Method of controlling the differential dissolution rate of photoresist compositions, polycyclic olefin polymers and monomers used for making such polymers
Номер патента: US7341816B2
Опубликовано: 11-03-2008
Автор(ы): CHUN Chang, Hiroshi Ito, Howard A. Sidaway, Larry F. Rhodes, Leah J. Langsdorf
Принадлежит: International Business Machines Corp, PROMERUS LLC
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 11-03-2008
Автор(ы): CHUN Chang, Hiroshi Ito, Howard A. Sidaway, Larry F. Rhodes, Leah J. Langsdorf
Принадлежит: International Business Machines Corp, PROMERUS LLC
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of enhancing photoresist anti-etching ability
Номер патента: US20020177075A1. Автор: Ching-Yu Chang. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2002-11-28.