Amplification of resist structures of fluorinated resist polymers by structural growth of the structures by targeted chemical bonding of fluorinated oligomers
Номер патента: US6759184B2
Опубликовано: 06-07-2004
Автор(ы): Christian Eschbaumer, Christoph Hohle, Jorg Rottstegge, Michael Sebald, Waltraud Herbst
Принадлежит: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 06-07-2004
Автор(ы): Christian Eschbaumer, Christoph Hohle, Jorg Rottstegge, Michael Sebald, Waltraud Herbst
Принадлежит: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Resist for photolithography having reactive groups for subsequent modification of the resist structures
Номер патента: US20030143484A1. Автор: Michael Sebald,Jorg Rottstegge. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2003-07-31.