Vaccuum processing appratus and the processing method of the same
Номер патента: KR100950987B1
Опубликовано: 02-04-2010
Автор(ы): 송웅섭, 엄세훈, 윤광섭, 이용관
Принадлежит: 주식회사 플라즈마트
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 02-04-2010
Автор(ы): 송웅섭, 엄세훈, 윤광섭, 이용관
Принадлежит: 주식회사 플라즈마트
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium
Номер патента: EP4141911A1. Автор: Naofumi Ohashi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-01.