canadian Westinghouse Co Ltd. Дата публикации: 1950-10-31.

Improvements in or relating to indirectly heated cathode structure for magnetrons

Номер патента: AU1345655A. Автор: Maurice Esterson Alan Hugh Pickering and Archie Watson Crook Arthur James Young. Владелец: English Electric Valve Co Ltd. Дата публикации: 1956-05-10.

Variable ramp for magnetron

Номер патента: AU2911449A. Автор: . Владелец: Standard Telephone and Cables Pty Ltd. Дата публикации: 1949-10-06.

Improvements in or relating to magnet and holder assemblies for magnetron tubes

Номер патента: AU214405B2. Автор: Esterson Maurice. Владелец: English Electric Valve Co Ltd. Дата публикации: 1957-09-19.

Modulation system and method for magnetron generators

Номер патента: CA487646A. Автор: L. Cuccia Carmen. Владелец: Radio Corporation of America. Дата публикации: 1952-10-28.

Magnet and holder assemblies for magnetron tubes

Номер патента: CA583810A. Автор: Esterson Maurice. Владелец: English Electric Valve Co Ltd. Дата публикации: 1959-09-22.

Improvements in or relating to magnet and holder assemblies for magnetron tubes

Номер патента: AU2613057A. Автор: Esterson Maurice. Владелец: English Electric Valve Co Ltd. Дата публикации: 1957-09-19.

Magnet structure for magnetron tube

Номер патента: CA826241A. Автор: Boucher Gilbert. Владелец: Individual. Дата публикации: 1969-10-28.

Adjustable power operation circuit for magnetron of electronic range

Номер патента: JPS5383136A. Автор: Buaajiru Baaku Robaato,Yuujin Hesutaa Toomasu. Владелец: Litton Industries Inc. Дата публикации: 1978-07-22.

Improvements in cathode structures for magnetrons

Номер патента: AU2404745A. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 1948-08-26.

Method and apparatus for magnetron sputtering with controlled plasma

Номер патента: JPS63157867A. Автор: Tomonobu Hata,畑　朋延. Владелец: UBE Industries Ltd. Дата публикации: 1988-06-30.

Magnet steel forming mold dedicated for magnetrons of microwave oven

Номер патента: CN200986910Y. Автор: 陈国权,林毅,邰文. Владелец: BALING MAGNETOELECTRIC Co Ltd SHUNDE DISTRICT FOSHAN CITY. Дата публикации: 2007-12-05.

Assembling jig for magnetron cathode structure

Номер патента: JPS6258537A. Автор: Tomokatsu Oguro,友勝 小黒. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1987-03-14.

Assembler for magnetron

Номер патента: JPS62123640A. Автор: Katsuyuki Fukui,Shigemi Fujino,克幸 福居,藤野　滋己. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1987-06-04.

Device for magnetron reactive spraying of nitride, carbide and carbonitride coatings

Номер патента: RU2065507C1. Автор: Адил Жианшахович Тулеушев,Светлана Николаевна Ким,Ирек Шамильевич Мухамедшин. Владелец: Ирек Шамильевич Мухамедшин. Дата публикации: 1996-08-20.

Housing box for magnetron

Номер патента: JPS5695872A. Автор: Satoshi Aoki,Shiyunichi Hatayama. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1981-08-03.

Improvements in cathode structures for magnetrons

Номер патента: AU129472B2. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 1948-08-26.

ROTARY CATHODES FOR MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM

Номер патента: US20130032476A1. Автор: Crowley Daniel Theodore,Neal Michelle Lynn. Владелец: SPUTTERING COMPONENTS, INC.. Дата публикации: 2013-02-07.

Rotation Plus Vibration Magnet for Magnetron Sputtering Apparatus

Номер патента: US20130213797A1. Автор: Chou You-Hua,Lin Bo-Hung,Tsai Ming-Chih,Kao Chung-En. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.. Дата публикации: 2013-08-22.

End hat component for magnetron and manufacture of end hat component

Номер патента: JPH1083765A. Автор: Fumihiko Yoshimura,Hiroyuki Saito,Mitsuo Kawai,Toshiyuki Matsuzaki,Yasuyuki Inose,康之 猪瀬,利行 松崎,光雄 河合,文彦 吉村,博幸 斉藤. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1998-03-31.

Switch-mode power system for magnetron-demagnetization betatron

Номер патента: RU2231938C1. Автор: А.С. Чертов,М.М. Рычков. Владелец: Томский политехнический университет. Дата публикации: 2004-06-27.

Power supply unit for magnetron

Номер патента: JPS5469001A. Автор: Kazufumi Ushijima,Takao Nakatsuka,Yoshinosuke Nagata,Kazuyoshi Tsukamoto,Tatsuhiro Nagai. Владелец: Sanyo Electric Co Ltd. Дата публикации: 1979-06-02.

Auxiliary device for magnetron sputtering target replacement

Номер патента: CN216687131U. Автор: 罗晴. Владелец: XIAMEN UNIVERSITY. Дата публикации: 2022-06-07.

Power supply for magnetron

Номер патента: RU1815768C. Автор: Николай Матвеевич Грязнов,Валентин Максимович Антонов. Владелец: Всесоюзный научно-исследовательский институт "Альтаир". Дата публикации: 1993-05-15.

By the method for magnetron sputtering at zirconium plated surface zirconium copper nickel ternary amorphous alloy film

Номер патента: CN103741104B. Автор: 杨亮,戈涛. Владелец: Nanjing University of Aeronautics and Astronautics. Дата публикации: 2016-01-20.

Adjusting method for magnetron oscillation frequency

Номер патента: JPS5289455A. Автор: Atsushi Goto. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1977-07-27.

Magnetic steel detection device for magnetron sputtering film plating

Номер патента: CN202925090U. Автор: 王�琦,王旭升. Владелец: Tianjin CSG Architectural Glass Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-08.

Structure of anode for magnetron and manufacture thereof

Номер патента: JPS63244544A. Автор: Tei Hikino,Tomohide Matsumoto,等隆 信江,Tomotaka Nobue,朋秀 松本,曳野　禎. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1988-10-12.

Magnetic fluid sealed rotating target for magnetron sputtering vacuum coating

Номер патента: CN102108489A. Автор: 甘国工. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-06-29.

Step-up transformer for magnetron drive

Номер патента: JP4212285B2. Автор: 武 北泉,健治 安井,誠 三原. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2009-01-21.

Power supply for magnetron drive

Номер патента: JP3501137B2. Автор: 武 北泉,健治 安井,恵美子 石崎,英明 守屋,治雄 末永,嘉朗 石尾. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2004-03-02.

Power supply for magnetron drive

Номер патента: JP3191690B2. Автор: 英樹 大森,秀和 山下,大介 別荘,圭一 佐藤. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2001-07-23.

Electromagnet for magnetron

Номер патента: JP7240263B2. Автор: 英幸 小畑,久雄 木崎. Владелец: Nisshinbo Micro Devices Inc. Дата публикации: 2023-03-15.

Power supply for magnetron drive

Номер патента: JP3512013B2. Автор: 豊継 松倉. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2004-03-29.

Power supply for magnetron drive

Номер патента: JP3191749B2. Автор: 健治 安井,誠 三原,治雄 末永,嘉朗 石尾. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2001-07-23.

Lanthanum tungsten cathode for magnetron of micro-wave oven and preparation technology thereof

Номер патента: CN102800543A. Автор: 朱惠冲. Владелец: 朱惠冲. Дата публикации: 2012-11-28.

Magnet system for magnetrons

Номер патента: CA603623A. Автор: A. Van De Goor Johannes. Владелец: Philips Gloeilampenfabrieken NV. Дата публикации: 1960-08-16.

Pole piece for magnetron with multiple grooves

Номер патента: KR970008271A. Автор: 조기준. Владелец: 배순훈. Дата публикации: 1997-02-24.

Target material for magnetron sputtering

Номер патента: CN202347088U. Автор: 武瑞军,田富. Владелец: Wujiang CSG East China Architectural Glass Co Ltd. Дата публикации: 2012-07-25.

A kind of mask clamping fixture for magnetron sputtering technique

Номер патента: CN204125521U. Автор: 徐晓. Владелец: KUNSHAN WANFENG ELECTRONICS CO Ltd. Дата публикации: 2015-01-28.

Cathode target for magnetron sputtering

Номер патента: CN2072086U. Автор: 杨兆方,宁卫. Владелец: Individual. Дата публикации: 1991-02-27.

Cathode for magnetron devices

Номер патента: SU587798A1. Автор: Л.Г. Суходолец,Ю.Д. Степанов. Владелец: Stepanov Yu D. Дата публикации: 1987-03-23.

Exhaust device for magnetron

Номер патента: JP2558921B2. Автор: 信光 蓮実. Владелец: Matsushita Electronics Corp. Дата публикации: 1996-11-27.

Cathode structure for magnetron

Номер патента: JPS6441143A. Автор: Shigeo Tadokoro,Iwao Ogasawara. Владелец: Matsushita Electronics Corp. Дата публикации: 1989-02-13.

Frequency driving circuit for magnetron

Номер патента: JPS61211987A. Автор: 秀喜 越智. Владелец: Sanyo Electric Co Ltd. Дата публикации: 1986-09-20.

METHOD FOR MANUFACTURING OF TARGET FOR MAGNETRON APPLICATION OF SUPERCONDUCTING FILMS OF FOLLOWING COMPOSITION - Bi-Pb-Sr-Ca-Cu-O

Номер патента: RU2385517C1. Автор: Юрий Евгеньевич Григорашвили,Александр Викторович Бухлин,Владислав Томасович Мингазин,Иван Васильевич Верюжский. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Московский государственный институт электронной техники (технический университет). Дата публикации: 2010-03-27.

Method for magnetron application of the thin-film coverages of various materials and their compounds

Номер патента: RU2064525C1. Автор: В.В. Егоров,А.С. Исаков,С.А. Хартов,С.С. Стрелков,В.К. Шинин,С.К. Абсалямов. Владелец: Научно-исследовательский институт прикладной механики и электродинамики Московского авиационного института. Дата публикации: 1996-07-27.

Choke coil for magnetron

Номер патента: JPS6369126A. Автор: Kunio Ishiyama,Mamoru Kurokuzuhara,Shoichi Noguchi,祥一 野口,黒葛原　守,石山　国雄. Владелец: Hitachi Nisshin Electronics Co Ltd. Дата публикации: 1988-03-29.

Manufacturing method of filter case for magnetron

Номер патента: JP2749064B2. Автор: 明一 原田. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1998-05-13.

C type magnetic component for magnetron

Номер патента: CN205881863U. Автор: 范君义,瞿庆,林朝伟. Владелец: CHENGDU 899 SCIENCE AND TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-11.

Magnets for magnetron sputter

Номер патента: JPH1064723A. Автор: Kazuichi Yamamura,和市 山村,Masaki Ejima,正毅 江島,Chikayasu Fukushima,慎泰 福島. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1998-03-06.

Cathode structures for magnetrons

Номер патента: CA477816A. Автор: James Young Arthur. Владелец: Canadian Marconi Co. Дата публикации: 1951-10-16.

Carrier for magnetron sputtering

Номер патента: CN206467284U. Автор: 吴惠明,葛青,郝立鹏,杜成锐. Владелец: Kersen Technology Dongtai Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-05.

Electric source for magnetron

Номер патента: JPS63261695A. Автор: 石山　国雄. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1988-10-28.

Protection circuit for magnetron modulation circuit

Номер патента: JPH0728687Y2. Автор: 倫一 濱田. Владелец: Icom Inc. Дата публикации: 1995-06-28.

CERAMIC PARTS FOR MAGNETRON AND MANUFACTURING METHOD THEREOF

Номер патента: JP7293052B2. Автор: 英樹 佐藤,政則 星野. Владелец: Toshiba Materials Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-19.

Method of manufacturing targets for magnetron atomization

Номер патента: RU1785808C. Автор: Александр Васильевич Степаненко,Всеволод Алексеевич Хлебцевич,Владимир Иванович Пилипенко,Владимир Афанасьевич Варавин,Виктор Иванович Любимов,Виктор Митрофанович Татаринский. Владелец: Белорусский Политехнический Институт. Дата публикации: 1993-01-07.

Method for magnetron sputtering coppering film on SiC micro-particle surface

Номер патента: CN101135045A. Автор: 李勇,沈志刚,范洪涛,徐政,俞晓正,裴小科. Владелец: Shenzhen Micro-Nami Super Skin Material Co Ltd. Дата публикации: 2008-03-05.

Method for magnetron sputtering preparation of (HA+Zro#-[2]+Y#-[2]O#-[3])/Ti#-[6]Al#-[4]V bio-based composites endosteal implant

Номер патента: CN1321222C. Автор: 张钊,赵玉涛,戴起勋,李素敏,林东洋. Владелец: Jiangsu University. Дата публикации: 2007-06-13.

Electric source for magnetron

Номер патента: JPS6319791A. Автор: 良一 上村,晋 渡辺,義和 横瀬. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1988-01-27.

A kind of vertical mask clamping fixture for magnetron sputtering technique

Номер патента: CN204125520U. Автор: 徐晓. Владелец: KUNSHAN WANFENG ELECTRONICS CO Ltd. Дата публикации: 2015-01-28.

Power supply for magnetron drive

Номер патента: JP3501132B2. Автор: 伸一 酒井,武 北泉,久 森川,健治 安井,嘉朗 石尾. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2004-03-02.

Manufacture of anode for magnetron

Номер патента: JPS533770A. Автор: Masahiro Yoshida,Koji Saito,Toshimitsu Yamashita. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1978-01-13.

Ti target material for magnetron sputtering

Номер патента: JP2720755B2. Автор: 昭史 三島,▲あきら▼ 清野. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 1998-03-04.

Integral type for magnetron sputtering production line sputters round target

Номер патента: CN208201109U. Автор: 杨林,金炯�,姜琼. Владелец: Hangzhou Vacuum Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-12-07.

Filter device for magnetron

Номер патента: JPS62150630A. Автор: Mamoru Kurokuzuhara,黒葛原　守. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1987-07-04.

Mechanism for magnetron sputtering of materials

Номер патента: UA77061C2. Автор: Kurban Khodzha Ogly Bierdyiev,Oleksandr Viktorovych Kabin,Mykola Mykolaiovych Kazimirov,Volodymyr Oleksandrovyc Kudlai. Владелец: Volodymyr Oleksandrovyc Kudlai. Дата публикации: 2006-10-16.

Manufacture for anode for magnetron

Номер патента: JPS53112658A. Автор: Masahiro Yoshida,Toshimitsu Yamashita. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1978-10-02.

Improvements in or relating to magnet systems for magnetrons

Номер патента: AU222417B2. Автор: Anthonioz vande Goor Johannes. Владелец: Philips Gloeilampenfabrieken NV. Дата публикации: 1958-09-25.

X-ray generator

Номер патента: RU2325052C2. Автор: Геннадий Яковлевич Надыкто. Владелец: Курышев Валерий Викторович. Дата публикации: 2008-05-20.

Composite target for spraying and method of its production

Номер патента: RU2392686C1. Автор: Вадим Георгиевич Глебовский. Владелец: Вадим Георгиевич Глебовский. Дата публикации: 2010-06-20.

METHODS OF FORMING A CONDUCTIVE TRANSPARENT OXIDE FILM LAYER FOR USE IN A CADMIUM TELLURIDE BASED THIN FILM PHOTOVOLTAIC DEVICE

Номер патента: US20120003784A1. Автор: . Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS OF ARC PREVENTION DURING RF SPUTTERING OF A THIN FILM ON A SUBSTRATE

Номер патента: US20120000767A1. Автор: Halloran Sean Timothy. Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

SPUTTERING TARGETS INCLUDING EXCESS CADMIUM FOR FORMING A CADMIUM STANNATE LAYER

Номер патента: US20120000776A1. Автор: Feldman-Peabody Scott Daniel. Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHODS OF FORMING A CONDUCTIVE TRANSPARENT OXIDE FILM LAYER FOR USE IN A CADMIUM TELLURIDE BASED THIN FILM PHOTOVOLTAIC DEVICE

Номер патента: US20120003772A1. Автор: . Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS FOR SPUTTERING A RESISTIVE TRANSPARENT BUFFER THIN FILM FOR USE IN CADMIUM TELLURIDE BASED PHOTOVOLTAIC DEVICES

Номер патента: US20120000768A1. Автор: . Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Plasma source and its operating process

Номер патента: RU2219683C2. Автор: В.С. Сыромятников,В.В. Гопанчук,А.Н. Нестеренко,А.И. Корякин,В.П. Агеев. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие Российского авиационно-космического агентства "Опытное конструкторское бюро "Факел". Дата публикации: 2003-12-20.

METHODS OF ARC DETECTION AND SUPPRESSION DURING RF SPUTTERING OF A THIN FILM ON A SUBSTRATE

Номер патента: US20120000765A1. Автор: Halloran Sean Timothy. Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method for detecting and compensating for radio link timimg errors

Номер патента: MY133595A. Автор: Lundh Peter,Müller Walter,Nyberg Bo. Владелец: Ericsson Telefon Ab L M. Дата публикации: 2007-11-30.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.