Capacitively coupled plasma equipment with uniform plasma density
Номер патента: US20140141619A1
Опубликовано: 22-05-2014
Автор(ы): Ikuo Sawada
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 22-05-2014
Автор(ы): Ikuo Sawada
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Adaptively coupled plasma source having uniform magnetic field distribution and plasma chamber having the same
Номер патента: WO2007046654A1. Автор: Nam Hun Kim. Владелец: Adaptive Plasma Technology Corp.. Дата публикации: 2007-04-26.