Temperature control apparatus for heat treating semiconductor substrate based on high pressure gas
Номер патента: KR101576057B1
Опубликовано: 09-12-2015
Автор(ы): 류재익, 신철희, 오동엽, 이우영, 임근영
Принадлежит: 주식회사 풍산
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 09-12-2015
Автор(ы): 류재익, 신철희, 오동엽, 이우영, 임근영
Принадлежит: 주식회사 풍산
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Pipeline temperature control device and pipeline temperature control method
Номер патента: EP4455826A1. Автор: Caifeng HU. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-30.