Insulating layer for semiconductors having organic-inorganic composite and method for preparing the same
Номер патента: KR100843744B1
Опубликовано: 04-07-2008
Автор(ы): 김재헌, 장원봉, 최승혁, 한학수
Принадлежит: 연세대학교 산학협력단
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 04-07-2008
Автор(ы): 김재헌, 장원봉, 최승혁, 한학수
Принадлежит: 연세대학교 산학협력단
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Resist underlayer film-forming composition and method for forming resist pattern using the same
Номер патента: US12072631B2. Автор: Yasunobu Someya,Hiroyuki Wakayama,Ryuta Mizuochi,Shou SHIMIZU. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-08-27.