Deposition by impulse magnetron dispersion with pre-ionisation
Номер патента: RU2364661C2
Опубликовано: 20-08-2009
Автор(ы): Жан БРЕТАНЬ, Жан-Пьер ДОШО, Михай ГАНЧИУ-ПЕТКУ, Мишель ТУЗО, Мишель ЭКК
Принадлежит: Матерья Нова Асбл, Сантр Насьональ Де Ла Решерш Сьентифик (Снрс), Юниверсите Пари-Сюд
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 20-08-2009
Автор(ы): Жан БРЕТАНЬ, Жан-Пьер ДОШО, Михай ГАНЧИУ-ПЕТКУ, Мишель ТУЗО, Мишель ЭКК
Принадлежит: Матерья Нова Асбл, Сантр Насьональ Де Ла Решерш Сьентифик (Снрс), Юниверсите Пари-Сюд
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Thin film deposition by sputtering
Номер патента: CA1209953A. Автор: Henry T. Hidler,Lawrence L. Hope,Ernest A. Davey. Владелец: GTE Products Corp. Дата публикации: 1986-08-19.