Substrate processing device, substrate processing method, and storage medium storing program for causing computer to execute method for controlling substrate processing device
Номер патента: US20200066510A1
Опубликовано: 27-02-2020
Автор(ы): Satoru Yamamoto, Yu Machida
Принадлежит: Ebara Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 27-02-2020
Автор(ы): Satoru Yamamoto, Yu Machida
Принадлежит: Ebara Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Substrate processing apparatus, polishing head, and substrate processing method
Номер патента: US20210362285A1. Автор: Toshimitsu IGATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-11-25.