Method for manufacturing cathodes for magnetron sputtering installations made of refractory metals
Номер патента: RU2763719C1
Опубликовано: 30-12-2021
Автор(ы): Александр Иосифович Блесман, Алексей Аркадьевич Фёдоров, Антон Сергеевич Демин, Денис Андреевич Полонянкин, Николай Владимирович Бобков, Сергей Валерьевич Петроченко, Юлия Олеговна Бредгауэр
Принадлежит: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Омский государственный технический университет"(ОмГТУ)
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 30-12-2021
Автор(ы): Александр Иосифович Блесман, Алексей Аркадьевич Фёдоров, Антон Сергеевич Демин, Денис Андреевич Полонянкин, Николай Владимирович Бобков, Сергей Валерьевич Петроченко, Юлия Олеговна Бредгауэр
Принадлежит: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Омский государственный технический университет"(ОмГТУ)
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for making Ni-Si magnetron sputtering targets and targets made thereby
Номер патента: US20020144902A1. Автор: Eugene Ivanvov. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-10.