Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

Liner assemblies for substrate processing systems

Номер патента: US10344380B2
Опубликовано: 09-07-2019
Автор(ы): Arash Abedijaberi, Shawn George Thomas
Принадлежит: GlobalWafers Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Liner assemblies for substrate processing systems

Номер патента: US12071686B2. Автор: Shawn George Thomas,Arash Abedijaberi. Владелец: GlobalWafers Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Substrate processing method

Номер патента: US20230235457A1. Автор: Ji Hyun Cho,Hong Min Yoon,Jae Sung Roh,Chul Joo Hwang,Cheong SON,Se Whan JIN,Hong Soo YOON,Youn Joo JANG. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-27.

Chamber liner for substrate processing apparatus

Номер патента: US20240150898A1. Автор: Hirotsugu Sugiura,Yoshiyuki Kikuchi,Koei Aida,Alexey REMNEV,Lingjun Xue. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-05-09.

Pedestal for substrate processing chambers

Номер патента: US12000048B2. Автор: JIAN Li,Kwangduk Douglas Lee,Sungwon Ha,Prashant Kumar KULSHRESHTHA,Sarah Michelle Bobek,Venkata Sharat Chandra PARIMI,Vinay K. PRABHAKAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-04.

Delivery of high concentrations of molecular hydrogen and other gases to substrate processing systems

Номер патента: WO2022266159A1. Автор: Christopher J. Pena,Anthony John Ricci,Ramon Liwanag BUAN,Wayne Edward RICHTER,Marissa Elena Ortiz AMAYA. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2022-12-22.

Rf assembly for substrate processing systems

Номер патента: WO2023163854A1. Автор: David French,Miguel Benjamin Vasquez. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-08-31.

Isolator apparatus and methods for substrate processing chambers

Номер патента: US11827980B2. Автор: Tuan Anh Nguyen,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Amit Kumar BANSAL,Nitin Pathak,Badri N. RAMAMURTHI,Thomas Rubio. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-28.

Use of an asymmetric waveform to control ion bombardment during substrate processing

Номер патента: WO1999028524A1. Автор: Sebastien Raoux,Mandar Mudholkar. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 1999-06-10.

Substrate Processing Apparatus and Substrate Processing Method

Номер патента: US20180037995A1. Автор: Takayuki Karakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-08.

Substrate processing apparatus having ground electrode

Номер патента: US09970111B2. Автор: Kohei Fukushima,Takeshi Ando,Koichi Shimada,Hiroyuki Matsuura,Yutaka Motoyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Solenoid bank with standby solenoid valves for controlling pneumatic valves of a substrate processing system

Номер патента: US20230274915A1. Автор: Swajeeth Pilot PANCHANGAM,Vinayakaraddy GULABAL,Yeshwanth SAGHI,Keerthi GOWDARU. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-08-31.

Substrate Processing Apparatus, Method of Manufacturing Semiconductor Device and Substrate Processing Method

Номер патента: US20220090260A1. Автор: Hirohisa Yamazaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-03-24.

Substrate Processing Apparatus, Substrate Processing Method, Method of Manufacturing Semiconductor Device and Non-transitory Computer-readable Recording Medium

Номер патента: US20230081219A1. Автор: Hirohisa Yamazaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240301555A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Precoat method for substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240191349A1. Автор: Atsushi Tanaka,Taichi Monden. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Showerhead for substrate processing systems

Номер патента: WO2023177570A1. Автор: Leonard Kho,Simon Chan,Xiaolan Ba,Arun Kumar HOSUR SHIVALINGE GOWDA,Ravi Parmar,Ashwin Agathya Boochakravarthy,Zhongbo YAN,Vishalsagar KITTUR,Lav KAUSHIK,Tae Won Suh. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-09-21.

Improved heater for use in substrate processing apparatus to deposit tungsten

Номер патента: EP1080485A1. Автор: Jun Zhao,Talex Sajoto,Leonid Selyutin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-03-07.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and semiconductor device

Номер патента: US09496134B2. Автор: Shinya Sasaki,Yuji Takebayashi,Shintaro Kogura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-11-15.

Purging toxic and corrosive material from substrate processing chambers

Номер патента: WO2024081135A1. Автор: Eunsuk Ko,Michael Rumer,Jonathan PYLE,Shawn TOKAIRIN,Ravi Parmar,Soonton NUISUD,Raymond JONATHANS,Raees Amer DEEN,Sai RACHAKONDA,Nishant CHOUHAN,Jun-Hwa PARK,Ashwin Agathya Boochakravarthy. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-04-18.

Substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230091850A1. Автор: Yuji Takebayashi,Shota Tanaka,Yusaku OKAJIMA,Hiroki HATTA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Substrate processing apparatus, method for manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US09816182B2. Автор: HIROSHI Ashihara,Yuichi Wada,Iwao Nakamura,Manabu Izumi,Hideto TATENO,Keishin Yamazaki,Takurou USHIDA. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Method for processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US09768012B2. Автор: Masanori Sakai,Tsutomu Kato,Yuji Takebayashi,Hirohisa Yamazaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-09-19.

Gas injection apparatus and substrate processing apparatus using same

Номер патента: US09732424B2. Автор: Jung-Hwan Lee,Woo-young Park,Tae-Ho Hahm. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12080572B2. Автор: Masahiro DOGOME,Masatomo KITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09816183B2. Автор: HIROSHI Ashihara,Motoshi Sawada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230257877A1. Автор: Yasushi Takeuchi,Manabu Honma,Junnosuke Taguchi,Ibuki HAYASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Substrate processing apparatus and method for processing substrate

Номер патента: US20230245858A1. Автор: Hitoshi Kato,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Processing system with dual ion sources

Номер патента: WO1999059384A1. Автор: James H. Rogers,Terry Bluck,Sean P. Mcginnis. Владелец: INTEVAC, INC.. Дата публикации: 1999-11-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230085592A1. Автор: Jong Sik Kim,Ji Hun Lee. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using rf plasma cycling and purging

Номер патента: US20170011893A1. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-01-12.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using RF plasma cycling and purging

Номер патента: US09899195B2. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using RF plasma cycling and purging

Номер патента: US09478408B2. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Plant for substrate electron-beam physical vapour plating

Номер патента: RU2556197C2. Автор: Йорг ВИТТИХ,Юрген ХОТЦ,Павел ЗЕЗЕРКО,Гельмут ЭБЕРХАРДТ,Манфед КИРШНЕР,Вольфганг РАЙТ. Владелец: Алд Вакуум Текнолоджиз Гмбх. Дата публикации: 2015-07-10.

Continuous substrate processing system

Номер патента: US09748125B2. Автор: Nag B. Patibandla,Li-Qun Xia,Banqiu Wu,Toshiaki Fujita,Pravin K. Narwankar,Ralf Hofmann,Jeonghoon Oh,Srinivas Satya. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing system having the same

Номер патента: US20230416923A1. Автор: Seung Ho Lee,Kee Jun KIM. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12054828B2. Автор: Kohei Fukushima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Batch-type vertical substrate processing apparatus and substrate holder

Номер патента: US09613838B2. Автор: Mitsuhiro Okada,Kazuhide Hasebe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Substrate processing apparatus, method for manufacturing semiconductor device and computer-readable recording medium

Номер патента: US09523150B2. Автор: Hideharu Itatani. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-12-20.

Substrate processing apparatus and spray module of substrate processing apparatus

Номер патента: US20220392790A1. Автор: Jongchul Kim,InWoo BACK,YeongSeop BYEON,InCheol YEO. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-08.

Substrate processing apparatus and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US09530677B2. Автор: Akinori Tanaka,Daisuke Hara,Takatomo Yamaguchi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-12-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20090178762A1. Автор: Hironobu Shimizu,Nobuo Ishimaru. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2009-07-16.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: WO2022238622A1. Автор: Tom Blomberg,Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2022-11-17.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: EP4338191A1. Автор: Tom Blomberg,Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2024-03-20.

Adjustable electrode assembly for use in processing substrates of differing widths in a plasma processing system

Номер патента: SG131038A1. Автор: Thomas V Bolden Ii. Владелец: Nordson Corp. Дата публикации: 2007-04-26.

Substrate processing system

Номер патента: US20240191351A1. Автор: Dieter Pierreux. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing system

Номер патента: US20070026150A1. Автор: Takao Horiuchi,Hiroshi Hattori,Hiroaki Ogamino,Yasuhiro Niimura,Azumi Horiuchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-02-01.

Undercoating coverage and resistance control for escs of substrate processing systems

Номер патента: WO2023146648A1. Автор: Ming Li,Niraj Rana,Pengyi Zhang,Feng Bi,Chunhai Ji,Tu Hong. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US11499224B2. Автор: Tetsuaki Inada,Hideto TATENO. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-11-15.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09970112B2. Автор: Kenichi Suzaki,Yasunobu Koshi,Akihito Yoshino. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20160010210A1. Автор: Hidehiro Yanai. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-01-14.

Diagnostic and control systems and methods for substrate processing systems using DC self-bias voltage

Номер патента: US9404183B2. Автор: Douglas Keil,Edward Augustyniak. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2016-08-02.

Textured silicon liners in substrate processing systems

Номер патента: US09799492B2. Автор: Julian Blake. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2017-10-24.

Textured silicon liners in substrate processing systems

Номер патента: US09437397B2. Автор: Julian Blake. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2016-09-06.

Distribution components for semiconductor processing systems

Номер патента: WO2022020194A1. Автор: Yang Guo,Swaminathan Srinivasan,Philip A. Kraus,Kallol Bera,Nitin Pathak,Anantha K. Subramani,Badri N. RAMAMURTHI,Xiaopu LI,Seyyed Abdolreza Fazeli. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-01-27.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and abnormality detection method

Номер патента: US12087562B2. Автор: Katsuhito Hirose,Kazushi HIKAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12094694B2. Автор: Sumi Tanaka,Tamihiro Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09865454B2. Автор: Hitoshi Kato,Jun Sato,Masato Yonezawa,Hiroyuki Kikuchi,Shigehiro Miura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Textured silicon liners in substrate processing systems

Номер патента: WO2014210141A1. Автор: Julian G. Blake. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2014-12-31.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220189779A1. Автор: Tsuyoshi Takahashi,Yu Nunoshige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-06-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20220293398A1. Автор: WonKi Jeong,DaeYoun Kim,JuIll Lee,Hyungchul Moon,GeunHwi Kim. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-09-15.

Selectively groundable cover ring for substrate process chambers

Номер патента: US09472443B2. Автор: Zhenbin Ge,Muhammad M. Rasheed,Goichi Yoshidome,Kirankumar Savandaiah,William Johanson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-10-18.

Low temperature manifold assembly for substrate processing systems

Номер патента: US20230352276A1. Автор: Gabriel De Jesus SOTO. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-11-02.

Gas spraying apparatus for substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20190157038A1. Автор: Sung Bae KIM,Cheong SON. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-23.

Substrate Processing System with a Damage Preventing Function

Номер патента: US20150129420A1. Автор: Sang Hyun Park,Dong Hyun Lee,Sung Jin Park,Kwang Jin Jeon,Jin Haon Kwon,Hyun Pil Oh. Владелец: SNU PRECISION CO LTD. Дата публикации: 2015-05-14.

Substrate processing system and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230175124A1. Автор: Jiwon KWAK,Songyi Baek,Taemin Kim,Sejin KYUNG,Daewee KONG,Youngtack SIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-08.

Defect control and stability of dc bias in rf plasma-based substrate processing systems using molecular reactive purge gas

Номер патента: US20180347046A1. Автор: Arul Dhas,Christopher Ramsayer,Kareem Boumatar. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-12-06.

Chucking process and system for substrate processing chambers

Номер патента: US20200286716A1. Автор: Ganesh Balasubramanian,Bhaskar Kumar,Vivek Bharat SHAH,Jiheng ZHAO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-09-10.

Chucking process and system for substrate processing chambers

Номер патента: US12020911B2. Автор: Ganesh Balasubramanian,Bhaskar Kumar,Vivek Bharat SHAH,Jiheng ZHAO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-25.

Cooling shield for substrate processing chamber

Номер патента: WO2008133876A2. Автор: Kathleen Scheible,Cristopher Mark Pavloff. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2008-11-06.

Substrate Processing Apparatus and Method of Manufacturing Semiconductor Device

Номер патента: US20240096597A1. Автор: Takeshi Yasui,Koichiro Harada,Katsunori Funaki,Yasutoshi Tsubota. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180033618A1. Автор: Kazuo Yabe,Jun Ogawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-01.

Substrate processing module and laser beam providing method

Номер патента: US20240006167A1. Автор: Yunsang Kim,Kwang Ryul Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180305816A1. Автор: Akira Takahashi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-10-25.

Substrate processing apparatus including processing unit

Номер патента: US09869019B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Substrate processing system, substrate processing method, and controller

Номер патента: US11823877B2. Автор: Satoshi Gomi,Koichi Miyashita,Makoto Horikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Substrate processing system and maintenance method

Номер патента: US20240105478A1. Автор: Takashi Dokan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Control method of substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240153748A1. Автор: Morihito Inagaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US12106941B2. Автор: Chul-Joo Hwang. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Systems and methods for eliminating flourine residue in a substrate processing chamber using a plasma-based process

Номер патента: US09601319B1. Автор: Joydeep Guha,Andrew Stratton Bravo,Amit Pharkya. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20140363587A1. Автор: Jeung Hoon Han,Song Whe Huh. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-11.

Method of performing maintenance on substrate processing apparatus, and the substrate processing apparatus

Номер патента: US20240339307A1. Автор: Takahiro Murakami,Takayuki Suzuki,Yuya MINOURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09960073B2. Автор: Jeung Hoon Han,Song Whe Huh. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09970109B2. Автор: Jun Yoshikawa,Motoshi Fukudome. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Electrostatic chuck, vacuum processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US12014946B2. Автор: Genji Sakata,Hidekazu Yokoo. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Substrate processing apparatus, substrate mounting table cover, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer readable recording medium

Номер патента: US20220415700A1. Автор: Takayuki Sato,Yuichiro Takeshima,Masaki Murobayashi,Tomokazu WAKUI. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-12-29.

Substrate processing module and method of moving a workpiece

Номер патента: US20240258136A1. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Srinivasa Rao Yedla. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing module and method of moving a workpiece

Номер патента: US12080571B2. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Srinivasa Rao Yedla. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing apparatus, method of processing substrate, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09548229B2. Автор: Masamichi Yachi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-01-17.

Substrate processing system with tandem source activation for cvd

Номер патента: US20200199747A1. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie,Karl Frederick Leeser. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2020-06-25.

Substrate processing apparatus and semiconductor device producing method

Номер патента: US20110212626A1. Автор: Masanori Sakai,Tomohiro Yoshimura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-09-01.

Substrate processing apparatus and semiconductor device producing method

Номер патента: US8901011B2. Автор: Masanori Sakai,Tomohiro Yoshimura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2014-12-02.

Substrate Processing Apparatus and Semiconductor Device Producing Method

Номер патента: US20080153309A1. Автор: Masanori Sakai,Tomohiro Yoshimura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2008-06-26.

Coated substrate support assembly for substrate processing

Номер патента: EP4367715A1. Автор: HAO WANG,Yi-Chiau Huang,Songjae Lee,David Jorgensen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-15.

Substrate processing system and method of processing substrates

Номер патента: EP2893557A1. Автор: Erkan Koparal,Oliver Graw. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2015-07-15.

Substrate processing system

Номер патента: US20200411341A1. Автор: George Xinsheng Guo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-12-31.

Processing system and methods for forming void-free and seam-free tungsten features

Номер патента: US20240209500A1. Автор: Kai Wu,Kazuya DAITO,Harpreet Singh,Michael C. Kutney,Peiqi Wang,Wei Min Chan,Xi CEN,Mingrui ZHAO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing system having improved substrate transport system

Номер патента: US20090060689A1. Автор: G. X. Guo,K. A. Wang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-03-05.

Coated substrate support assembly for substrate processing in processing chambers

Номер патента: US20240141488A1. Автор: HAO WANG,Yi-Chiau Huang,Songjae Lee,David Jorgensen,Christopher BEAUDRY. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Coated substrate support assembly for substrate processing in processing chambers

Номер патента: WO2024091303A1. Автор: HAO WANG,Yi-Chiau Huang,Songjae Lee,David Jorgensen,Christopher BEAUDRY. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US09431220B1. Автор: Naofumi Ohashi,Atsuhiko Suda,Kazuyuki Toyoda,Masanori Nakayama,Shun Matsui. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-08-30.

Coated substrate support assembly for substrate processing

Номер патента: WO2023282982A1. Автор: HAO WANG,Yi-Chiau Huang,Songjae Lee,David Jorgensen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-01-12.

Block valve for substrate processing device, and substrate processing device

Номер патента: US20230228339A1. Автор: Tae Ho Lee,Myeong Ki MIN. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-20.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing system, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230099451A1. Автор: Osamu Ueda,Kazuhide Asai,Norihito SHINOZAWA,Takanori KYOGOKU. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240282578A1. Автор: Takayuki Katsunuma,Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Toru Hisamatsu,Shinya Ishikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Reflective deposition rings and substrate processing chambers incorporating same

Номер патента: US09905443B2. Автор: Ashish Goel,Joung Joo Lee,Joseph M. Ranish,Xiaoxiong Yuan,Anantha K. Subramani. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-02-27.

Substrate processing method

Номер патента: SG177250A1. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii,Hideto Nagashima. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-02-28.

Substrate processing apparatus, semiconductor device manufacturing method, substrate processing method, and recording medium

Номер патента: US09543220B2. Автор: Takeo Sato. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-01-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240254628A1. Автор: Manabu Honma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus, program, storage medium and conditioning necessity determining method

Номер патента: US20090143890A1. Автор: Daisuke Morisawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-06-04.

Substrate processing apparatus, program, storage medium and conditioning necessity determining method

Номер патента: US8255072B2. Автор: Daisuke Morisawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-08-28.

Substrate processing tool with integrated metrology and method of using

Номер патента: US20190295870A1. Автор: Robert Clark,Kandabara Tapily. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-09-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12091753B2. Автор: Manabu Honma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus including heat-shield plate

Номер патента: US09953850B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang,Sung-Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Substrate processing apparatus including auxiliary gas supply port

Номер патента: US09593415B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang,Sung-Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Substrate processing system, control device, and substrate processing method

Номер патента: US20180254222A1. Автор: Masami Oikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-09-06.

Multi-chamber substrate processing platform

Номер патента: US11860528B2. Автор: Sanjay Bhat,Ribhu GAUTAM,Vibhu Jindal,Vinodh RAMACHANDRAN,Praveen Kumar Choragudi,Arun Rengaraj. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-02.

Continuous plasma and rf bias to regulate damage in a substrate processing system

Номер патента: WO2013151971A1. Автор: Huatan Qiu,Liqi Wu,Yung Yi Lee. Владелец: NOVELLUS SYSTEMS, INC.. Дата публикации: 2013-10-10.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20170178945A1. Автор: Won-Guk SEO,Yong-Won Choi,Sang-jin Lee,Seok Heo,Yong-Bum JUNG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-22.

Multi-chamber substrate processing platform

Номер патента: WO2022140147A1. Автор: Sanjay Bhat,Ribhu GAUTAM,Vibhu Jindal,Vinodh RAMACHANDRAN,Praveen Kumar Choragudi,Arun Rengaraj. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-06-30.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and program

Номер патента: US9153430B2. Автор: Jie Wang,Takaaki Noda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2015-10-06.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230102650A1. Автор: Sungjoo An,Janghee Lee,Geuno JEONG,Seran OH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220251709A1. Автор: Takafumi Niwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-11.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240290609A1. Автор: Tadahiro Ishizaka,Takashi Sakuma,Yoshiyuki Hanada,Kunihiro Tada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12087598B2. Автор: Takashi Tsukamoto,Akinori Tanaka,Sadayoshi Horii,Daisuke Hara,Masahisa OKUNO,Toru Kakuda,Hideto TATENO,Takuya Joda. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US12091751B2. Автор: Satoshi Takano,Naofumi Ohashi,Tomihiro Amano. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus including exhaust ports and substrate processing method

Номер патента: US09875895B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang,Sung-Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-23.

Coating system and method for coating interior fluid wetted surfaces of a component of a semiconductor substrate processing apparatus

Номер патента: US09873940B2. Автор: Tom Stevenson,LIN Xu,Hong Shih,John Daugherty,John Michael Kerns,Robert Griffith O'Neill,Nash Anderson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-01-23.

Method of manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US09472398B2. Автор: Tatsuyuki Saito,Masanori Sakai,Yukinao Kaga,Takashi Yokogawa. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-10-18.

Dynamic temperature control of substrate support in substrate processing system

Номер патента: US11908715B2. Автор: Ramesh Chandrasekharan,Sairam Sundaram,Aaron Durbin. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-02-20.

Method and apparatus for substrate fabrication

Номер патента: WO2020101814A1. Автор: Srinivas Gandikota,Sanjay Natarajan,Sung-Kwan Kang,Gill Lee,Priyadarshi PANDA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-05-22.

Substrate processing tube, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the apparatus

Номер патента: US20240011154A1. Автор: Jaehyung Lee,Hyunju Lee,Hyouncheol Kim,Byunghwan Kong,ByeongHoon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-11.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220384151A1. Автор: Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Recipe creation method or apparatus utilizing a series of steps according to a target recipe file for semiconductor manufacturing or substrating processing

Номер патента: US12066815B2. Автор: Takatoshi Seki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12065746B2. Автор: Masaki Inaba,Yasutoshi Okuno,Akihisa Iwasaki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230282505A1. Автор: Satoshi Takano,Naofumi Ohashi,Atsushi Moriya,Yukinori Aburatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-07.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230057538A1. Автор: Chul-Joo Hwang,Duck Ho Kim,Il Hyong CHO. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-23.

Substrate processing device, manufacturing method for semiconductor device, and reaction tube

Номер патента: US12062546B2. Автор: Tomoshi Taniyama,Takayuki Nakada,Hidenari YOSHIDA,Shigeru Odake. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09875920B1. Автор: Yasuhiro Mizuguchi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-01-23.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09659767B2. Автор: HIROSHI Ashihara,Atsushi Sano,Hidehiro Yanai,Tadashi Takasaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-05-23.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09502239B2. Автор: Masahisa OKUNO,Hideto TATENO,Takuya Joda,Masamichi Kurokawa,Tooru KAKUDA. Владелец: AZ Electronic Materials Luxembourg SARL. Дата публикации: 2016-11-22.

Substrate processing system with multiple processing devices deployed in shared ambient emvironment and associated methods

Номер патента: WO2012047531A3. Автор: Jeffrey Marks,David J. Hemker,Lubab L. Sheet. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-06-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240240321A1. Автор: Jin An JUNG,Da Un Jung,In Woo BACK. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus and method of cleaning the same

Номер патента: US20190055647A1. Автор: Kook Tae Kim,Bongjin Kuh,In-Sun Yi,Soojin HONG,Sukjin CHUNG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-02-21.

Valve module and substrate processing device comprising the same

Номер патента: US12092235B2. Автор: Jae Min Lee,Sang Min Kim. Владелец: Presys Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and method of processing substrate

Номер патента: US09695511B2. Автор: Hitoshi Murata,Masaaki Ueno,Tetsuya Kosugi,Masashi Sugishita. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-07-04.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20190228992A1. Автор: Masami Oikawa,Keisuke Fujita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-07-25.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and program

Номер патента: EP4060077A2. Автор: Taketoshi Sato,Makoto Sambu,Hideharu Itatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-09-21.

Substrate processing tool with integrated metrology and method of using

Номер патента: US11769677B2. Автор: Robert Clark,Kandabara Tapily. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and substrate support

Номер патента: US20230304149A1. Автор: Kenichi Suzaki,Yuma IKEDA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Method of manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US20110294280A1. Автор: Yoshiro Hirose,Yushin Takasawa,Hajime Karasawa. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-12-01.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20190153602A1. Автор: Shinichiro Misaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-05-23.

Adjustable fluid inlet assembly for a substrate processing apparatus and method

Номер патента: US12110588B2. Автор: Marko Pudas,Vaino Kilpi,Timo Malinen. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2024-10-08.

Substrate processing method and control apparatus

Номер патента: US09798317B2. Автор: Katsuhiko Komori,Yuichi Takenaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180164702A1. Автор: Naofumi Ohashi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-06-14.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180195178A1. Автор: Masayuki Otsuji. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240258107A1. Автор: kana Tahara,Masaki Inaba,Ryo Muramoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Ferrite core assembly for plasma generator and plasma process system having the same

Номер патента: KR100760026B1. Автор: 위순임. Владелец: 주식회사 뉴파워 프라즈마. Дата публикации: 2007-09-20.

Cleaning assemblies for substrate processing chambers

Номер патента: WO2022203869A1. Автор: Saket Rathi,Tuan Anh Nguyen,Amit Kumar BANSAL,Nitin Pathak,Yuxing Zhang,Badri N. RAMAMURTHI,Thomas Rubio,Dharma Ratnam SRICHURNAM,Udit S. KOTAGI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-09-29.

Cleaning assemblies for substrate processing chambers

Номер патента: US12012653B2. Автор: Saket Rathi,Tuan Anh Nguyen,Amit Kumar BANSAL,Nitin Pathak,Yuxing Zhang,Badri N. RAMAMURTHI,Thomas Rubio,Dharma Ratnam SRICHURNAM,Udit S. KOTAGI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Bimetallic faceplate for substrate processing

Номер патента: WO2024081087A1. Автор: Chih-Yang Chang,Yao-Hung Yang,Sudhir R. Gondhalekar,Gaurav Shrivastava,Pavankumar Ramanand HARAPANHALLI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-18.

Bimetallic faceplate for substrate processing

Номер патента: US20240124980A1. Автор: Chih-Yang Chang,Yao-Hung Yang,Sudhir R. Gondhalekar,Gaurav Shrivastava,Pavankumar Ramanand HARAPANHALLI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-18.

Movable liner assembly for a deposition zone in a CVD reactor

Номер патента: US09982346B2. Автор: Gregg Higashi,Lori D. Washington,Khurshed Sorabji. Владелец: Awbscqemgk Inc. Дата публикации: 2018-05-29.

Liner assembly for chemical vapor deposition chamber

Номер патента: US9695508B2. Автор: David K. Carlson,Mehmet Tugrul Samir,Nyi O. Myo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-07-04.

Electrical break for substrate processing systems

Номер патента: US20240339302A1. Автор: Andrew Nguyen,Tom K. Cho,Yogananda SARODE VISHWANATH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-10.

Vapor supply for substrate processing systems

Номер патента: WO2024118124A1. Автор: Ashwin Kumar,Kevin Gerber,Jorge Reyes,Rigel Martin BRUENING,Curtis W. BAILEY,Jiuyuan Nie,Avinash JAISWAL,Mohammadreza BABAEI,Kyle Starr ODUM. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-06-06.

Processing system and methods to co-strike plasma to enhance tungsten growth incubation delay

Номер патента: US20240274407A1. Автор: Kelvin Chan,Kai Wu,David Peterson,Peiqi Wang,Mingrui ZHAO,Ping-Hwa HSIEH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Processing system and methods to co-strike plasma to enhance tungsten growth incubation delay

Номер патента: WO2024172880A1. Автор: Kelvin Chan,Kai Wu,David Peterson,Peiqi Wang,Mingrui ZHAO,Ping-Hwa HSIEH. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-22.

Multi-plenum gas manifolds for substrate processing systems

Номер патента: WO2024010692A1. Автор: Sushanth KONDI,Janardhan Achari Murkai SITHARAMACHARI,Premkumar RAJAGOPAL. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-01-11.

Substrate processing apparatus, pressure control method for substrate processing apparatus and recording medium having program recorded therein

Номер патента: US20060086259A1. Автор: Taketoshi Okajo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-04-27.

Substrate processing apparatus and cleaning method

Номер патента: US20220223382A1. Автор: Wataru Shimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-07-14.

Substrate processing system including dual ion filter for downstream plasma

Номер патента: US20240266147A1. Автор: Mark Kawaguchi,Stephen Whitten,Dan Zhang,Himanshu CHOKSHI,Shih-Chung Kon,Gnanamani Amburose,Chih-Hsun Hsu,Andrew Stratton Bravo,Serge Kosche. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-08.

Gas inlet tube assembly for an improved gas mixture in a substrate processing apparatus

Номер патента: US20240124981A1. Автор: DongRak Jung,Jongsu Kim,Arun THOTTAPPAYIL. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-04-18.

Showerhead for substrate processing tool

Номер патента: WO2024129270A1. Автор: Bin Luo,Sean M Donnelly,Eric Madsen,Keith Joseph Martin,Jeffrey Womack. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-06-20.

Processing system containing a hot filament hydrogen radical source for integrated substrate processing

Номер патента: WO2008042691A3. Автор: Tsukasa Matsuda,Isamu Sakuragi. Владелец: Isamu Sakuragi. Дата публикации: 2008-05-22.

Improving chemistry utilization by increasing pressure during substrate processing

Номер патента: WO2024076576A1. Автор: Gopinath Bhimarasetti,Nathaniel Elba RICHEY. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-04-11.

Substrate processing device and method for measuring process gas temperature and concentration

Номер патента: US20240241042A1. Автор: Yuji Obata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Method of cleaning substrate processing apparatus

Номер патента: US09925571B2. Автор: Akihiro Kikuchi,Mitsuhiro Tomura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09732421B2. Автор: Tsukasa Kamakura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-08-15.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09587314B2. Автор: Taketoshi Sato,Hiroaki Hiramatsu,Yukitomo Hirochi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-03-07.

Processing gas diffusing and supplying unit and substrate processing apparatus

Номер патента: US09484213B2. Автор: Toshifumi Ishida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240282557A1. Автор: Jinuk Park,Euijin Park,Dongyup Choo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Ignition control method, film formation method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240312763A1. Автор: Takeshi Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09869022B2. Автор: Motoshi Sawada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-01-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09487863B2. Автор: Kazuyuki Toyoda,Kazuhiro Morimitsu,Shun Matsui. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-11-08.

Systems and methods for flow monitoring in a precursor vapor supply system of a substrate processing system

Номер патента: US20200407849A1. Автор: Adrien Lavoie,Jun Qian,Purushottam Kumar,Sung Je Kim,You Zhai,Jeremiah Baldwin. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2020-12-31.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240309506A1. Автор: Sung Hwan Lee,Kun Woo Park,Woo Young Park,Jae Jin Han. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4451310A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Hyen Woo Chu. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-10-23.

Pedestal shroud to direct flow of process gases and byproducts in substrate processing systems

Номер патента: WO2023172507A1. Автор: Panya Wongsenakhum,Ravikumar PATIL,Arun Kumar HOSUR SHIVALINGE GOWDA,Sachin Allamaprabhu KUBASAD,Sandeep GEHANI. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-09-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240295024A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi,Makoto Takahashi,Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240295023A1. Автор: Makoto Takahashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Plasma processing apparatus and liner assembly for tuning electrical skews

Номер патента: WO2012012200A1. Автор: Shahid Rauf,Kenneth S. Collins,James D. Carducci,Zhigang Chen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-26.

Chiller make-break connector for substrate processing systems

Номер патента: US12074039B2. Автор: Alexander Charles Marcacci. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Pulsed voltage boost for substrate processing

Номер патента: US11776788B2. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Slide and pivot assemblies for process module bias assemblies of substrate processing systems

Номер патента: US20230154772A1. Автор: BIN Yuan,Michael C. Kellogg,David William Paquet,Dexter Yuk Hing CHONG. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-05-18.

Chiller make-break connector for substrate processing systems

Номер патента: US20230116577A1. Автор: Alexander Charles Marcacci. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-04-13.

Heating plate with heating zones for substrate processing and method of use thereof

Номер патента: US09646861B2. Автор: Harmeet Singh,Neil Benjamin,Keith Comendant,Keith Gaff. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-05-09.

High precision edge ring centering for substrate processing systems

Номер патента: US20230369025A1. Автор: Seetharaman Ramachandran,Hui Ling Han,Marc Estoque. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Semiconductor processing system having multiple decoupled plasma sources

Номер патента: US09947557B2. Автор: Richard Gottscho,Harmeet Singh,Peter L. G. Ventzek,John Patrick Holland. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-04-17.

Substrate processing system including rf matching circuit for multi-frequency, multi-level, multi-state pulsing

Номер патента: US20240355588A1. Автор: Seyed Jafar Jafarian-Tehrani. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-24.

Methods for removing contamination from surfaces in substrate processing systems

Номер патента: US09805914B2. Автор: Chun Yan,Xinyu Bao,Adam Lane,Zhenwen Ding,Teng-Fang Kuo,Jim Zhongyi He. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Methods and apparatus for treating exhaust gas in a processing system

Номер патента: US09597634B2. Автор: Daniel O. Clark,Colin John Dickinson,Mehran Moalem. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-03-21.

Long-life high-power terminals for substrate support with embedded heating elements

Номер патента: WO2020061019A1. Автор: Siyuan Tian. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2020-03-26.

Substrate processing system including coil with RF powered faraday shield

Номер патента: US12087557B2. Автор: SHEN Peng,Anthony Nguyen,Dan Marohl,Tamarak Pandhumsoporn. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US12051571B2. Автор: Tatsuya Yamaguchi,Syuji Nozawa,Kazuya Ichiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Table for use in plasma processing system and plasma processing system

Номер патента: US20080038162A1. Автор: Akira Koshiishi,Shinji Himori,Shoichiro Matsuyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-02-14.

Substrate processing system for processing of a plurality of substrates and method of processing a substrate in an in-line substrate processing system

Номер патента: WO2024003603A1. Автор: Dieter Haas,Henning AUST,Takashi Anjiki,Jörg SCHULER,Jürgen Henrich,Sebastian Gunther ZANG. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240224238A1. Автор: Tomoshi Taniyama,Takayuki Nakada,Kenji Shirako,Daigi KAMIMURA,Hironori Shimada,Akira Horii,Norihiro YAMASHIMA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240243019A1. Автор: Masanori Nakayama,Hiroki Kishimoto,Hiroto Igawa,Yuki Yamakado,Yuichiro Takeshima,Yasutoshi Tsubota. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Plasma shutter and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240096606A1. Автор: Hyungsik KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09818600B2. Автор: Takayuki Sato. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Semiconductor Processing System Having Multiple Decoupled Plasma Sources

Номер патента: US20120289054A1. Автор: Richard Gottscho,Harmeet Singh,Peter L. G. Ventzek,John Patrick Holland. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2012-11-15.

Substrate processing system

Номер патента: US20210057243A1. Автор: Takashi Kumagai,Keisuke Yoshimura,Akira Kodashima,Suguru Motegi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-02-25.

Semiconductor Processing System Having Multiple Decoupled Plasma Sources

Номер патента: US20150044878A1. Автор: Richard Gottscho,Harmeet Singh,John Patrick Holland,Peter L.G. Ventzek. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2015-02-12.

Substrate processing apparatus and method of driving relay member

Номер патента: US20220037125A1. Автор: Shin Matsuura,Nobutaka Sasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-02-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12080526B2. Автор: Do Hyung Kim,Young Woon Kim,Woong Kyo Oh,Kwang Su YOO,Yun Gyu HA. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Internal pressure control apparatus and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240304427A1. Автор: Tae-hyun Kim,Sang Ki Nam,Sung Ho Jang,Seul Gi Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium recording substrate processing program

Номер патента: US09824861B2. Автор: Junya Sato,Yoshikazu Ishikawa,Toshihiko Hamada,Toshiyuki Kobayashi,Masahiro Numakura,Shouichi Otake. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-21.

Electromagnetic dipole for plasma density tuning in a substrate processing chamber

Номер патента: US09779953B2. Автор: Joseph F. Aubuchon,Tza-Jing Gung,Samer Banna. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Substrate processing system carrier

Номер патента: US20240025670A1. Автор: Aaron Green,Andreas Schmid,Nicholas Michael Bergantz,Damon K. Cox. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-25.

Substrate processing system

Номер патента: US20220148858A1. Автор: Daisuke Hayashi,Norihiko Amikura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-12.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US10186422B2. Автор: Keiji Osada,Daisuke Morisawa,Naohide Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-01-22.

Substrate processing device and dielectric plate alignment method

Номер патента: EP4394850A1. Автор: Ju-Young Park,Kwang-Sung YOO. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-07-03.

Upper electrode unit and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240297023A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Seong Min Nam. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240266144A1. Автор: Kyung-Sun Kim,Jaewon Jeong,Naohiko Okunishi,SeungBo SHIM,Kyeongtea BANG,Kihwan Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-08.

Upper electrode unit and substrate processing apparatus comprising same

Номер патента: EP4428897A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Seong Min Nam. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-09-11.

Cooled pin lifter paddle for semiconductor substrate processing apparatus

Номер патента: US09859145B2. Автор: Andreas Fischer,Dean Larson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09455125B2. Автор: Makoto Kobayashi,Jun Tamura,Tetsuji Sato,Akihiro Yoshimura,Hiroshi Tsujimoto,Nobuhiro Wada,Masato Horiguchi,Mamoru NAOI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09330950B2. Автор: Shinji Wakabayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-03.

Gas cooling cover for an exhaust line of a substrate processing system

Номер патента: WO2024054344A1. Автор: Sean M. Donnelly,Andrew BORTH. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-03-14.

Moveable edge rings for plasma processing systems

Номер патента: US20230369026A1. Автор: Darrell EHRLICH,Christopher Kimball,Yuma Ohkura. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Liquid cooling plate for cooling of dielectric window of a substrate processing system

Номер патента: WO2023239531A1. Автор: Hanry ISSAVI,Allan Ronne,Jerrell K. ANTOLIK. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-12-14.

Atomic layer etch and deposition processing systems including a lens circuit with a tele-centric lens, an optical beam folding assembly, or a polygon scanner

Номер патента: WO2019217180A1. Автор: He Zhang,Alan M. Schoepp,Yunsang S. Kim,Keith Wells,Dong Woo Paeng. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2019-11-14.

Atomic layer etch and deposition processing systems including a lens circuit with a tele-centric lens, an optical beam folding assembly, or a polygon scanner

Номер патента: US11984330B2. Автор: He Zhang,Alan M. Schoepp,Yunsang S. Kim,Keith Wells,Dong Woo Paeng. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-05-14.

Substrate processing device, substrate processing system, and method for processing substrate

Номер патента: US20240068068A1. Автор: Daisuke Mori,Masashi Okada,Kazuhiro Sonoda. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-02-29.

Substrate processing method, substrate processing device, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20240120177A1. Автор: Kyung-Sun Kim,Seung Bo SHIM,Tae-Hwa Kim,Ji Mo LEE,Jae Bin KIM,Dong Hyeon Na,Myeong Soo SHIN,Woong Jin CHEON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-11.

Substrate processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220068658A1. Автор: Yasutaka HAMA,Shu Kino,Motoki NORO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20170062245A1. Автор: Sang-Dong Kwon,Sang-Rok Oh,Jong-Woo Sun,Kwang-Nam Kim,Jung-pyo HONG,Yong-Moon Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-03-02.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20220139682A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi,Syuji Nozawa,Kazuya Ichiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230369018A1. Автор: Jaewon Shin,Sangjeong LEE,Jongwon Park,Yoonseok Choi,Kyunghun JANG,Youngun Bong,Hanlim Kang,Hyunwoo Jo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230116739A1. Автор: Sung-Yeol Kim,Sung Yong Lim,Woong Jin CHEON,Sung Hwi Cho,Mee Hyun LIM,Seong Ha JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-13.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240006160A1. Автор: Yunsang Kim,Kwangryul Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Capacitively coupled plasma substrate processing apparatus

Номер патента: US20240258079A1. Автор: Seungho Lee,Taeho Shin,Buil Jeon,JungSu Park,Dooho LIM,Bumsoo ON. Владелец: Innovation For Creative Devices Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20080075640A1. Автор: Teruo Yoshino,Tomohiko Takeda,Nobuo Ishimaru,Katsuyoshi Hamano,Ken Sugihara. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2008-03-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240234093A1. Автор: Sejin Oh,Dougyong Sung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20070009649A1. Автор: Hiroshi Nakamura,Seiichi Kaise. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-01-11.

Systems and Methods for Extracting Process Control Information from Radiofrequency Supply System of Plasma Processing System

Номер патента: US20230298857A1. Автор: Alexei Marakhtanov,John Holland,Felix Leib Kozakevich,Ranadeep BHOWMICK. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Indexed gas jet injector for substrate processing system

Номер патента: US20150376793A1. Автор: David K. Carlson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2015-12-31.

Substrate processing system, controller for substrate processing system and operation method of substrate processing system

Номер патента: US20220033989A1. Автор: Hideki Wakabayashi,Yosuke Nagasawa,Tensei SATO,Kazuma Ideguchi,Shugo Midorikawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2022-02-03.

In-situ film growth rate monitoring apparatus, systems, and methods for substrate processing

Номер патента: US12077880B2. Автор: Yong Zheng,TAO Sheng,Nyi Oo Myo,Zhepeng Cong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Microwave apparatus for in-situ vacuum line cleaning for substrate processing equipment

Номер патента: US6045618A. Автор: Tsutomu Tanaka,David Cheung,Hari Ponnekanti,Kevin Fairbairn,Sebastien Raoux,Mukul Kelkar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-04-04.

Substrate processing system, controller and method using test operation without substrate

Номер патента: US11661669B2. Автор: Hideki Wakabayashi,Yosuke Nagasawa,Tensei SATO,Kazuma Ideguchi,Shugo Midorikawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-05-30.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220285166A1. Автор: Takumi Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Substrate processing apparatus for supplying gas of water repellent agent and substrate processing method

Номер патента: US12042815B2. Автор: Koji Tanaka,Koji Yamashita,Yusuke Yamamoto,Kotaro Tsurusaki,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20200144052A1. Автор: Gentaro Goshi,Keisuke Egashira. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-07.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234170A9. Автор: Kenji Fukushima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Semiconductor substrate processing apparatus and the method thereof

Номер патента: US20230203654A1. Автор: Todd Dunn,Taku Omori,Cheuk Li,Aadil Vora,Paridhi GUPTA. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: US20220068642A1. Автор: Yoshihisa Matsubara,Daisuke Suzuki,Koji Kagawa,Kenji Sekiguchi,Yoshihiro Takezawa,Syuhei YONEZAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Ultrapure water supply apparatus, substrate processing system including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230302502A1. Автор: Jiyeon Lee,Seyoon KIM,Cheolmin SHIN,Jongha Yun,Juhui PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240312800A1. Автор: Hakuba KITAGAWA. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Electrostatic chuck, glass substrate processing method, and said glass substrate

Номер патента: US09866151B2. Автор: Toshifumi Sugawara,Yoshiaki Tatsumi. Владелец: Creative Technology Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US09607867B2. Автор: Yuji Kajihara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20220415643A1. Автор: Anton Koriakin,Kuntack Lee,Hae-Won Choi,Jihoon Jeong,Young-Hoo Kim,Seohyun Kim,Keonyoung KIM,Sukhoon KIM,Sangjine Park PARK. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-29.

Substrate processing apparatus, substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20200006092A1. Автор: Yoshinori Ikeda,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-01-02.

Discharge method, discharge system and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20230052781A1. Автор: Daesoo Kim,Jimin CHOI. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-16.

Substrate processing device, method for controlling substrate processing device, and storage medium storing a program

Номер патента: US10991605B2. Автор: Takuya Tsushima,Junitsu Yamakawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-04-27.

Method for performing preventative maintenance in a substrate processing system

Номер патента: WO2011112968A1. Автор: Robert D. Clark,Cory Wajda,Steven P. CONSIGLIO. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2011-09-15.

Device and method for substrate fast heating and cooling and application of coating thereon in vacuum

Номер патента: RU2550464C2. Автор: Вольфрам МААСС,Бертольд ОККЕР,Юрген ЛАНГЕР,Хельмут ДЖОН. Владелец: Сингулус Текнолоджиз Аг. Дата публикации: 2015-05-10.

Substrate process chamber exhaust

Номер патента: WO2014066067A1. Автор: Paul Brillhart,David ABERLE. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-05-01.

Method for recycling substrate process components

Номер патента: WO2018182886A1. Автор: Brian T. West. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-10-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240376603A1. Автор: Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-14.

Substrate processing apparatus, and magnetic recording medium manufacturing method

Номер патента: US20100025363A1. Автор: Kazuto Yamanaka,Satoshi Hitomi,David Djulianto DJAYAPRAWIRA,Masahiro Shibamoto,Ayumu Miyoshi. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2010-02-04.

Pulsed-voltage hardware assembly for use in a plasma processing system

Номер патента: US20220037120A1. Автор: Kartik Ramaswamy,James Rogers,Rajinder Dhindsa,Olivier Luere,Yue Guo,Leonid Dorf,Evgeny KAMENETSKIY,Linying CUI,Valentin N. Todorow,Jonathan Kolbeck,Daniel Sang BYUN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-02-03.

Window assembly for use in substrate processing systems

Номер патента: WO2011156141A2. Автор: David K. Carlson. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2011-12-15.

Window assembly for use in substrate processing systems

Номер патента: US20110299282A1. Автор: David K. Carlson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-12-08.

Cylinder liner assembly having a thermal barrier coating

Номер патента: US09657682B2. Автор: Curtis John Graham,Daniel Thomas Cavanaugh,Taylor Douglas YOUNG. Владелец: Caterpillar Inc. Дата публикации: 2017-05-23.

Cylinder liner assembly having a thermal barrier coating

Номер патента: US20160356239A1. Автор: Curtis John Graham,Daniel Thomas Cavanaugh,Taylor Douglas YOUNG. Владелец: Caterpillar Inc. Дата публикации: 2016-12-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240014011A1. Автор: Hyun Kim,Kang Hee KIM,Yong Taek Eom. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Gas recycling systems, substrate processing systems, and related apparatus and methods for semiconductor manufacturing

Номер патента: US20240175126A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Mukhles SOWWAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-30.

Gas recycling systems, substrate processing systems, and related apparatus and methods for semiconductor manufacturing

Номер патента: WO2024118117A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Mukhles SOWWAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-06-06.

Pre-treatment compositions and methods for substrate processing

Номер патента: RU2698031C1. Автор: Кевин Т. СИЛЬВЕСТЕР,Адам КОЛКАН,Ричард М. ВАРГАС,Натан Дж. СИЛВЕРНЕЙЛ,Джон Ф. МакИНТАЙР. Владелец: Ппг Индастриз Огайо, Инк.. Дата публикации: 2019-08-21.

Flow metrology calibration for improved processing chamber matching in substrate processing systems

Номер патента: US20240255341A1. Автор: Evangelos T. Spyropoulos,Piyush Agarwal. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Progressive heating of components of substrate processing systems using TCR element-based heaters

Номер патента: US12062554B2. Автор: Easwar Srinivasan,Ramesh Chandrasekharan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

RF reference measuring circuit for a direct drive system supplying power to generate plasma in a substrate processing system

Номер патента: US12106947B2. Автор: Maolin Long. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, electrical power supply system, and electrical power supply method

Номер патента: US20240297054A1. Автор: Naoki Fujiwara,Naoki Matsumoto,Naoki Mihara,Koichi Nagami,Shinya Ishikawa,Shinya Tamonoki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing system and particle removal method

Номер патента: US12062557B2. Автор: Tatsuya Morioka,Daisuke Hara,Akihiro Matsui,Hideyuki Osada,Genichi Nanasaki,Hikaru Nihei. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate processing apparatus and methods

Номер патента: US09972511B2. Автор: Takashi KURATOMI,Brent Biggs. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Direct drive rf circuit for substrate processing systems

Номер патента: US20190385821A1. Автор: Maolin Long,Alexander Paterson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2019-12-19.

Temperature measuring method, substrate processing system and component to be provided in substrate processing apparatus of the substrate processing system

Номер патента: US09952032B2. Автор: Chishio Koshimizu,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and maintenance method

Номер патента: US12040166B2. Автор: Jun Hirose,Atsushi Sawachi,Takuya Nishijima,Ichiro SONE,Suguru Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and maintenance method

Номер патента: US20240339306A1. Автор: Jun Hirose,Atsushi Sawachi,Takuya Nishijima,Ichiro SONE,Suguru Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate processing system, method of managing the same and method of manufacturing semiconductor device with the same

Номер патента: US9859175B2. Автор: Bum-soo Kim,Masayuki Tomoyasu,Kiwook Song,Kye Hyun Baek,Eunwoo LEE,Jong Seo Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-02.

Integrated hardware-software computer vision system for autonomous control and inspection of substrate processing systems

Номер патента: WO2021021501A1. Автор: Scott Baldwin,Hossein SADEGHI,Andrew D. Bailey Iii. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2021-02-04.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and computer-readable storage medium storing substrate processing program

Номер патента: US09675992B2. Автор: Satoshi Kaneko,Yoshihiro Kawaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-13.

Multilayer protective coating for substrate arranged in or outside transport facility, substrate with said coating and method of forming said coating on substrate

Номер патента: RU2471888C2. Автор: Рональд Дж. МОЛЗ,Джеймс Франк ЛИЧ,Кристофер ВАССЕРМАН. Владелец: ЗУЛЬЦЕР МЕТКО (ЮЭс) ИНК.. Дата публикации: 2013-01-10.

Substrate processing system and substrate transfer apparatus and method

Номер патента: US20230282492A1. Автор: Toshiaki Toyomaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180197748A1. Автор: Kazuaki Nishimura,Koji Takeya,Jun Lin. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-07-12.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4231785A1. Автор: Kiyoshi Maeda,Yasuhiko Saito,Atsutoshi Inokuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

Substrate processing system with load-lock chamber

Номер патента: US6805748B1. Автор: Ryo Edo. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-10-19.

Flow metrology calibration for improved processing chamber matching in substrate processing systems

Номер патента: US11959793B2. Автор: Evangelos T. Spyropoulos,Piyush Agarwal. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-04-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20210242058A1. Автор: Noritake SUMI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-05.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12033864B2. Автор: Hiromi Miyashita,Rei Shoji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Substrate processing apparatus, substrate processing module, and semiconductor device fabrication method

Номер патента: US20210148760A1. Автор: Jongwoo SUN,Hyung Joo Lee,Kyeonghun KIM,Jeongil MUN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-05-20.

Substrate processing method

Номер патента: US20110237083A1. Автор: Akira Nakagawa,Yoshinobu Hayakawa,Yusuke Okazaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-09-29.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20200168434A1. Автор: Masanori Nakayama,Teruo Yoshino,Koichiro Harada,Hiroto Igawa,Masaki Murobayashi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-05-28.

Method for recycling substrate process components

Номер патента: US20180281027A1. Автор: Brian T. West. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-10-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240203702A1. Автор: Seungpil Chung,Sungik Park,Yongsu Jang,Jungyoon Yang,Inseong Lim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing apparatus, semiconductor device manufacturing method, and substrate processing method

Номер патента: US20240363309A1. Автор: Naofumi Ohashi,Tsuyoshi Takeda,Teruo Yoshino. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: EP4428898A2. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Progressive heating of components of substrate processing systems using tcr element-based heaters

Номер патента: US20200051834A1. Автор: Easwar Srinivasan,Ramesh Chandrasekharan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2020-02-13.

Progressive heating of components of substrate processing systems using tcr element-based heaters

Номер патента: WO2020033305A1. Автор: Easwar Srinivasan,Ramesh Chandrasekharan. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2020-02-13.

Protection System for Switches in Direct Drive Circuits of Substrate Processing Systems

Номер патента: US20230245873A1. Автор: Maolin Long,Michael John Martin,Alexander Miller PATERSON,Yuhou WANG. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-08-03.

Compliance components for semiconductor processing system

Номер патента: WO2021216453A1. Автор: Viren KALSEKAR. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-10-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234100A9. Автор: Je Ho Kim,Tae Suk Jung. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210366721A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Masaru Izawa,Nobuya MIYOSHI,Kazunori Shinoda,Yutaka Kouzuma. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-11-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180019145A1. Автор: Eiichi Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09799542B2. Автор: Eiichi Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Substrate processing apparatus and maintenance method thereof

Номер патента: US09613837B2. Автор: Ken Horiuchi,Koji Ando,Shigeru Senzaki,Michishige Saito,Shingo Koiwa,Daiki Satoh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Method of processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US09530657B2. Автор: Masahiro Ogasawara,Rui Takahashi,Masafumi Urakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Substrate processing system and method of estimating height of annular member

Номер патента: US20220365187A1. Автор: Toshiaki Kodama,Shinji Wakabayashi,Takehiro Shindo,Tatsuru OKAMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-11-17.

Apparatus for transferring member to be disposed in substrate processing chamber, substrate processing system, and method for transferring member

Номер патента: US20230290656A1. Автор: Wataru Matsumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Processing system and part replacement method

Номер патента: US20210269258A1. Автор: Toshiya Matsuda,Kazuya Nagaseki,Kazuki Moyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-09-02.

Substrate processing apparatus, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240212989A1. Автор: Shin Hiyama,Hidehiro Yanai,Toru Kakuda,Toshiya Shimada,Tomohiro Amano. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230395390A1. Автор: Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200411296A1. Автор: Jeong Seok Kang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-31.

Focus ring, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230143327A1. Автор: Sang Ki Nam,Kyung-Sun Kim,Kangmin JEON,Nam Kyun Kim,Kuihyun YOON,Seunghan BAEK,Dongseok Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-05-11.

Management device for substrate processing system and management method for substrate processing system

Номер патента: US20230205174A1. Автор: Man Gyu LEE. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Megasonic processing system with gasified fluid

Номер патента: WO2006028983A3. Автор: YI WU,Ismail Kashkoush,Tom Nicolosi. Владелец: Tom Nicolosi. Дата публикации: 2007-05-10.

Flexible temperature compensation systems and methods for substrate processing systems

Номер патента: US09864361B2. Автор: Andrew D. Bailey, III,Marcus Carbery. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Reflector plate for substrate processing

Номер патента: WO2022108749A1. Автор: Wolfgang R. Aderhold. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-05-27.

Part for substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20210178523A1. Автор: Michishige Saito,Sho Yamahira. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-06-17.

Substrate processing apparatus, model data generation apparatus, substrate processing method, and model data generation method

Номер патента: US20240194507A1. Автор: Kiyoshi Mori,Tsuyoshi Moriya,Takayuki Yamagishi,Haruhiko Furuya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Prediction method and apparatus for substrate processing apparatus

Номер патента: US20070215574A1. Автор: Hideki Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-09-20.

Substrate processing device and substrate processing method for carrying out chemical treatment for substrate

Номер патента: US09786527B2. Автор: Nobuyuki Shibayama. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Machine learning platform for substrate processing

Номер патента: EP4405766A1. Автор: David Everton Norman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-31.

Cleaning method for substrate processing system, storage medium, and substrate processing system

Номер патента: US20090229635A1. Автор: Hiroaki Mochizuki,Kiyohito Iijima,Masahiro Numakura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-09-17.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240249964A1. Автор: Seiji Nakashima,Shinsuke TAKAKI,Akihiro TERAMOTO,Ryo SHOBU. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

End effector assembly for clean/dirty substrate handling

Номер патента: US09779977B2. Автор: Matthew J. Rodnick,Austin Ngo,Brandon Senn,Ross EMBERTSON. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, control method for substrate processing apparatus and storage medium

Номер патента: US9389601B2. Автор: Yasunori Nakamura,Nobuhiko Nakagawa,Naohiko Kawashima. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-12.

Substrate processing system

Номер патента: WO2024151636A1. Автор: Jairo T. Moura,Robert T. Caveney. Владелец: Brooks Automation Us, Llc. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing system for processing substrates with an electronics module located behind a door in a front wall of the substrate processing system

Номер патента: US12051602B2. Автор: Jeroen de Jonge. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-07-30.

Systems and methods for monitoring of a controlled environment in a substrate processing system

Номер патента: US20240304477A1. Автор: Bert Jongbloed,Gido Van Der Star. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing system

Номер патента: US20240355654A1. Автор: Jairo T. Moura,Robert T. Caveney. Владелец: Brooks Automation US LLC. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate breakage detection in a thermal processing system

Номер патента: US09941144B2. Автор: Joseph Cibere. Владелец: Mattson Technology Inc. Дата публикации: 2018-04-10.

Acoustically-monitored semiconductor substrate processing systems and methods

Номер патента: US09429247B2. Автор: Michael Johnson,Joseph Yudovsky,Todd J. Egan,Kommisetti SUBRAHMANYAM. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-08-30.

Autoconfiguration of hardware components of various modules of a substrate processing tool

Номер патента: WO2021141665A1. Автор: Bridget Hill,Scott Baldwin,Raymond Chau,Rainer UNTERGUGGENBERGER,Thomas A. STUBBLEBINE. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2021-07-15.

Autoconfiguration of hardware components of various modules of a substrate processing tool

Номер патента: US12073224B2. Автор: Bridget Hill,Scott Baldwin,Raymond Chau,Rainer UNTERGUGGENBERGER,Thomas A. STUBBLEBINE. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Substrate processing system, substrate processing method, and control program

Номер патента: US12062559B2. Автор: Minoru Nagasawa,Kunio Takano,Toshiharu Hirata,Takafumi Matsuhashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate processing system and group management device

Номер патента: US20230101147A1. Автор: Ryuichi Kimura,Hiroakira MATSUI,Naruhisa MIYAZAKI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing system and substrate transfer control method

Номер патента: US09646864B2. Автор: Daisuke Morisawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Determining and controlling substrate temperature during substrate processing

Номер патента: US12020960B2. Автор: Eric A. Pape,Jeremy George SMITH. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-06-25.

Liquid chemical supplying system, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US20160368030A1. Автор: Sang Won Bae,Hyosan Lee,Seokhoon Kim,Kuntack Lee,Kyoung Hwan Kim,Jung-min Oh,Ingi KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-12-22.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US12045037B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Yamamoto,Shinji Shimizu,Hiroshi Horiguchi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

In-line machine vision system for part tracking of substrate processing system

Номер патента: US20240278991A1. Автор: Scott Baldwin,Deqi Wang,Hossein SADEGHI,Damon Tyrone Genetti. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-22.

Method, computer program product and apparatus for scheduling maintenance actions in a substrate processing system

Номер патента: US20050033463A1. Автор: Wim Tel,Harm Rossing,Suzan Auer-Jongepier. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2005-02-10.

Process chambers for substrate vacuum processing tool

Номер патента: WO2007101207A3. Автор: John M Smith,James Carter Hall,Jeffrey G Ellison. Владелец: Anaconda Semi Lp. Дата публикации: 2008-01-10.

Substrate processing system, liquid amount measuring method, and computer-readable recording medium

Номер патента: US20220171294A1. Автор: Shinichi Hatakeyama,Akihiro TERAMOTO,Yuichiro KUNUGIMOTO,Yuta Nishiyama,Shota Ueyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-06-02.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240242975A1. Автор: Kotaro Tsurusaki,Yoshihiro Kai,Keiji Onzuka,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20240253093A1. Автор: Koji Ando,Noritake SUMI,Tomohiro Motono. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Large area substrate processing system with between chamber platform

Номер патента: US20100158642A1. Автор: John A. Miller,Thomas L. Duer. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2010-06-24.

High-density substrate processing systems and methods

Номер патента: US12074042B2. Автор: Tuan A. Nguyen,Jason M. Schaller,Khokan Chandra Paul,Swaminathan T. Srinivasan,Charles T. Carlson,Steve Hongkham. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-27.

Substrate processing system

Номер патента: US20240258147A1. Автор: Shinichi Taniguchi,Akihiro Iwasaki,Tsuyoshi Tomita,Kenji Amahisa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing system

Номер патента: EP4407665A2. Автор: Shinichi Taniguchi,Akihiro Iwasaki,Tsuyoshi Tomita,Kenji Amahisa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.

Substrate processing system, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20240355644A1. Автор: Naoki Shibata,Shinsuke TAKAKI,Yoji SAKATA,Tomoya ONITSUKA,Hiroki Tadatomo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate processing system

Номер патента: EP4407665A3. Автор: Shinichi Taniguchi,Akihiro Iwasaki,Tsuyoshi Tomita,Kenji Amahisa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-06.

Schedule preparation method for substrate processing device and substrate processing device

Номер патента: US10514684B2. Автор: Satoshi Yamanaka. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-12-24.

Reflector plate for substrate processing

Номер патента: US11828656B2. Автор: Wolfgang R. Aderhold. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-28.

Reflector plate for substrate processing

Номер патента: US20240175753A1. Автор: Wolfgang R. Aderhold. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-30.

Vacuum molding apparatus, substrate processing system having the same and substrate processing method using the same

Номер патента: US20150056754A1. Автор: Seock Hyun Park. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-26.

Substrate processing system and its control method

Номер патента: US20240055283A1. Автор: Kenji Ikeda,Tasuku Suzuki,Nobuyuki Kawabata,Jun Kitagawa,Masato Anzai,Taichi YOSHIOKA. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-02-15.

Substrate processing system

Номер патента: US20200257269A1. Автор: Masanori Nakayama,Tsukasa Kamakura. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-08-13.

Substrate processing system and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240112933A1. Автор: Bongcheol Kim,Jeonghee Choi,Hyungwan Do. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-04.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240307821A1. Автор: Koji Kagawa,Mitsunori Nakamori,Yosuke Hachiya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing system

Номер патента: US20200126831A1. Автор: Ting-Yu Wu,Chuan-Chang Feng,Mao-Lin Liu. Владелец: Scientech Corp. Дата публикации: 2020-04-23.

Processing system, processing method, measurement apparatus, substrate processing apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US12140878B2. Автор: Shinichi Egashira. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-11-12.

Apparatus for substrate processing with fluid

Номер патента: US20090045034A1. Автор: Yi-Cheng Wang. Владелец: Perfect Dynasty Taiwan Ltd. Дата публикации: 2009-02-19.

Throttle valve for substrate processing systems

Номер патента: WO2023229936A1. Автор: Andrew BORTH. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-11-30.

Prevention of contamination of substrates during pressure changes in processing systems

Номер патента: EP4388581A1. Автор: Ashley M. Okada,Dean C. Hruzek,Kenneth Le,Changgong WANG,Yuanhong Guo,Atilla KILICARSLAN,Raechel Chu-Hui Tan,Robert A. Medure,Sai Padhy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-26.

Substrate processing system for removing peripheral portion of substrate, substrate processing method and computer readable recording medium thereof

Номер патента: US11752576B2. Автор: Hayato TANOUE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-12.

Substrate processing device, substrate processing method, and substrate processing system

Номер патента: US20160189991A1. Автор: Seiichiro Sano,Katsuaki Takagi,Satoshi Yamanaka,Yuzo Uchida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-30.

Substrate processing system printed-circuit control board assembly with one or more heater layers

Номер патента: US20190166700A1. Автор: Eric Pape,Fred Dennis Egley,Changyou Jing. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2019-05-30.

Substrate processing system printed-circuit control board assembly with one or more heater layers

Номер патента: WO2019108365A1. Автор: Eric Pape,Changyou Jing,Fred Egley. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2019-06-06.

Substrate processing system with vertical arrangement structure

Номер патента: US20230260806A1. Автор: Hyung Chul Kim,Dong Hwa Lee,You Sun JUNG. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Tools and methods for mounting transport rails in a substrate processing system

Номер патента: US20090279990A1. Автор: Stuart Scollay. Владелец: Intevac Inc. Дата публикации: 2009-11-12.

Substrate Processing System and Operation Inspecting Method

Номер патента: US20100223277A1. Автор: Mitsuhiro Matsuda,Yoshitaka Koyama,Hideto Yamaguchi,Yasuhiro Joho. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2010-09-02.

Substrate processing system, substrate detecting apparatus, and substrate detecting method

Номер патента: US20120160040A1. Автор: Yuichi Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-06-28.

Substrate processing device, substrate processing method, and substrate processing system

Номер патента: US09673072B2. Автор: Seiichiro Sano,Katsuaki Takagi,Satoshi Yamanaka,Yuzo Uchida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Board processing apparatus, board processing method, and board processing system

Номер патента: US20160161941A1. Автор: Takashi Koshida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US12062563B2. Автор: Itsuki Kobata,Keita Yagi,Nobuyuki Takahashi,Yoichi Shiokawa,Toru Maruyama,Katsuhide Watanabe. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US09953840B2. Автор: Mitsunori Nakamori,Hiromi Kiyose,Kazuyuki Mitsuoka,Hiroshi Marumoto,Hisashi Kawano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Systems and methods for detecting the existence of one or more environmental conditions within a substrate processing system

Номер патента: WO2017132203A1. Автор: David Mordo,Fareen Adeni Khaja. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2017-08-03.

Substrate processing system, substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240014055A1. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Kayoko Yashiki,Kyohei Kita. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-01-11.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US12128451B2. Автор: Junichi Ishii,Hiroaki Ishii,Kazuhiro Honsho. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Support information display method, maintenance support method of substrate processing apparatus, support information display control apparatus, substrate processing system and recording medium

Номер патента: US09810905B2. Автор: Hiroshi Nakamura,Toru Yamauchi,Toshiaki Kodama,Sensho Kobayashi,Kazuya Uoyama,Gaku Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-07.

Control apparatus, substrate processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US09772624B2. Автор: Takanori Saito,Yuichi Takenaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Substrate processing method, program, computer-readable storage medium, and substrate processing system

Номер патента: US09690185B2. Автор: Hidetami Yaegashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Processing method for substrate

Номер патента: US11823907B2. Автор: Kyung Park,Young Jun Kim,Won Jun JANG. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Processing method for substrate

Номер патента: US20240038537A1. Автор: Kyung Park,Young Jun Kim,Won Jun JANG. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Processing method for substrate

Номер патента: US20240038538A1. Автор: Kyung Park,Young Jun Kim,Won Jun JANG. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Substrate processing chamber, substrate processing system including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230043451A1. Автор: Yongmyung Jun,Seohyun Kim,Hyunjin Ko,Jae Seong RYU,Inkwang BAE,Seungbu BAEK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-09.

Substrate transfer door assemblies with radiating elements for substrate processing chambers

Номер патента: US20230253217A1. Автор: John Drewery,David Inori,Michael Julius KINSLER,Andre DESEPTE. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate processing method, substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20240288775A1. Автор: Soichiro Okada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Group management apparatus, substrate processing system and method of managing files of substrate processing apparatus

Номер патента: US09400794B2. Автор: Osamu Ueda,Hiroyuki Iwakura,Kazuhide Asai. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-07-26.

Reflector plate for substrate processing

Номер патента: US20240079252A1. Автор: Jian Wu,Dongming IU. Владелец: Dav Sub Inc DBA Continuum Health Technologies Corp. Дата публикации: 2024-03-07.

Reflector plate for substrate processing

Номер патента: WO2024054351A1. Автор: Jian Wu,Dongming IU. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-14.

Maintenance device and maintenance method for substrate processing apparatus

Номер патента: US20210264016A1. Автор: Shinichi Ogasawara,Shoji KIRITA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-26.

Maintenance device and maintenance method for substrate processing apparatus

Номер патента: US11941105B2. Автор: Shinichi Ogasawara,Shoji KIRITA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-26.

Anode electrode structure, lithium-ion battery, method of making an anode electrode structure, method of making a lithium-ion battery, and substrate processing system for producing an anode electrode structure

Номер патента: WO2022039964A8. Автор: Roland Trassl. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-09-01.

Schedule creation method, schedule creating device, substrate processing apparatus, substrate processing system, and storage medium

Номер патента: US20230041766A1. Автор: Jun Kawai,Takashi Kasahara,Keisuke Inugai. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-09.

Apparatus for transferring substrate, substrate processing system and method of processing substrate

Номер патента: US20240120225A1. Автор: Akinori Shimamura,Dongwei Li,Hiromitsu Sakaue,Takehiro Shindo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Substrate processing system, aligning apparatus, and substrate shape monitoring method

Номер патента: US20230294932A1. Автор: Kento TOKAIRIN. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Anode electrode structure, lithium-ion battery, method of making an anode electrode structure, method of making a lith him -i on battery, and substrate processing system for producing an anode electrode structure

Номер патента: WO2022039964A1. Автор: Roland Trassl. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-02-24.

Method for automatic measurement and for teaching-in of location positions of objects within a substrate processing system by means of sensor carriers and associated sensor carrier

Номер патента: EP2304769A1. Автор: Torsten Mueller,Andreas Hertgens,Pau Waltner. Владелец: Aes Motomation Gmbh. Дата публикации: 2011-04-06.

Method for automatic measurement and for teaching-in of location positions of objects within a substrate processing system by means of sensor carriers and associated sensor carrier

Номер патента: WO2010115632A1. Автор: Torsten Mueller,Andreas Hertgens,Pau Waltner. Владелец: Aes Motomation Gmbh. Дата публикации: 2010-10-14.

Substrate processing method, substrate processing system and computer-readable recording medium

Номер патента: US20240290607A1. Автор: Takashi Uno,Satoshi Okawa,Naoyuki Okamura,Katsufumi Matsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Autoclean for load locks in substrate processing systems

Номер патента: US12094739B2. Автор: Travis R. Taylor,Adam Patrick BATEMAN. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240355647A1. Автор: Takashi Uno,Naoyuki Okamura,Keisuke Sakaguchi,Katsufumi Matsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240331998A1. Автор: Susumu Hayakawa,Tomohiro Kaneko,Kazuya IKEUE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Robot for a substrate processing system

Номер патента: US09576833B2. Автор: Richard Blank,Matt Mclellan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-02-21.

Method of providing reflecting coating for substrate for light-emitting device

Номер патента: RU2597253C2. Автор: Кристиан КЛЕЙНЕН,Хендрик Йоханнес Баудевейн ЯГТ. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС Н.В.. Дата публикации: 2016-09-10.

A method for substrate processing

Номер патента: KR20230045113A. Автор: 제프리 에이. 케이븐스,리 에프. 샤로크,카일 엠. 리터노,스테이시 매키니,데이브 야진카. Владелец: 브룩스 오토메이션 인코퍼레이티드. Дата публикации: 2023-04-04.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: EP4418307A1. Автор: Keisuke Sakaguchi,Hiroshi Marumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-21.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240307925A1. Автор: Osamu Miyahara,Yoshitomo Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Wafer processing system with chuck assembly maintenance module

Номер патента: US09812344B2. Автор: Satish Sundar,Jason Rye,Randy A. Harris,Vincent Steffan Francischetti,Bryan Puch,Mario David Silvetti. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-11-07.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and method of detecting abnormality in transport container

Номер патента: US09773690B2. Автор: Katsuhiro Morikawa,Suguru Enokida,Ikuo Sunaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and memory medium

Номер патента: US09601394B2. Автор: Teruhiko Kodama,Masashi Enomoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Electrostatic holder for use in high-temperature-treatment vacuum chamber, method for substrate treatment, and expansion unit of electrostatic holder

Номер патента: RU2295799C2. Автор: Грег СЕКСТОН,Алан ШОЕПП,Марк Аллен КЕННАР. Владелец: Лэм Рисерч Корпорейшн. Дата публикации: 2007-03-20.

Robot hand for substrate transfer

Номер патента: US8393662B2. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2013-03-12.

Substrate processing system and method

Номер патента: US9875922B2. Автор: Henry Hieslmair,Terry Bluck,Babak Adibi,Moon Chun,Vinay Prabhakar,Terry Pederson. Владелец: Intevac Inc. Дата публикации: 2018-01-23.

Substrate support assembly for substrate treatment apparatus

Номер патента: US20230062042A1. Автор: Taek Youb Lee. Владелец: Deviceeng Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-02.

Apparatus and method for inspecting electrostatic chuck for substrate processing

Номер патента: US20230213483A1. Автор: Mi Young JO,Choong Moo SHIM,Young Ran KO. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-06.

Integrated gas system for substrate processing apparatus

Номер патента: US20230204256A1. Автор: Byoung-Soo Kim. Владелец: Tes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Gas supply apparatus for substrate processing apparatus

Номер патента: US20240045453A1. Автор: Byoung Ha Cho,Ji Hyun Cho,Hong Min Yoon,Jae Sung Roh,Se Whan JIN,Hong Soo YOON,Youn Joo JANG. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Substrate processing apparatus, method for manufacturing semiconductor device, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09966289B2. Автор: Osamu Morita,Takashi Nogami,Tomoshi Taniyama,Yasuaki Komae,Daigi KAMIMURA,Shigeru Odake. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-08.

Ambient laminar gas flow distribution in laser processing systems

Номер патента: US09557111B2. Автор: Stephen Moffatt,Aaron Muir Hunter. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Substrate support assembly for substrate treatment apparatus

Номер патента: US20230060570A1. Автор: Taek Youb Lee. Владелец: Ltd Deviceeng C. Дата публикации: 2023-03-02.

Substrate processing system, method for controlling substrate processing system, and storage medium

Номер патента: US9782807B2. Автор: Yoshifumi Amano,Yuki Ito,Eiichiro Okamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Contact Array for Substrate Contacting

Номер патента: US20120126410A1. Автор: Ghassem Azdasht,Elke Zakel,Thorsten Teulsch. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-05-24.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20050099629A1. Автор: Keiji Emoto,Kotaro Akutsu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-05-12.

Substrate processing method, computer-readable storage medium, and substrate processing system

Номер патента: US8308381B2. Автор: Kunie Ogata,Masahide Tadokoro. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-11-13.

Substrate processing system, substrate processing method, and control program

Номер патента: US20220148898A1. Автор: Minoru Nagasawa,Kunio Takano,Toshiharu Hirata,Takafumi Matsuhashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-12.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20230321696A1. Автор: Kohei Sato,Hiroki Takahashi,Ban ITO,Seungho Yun. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-10-12.

Substrate processing system, method of controlling substrate processing system, computer-readable storage medium, and method of manufacturing article

Номер патента: US20190371637A1. Автор: Kenji Yamamoto,Mitsuhiro Masuda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-12-05.

Substrate processing system, method for controlling substrate processing system, and storage medium

Номер патента: US20150013722A1. Автор: Yoshifumi Amano,Yuki Ito,Eiichiro Okamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-01-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240201602A1. Автор: Cheng Cheng,HUI Wang,Jun Wang,Jun Wu,Mark Lee,Andrew Jung,Bruce SOHN,Yy KIM. Владелец: Cleanchip Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Apparatus for Substrate Transportation Using Electrostatic Floating

Номер патента: US20140262691A1. Автор: Kwang-Ho Jeong. Владелец: Yas Co Ltd. Дата публикации: 2014-09-18.

Sacrificial layer for substrate analysis

Номер патента: US20240055305A1. Автор: Santosh Tripathi,Tuyen Tran. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-02-15.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20120160805A1. Автор: Mitsuo Suzuki,Kiyoshi Ehara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2012-06-28.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium of performing liquid exchange processing according to liquid exchange condition

Номер патента: US11282719B2. Автор: Kouji Takuma,Go Ayabe,Jong Won Yun,Ryo Manabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-22.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20150243536A1. Автор: Yoshifumi Okada. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US10186418B2. Автор: Yoshifumi Okada. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20070065760A1. Автор: Yoshitake Ito. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-03-22.

Through-type furnace for substrates to be fitted with components and die bonder

Номер патента: MY180095A. Автор: Guido Suter,Kevin Domancich,Daniel Andreas Scherer,Reto Weibel. Владелец: Besi Switzerland AG. Дата публикации: 2020-11-21.

Substrate processing method

Номер патента: US20240234189A1. Автор: Tomohiro Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing method including reprocessing rejected wafers

Номер патента: US09847263B2. Автор: Tsuneo Torikoshi,Hirofumi OTAKI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-12-19.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09703199B2. Автор: Takashi Taguchi,Toru Asano,Tsuyoshi Mitsuhashi,Yukio Toriyama. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-11.

Through type furnace for substrates comprising a longitudinal slit

Номер патента: US09666460B2. Автор: Guido Suter,Kevin Domancich,Daniel Andreas Scherer,Reto Weibel. Владелец: Besi Switzerland AG. Дата публикации: 2017-05-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09449857B2. Автор: Hiroaki Inadomi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Strong light-emitting diode (led) structure for substrate separation

Номер патента: RU2477906C2. Автор: Цинвэй МО,Арнольд ДАГИО. Владелец: ФИЛИПС ЛЬЮМИЛДЗ ЛАЙТИНГ КОМПАНИ, ЭлЭлСи. Дата публикации: 2013-03-20.

Coating with low reflecting capacity, method and system for substrate coating

Номер патента: RU2717561C2. Автор: Натан Уильям МАРЧ,Др Найгуй ШАН,Сусана БУСТОС-РОДРИГЕС,Бен Поул ЙЕНСЕН,Оливер КРОССЛИ. Владелец: Суррей Наносистемз Лимитед. Дата публикации: 2020-03-24.

Substrate processing system

Номер патента: US5745946A. Автор: David L. Thrasher,Lynn S. Ryle,Robert M. Ruppell,John S. Hearne,Wilbur C. Krussell,Gary D. Youre. Владелец: Ontrak Systems Inc. Дата публикации: 1998-05-05.

Substrate Processing System

Номер патента: US20100132611A1. Автор: Yoshitaka Koyama. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2010-06-03.

Substrate processing system, substrate processing method, and map creating device

Номер патента: US20230253224A1. Автор: Takeshi Akimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate processing system, substrate processing method and computer-readable recording medium

Номер патента: US11929268B2. Автор: Munehisa Kodama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-12.

Conveyance method and processing system

Номер патента: US20230411194A1. Автор: Naoyuki Sato,Shigeru Kubota,Keisuke Hiraide,Tatsuya Mukoyama,Wataru Nakagomi,Shotaro MURAKAWA,Fumitaka SENTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US11822318B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Yamamoto,Shinji Shimizu,Hiroshi Horiguchi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US20230418267A1. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Yamamoto,Shinji Shimizu,Hiroshi Horiguchi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US11854840B2. Автор: Yuji Takimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Substrate processing condition setting method, substrate processing method, substrate processing condition setting system, and substrate processing system

Номер патента: US20230268208A1. Автор: Kensuke Shinohara,Sei Negoro,Masahiro TOKUYAMA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20210242084A1. Автор: Yoshihiro Kawaguchi,Hirotoshi Mori,Kazuya HISANO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-08-05.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US11978644B2. Автор: Kotaro Tsurusaki,Yoshihiro Kai,Keiji Onzuka,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-07.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20210111038A1. Автор: Kotaro Tsurusaki,Yoshihiro Kai,Keiji Onzuka,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-04-15.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20220392779A1. Автор: Kotaro Tsurusaki,Yoshihiro Kai,Keiji Onzuka,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-08.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and data processing method

Номер патента: US20240203765A1. Автор: Takashi Ota,Takashi Ikeuchi,Tetsuya Hiraoka,Hideji NAOHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Autoconfiguration of hardware components of various modules of a substrate processing tool

Номер патента: US20230030233A1. Автор: Bridget Hill,Scott Baldwin,Raymond Chau,Rainer UNTERGUGGENBERGER,Thomas A. STUBBLEBINE. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-02-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12033872B2. Автор: Hiroshi Yoshida,Takashi Nagai,Koji Ogura,Takumi Honda,Jun Nonaka,Keita Hirase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230101475A1. Автор: Hiroki Tajiri,Masayuki ORISAKA,Takashi Izuta. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234173A1. Автор: Hiroki Koyama. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200083064A1. Автор: Nobuhiko MOURI,Kento Kurusu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-03-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11482428B2. Автор: Nobuhiko MOURI,Kento Kurusu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-25.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240242985A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus and process control method thereof

Номер патента: US20230163003A1. Автор: Young Hwan YANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US8883030B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Toru Endo. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-11.

Substrate transferring unit, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20230062447A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park,Seungmin SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-02.

Substrate processing device and determination method

Номер патента: US11461136B2. Автор: Ken Watanabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240282598A1. Автор: Hiroshi Marumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210159095A1. Автор: Masami Yamashita,Gentaro Goshi,Toru Ihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20110065288A1. Автор: Toru Harada,Masayoshi Minami. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-03-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12074048B2. Автор: Yuji Kawaguchi,Hiroki Harada,Tokutarou Hayashi,Tatsuhiko Tsujihashi,Tsuyoshi OTSUKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220152780A1. Автор: Junichi Kitano,Yuichi Douki,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-19.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20190103291A1. Автор: Tooru Nakamura,Kouji Kimoto,Hiroaki Inadomi,Yoshihisa Aoyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-04-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240274450A1. Автор: Masanobu Sato,Hiroshi Horiguchi,Saki Miyagawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240321650A1. Автор: Yuji Otsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230311170A1. Автор: Toru Hirata,Yoshinori Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Substrate processing method, recording medium, and substrate processing apparatus

Номер патента: US12083553B2. Автор: Yusuke MIYAKUBO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Compact substrate processing tool with multi-station processing and pre-processing and/or post-processing stations

Номер патента: US09916995B2. Автор: Karl Leeser. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and computer-readable medium storing program

Номер патента: US09859109B2. Автор: Hideaki Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09768042B2. Автор: Ayumi Higuchi,Asuka WAKITA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09766617B2. Автор: Keiji Osada,Junichi Ogawa,Youichi Nakayama,Hiroaki DEWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, fluid supplying method and storage medium

Номер патента: US09662685B2. Автор: Gentaro Goshi,Kazuyuki Mitsuoka,Takayuki Toshima,Takehiko Orii,Hiroki Ohno,Gen You. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Substrate processing apparatus, substrate transfer method and substrate transfer device

Номер патента: US09530676B2. Автор: Kenichi Suzuki,Hiroshi Sotozaki,Mitsuru Miyazaki,Toshio Yokoyama,Junji Kunisawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-12-27.

Substrate processing method

Номер патента: US09477162B2. Автор: Tetsuya Hamada,Shuichi Yasuda,Tadashi Miyagi,Koji Kaneyama,Kazuhito Shigemori,Masashi Kanaoka. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-25.

Gas flow control in a substrate processing system

Номер патента: US6016611A. Автор: John M. White,Wendell T. Blonigan,Michael W. Richter. Владелец: Applied Komatsu Technology Inc. Дата публикации: 2000-01-25.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20180019441A1. Автор: Beom Jun KIM,Il Ho Noh,Seung Duk Bang,Soo Ho Oh,Sin Pyoung Kim. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-18.

Substrate processing system and substrate processing apparatus

Номер патента: US11823932B2. Автор: Kyoungho KIM,Eungjin KIM,Pyongil CHO,Hyeonjun JEON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-21.

Substrate processing device, substrate processing system, and data processing method

Номер патента: EP4325549A1. Автор: Takashi Ota,Takashi Ikeuchi,Tetsuya Hiraoka,Hideji NAOHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-21.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20230282493A1. Автор: Yuji Kimura,Koji Tanaka,Shinichi Ikeda,Kazuaki Kitamura,Yukiyoshi Saito,Akihiro TERAMOTO,Masataka GOSHO,Keita Hirase,Shota TAKEI,Shunsuke KURIZAKI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Substrate processing system and method of determining flow rate of gas

Номер патента: US20190301912A1. Автор: Kazuyuki Miura,Hiroshi Yazaki,Yasuhiro Shoji,Norihiko Amikura,Risako Miyoshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-10-03.

Substrate processing system and condition monitoring method

Номер патента: US20240087936A1. Автор: Toshiaki Kodama,Takeshi NIIDOME. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Substrate processing system and method of processing substrate

Номер патента: US20230034399A1. Автор: Risako MATSUDA,Keita SHOUJI,Kazuaki TAKAAI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-02-02.

Substrate processing system and method for supplying processing fluid

Номер патента: US20200098594A1. Автор: Satoshi Okamura,Hiroaki Inadomi,Yasuo Kiyohara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-03-26.

Information processing method, information processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US20240202606A1. Автор: Yuki Kataoka,Yukiya SAITOU. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing system and method for monitoring process data

Номер патента: US20210011468A1. Автор: Takehiro Kinoshita,Tomonori Yamashita,Noriaki Koyama,Eiji Kikama,Nobutoshi Terasawa,Fumiaki NAGAI,Takazumi Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-01-14.

Organic solvent supplying apparatus, substrate processing method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240203726A1. Автор: Ki Bong Kim,Yong Hyun Choi,Myung Seok Cha,Ju Yeon SONG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate transferring apparatus, and liquid processing apparatus and substrate processing equipment including same

Номер патента: US20240222174A1. Автор: Eun Jung Lee,Young Jin Jang,Gui Su PARK,Jun Hyun LIM,Hee Jun YOUN,Seul Gi CHOI. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240189856A1. Автор: Koichi Matsunaga,Teruhiko Kodama,Hideaki Iwasaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Processing liquid ejection nozzle, nozzle arm, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US11776824B2. Автор: Yoshifumi Amano,Kazuhiro Aiura,Tatsuhiro Ueki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200105574A1. Автор: Satoshi Morita,Katsuhiro Morikawa,Masami Akimoto,Kouichi Mizunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Substrate processing apparatus and fluid heating device

Номер патента: US20240234172A9. Автор: Takahiro Hayashida,Shigeru Moriyama,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and fluid heating device

Номер патента: US20240136206A1. Автор: Takahiro Hayashida,Shigeru Moriyama,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US9337070B2. Автор: Hideaki Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-10.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20200243350A1. Автор: Hiroshi Abe,Manabu Okutani,Naohiko YOSHIHARA,Katsuei HIGASHI,Tsutomu Osuka. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-30.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium

Номер патента: US20190139791A1. Автор: Hiromi Kiyose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-05-09.

Substrate processing device, substrate processing method, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20220406626A1. Автор: Hiroshi Fujita,Tomohiko Sugita,Tatsuhiko Koide. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-12-22.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and substrate

Номер патента: US20240162052A1. Автор: Nobuhiko MOURI,Takanori Obaru. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate processing method and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20060289431A1. Автор: Shinichi Ito,Tsuyoshi Shibata,Kei Hayasaki,Koutarou Sho. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-12-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20150059645A1. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Toru Endo. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230253221A1. Автор: Kaoru Sato,Hiromi Nitadori,Kiyohiko Gokon,Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate processing apparatus equipped with substrate scanner

Номер патента: US20210280444A1. Автор: Hsin-Hsu Lin,Ming-Tso Chen,Kao-Hua Wu,Ming-Che Lai,Hua-Wei Peng,Chia-He Cheng,Chao-Chi Lu,Kuo-Tsai Lo,Huan-Hsin Yeh. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2021-09-09.

Lift-off structure for substrate of a photoelectric device and method thereof

Номер патента: EP2562825A3. Автор: Chih-Hung Wu,Yu-Li Tsai,Jei-Li Ho. Владелец: Institute of Nuclear Energy Research. Дата публикации: 2013-09-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US11742223B2. Автор: Yuji Kimura,Yoshihiro Kai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-29.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230253230A1. Автор: Kaoru Sato,Hiromi Nitadori,Kiyohiko Gokon,Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220134375A1. Автор: Tomohiro Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith

Номер патента: US11769682B2. Автор: Adriaan Garssen,Edwin den Hartog-Besselink. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-09-26.

Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith

Номер патента: US11769682B2. Автор: Adriaan Garssen,Edwin den Hartog-Besselink. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-09-26.

Substrate processing apparatus, method of processing substrate, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240249962A1. Автор: Naofumi Ohashi,Hideharu Itatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20230027653A1. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Kayoko Yashiki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-01-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230241636A1. Автор: Yoko TAKAKITA. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing apparatus and method of processing a substrate and of manufacturing a processed workpiece

Номер патента: WO2019105944A8. Автор: Hartmut Rohrmann,Hubert Breuss,Heinz Felzer,Dominik Jaeger. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2020-05-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20100285225A1. Автор: Shuichi Yasuda,Tadashi Miyagi,Koji Kaneyama,Kazuhito Shigemori,Masashi Kanaoka. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2010-11-11.

Substrate processing apparatus and apparatus cleaning method

Номер патента: US12087599B2. Автор: Osamu Kuroda,Hidemasa ARATAKE,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing method

Номер патента: US20110200949A1. Автор: Hiroshi Nakamura,Tadatoshi Tomita,Takafumi Niwa,Yuhei Kuwahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-08-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240274451A1. Автор: Masanobu Sato,Hiroshi Horiguchi,Saki Miyagawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing device, polishing device, and substrate processing method

Номер патента: US20240139782A1. Автор: Kohei Sato,Hiroki Takahashi,Koichi Fukaya,Daichi Kondo. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4420831A1. Автор: Kenichi Kobayashi,Makoto Kashiwagi,Mao Fujisawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-28.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240304452A1. Автор: Hiroshi Marumoto,Tsunemoto OGATA,Suguen Lee. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing method

Номер патента: US8367308B2. Автор: Hiroshi Nakamura,Tadatoshi Tomita,Takafumi Niwa,Yuhei Kuwahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-02-05.

Substrate processing device

Номер патента: US20240312803A1. Автор: Shusaku Matsumoto,Koichiro Kawano,Shiguma KATO,Tomoya Iwasaki. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240361072A1. Автор: Kazuhiro Shoji,Tomohiro Uemura,Shuhei NEMOTO,Ryotaro SHINOHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09997382B2. Автор: Kenji Kobayashi,Kazuhide Saito,Kenji Izumoto,Akihisa Iwasaki,Takemitsu Miura. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Substrate processing apparatus, monitoring device of substrate processing apparatus, and monitoring method of substrate processing apparatus

Номер патента: US09927373B2. Автор: Motoi Okada,Shigeyuki IIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09859136B2. Автор: Yoshifumi Amano,Yoichi Tokunaga,Hiromitsu Namba,. Fitrianto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and computer-readable storage medium recording therein substrate processing program

Номер патента: US09805957B2. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yuki Yoshida,Satoru Tanaka,Kazuyoshi Shinohara,Yosuke Kawabuchi,Kotaro Oishi,Hisashi Kawano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09721815B2. Автор: Hiroaki Takahashi,Kentaro Tokuri. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09713822B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Toru Endo. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-25.

Substrate processing apparatus, method of operating substrate processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US09696262B2. Автор: Katsuhiro Morikawa,Ikuo Sunaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09640382B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi,Toru Endo,Hirofumi MASUHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-02.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US09601357B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Mitsukazu Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09576808B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi,Toru Endo,Hirofumi MASUHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09490151B2. Автор: Hiroyuki Takahashi,Satoshi TODA,Yuji Asakawa,Yohei Midorikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

Positioning graphic component for substrate detection and method of manufacturing the same

Номер патента: US09423247B2. Автор: Dongzi Gao,Li Chai. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-23.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US09396978B2. Автор: Takeshi Matsumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-07-19.

Substrate transport method and substrate processing system

Номер патента: US20230230862A1. Автор: Kiyoshi Suzuki,Koichi Miyashita,Hiroshi Hirose,Ryota Goto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-07-20.

Information processing system, information processing method, program, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220093409A1. Автор: Osamu Nabeya,Makoto Fukushima,Keisuke Namiki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2022-03-24.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240017375A1. Автор: Takeshi Tamura,Tomohiro Kaneko,Munehisa Kodama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20220139699A1. Автор: Junichi Ishii,Hiroaki Ishii,Takayuki Nishida,Ryo Muramoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

Substrate processing system

Номер патента: US20160148827A1. Автор: Satoshi BIWA,Jiro Higashijima,Norihiro Ito,Terufumi Wakiyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-26.

Substrate processing system

Номер патента: US20190025799A1. Автор: Masanori Nakayama,Tsukasa Kamakura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2019-01-24.

Robot hand for substrate transfer

Номер патента: US20110049921A1. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-03-03.

Dynamic modeling for substrate defect detection

Номер патента: WO2023114666A1. Автор: Xin Song. Владелец: Onto Innovation Inc.. Дата публикации: 2023-06-22.

Substrate processing system, control device, and substrate transfer processing method

Номер патента: US20240213064A1. Автор: Minoru Nagasawa,Toshiharu Hirata,Takafumi Matsuhashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate supports and transfer apparatus for substrate deformation

Номер патента: WO2024136950A1. Автор: Xinning Luan,Zhepeng Cong. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate supports and transfer apparatus for substrate deformation

Номер патента: US20240213078A1. Автор: Xinning Luan,Zhepeng Cong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240234183A1. Автор: Naofumi Ohashi,Teruo Yoshino,Tadashi Takasaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing unit, substrate transfer method, substrate cleansing process unit, and substrate plating apparatus

Номер патента: EP1920458A1. Автор: Kenichi Suzuki,Masahiko Sekimoto,Kenichi Kobayashi,Toshio Yokoyama,Ryo Kato,Teruyuki Watanabe. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2008-05-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200411336A1. Автор: Masanobu Sato,Masayuki ORISAKA,Noritake SUMI,Daiki UEHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-31.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240128111A1. Автор: Tae Yong Kim,Byungin AN. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US10867817B2. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240194497A1. Автор: Takao Matsumoto,Hajime NISHIDE,Kwichang KANG. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230307254A1. Автор: Yuta Segawa,Chiaki MORIYA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230085140A1. Автор: Naofumi Ohashi,Hideharu Itatani,Shun Matsui,Toshiro Koshimaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240213077A1. Автор: Woojin Chung,Kyungmo Kim,Jeongcheol LEE,Jungheum NAM,Myunggeun MIN. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus, operating method thereof, and photo spinner equipment

Номер патента: US20240178011A1. Автор: Ho Jin Jang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20180218929A1. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-08-02.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20200168487A1. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-28.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US10615062B2. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-07.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20130084709A1. Автор: Masahiro Miyagi,Kazunori Fujikawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-04-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12027393B2. Автор: Takuya Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Substrate processing baffle, substrate processing apparatus including the same, and processing apparatus fabrication method

Номер патента: US20240175629A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: EP4404242A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake,Yuta Mitsuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-24.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12051605B2. Автор: Yusuke Hashimoto,Hiroki Sakurai,Daisuke Goto,Takahiro Koga,Nobuhiro Ogata,Kanta Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210335636A1. Автор: Takuya Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-10-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240249956A1. Автор: Yohei Midorikawa,Ryo Kuwajima,Yohei NAKAGOMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230084826A1. Автор: Jung Hwan Lee,Young Jun Kim,Sung Ho ROH,Cheong Hwan Jeong,Tae Dong Kim. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing apparatus and method of cleaning substrate processing apparatus

Номер патента: US12046485B2. Автор: Shusei TAKEBAYASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20090192652A1. Автор: Tomoyuki Yamada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2009-07-30.

Substrate processing apparatus, alignment device, substrate processing method and alignment method

Номер патента: US20190049865A1. Автор: Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-14.

Substrate cleaning method, processing container cleaning method, and substrate processing device

Номер патента: US11504751B2. Автор: Kenji Sekiguchi,Shuuichi Nishikido,Kyoko Ikeda,Kazuya Dobashi,Tsunenaga Nakashima,Masato Nakajo,Takahiro YASUTAKE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-11-22.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230207376A1. Автор: Kiyoshi Mori,Haruhiko Furuya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Method of cleaning semiconductor substrate, and method of manufacturing semiconductor device and semiconductor substrate processing apparatus for use in the same

Номер патента: US20060046500A1. Автор: MAKOTO Miyamoto. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2006-03-02.

Substrate processing method, thermal processing apparatus, and semiconductor manufacturing equipment

Номер патента: US20240186161A1. Автор: Sung Kyu Park,Sung Yong Lee,Myung Hwan Oh. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230207339A1. Автор: Kohei Sato,Hiroki Takahashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20190206695A1. Автор: Kazuya Koyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-07-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20130340796A1. Автор: Itaru Kanno,Norihiro Ito,Yosuke Hachiya,Kotaro Ooishi,Hisashi Kawano,Jun Nogami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-12-26.

Substrate processing baffle, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240280906A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: EP1801860A1. Автор: Takehiko c/o Tokyo Electron AT Limited ORII,Kenji c/o Tokyo Electron AT Limited SEKIGUCHI,Noritaka c/o Tokyo Electron Kyushu Ltd. UCHIDA,Satoru c/o Tokyo Electron Kyushu Limited TANAKA,Hiroki c/o Tokyo Electron AT Limited OHNO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-06-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11587805B2. Автор: Masanobu Watanabe,Katsunori Ichino,Tomoki Okazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-02-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20190057890A1. Автор: Yoshitomo Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-02-21.

Substrate processing method

Номер патента: US20240250064A1. Автор: Yoshihisa Matsubara,Yoshihiro Tsutsumi,Yohei Yamashita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus, control method, and computer-readable storage medium

Номер патента: US12094737B2. Автор: Atsushi Yamamoto,Kenji Adachi,Masato Imamura,Tomohiko Muta,Masayuki Kajiwara,Katsunori Ichino,Takeaki Sakamoto,Daisuke Ishimaru,Takuya Tajiri,Tetsuro Iriyama,Hiroki Okaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240299971A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus and method thereof

Номер патента: US20240326406A1. Автор: Seong Soo JEONG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4447096A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Substrate processing apparatus, mixing method, and substrate processing method

Номер патента: US12068175B2. Автор: Hiroshi Yoshida,Yoshinori Nishiwaki,Takao Inada,Jun Nonaka,Kouji Ogura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US09978619B2. Автор: Naoki Tajima,Koji Motoi,Terutaka YAMAOKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09972515B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09964358B2. Автор: Takashi Miyamoto,Osamu Yamazaki,Konosuke Hayashi,Jun Matsushita. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09933702B2. Автор: Jiro Higashijima,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-03.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US09881784B2. Автор: Kazuyuki Mitsuoka,Takayuki Toshima,Takehiko Orii,Hiroki Ohno,Keiji Tanouchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and recording medium

Номер патента: US09852933B2. Автор: Norihiro Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09852931B2. Автор: Masanobu Sato,Masahiro Miyagi,Hiroyuki Araki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09818630B2. Автор: Akira Takahashi,Kazuyuki Toyoda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09795999B2. Автор: Takashi Ootagaki,Konosuke Hayashi,Yosuke Himori. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09687887B2. Автор: Atsuyasu Miura. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, and computer-readable storage medium stored with substrate processing program

Номер патента: US09627192B2. Автор: Naoyuki Okamura,Kazuki Kosai,Fumihiro Kamimura,Kazuhiro Teraoka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180185885A1. Автор: Akio Hashizume,Junichi Ishii,Takayuki Nishida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09555437B2. Автор: Hitoshi Nakai,Yasuhiko Ohashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

System for monitoring failure of substrate processing apparatus, and method for monitoring failure of substrate processing apparatus

Номер патента: US09412256B2. Автор: Ichiro NAMIOKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09373528B2. Автор: Mitsunori Komatsu,Toru Maruyama. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-06-21.

Electrical socket for substrates

Номер патента: US4978307A. Автор: Attalee S. Taylor,Timothy B. Billman. Владелец: AMP Inc. Дата публикации: 1990-12-18.

Substrate cartridge, substrate processing apparatus, substrate processing system, control apparatus, and method of manufacturing display element

Номер патента: US8801307B2. Автор: Tohru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2014-08-12.

Dual robot processing system

Номер патента: WO2003052802A3. Автор: Moris Kori,Lawrence C Lei. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-12-11.

Substrate processing system

Номер патента: US20060185793A1. Автор: Toshihiko Kikuchi,Yoshihide Sakamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-08-24.

Material composition and process for substrate modification

Номер патента: US20180174837A1. Автор: Ching-Yu Chang,Chin-Hsiang Lin,Chien-Wei Wang,Wei-Han Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-06-21.

Substrate processing system, vacuum substrate transfer module, and substrate transfer method

Номер патента: US11862506B2. Автор: Masatomo KITA,Norihiko Amikura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Substrate processing system and substrate transfer method

Номер патента: US20180233392A1. Автор: Takahiro Abe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-08-16.

Substrate processing apparatus, linked processing system, and substrate processing method

Номер патента: US11784057B2. Автор: Jong Won Yun. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-10.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, substrate processing system and recording medium

Номер патента: US9514951B2. Автор: Keisuke Yoshida,Masatoshi Kaneda,Yuzo Ohishi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-06.

Substrate processing method, substrate processing system and substrate processing apparatus

Номер патента: US10520831B2. Автор: Yoshihiro Kondo,Masashi Enomoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-31.

Substrate processing system

Номер патента: US11101157B2. Автор: Ting-Yu Wu,Chuan-Chang Feng,Mao-Lin Liu. Владелец: Scientech Corp. Дата публикации: 2021-08-24.

Substrate processing system and substrate transfer method

Номер патента: US20230282503A1. Автор: Takehiro Shindo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Substrate processing system

Номер патента: US20170320188A1. Автор: Moon Gi CHO,Young Kyu Kweon,Byoung Chaul Son,Joon Ho An. Владелец: KC Tech Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-09.

Processing system, processing method, measurement apparatus, substrate processing apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US20230359134A1. Автор: Shinichi Egashira. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-11-09.

Nozzle for substrate analysis

Номер патента: US20190013248A1. Автор: Katsuhiko Kawabata,Tatsuya Ichinose,Sungjae Lee. Владелец: IAS Inc. Дата публикации: 2019-01-10.

In-line machine vision system for part tracking of substrate processing system

Номер патента: EP4359775A1. Автор: Scott Baldwin,Deqi Wang,Hossein SADEGHI,Damon Tyrone Genetti. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-05-01.

Substrate processing method, substrate processing system and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180076066A1. Автор: Yoshihiro Kondo,Masashi Enomoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-15.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US20240162061A1. Автор: Yoshihiro Kawaguchi,Yohei Yamashita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate processing system

Номер патента: WO2004019387A9. Автор: John Jamieson,Preston Whitcomb. Владелец: Preston Whitcomb. Дата публикации: 2004-05-13.

Method for cleaning chamber or component, substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: EP4383314A1. Автор: Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-12.

Substrate processing apparatus and method thereof

Номер патента: US20240210836A1. Автор: Young Seop CHOI,Joo Sung Lee,Bok Kyu Lee,Je Myung Cha,Myung A Jeon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240213043A1. Автор: Euisang Lim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240231232A1. Автор: Tsuyoshi Watanabe,Yoji SAKATA,Masashi Tsuchiyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Process Chamber and Substrate Processing Apparatus Including the Same

Номер патента: US20210217636A1. Автор: Hyosan Lee,Kuntack Lee,Yong-jhin Cho,Jihoon Jeong,Young-Hoo Kim,Jung-min Oh,Yungjun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-07-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230307262A1. Автор: Koichi Higuchi,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus and method of detecting indentation formed in substrate

Номер патента: SG10201806154TA. Автор: Takahashi Nobuyuki,Wen Zhongxin,Sakugawa Suguru. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-02-27.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: US20240213059A1. Автор: Gyeong Won SONG,Hee Man AHN,Sung Hun Eom,Jae Seung YU. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20150303077A1. Автор: Masatoshi Kaneda,Ryo Shimada,Kazuki NAGAMOTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-10-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12044973B2. Автор: Hiroki Sakurai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12042813B2. Автор: Hiroshi Abe,Kenji Kobayashi,Takashi Ota,Wataru Sakai,Ryo Muramoto,Manabu Okutani,Takaaki Ishizu,Sei Negoro. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: EP4407661A1. Автор: YANG Han,Xi Wang,HUI Wang,Jun Wang,Jian Wang,Hui Shen,Xiaoyan Zhang,Fuping CHEN,Shena JIA,Wenjun Wang,Yinxiao LU. Владелец: ACM Research Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-07-31.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4333035A1. Автор: Jun Komori. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

Substrate processing apparatus, information processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20210020487A1. Автор: Yuichi Takenaga,Youngtai KANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-01-21.

Substrate processing apparatus and display device using the same

Номер патента: US10825837B2. Автор: Jeong Kweon Park,Jinwook KWAK,Jangcheol KIM,Ik Hyun KUON,Ju Ik HONG. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-03.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: EP4415033A1. Автор: Kazuki Nakamura,Yoshifumi Okada,Nobuaki Okita. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12057326B2. Автор: Hiroaki Inadomi,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20170278729A1. Автор: Takashi Ootagaki,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2017-09-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200135505A1. Автор: Takashi Ootagaki,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2020-04-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220334491A1. Автор: Hiroki Sakurai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-20.

Substrate processing in a process chamber for semiconductor manufacturing and apparatus management controller with error analysis

Номер патента: US11086304B2. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Hiroyuki Iwakura,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Takayuki KAWAGISHI,Kayoko Yashiki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2021-08-10.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240261814A1. Автор: Hiroshi Abe,Kenji Kobayashi,Takashi Ota,Wataru Sakai,Ryo Muramoto,Manabu Okutani,Takaaki Ishizu,Sei Negoro. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20200126822A1. Автор: Hitoshi Nakai,Manabu Okutani,Yasunori KANEMATSU. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Proximity pin, substrate processing apparatus, and method of processing substrate in substrate processing apparatus

Номер патента: WO2019100201A1. Автор: Rong Li,Bin Hu,Hanlin Wang,Dawei Yang,Xinjie Zhang,Weishuai Zhang. Владелец: HEFEI XINSHENG OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD.. Дата публикации: 2019-05-31.

Substrate processing apparatus and processing liquid supply method

Номер патента: US20180090306A1. Автор: Jiro Higashijima,Yusuke Hashimoto,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-29.

Substrate processing apparatus and display device using the same

Номер патента: US20180097018A1. Автор: Jeong Kweon Park,Jinwook KWAK,Jangcheol KIM,Ik Hyun KUON,Ju Ik HONG. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-05.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240319707A1. Автор: Shinichiro Mori,Hiroyuki Mitsui,Yuji Yamaoka,Hiroshi Ekko,Kyo TAKATA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and program

Номер патента: EP4435537A1. Автор: Shinichiro Mori,Hiroyuki Mitsui,Yuji Yamaoka,Hiroshi Ekko,Kyo TAKATA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240321624A1. Автор: Kenichiro Saito,Satoshi Ushida. Владелец: Daikin Finetech Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240339339A1. Автор: Hiroaki Inadomi,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240355669A1. Автор: Yasutaka Mizomoto,Yohei Yamashita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4456119A1. Автор: Ju Young Park,So Jin Jeong,Seong Min Nam,Da In Kim. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-10-30.

Substrate processing device and substrate transfer method

Номер патента: US09929030B2. Автор: Shinji Wakabayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09808836B2. Автор: Kenya Ito,Tetsuji Togawa,Keisuke Uchiyama,Yu Ishii. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-11-07.

Substrate processing apparatus and method of transferring a substrate

Номер патента: US09786532B2. Автор: Takashi Mitsuya,Keiichi Kurashina,Masahiko Sekimoto,Kenichi Kobayashi,Toshio Yokoyama,Kenichi Akazawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-10-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09768039B2. Автор: Yuki Yoshida,Satoru Tanaka,Kazuyoshi Shinohara,Hidetoshi Nakao,Norihiro Ito,Meitoku Aibara,Kazuhiro Aiura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09721814B2. Автор: Masanobu Sato,Hiroyuki Yashiki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09698037B2. Автор: Yuichi Matsuda,Tomoyuki Yamada,Takashi Nogami,Shinobu Sugiura,Seiyo Nakashima. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-07-04.

Substrate processing apparatus, processing apparatus, and method for manufacturing device

Номер патента: US09651868B2. Автор: Masaki Kato,Tohru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Substrate processing apparatus and substrate conveying apparatus for use in the same

Номер патента: US09624046B2. Автор: Ichiro Mitsuyoshi,Ryo Muramoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09589819B1. Автор: Satoshi Takano. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-03-07.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09566616B2. Автор: Kenya Ito,Tetsuji Togawa,Keisuke Uchiyama,Yu Ishii. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Substrate processing method

Номер патента: US09543162B2. Автор: Takashi Ota,Kazuhide Saito,Taiki HINODE. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09449807B2. Автор: Toshimitsu Namba. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Substrate processing apparatus, program for controlling the same, and method for fabricating semiconductor device

Номер патента: US09443748B2. Автор: Makoto Shirakawa. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-09-13.

Substrate processing system, substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and program

Номер патента: EP4307065A1. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Kayoko Yashiki,Kyohei Kita. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-01-17.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US11917729B2. Автор: Kenichiro Nakamura,Hiroki Endo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Transfer robot and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: US11769681B2. Автор: Kyung Hee JEON,Dong Sun KO,Hun Hee NA. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Controlling apparatus for controlling operation of substrate processing apparatus

Номер патента: US20220206467A1. Автор: Sang Bo Seo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-30.

Controlling apparatus for controlling operation of substrate processing apparatus

Номер патента: US11899429B2. Автор: Sang Bo Seo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and substrate processing system

Номер патента: US20210187685A1. Автор: Itsuki Kobata,Atsuo Katagiri. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-06-24.

Containment and exhaust system for substrate polishing components

Номер патента: EP4297930A1. Автор: John Kevin Shugrue,Daniel Ray TROJAN. Владелец: AXUS Tech LLC. Дата публикации: 2024-01-03.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20220203409A1. Автор: Junichi Ishii,Hiroaki Ishii,Kazuhiro Honsho. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-30.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US11817337B2. Автор: Munehisa Kodama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20170047233A1. Автор: Keisuke Yoshida,Masatoshi Kaneda,Yuzo Ohishi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-16.

Substrate processing system

Номер патента: US20210043480A1. Автор: Takashi Kumagai,Akira Kodashima,Suguru Motegi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-02-11.

Substrate processing system

Номер патента: US11515183B2. Автор: Takashi Kumagai,Akira Kodashima,Suguru Motegi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-11-29.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240155737A1. Автор: Kenichiro Nakamura,Hiroki Endo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing system, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20210003990A1. Автор: Naofumi Ohashi,Shun Matsui,Yasuhiro Mizuguchi,Tadashi Takasaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2021-01-07.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240162054A1. Автор: Noritake SUMI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Method of cleaning substrate processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US20210082691A1. Автор: Shogo Fukui,Pohan HUANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-18.

Substrate processing apparatus, article manufacturing method, substrate processing method, substrate processing system, management apparatus, and storage medium

Номер патента: US20200333718A1. Автор: Shinichiro Koga,Takahiro Takiguchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-10-22.

Substrate processing device comprising door unit having inclined surface

Номер патента: US11701693B2. Автор: Hyung Chul Kim,Dong Hwa Lee,You Sun JUNG. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-18.

Home port and substrate processing apparatus using same

Номер патента: US20230195030A1. Автор: Tae Hoon Lee,Do Yeon Kim,Young Jun SON,Hyun Yoon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200152443A1. Автор: Jiro Higashijima,Yusuke Hashimoto,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-14.

Motor attachment bracket, motor attachment structure, and substrate processing apparatus

Номер патента: SG10201800586RA. Автор: Tanaka Hideaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-08-30.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230241634A1. Автор: Yuji Okita,Hiroaki Kakuma,Hideji NAOHARA,Tatsuya Masui,Yuichi DEBA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12020936B2. Автор: Takeshi Tamura,Hirotoshi Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Substrate processing method

Номер патента: US20100048026A1. Автор: Takashi Sone,Ellchl Nishimura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-02-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180096837A1. Автор: Yi-Cheng Wang. Владелец: Wet Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-05.

Semiconductor processing system with wireless sensor network monitoring system incorporated therewith

Номер патента: WO2007112180A2. Автор: Kenji Sugishima,Sanjeev Kaushal,Donthineni Ramesh Kumar Rao. Владелец: Tokyo Electron America, Inc.. Дата публикации: 2007-10-04.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium

Номер патента: US11257701B2. Автор: Hidekazu Kiyama,Kazutoshi Ishimaru,Takehiro Kadokura,Takashige Suematsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-02-22.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20210063882A1. Автор: Keiichi Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Pressing kit for substrate or lead frame of a semiconductor packaging

Номер патента: US20030110608A1. Автор: Chun-Tsai Yang. Владелец: Orient Semiconductor Electronics Ltd. Дата публикации: 2003-06-19.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4394847A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake,Yuta Mitsuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-03.

Substrate processing device comprising door unit having inclined surface

Номер патента: US20230001462A1. Автор: Hyung Chul Kim,Dong Hwa Lee,You Sun JUNG. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-05.

Substrate processing apparatus including nozzle unit and substrate processing method

Номер патента: US20240091819A1. Автор: Hyeon Jun Lee,So Young PARK,Ju Hwan Lee,Myung A Jeon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4333036A1. Автор: Jun Komori. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240079251A1. Автор: Jun Komori. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-07.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230207344A1. Автор: Seiji Nakano,Tokutarou Hayashi,Yohei Yamawaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing apparatus and method of processing substrate

Номер патента: US11733612B2. Автор: Kazuya Iwata,Norihisa Koga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230178396A1. Автор: Seok Heo,Young Ho Hwang,Eun Seok SEO,Jun O PARK,Jae Hong Lim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-08.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20070277856A1. Автор: Akio Hashizume. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-12-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240100647A1. Автор: Boun Yoon,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate weight measurement apparatus, a substrate processing apparatus including the same, and a method of processing a substrate using the substrate processing apparatus

Номер патента: US20230384681A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20160121373A1. Автор: Daisuke Aoki,Junya Minamida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-05.

Package substrate processing method and protective tape

Номер патента: US20190109094A1. Автор: Youngsuk Kim,Byeongdeck Jang. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2019-04-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20160059274A1. Автор: Katsuhiko Miya,Naozumi Fujiwara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-03-03.

Substrate processing device

Номер патента: US20170117160A1. Автор: Akio Hashizume,Takashi Ota. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-27.

Substrate processing apparatus and manufacturing method of substrate holding unit

Номер патента: US20180342479A1. Автор: Takashi Terada,Yoshitaka Otsuka,Munehisa Kodama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-11-29.

Substrate processing apparatus and manufacturing method of substrate holding unit

Номер патента: US10833045B2. Автор: Takashi Terada,Yoshitaka Otsuka,Munehisa Kodama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-11-10.

High-pressure container, substrate processing apparatus, and method for manufacturing high-pressure container

Номер патента: US20140145390A1. Автор: Kazuyuki Mitsuoka,Takayuki Toshima,Takehiko Orii,Hiroki Ohno,Gen You,Hiroaki Inadomi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-05-29.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240269862A1. Автор: Takayuki Hatanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Method and system for homogenization of supercritical fluid in a high pressure processing system

Номер патента: WO2006039314A1. Автор: Darko Babic,Gentaro Goshi. Владелец: Tokyo Electron America, Inc.. Дата публикации: 2006-04-13.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20210063883A1. Автор: Keiichi Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Substrate processing method

Номер патента: US20070004057A1. Автор: Toshio Kaneko,Toru Nishiwaki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-01-04.

Substrate processing apparatus and method for fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20240153811A1. Автор: Young Joon Kim,Sang Duk HWANG,Jai Hoon KANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing apparatus maintenance method

Номер патента: US20240240859A1. Автор: Mikio Nakashima,Takahiro Hayashida,Shota Umezaki,Takafumi YASUNAGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Method Of Remanufacturing Used Cylinder Liners And Mask And Used Cylinder Liner Assembly

Номер патента: US20150013159A1. Автор: Trent Simpson,Aaron CLAVER. Владелец: Caterpillar Inc. Дата публикации: 2015-01-15.

Method of remanufacturing used cylinder liners and mask and used cylinder liner assembly

Номер патента: US09676068B2. Автор: Trent Simpson,Aaron CLAVER. Владелец: Caterpillar Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

Method of remanufacturing used cylinder liners and mask and used cylinder liner assembly

Номер патента: WO2015006122A1. Автор: Aaron CLAVER,Trent A. Simpson. Владелец: CATERPILLAR INC.. Дата публикации: 2015-01-15.

Lift assemblies, and related methods and components, for substrate processing chambers

Номер патента: US20240198468A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Martin Jeffrey Salinas,Aniketnitin Patil,Raja Murali Dhamodharan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-20.

Coke oven door liner assembly

Номер патента: CA2201543C. Автор: Paul V. Suey. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-01-23.

Substrate processing device and control method for substrate processing device

Номер патента: US20230211622A1. Автор: Jae Hong Kim,Young-Joo Seo,Sang Hyun Son,Sang Min HA,Hyeong Jun CHO. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-06.

Optimization program and substrate process system

Номер патента: US09804592B2. Автор: Kazuya Fukao. Владелец: Fuji Machine Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Heating element for a substrate processing system.

Номер патента: NL2033372B1. Автор: Van Rijn Richard,Joseph Wehenkel Dominique. Владелец: Applied Nanolayers B V. Дата публикации: 2024-05-08.

Lift assemblies, and related methods and components, for substrate processing chambers

Номер патента: WO2024129179A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Martin Jeffrey Salinas,Aniketnitin Patil,Raja Murali Dhamodharan. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing system, storage medium and method of registering new device

Номер патента: US09778941B2. Автор: Taku Omori. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2017-10-03.

Substrate processing system and method of installing plc software

Номер патента: US20160335065A1. Автор: Taku Omori. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2016-11-17.

Substrate processing system and method of installing PLC software

Номер патента: US09747092B2. Автор: Taku Omori. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2017-08-29.

Image processing system with aliasing detection mechanism and method of operation thereof

Номер патента: US09866809B2. Автор: Xiaogang Dong,Jiro Takatori,Tak-Shing Wong. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Insertion/extraction tool for substrate package

Номер патента: US5062201A. Автор: Alden O. Long, Jr.. Владелец: AMP Inc. Дата публикации: 1991-11-05.

Abrasive agent for substrates and substrate manufacturing method

Номер патента: US09868886B2. Автор: Hazuki Nakae. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2018-01-16.

Heating element for a substrate processing system

Номер патента: WO2024085761A1. Автор: Richard Van Rijn,Dominique Joseph WEHENKEL. Владелец: Applied Nanolayers B.V.. Дата публикации: 2024-04-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4104941A1. Автор: Hiroyoshi Mori. Владелец: M Dia & Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20220063139A1. Автор: Hiroyoshi Mori. Владелец: M Dia and Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US11986978B2. Автор: Hiroyoshi Mori. Владелец: M Dia and Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-21.

System and method to exchange data between first data processing system and second data processing system via at least partially public communication network

Номер патента: RU2480924C2. Автор: Маринус Адрианус Хендрикус КЛОНЕН,ДЕН ХУК Ролф Мартейн ВАН,Геррит Гейсберт ЭРМСТРАНГ,ДЕ ВАТЕР Годефридус Йоханнес ВАН,Хюбертус Франсискус Мария ХЕРМЕС. Владелец: Спектатор Интеллекчуал Пропертиз Б.В.. Дата публикации: 2013-04-27.

Coating, composed of an optically effective layer system, for substrates, whereby the layer system has a high anti-reflective effect, and method for the manufacturing of the coating

Номер патента: US5216542A. Автор: Stephan Roegels,Anton Zmelty,Klaus Hartig,Joachim Szczyrbowski. Владелец: Leybold AG. Дата публикации: 1993-06-01.

Method and device for provision of protection in data processing system

Номер патента: RU2333608C2. Автор: Николай К.Н. ЛЕУНГ,Филип ХОКЕС,Грегори Г. РОУЗ. Владелец: Квэлкомм Инкорпорейтед. Дата публикации: 2008-09-10.

Composition for substrate surface modification and method using the same

Номер патента: US11261203B2. Автор: Wen-Hao Chen,Chen-Han Huang. Владелец: National Central University. Дата публикации: 2022-03-01.

Composition for substrate surface modification and method using the same

Номер патента: US20200399293A1. Автор: Wen-Hao Chen,Chen-Han Huang. Владелец: National Central University. Дата публикации: 2020-12-24.

Composition for substrate surface modification and method using the same

Номер патента: US10975105B2. Автор: Wen-Hao Chen,Hsing-Ying Lin,Chen-Han Huang. Владелец: National Central University. Дата публикации: 2021-04-13.

Method for operating an electronic data processing system and electronic data processing system

Номер патента: US12045625B2. Автор: Denis Huber,Walter Ehresmann,Alexander Zimmermann,Edgar Kempf,Alexander Hecht,Werner Engeln,Jaron Krimmel,Janik Quarleiter. Владелец: Mettler Toledo Albstadt GmbH. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing method

Номер патента: US20180134607A1. Автор: Yasushi Ito,Kenichi Ichikawa,Kaori TATEISHI. Владелец: Via Mechanics Ltd. Дата публикации: 2018-05-17.

System and method for detecting adversarial interference with data processing systems

Номер патента: US20240362338A1. Автор: Tomer Kushnir,Maxim Balin,Ofir Ezrielev. Владелец: Dell Products LP. Дата публикации: 2024-10-31.

Anti-pass back capacity predictive system and method for access control host processing system

Номер патента: US09741185B2. Автор: Rajesh Gopalakrishna. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Centralized system management on endpoints of a distributed data processing system

Номер патента: US09485151B2. Автор: Gianluca Bernardini,Luigi Pichetti,Rosario Gangemi,Massimiliano Celli. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-11-01.

Data processing system and method for detecting jam in data processing system

Номер патента: RU2718215C2. Автор: Алексей Алексеевич Станкевичус,Сергей Владимирович Трифонов. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Яндекс". Дата публикации: 2020-03-31.

Method of substrate processing

Номер патента: RU2436882C2. Автор: Гэри П. ФАДЖИТТ,Террелл Дж. ГРИН,Скотт Э. ДЖИНТЕР,Джон У. СТОЛАРЗ,Роберт У. КАРЛСОН,Стенли Х. мл. МАКГРЮ,Стивен П. МЕЦЛЕР. Владелец: Мидвествако Корпорейшн. Дата публикации: 2011-12-20.

Plastic blending methods, systems, and apparatus for efficiently reducing carbon footprints in refining systems and petrochemical processing systems

Номер патента: US12030219B2. Автор: Venkata Krishnan RAMANUJAM,Venkata Appala NUTI,Srinivas Rajabahadur ARCOT. Владелец: J Ray McDermott SA. Дата публикации: 2024-07-09.

System and method for sharing data between data processing systems

Номер патента: EP4372621A1. Автор: Jasleen Singh,Rajeshwari Ganesan,Megha Honna,Pratheeksha Maddi. Владелец: Infosys Ltd. Дата публикации: 2024-05-22.

Information processing system, information processing method, and information processing program

Номер патента: EP4398135A1. Автор: Kazutaka KITAMURA. Владелец: Rakuten Group Inc. Дата публикации: 2024-07-10.

Backpressure from an external processing system transparently connected to a router

Номер патента: EP3863225A1. Автор: John Fischer,Steve Morin,Peter TREGUNNO. Владелец: NOKIA SOLUTIONS AND NETWORKS OY. Дата публикации: 2021-08-11.

Plastic blending methods, systems, and appparatus for efficiently reducing carbon footprints in refining systems and petrochemical processing systems

Номер патента: CA3214932A1. Автор: Venkata Krishnan RAMANUJAM,Srinivas Arcot,Venkata Appala NUTI. Владелец: J Ray McDermott SA. Дата публикации: 2022-10-13.

System and method for proactive management of heating systems in data processing systems

Номер патента: US20240237265A9. Автор: Donald W. Gerhart,Curtis Ray Genz,Randy Alton Frazier. Владелец: Dell Products LP. Дата публикации: 2024-07-11.

System and method for managing CPCI buses in a multi-processing system

Номер патента: US20030115383A1. Автор: Sang Jeong,Woong PARK. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2003-06-19.

Data processing system and data processing method for a substation system, and electric power system substation

Номер патента: WO2024153600A1. Автор: OBBALAREDDI DEMUDU Naidu,Vedanta PRADHAN. Владелец: Hitachi Energy Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Data processing system and data processing method for a substation system, and electric power system substation

Номер патента: EP4404407A1. Автор: OBBALAREDDI DEMUDU Naidu,Vedanta PRADHAN. Владелец: Hitachi Energy Ltd. Дата публикации: 2024-07-24.

Data processing system and data processing method

Номер патента: US20180341577A1. Автор: Yong-Tae Kim,Duck-Hoi KOO,Soong-Sun SHIN,Cheon-Ok Jeong. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2018-11-29.

Carbon-sequestering desalination brine waste processing system and method thereof

Номер патента: US12042763B2. Автор: George E. Snider,Darin Diorio,Larry M. SHULTZ. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-23.

Simplifying communication between a client application and a single-board data processing system

Номер патента: CA3069910C. Автор: Takeshi Arisawa,Marco Cantu. Владелец: Idera Inc. Дата публикации: 2023-09-26.

Data processing system communicating with a map data processing system to generate a display of one or more segments of one or more vehicle routes

Номер патента: US12072199B2. Автор: Sunil Chintakindi,Howard Hayes. Владелец: Allstate Insurance Co. Дата публикации: 2024-08-27.

Image processing system and processing method thereof

Номер патента: US20100289868A1. Автор: Ming-Xiang Shen. Владелец: ArcSoft Hangzhou Multimedia Technology Co Ltd. Дата публикации: 2010-11-18.

Cutting assembly for trimming pieces of meat, processing system including such a cutting assembly, and corresponding methods of operating and use associated thereto

Номер патента: EP3657952B1. Автор: Antoine WELLS CAMPAGNA,Kevin BERGERON,Alexandre Lemieux. Владелец: Equipements Frontmatec Inc. Дата публикации: 2024-06-19.

Cutting assembly for trimming pieces of meat, processing system including such a cutting assembly, and corresponding methods of operating and use associated thereto

Номер патента: CA3043120C. Автор: Antoine WELLS CAMPAGNA,Kevin BERGERON,Alexandre Lemieux. Владелец: Equipements Frontmatec Inc. Дата публикации: 2021-05-18.

Cutting assembly for trimming pieces of meat, processing system including such a cutting assembly, and corresponding methods of operating and use associated thereto

Номер патента: US11819034B2. Автор: Antoine WELLS CAMPAGNA,Kevin BERGERON,Alexandre Lemieux. Владелец: Equipements Frontmatec Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Cutting Assembly for Trimming Pieces of Meat, Processing System Including Such a Cutting Assembly, and Corresponding Methods of Operating and Use Associated Thereto

Номер патента: US20200236953A1. Автор: Wells Campagna Antoine,Bergeron Kevin,Lemieux Alexandre. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-30.

Cutting assembly for trimming pieces of meat, processing system including such a cutting assembly, and corresponding methods of operating and use associated thereto

Номер патента: CA3043120A1. Автор: Antoine WELLS CAMPAGNA,Kevin BERGERON,Alexandre Lemieux. Владелец: Equipements Frontmatec Inc. Дата публикации: 2019-01-31.

Liner assembly for pipelines and related method

Номер патента: AU2024204920A1. Автор: Cameron Manners,Paul CORNEIL,Grant DUXBURY. Владелец: NU FLOW TECHNOLOGIES 2000 Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Liner assembly for pipelines and related method

Номер патента: AU2019273872A1. Автор: Cameron Manners,Paul CORNEIL,Grant DUXBURY. Владелец: NU FLOW TECHNOLOGIES 2000 Inc. Дата публикации: 2020-11-26.

Liner assembly for pipeline repair or reinforcement and method of installing the same

Номер патента: US09897241B2. Автор: Cameron Manners. Владелец: NU FLOW TECHNOLOGIES 2000 Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Helmet liner assembly

Номер патента: CA3189204A1. Автор: Jean-Simon Levesque,Frederic Rene-Laforest. Владелец: Kimpex Inc. Дата публикации: 2023-08-17.

Helmet liner assembly

Номер патента: US20230255298A1. Автор: Jean-Simon Levesque,Frederic Rene-Laforest. Владелец: Kimpex Inc. Дата публикации: 2023-08-17.

Seal assembly for liners of exhaust nozzle

Номер патента: US09771895B2. Автор: George J. Kramer. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 2017-09-26.

Carton and liner assembly, and method of manufacture thereof

Номер патента: US20050072781A1. Автор: Mike Tomkies,Mike Brain,Sheridan Ramskill. Владелец: Polestar Jowetts Ltd. Дата публикации: 2005-04-07.

Receptacle having a housing and inner vessel assembly for liner engagement

Номер патента: US09561903B2. Автор: Joseph Wall. Владелец: Test Rite Products Corp. Дата публикации: 2017-02-07.

Urine collection container liner assembly and related systems and methods

Номер патента: US20240358542A1. Автор: Vinayaka Kulkarni,Shahab Siddiqui,Tamika Richardson,Meghan Caracciola,Padraig Fogarty,Anthony Garvey,Ronald Nicolas LEGASPI. Владелец: PureWick Corp. Дата публикации: 2024-10-31.

Seed boot and liner assembly

Номер патента: US09877425B2. Автор: Elijah B. Garner,Jerry Samuelson. Владелец: Deere and Co. Дата публикации: 2018-01-30.

Liner assembly for pipelines and related method

Номер патента: AU2024204912A1. Автор: Cameron Manners,Paul CORNEIL,Grant DUXBURY. Владелец: NU FLOW TECHNOLOGIES 2000 Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Wear liner assembly

Номер патента: AU2021221726A1. Автор: Leigh Wings. Владелец: Resources Unity Enterprise Pty Ltd. Дата публикации: 2022-12-22.

Method of installing liner assembly for pipeline repair or reinforcement, and liner assembly and steam generator for same

Номер патента: US20210254775A1. Автор: Cameron Manners,Paul CORNEIL,Grant DUXBURY. Владелец: NU FLOW TECHNOLOGIES 2000 Inc. Дата публикации: 2021-08-19.

Protective helmet with liner assembly

Номер патента: CA2964404C. Автор: Philippe Martin,Evangelos Spyrou,Pierre-Luc Beauchamp,Simon Langlois,Daniel Chartrand,Simon-Pierre Germain,Nicole Jacqueline Wiart,Brian William Steenbrink,Maurice Dykmans. Владелец: Sport Maska Inc. Дата публикации: 2023-08-01.

Improved fastening system for liner assemblies of ore mills

Номер патента: WO2001003839A1. Автор: Ronald C. Clarke,Jeffrey H. Washburn,Gary G. Edwards. Владелец: Me International, Inc.. Дата публикации: 2001-01-18.

Wear liner assembly

Номер патента: AU2023229618A1. Автор: Brian Davies. Владелец: Metso Outotec Finland Oy. Дата публикации: 2023-10-05.

Liner assembly for a protective helmet

Номер патента: US09943747B2. Автор: Vincent R. Long,Robert Erb,Cortney Warmouth,Louis Anthony VanHoutin,Ray Drake. Владелец: Kranos IP Corp. Дата публикации: 2018-04-17.

Liner assembly for pipelines and related method

Номер патента: EP4336092A2. Автор: Cameron Manners,Paul CORNEIL,Grant DUXBURY. Владелец: NU FLOW TECHNOLOGIES 2000 Inc. Дата публикации: 2024-03-13.

Liner assembly for pipelines and related method

Номер патента: EP4336093A2. Автор: Cameron Manners,Paul CORNEIL,Grant DUXBURY. Владелец: NU FLOW TECHNOLOGIES 2000 Inc. Дата публикации: 2024-03-13.

Liner assembly for pipelines and related method

Номер патента: CA3096558C. Автор: Cameron Manners,Paul CORNEIL,Grant DUXBURY. Владелец: NU FLOW TECHNOLOGIES 2000 Inc. Дата публикации: 2023-10-10.

Liner assembly for pipelines and related method

Номер патента: EP3797240A1. Автор: Cameron Manners,Paul CORNEIL,Grant DUXBURY. Владелец: NU FLOW TECHNOLOGIES 2000 Inc. Дата публикации: 2021-03-31.

Liner assembly for pipelines and related method

Номер патента: EP4336092A3. Автор: Cameron Manners,Paul CORNEIL,Grant DUXBURY. Владелец: NU FLOW TECHNOLOGIES 2000 Inc. Дата публикации: 2024-06-05.

Liner assembly for pipelines and related method

Номер патента: AU2019273872B2. Автор: Cameron Manners,Paul CORNEIL,Grant DUXBURY. Владелец: NU FLOW TECHNOLOGIES 2000 Inc. Дата публикации: 2024-06-13.

Liner assembly for pipelines and related method

Номер патента: EP4336093A3. Автор: Cameron Manners,Paul CORNEIL,Grant DUXBURY. Владелец: NU FLOW TECHNOLOGIES 2000 Inc. Дата публикации: 2024-06-19.

Shower Curtain Liner Assemblies and Related Methods

Номер патента: US20210369059A1. Автор: James Eric Battleson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-12-02.

Gas discharge assembly, frame assembly, liner assembly and patient interface device

Номер патента: EP4400139A1. Автор: Yajie Wang,Zhi ZHUANG,Mingzhao Zhou. Владелец: BMC Medical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-17.

Protective helmet with liner assembly

Номер патента: US20200008511A1. Автор: Philippe Martin,Evangelos Spyrou,Pierre-Luc Beauchamp,Simon Langlois,Daniel Chartrand,Simon-Pierre Germain,Nicole Jacqueline Wiart,Brian William Steenbrink,Maurice Dykmans. Владелец: Sport Maska Inc. Дата публикации: 2020-01-09.

Piston having baffle ring for limiting abnormal combustion and piston and cylinder liner assembly

Номер патента: US12104551B1. Автор: Siddhesh Bharat Bhoite. Владелец: Caterpillar Inc. Дата публикации: 2024-10-01.

Substrate processing system, substrate processing apparatus and method for accumulating data for substrate processing apparatus

Номер патента: US09720407B2. Автор: Yoshitaka Koyama,Hiroyuki Iwakura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-08-01.

Cooling flow in substrate processing according to predicted cooling parameters

Номер патента: WO2024147966A1. Автор: Umesh Kelkar,Ala Moradian,Karthik Ramanathan,Orlando Trejo,Elizabeth Kathryn Neville. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-07-11.

Cooling flow in substrate processing according to predicted cooling parameters

Номер патента: US20240230189A1. Автор: Umesh Kelkar,Ala Moradian,Karthik Ramanathan,Orlando Trejo,Elizabeth Kathryn Neville. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Protective helmet with liner assembly

Номер патента: CA3190269A1. Автор: Philippe Martin,Evangelos Spyrou,Pierre-Luc Beauchamp,Simon Langlois,Daniel Chartrand,Simon-Pierre Germain,Nicole Jacqueline Wiart,Brian William Steenbrink,Maurice Dykmans. Владелец: Sport Maska Inc. Дата публикации: 2018-09-21.

Liner assembly for pipelines and related method

Номер патента: CA3212247A1. Автор: Cameron Manners,Paul CORNEIL,Grant DUXBURY. Владелец: NU FLOW TECHNOLOGIES 2000 Inc. Дата публикации: 2019-11-28.

Liner assembly for pipeline repair or reinforcement and method of installing same

Номер патента: CA2872532C. Автор: Cameron Manners. Владелец: NU FLOW TECHNOLOGIES 2000 Inc. Дата публикации: 2020-07-21.

Liner assembly for particle-throwing apparatus

Номер патента: CA1214041A. Автор: Willard J. Harper. Владелец: Kennecott Corp. Дата публикации: 1986-11-18.

Magnetic Panty Liner Assembly

Номер патента: US20190282723A1. Автор: Melissa Haskins. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-09-19.

Pedestal wear liner assembly

Номер патента: US4170180A. Автор: Stanley M. Houston. Владелец: Individual. Дата публикации: 1979-10-09.

Liner assembly and water poll incorporating the same

Номер патента: WO2007008189A2. Автор: Lynn Hunter. Владелец: Perky-Pet Products, Company, Inc.. Дата публикации: 2007-01-18.

Liner assembly for pipeline repair and methods of installing same

Номер патента: CA2505939C. Автор: Cameron Manners. Владелец: NU FLOW TECHNOLOGIES 2000 Inc. Дата публикации: 2010-12-21.

Durability flap and seal liner assembly for exhaust nozzles

Номер патента: US4171093A. Автор: Fred L. Honeycutt, Jr.,Donald R. Senterfitt. Владелец: US Air Force. Дата публикации: 1979-10-16.

Window jamb liner assembly

Номер патента: US09394741B2. Автор: Sayavongs Phandanouvong. Владелец: SP CUSTOM CARPENTRY AND WINDOWS Inc. Дата публикации: 2016-07-19.

Liner assembly for a combustor

Номер патента: US20230313992A1. Автор: Pradeep Naik,Ravindra Shankar Ganiger,Saket Singh,Ranganatha Narasimha Chiranthan,Hiranya Nath,Deepti Bhandari,Girish Kamath Cannanore,Vijayaraj Sukumar. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2023-10-05.

A paint container with a releasable liner assembly

Номер патента: GB2488400A. Автор: Timothy James Llewellyn,Eric Thomas Connolly. Владелец: AKZO NOBEL COATINGS INTERNATIONAL BV. Дата публикации: 2012-08-29.

Shell liner assembly for ore comminuting machine

Номер патента: CA1133871A. Автор: James E. Mishek. Владелец: MINNEAPOLIS ELECTRIC STEEL CASTINGS Co. Дата публикации: 1982-10-19.

Removable liner assembly for a dipper

Номер патента: WO2014172122A1. Автор: David T. Bienfang,Gregory A. GRUBER. Владелец: Caterpillar Global Mining LLC. Дата публикации: 2014-10-23.

Rotatable mill end liner assembly

Номер патента: GB1330523A. Автор: . Владелец: Allis Chalmers Corp. Дата публикации: 1973-09-19.

Liner assembly for a sand trap

Номер патента: CA2653645C. Автор: Kevin L. Clark. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-02-10.

Combustor assembly for a turbine engine

Номер патента: US11796176B2. Автор: Aaron Michael Dziech,Ernesto Andres Vallejo Ruiz,Jonathon Eli Farmer. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2023-10-24.

Cylinder liner assembly having air gap insulation

Номер патента: WO2016054173A1. Автор: Michael James Pollard,Bradley L. Morgan,James A. Subatch, Jr.. Владелец: CATERPILLAR INC.. Дата публикации: 2016-04-07.

Drum liner assembly for a mill drum having replaceable drum liner segments

Номер патента: WO2010083062A2. Автор: Barry Kum. Владелец: KENNAMETAL INC.. Дата публикации: 2010-07-22.

Combustor Assembly for a Turbine Engine

Номер патента: US20200182075A1. Автор: Aaron Michael Dziech,Ernesto Andres Vallejo Ruiz,Jonathon Eli Farmer. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2020-06-11.

Urine collection container liner assembly and related systems and methods

Номер патента: EP4384128A1. Автор: Vinayaka Kulkarni,Shahab Siddiqui,Tamika Richardson,Meghan Caracciola,Padraig Fogarty,Anthony Garvey,Ronald Nicolas LEGASPI. Владелец: PureWick Corp. Дата публикации: 2024-06-19.

Ball mill liner assembly and installation method thereof

Номер патента: US11052401B2. Автор: CHEN CHEN. Владелец: XUZHOU QIAOXIN MINING MACHINERY MANUFACTURING Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-06.

Combustion liner assembly

Номер патента: US20230296251A1. Автор: Karthikeyan Sampath,Pradeep Naik,Ravindra Shankar Ganiger,Perumallu Vukanti,Daniel J. Kirtley,Ranganatha Narasimha Chiranthan,Arvind Namadevan,Hiranya Nath. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2023-09-21.

Combustor Assembly for a Turbine Engine

Номер патента: US20200182465A1. Автор: Ernesto Andres Vallejo Ruiz,Douglas Craig Anderson. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2020-06-11.

Liner assembly for pipeline repair or reinforcement and method of installing same

Номер патента: CA2972628C. Автор: Cameron Manners. Владелец: NU FLOW TECHNOLOGIES 2000 Inc. Дата публикации: 2023-03-07.

Vehicle cargo liner assembly

Номер патента: US20160152194A1. Автор: Kevin Keun Kim. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-06-02.

Shell liner assembly

Номер патента: CA1298260C. Автор: Charles B. Dugger, Jr.,David M. Kjos. Владелец: Evans Products Co. Дата публикации: 1992-03-31.

Liner assembly for prosthetic components

Номер патента: WO2003084432A2. Автор: David C. Kelman,Phil Frederick,Jeffrey J. Shea,Brian Mc Kinnon. Владелец: Smith & Nephew, Inc.. Дата публикации: 2003-10-16.

Method of installing liner assembly for pipeline repair or reinforcement, and liner assembly and steam generator for same

Номер патента: US11802648B2. Автор: Cameron Manners,Paul CORNEIL,Grant DUXBURY. Владелец: NU FLOW TECHNOLOGIES 2000 Inc. Дата публикации: 2023-10-31.

Method of installing liner assembly for pipeline repair or reinforcement, and liner assembly and steam generator for same

Номер патента: US20220057039A1. Автор: Cameron Manners,Paul CORNEIL,Grant DUXBURY. Владелец: NU FLOW TECHNOLOGIES 2000 Inc. Дата публикации: 2022-02-24.

Desuperheater spray liner assembly

Номер патента: CA1213799A. Автор: Joseph P. Diggins. Владелец: Foster Wheeler Energy Corp. Дата публикации: 1986-11-12.

Liner assembly, engine housing, and methods of assembling the same

Номер патента: CA2966182C. Автор: Leonard J. Hebert,Belur N. Shivashankara,Jesse Ian FOLLET,Zachariah Beach VANDEMARK. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2021-10-12.

Using graphics processing unit for substrate routing and throughput modeling

Номер патента: US20190391569A1. Автор: Shyam Sunder EMANI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-12-26.

Alm enabled combustion liner assembly

Номер патента: US20200208840A1. Автор: Kevin Sauer,Christopher D. DeBruhl. Владелец: Rolls Royce Corp. Дата публикации: 2020-07-02.

Sleeve/liner assembly and hydraulic hammer using same

Номер патента: EP2646199A1. Автор: Blake R. Teipel,Lauritz P. Pillers Ii. Владелец: Caterpillar Inc. Дата публикации: 2013-10-09.

Substrate processing device and control method for substrate processing device

Номер патента: US20230201860A1. Автор: Jae Hong Kim,Young-Joo Seo,Sang Hyun Son,Sang Min HA,Hyeong Jun CHO. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Combustion liner assembly having a mount stake coupled to an upstream support

Номер патента: US9046272B2. Автор: Edward Claude Rice. Владелец: Rolls Royce Corp. Дата публикации: 2015-06-02.

Fan track liner assembly

Номер патента: US9957835B2. Автор: Dale Edward Evans. Владелец: Rolls Royce PLC. Дата публикации: 2018-05-01.

Truck bed liner assembly

Номер патента: US4333678A. Автор: Donald L. Munoz,Daniel A. Grote,David G. Bronder,Gerald J. Weis. Владелец: Thermoplastics Inc. Дата публикации: 1982-06-08.

Trunnion liner assembly

Номер патента: CA1162898A. Автор: Ibarra I. Fernandez. Владелец: Dominion Engineering Works Ltd. Дата публикации: 1984-02-28.

Polished rod liner assembly

Номер патента: CA3133992C. Автор: John E Stachowiak,Jason W Bailey. Владелец: Weatherford Technology Holdings LLC. Дата публикации: 2022-09-27.

Self-adjusting liner assembly for welding torch

Номер патента: WO2012170403A1. Автор: Jeffrey G. Wells,Kenneth K. Pratt. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC.. Дата публикации: 2012-12-13.

Self-adjusting liner assembly for welding torch

Номер патента: US20110233179A1. Автор: Jeffrey G. Wells,Kenneth K. Pratt. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2011-09-29.

Self-adjusting liner assembly for welding torch

Номер патента: CA2680141C. Автор: Jeffrey G. Wells,Kenneth K. Pratt. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2011-11-08.

Shower Curtain Liner Assembly

Номер патента: US20200214509A1. Автор: Earl Greene. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-07-09.

Liner assembly for pipelines and related method

Номер патента: CA3212242A1. Автор: Cameron Manners,Paul CORNEIL,Grant DUXBURY. Владелец: NU FLOW TECHNOLOGIES 2000 Inc. Дата публикации: 2019-11-28.

Ethercat liquid flow controller communication for substrate processing systems

Номер патента: WO2021262947A1. Автор: Ricardo Martinez,William Wadsworth,Jagan Rangarajan,Dmitry Sklyar,Hung Xuan Hoang,Farooq Aleem,Brett Hoogensen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-12-30.

Using graphics processing unit for substrate routing and throughput modeling

Номер патента: US20200326691A1. Автор: Shyam Sunder EMANI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-10-15.

Disturbance compensation for substrate processing recipes

Номер патента: US12130606B2. Автор: Paul Z. Wirth,Atilla KILICARSLAN,Raechel Chu-Hui Tan,Brooke Elise Montgomery. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-29.

Gas turbine engine combustor liner assembly with convergent hyperbolic profile

Номер патента: WO2014113007A1. Автор: Nurhak Erbas-Sen,Frank J. Cunha. Владелец: UNITED TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2014-07-24.

Combustion section and fuel injector assembly for a heat engine

Номер патента: AU2019271951A1. Автор: Clayton Stuart Cooper,Gregory Allen Boardman,Pradeep Naik. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2020-07-02.

Drum liner assembly

Номер патента: WO1991010597A1. Автор: Chester Savage,George P. Mcfarlin. Владелец: Prb Industries, Inc.. Дата публикации: 1991-07-25.

Methods, systems, and apparatus for conducting a calibration operation for a plurality of mass flow controllers (mfcs) of a substrate processing system

Номер патента: US20230366715A1. Автор: Zhiyuan Ye,Ala Moradian,Errol Antonio C. Sanchez,Patricia M. Liu,Zuoming Zhu,Bindusagar MARATH SANKARATHODI,Jyothi RAJEEVAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-16.

Methods, systems, and apparatus for conducting a calibration operation for a plurality of mass flow controllers (mfcs) of a substrate processing system

Номер патента: WO2022220900A1. Автор: Zhiyuan Ye,Ala Moradian,Errol Antonio C. Sanchez,Patricia M. Liu,Zuoming Zhu,Bindusagar MARATH SANKARATHODI,Jyothi RAJEEVAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-10-20.

Combustion Section and Fuel Injector Assembly for a Heat Engine

Номер патента: US20200191093A1. Автор: Clayton Stuart Cooper,Gregory Allen Boardman,Pradeep Naik. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2020-06-18.

Interferometry system and methods for substrate processing

Номер патента: WO2020009732A1. Автор: Benjamin M. Johnston,Jae Myung YOO,Cheuk Ming LEE,Thang Duc NGUYEN,David Michael CORRIVEAU,Glen Alan GOMES. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-01-09.

Guardbands in substrate processing systems

Номер патента: US20230376020A1. Автор: Fei Li,James Robert Moyne,Jimmy Iskandar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Guardbands in substrate processing systems

Номер патента: US20230376374A1. Автор: Fei Li,James Robert Moyne,Jimmy Iskandar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Disturbance compensation for substrate processing recipes

Номер патента: WO2023121981A1. Автор: Paul Z. Wirth,Atilla KILICARSLAN,Raechel Chu-Hui Tan,Brooke Elise Montgomery. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-06-29.

Systems and methods for facilitating the preparation of shipping assemblies for objects

Номер патента: WO2023059794A3. Автор: Thomas Allen,Benjamin Cohen,John Richard AMEND, Jr.,Joseph Romano. Владелец: Berkshire Grey Operating Company, Inc.. Дата публикации: 2023-07-13.

Light processing system

Номер патента: US09435989B1. Автор: Donald Alan STEINMEYER,Eric Robert STEINMEYER,John Richard ZAGELOW. Владелец: FOCAL TECHNOLOGIES Inc. Дата публикации: 2016-09-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US09606454B2. Автор: Takashi Taguchi,Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-28.

Laser Head Assembly For Laser Processing System

Номер патента: US20140285900A1. Автор: Yuri Grapov,Michael DiGiantommaso. Владелец: IPG Photonics Corp. Дата публикации: 2014-09-25.

Cryogenic processing system for plant material

Номер патента: US11766678B1. Автор: Steven J. Barberi,Louis J. Barberi,Keith W. Kilham,Gregory J. Gruzdowich. Владелец: Agt Usa Inc. Дата публикации: 2023-09-26.

Head assembly for a laser processing system

Номер патента: EP2760620A1. Автор: Yuri Grapov,Michael DiGiantommaso. Владелец: IPG Photonics Corp. Дата публикации: 2014-08-06.

Lightpipe for high temperature substrate processing

Номер патента: US20240142310A1. Автор: Ji-Dih Hu. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Lightpipe for high temperature substrate processing

Номер патента: WO2024091827A3. Автор: Ji-Dih Hu. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2024-07-04.

Lightpipe for high temperature substrate processing

Номер патента: WO2024091827A2. Автор: Ji-Dih Hu. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2024-05-02.

Substrate processing method and substrate processing system using the same

Номер патента: US20240239099A1. Автор: Sujin Kim,Junho Kim,Hyunmin Lee,Solmin PARK. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Schedule creation program generating method, schedule creation program generating apparatus, schedule creating apparatus, recording medium, substrate processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US20240329624A1. Автор: Jun Kawai,Takashi Kasahara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Fish processing system and method

Номер патента: US09750266B2. Автор: Robert M. Ryan. Владелец: RYCO EQUIPMENT Inc. Дата публикации: 2017-09-05.

Mold for substrate surface functionalization, and method for substrate surface functionalization

Номер патента: US20240091988A1. Автор: Xiangdong Liu,Jiehao Qu,Shengjiong Yin,Qinqin Fan,Wangjie Xu,Shuting He,Hongqin Zhu. Владелец: Zhejiang Huashuaite New Material Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

A side discharge assembly for a fluid bed processing system and method thereof

Номер патента: EP1148938A1. Автор: Ryszard Braun,Antti Kosola,Iiro Uskonen. Владелец: Genencor International Inc. Дата публикации: 2001-10-31.

Vacuum holder for substrates

Номер патента: RU2702995C2. Автор: Николай Львович Казанский,Олег Юрьевич Моисеев,Сергей Дмитриевич Полетаев,Андрей Владимирович Щербак. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт систем обработки изображений Российской академии наук (ИСОИ РАН). Дата публикации: 2019-10-15.

Sieve assembly for a crop processing system of an agricultural harvester

Номер патента: US11771007B2. Автор: Curtis F. HILLEN,Todd Cannegieter,Frank Rik Duquesne,Kevin N. Scotese. Владелец: CNH INDUSTRIAL AMERICA LLC. Дата публикации: 2023-10-03.

Information processing device, substrate processing device, and information processing method

Номер патента: US20240302817A1. Автор: Takamasa Nakamura,Hirofumi OTAKI,Sho ICHINOSE. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-09-12.

Coating for substrate

Номер патента: RU2698315C2. Автор: Пер АНТОНИ,Даниель НЮСТРОМ,Кшиштоф ПЕТШАК,Ларс ВИНСЕНТ. Владелец: В.Л. Гор Энд Ассошиейтс, Инк.. Дата публикации: 2019-08-26.

Methods, systems, and apparatus for conducting a calibration operation for a plurality of mass flow controllers (mfcs) of a substrate processing system

Номер патента: EP4324023A1. Автор: Zhiyuan Ye,Ala Moradian,Errol Antonio C. Sanchez,Patricia M. Liu,Zuoming Zhu,Bindusagar MARATH SANKARATHODI,Jyothi RAJEEVAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-21.

Fabrication of barrier for substrate and substrate with said barrier

Номер патента: RU2566787C2. Автор: Исто ХЕЙСКАНЕН,Кай БАКФОЛЬК. Владелец: СТОРА ЭНСО ОЙЙ. Дата публикации: 2015-10-27.

A slit valve assembly for use in a vacuum chamber, for example in a vacuum chamber of a substrate processing system

Номер патента: WO2024083493A1. Автор: Tjarko Adriaan Rudolf Van Empel,Sjoerd Frans DE VRIES,Wilhelmus Peter Johannes Classens,Ricardo Manuel Dias Romão DOS SANTOS,Dmitriy Anatoljevitsj SHESTAKOV. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-04-25.

Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20240219837A1. Автор: Ki Won Han,Jun Ho Seo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Feeding board for substrate treatment

Номер патента: WO2009018631A2. Автор: Jan Krols. Владелец: Dipymac Ltd. Дата публикации: 2009-02-12.

Feed chute assembly for a food processor

Номер патента: US20230277002A1. Автор: Leo Lee,Jonathan James,Nathan Lyell,Sam William Bannister,Kevin PEI,Ryan Michienzi,Scott GENTILE,Fredrick KO,Robin Yin. Владелец: SharkNinja Operating LLC. Дата публикации: 2023-09-07.

Substrate processing apparatus control system and substrate processing apparatus control method

Номер патента: US20240149599A1. Автор: Beomjeong OH,Jong Nam NA. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Adjustment apparatus for adjusting processing units provided in a substrate processing apparatus, and a substrate processing apparatus having such an adjustment apparatus

Номер патента: US09915938B2. Автор: Koichi Takeda,Takamasa Nakamura. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Substrate processing apparatus, simulation apparatus, storage medium and simulation method

Номер патента: US09558304B2. Автор: Satoko Yamamoto,Kimitoshi MIURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Inspection device for substrate deformation at high temperatures and inspection method for substrate deformation at high temperatures using the same

Номер патента: US20140152980A1. Автор: Dong Yong Kim,Tae Yoon Kim,Suk Jin Ham,Mi Yang KIM,Gyu Seok KIM,Hee Suk CHUNG,Yong Choon PARK. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2014-06-05.

Method and apparatus for resolving conflicts in a substrate processing system

Номер патента: US20030154001A1. Автор: Hilario Oh. Владелец: ASML US Inc. Дата публикации: 2003-08-14.

Vacuum food processing system

Номер патента: US11771265B2. Автор: Nicholas Michael O'loughlin,Sam William Bannister. Владелец: Sharkninja (hong Kong) Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Vacuum food processing system

Номер патента: EP3876803A1. Автор: Nicholas Michael O'loughlin,Sam William Bannister. Владелец: SharkNinja Operating LLC. Дата публикации: 2021-09-15.

Irradiated target processing system

Номер патента: RU2690671C2. Автор: Томас Фабиан РИХТЕР,Александер ЗИКОРА,Вильфрид КАННВИШЕР,Лейла ДЖАФАР. Владелец: Фраматом Гмбх. Дата публикации: 2019-06-05.

Guardbands in substrate processing systems

Номер патента: US20230376373A1. Автор: Fei Li,James Robert Moyne,Jimmy Iskandar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Guardbands in substrate processing systems

Номер патента: WO2023225230A1. Автор: Fei Li,James Robert Moyne,Jimmy Iskandar. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-11-23.

Guardbands in substrate processing systems

Номер патента: WO2023225229A1. Автор: Fei Li,James Robert Moyne,Jimmy Iskandar. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-11-23.

Guardbands in substrate processing systems

Номер патента: WO2023225231A1. Автор: Fei Li,James Robert Moyne,Jimmy Iskandar. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-11-23.

Automatic seedling taking and separation system for substrate block seedlings

Номер патента: US20230389482A1. Автор: Yongsheng Chen,Yating YANG,Binxing Xu,Zhichao Cui,Chunsong Guan. Владелец: Nanjing Research Institute for Agricultural Mechanization Ministry of Agriculture. Дата публикации: 2023-12-07.

Guardbands in substrate processing systems

Номер патента: US12019507B2. Автор: Fei Li,James Robert Moyne,Jimmy Iskandar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-25.

Data processing system and data processing method

Номер патента: EP3959664A1. Автор: Orlando Miguel Pires Dos Reis Moreira,Peter Kievits,Menno Lindwer,Aimee Ferouge. Владелец: GrAI Matter Labs SAS. Дата публикации: 2022-03-02.

Methods of detecting non-conforming substrate processing events during chemical mechanical polishing

Номер патента: US12036635B2. Автор: Jamie Stuart Leighton,Jeonghoon Oh,Ashish BHUSHAN,John Anthony GARCIA,Stephen Thomas CORMIER,Nick Joseph JACKSON,Manoj BALAKUMAR,Nandkishore PATIDAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-16.

Method and apparatus for booting a processing system

Номер патента: US20090172377A1. Автор: Shay Gueron,Konstantin Levit-Gurevich,Boaz Ouriel,Isreal Hirsh. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2009-07-02.

Substrate processing apparatus, data processing method, and data processing program

Номер патента: US20240272592A1. Автор: Yuki Kataoka,Takuro TSUTSUI,Yukiya SAITOU,Yuanchieh LING. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240329547A1. Автор: Shinichi Machidori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

System and method for managing a cache hosted by a data processing system using a digital twin

Номер патента: US20240362010A1. Автор: Tomer Kushnir,Maxim Balin,Ofir Ezrielev. Владелец: Dell Products LP. Дата публикации: 2024-10-31.

System and method for monitoring data processing system performance using a digital twin

Номер патента: US20240362144A1. Автор: Tomer Kushnir,Maxim Balin,Ofir Ezrielev. Владелец: Dell Products LP. Дата публикации: 2024-10-31.

System and method for managing events impacting operation of data processing systems using a digital twin

Номер патента: US20240362089A1. Автор: Tomer Kushnir,Maxim Balin,Ofir Ezrielev. Владелец: Dell Products LP. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate processing apparatus and method for detecting an abnormality of an ozone gas concentration

Номер патента: US09618493B2. Автор: Masaki Kondo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Data processing system and method

Номер патента: RU2701710C1. Автор: Ричард Чарльз КОЛЛИНЗ,Диана КОКС,Ллойд ХАЗБАНДЗ,Дэвид ДЖЭКСОН,Питер Филип Лондсдэйл НЭНСОН,Джордж А. АЛЛЕН. Владелец: Сименс Продакт Лайфсайкл Менеджмент Софтвэар Инк.. Дата публикации: 2019-09-30.

Method of automated surface processing of the profiled large constructive element of the wind power plant, processing device and processing system

Номер патента: RU2647407C2. Автор: Тобиас ХАЙЛИГ,Инго ЯНССЕН,Эрнст-Юрген ВОЛЬФ. Владелец: Воббен Пропертиз Гмбх. Дата публикации: 2018-03-15.

Live fish processing system and associated methods

Номер патента: RU2745559C1. Автор: Йорн Столе ПЕТТЕРСЕН,Реми Кристиан УДОЙ,Йохан Одд МУФЛАГ,Стеффэн ЛАНСЕТ. Владелец: Фармак Ас. Дата публикации: 2021-03-29.

Detecting the state of objects using an image processing system, a corresponding method and a persistent machine-readable medium

Номер патента: RU2694016C1. Автор: Вадим ПЕСТУН,Ольга ЕРЕМИНА,Екатерина ТЮЛЯЕВА,Алексей ЛЕВАШОВ,Олсай ГУЛДОГАН,Яни РОТОЛА-ПУККИЛА,Теему Калеви РОССИ. Владелец: Эксенчер Глобал Сервисез Лимитед. Дата публикации: 2019-07-08.

Exhaust gas processing system

Номер патента: RU2741771C2. Автор: Джон К. ХОЧМУТ,Вэньмэй СЮЙ,Сяофань ЯН,Мэттью Дж. ШЛАДТ,Юцинь ЛИ. Владелец: Басф Корпорейшн. Дата публикации: 2021-01-28.

Support device, support method, substrate processing system, and storage medium

Номер патента: US20240103462A1. Автор: Takashi Ikeuchi,Takehiro SANO. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Switch probe and device and system for substrate inspection

Номер патента: US8836362B2. Автор: Tohru Hasegawa. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2014-09-16.

Storage device operating on zone basis and data processing system including the same

Номер патента: US20240118805A1. Автор: Joo Young Hwang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-11.

Solving a set of (non)linear differential equations using a hybrid data processing system comprising a classical computer system and a quantum computer system

Номер патента: EP4244779A1. Автор: Vincent Emanuel ELFVING,Oleksandr KYRIIENKO,Annie Emma PAINE. Владелец: Qu&co R&d BV. Дата публикации: 2023-09-20.

Method and system for computer vision inferencing using a processing system with dedicated hardware

Номер патента: US20240232661A9. Автор: Dharmesh M. Patel,Ian Roche,Philip Hummel. Владелец: Dell Products LP. Дата публикации: 2024-07-11.

System and method for controlling and monitoring remote distributed processing systems

Номер патента: WO1999005823A9. Автор: Bruce W Stalcup,Christopher H Johnson,Jerry M Feinberg. Владелец: PRC Inc. Дата публикации: 1999-04-29.

Solving a set of (non)linear differential equations using a hybrid data processing system comprising a classical computer system and a quantum computer system

Номер патента: AU2021379092A1. Автор: Vincent Emanuel ELFVING,Oleksandr KYRIIENKO,Annie Emma PAINE. Владелец: Qu & Co R&d BV. Дата публикации: 2023-06-29.

Solving a set of (non)linear differential equations using a hybrid data processing system comprising a classical computer system and a quantum computer system

Номер патента: CA3201802A1. Автор: Vincent Emanuel ELFVING,Oleksandr KYRIIENKO,Annie Emma PAINE. Владелец: Qu & Co R&d BV. Дата публикации: 2022-05-19.

Data processing system and operating method thereof

Номер патента: US10922016B2. Автор: Hui-Won LEE. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2021-02-16.

Data transformation/processing system

Номер патента: US20240231931A1. Автор: Gaurav Chawla,John Harwood,John Cardente. Владелец: Dell Products LP. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: EP4393607A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-03.

System and method for managing data processing systems hosting distributed inference models

Номер патента: US20240177025A1. Автор: Jehuda Shemer,Tomer Kushnir,Ofir Ezrielev. Владелец: Dell Products LP. Дата публикации: 2024-05-30.

Speech-processing system

Номер патента: WO2021158365A1. Автор: Timothy Whalin,Catherine Michelle Loo,Calvin Phuong Nguyen. Владелец: Amazon Technologies, Inc.. Дата публикации: 2021-08-12.

Speech-processing system

Номер патента: GB2607809A. Автор: Whalin Timothy,Michelle Loo Catherine,Phuong Nguyen Calvin. Владелец: Amazon Technologies Inc. Дата публикации: 2022-12-14.

System and method for managing compatibility of modules of data processing systems

Номер патента: US20240256672A1. Автор: Timothy M. Lambert. Владелец: Dell Products LP. Дата публикации: 2024-08-01.

Pharmacy order processing system

Номер патента: US20190214120A1. Автор: Robert E. Hoffman,Steven R. Hinkle,Jarrod A. Killough. Владелец: Express Scripts Strategic Development Inc. Дата публикации: 2019-07-11.

Method and container for substrate-free cultivation of a germination product

Номер патента: WO2007078188A8. Автор: Cornelus Albertus Joseph Hurkx,Jelle Jacob Kuijper. Владелец: Flitwick B V. Дата публикации: 2008-04-24.

Data processing system and operating method thereof

Номер патента: US20210141569A1. Автор: Hui-Won LEE. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2021-05-13.

Feed water system, water processing system, and associated systems & methods

Номер патента: GB2625053A. Автор: James Sowers Hank. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-06-12.

Information processing system, data transfer method and data transfer program

Номер патента: US20220179559A1. Автор: Akira Deguchi,Nobuhiro Yokoi,Hiroka IHARA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2022-06-09.

Method and system for improving the performance of a processing system

Номер патента: WO2004093815A3. Автор: Paolo F Roberti. Владелец: Hypernova Technologies Inc. Дата публикации: 2005-01-27.

System and method for managing data processing systems based on user input

Номер патента: US20240256368A1. Автор: Timothy M. Lambert,Jeffrey Leighton Kennedy. Владелец: Dell Products LP. Дата публикации: 2024-08-01.

Testing of complex data processing systems

Номер патента: WO2021015964A1. Автор: Flavia Elia Pistone DUFFY,John Francis ASHMAN. Владелец: Health Care Service Corporation,. Дата публикации: 2021-01-28.

System and method for decontaminating an air processing system

Номер патента: WO2010128480A3. Автор: Jean-Pierre Lepage. Владелец: Jean-Pierre Lepage. Дата публикации: 2010-12-29.

Method and system for improving the performance of a processing system

Номер патента: WO2004093815A2. Автор: Paolo F. Roberti. Владелец: Hypernova Technologies, Inc.. Дата публикации: 2004-11-04.

System and method for power management of devices connected to data processing systems

Номер патента: US20240256020A1. Автор: Timothy M. Lambert,William Andrew Smith,Jeffrey Leighton Kennedy. Владелец: Dell Products LP. Дата публикации: 2024-08-01.

Data processing system having a monitoring system and method for monitoring

Номер патента: US20210117301A1. Автор: Jan Hoogerbrugge. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2021-04-22.

Portable controller for interfacing with process system components

Номер патента: WO2013040299A2. Автор: Andreas Wilhelm,Terry Gene Sherbeck,Kelvin WOLTRING,Randy Willard PERRY. Владелец: SCHMITT INDUSTRIES, INC.. Дата публикации: 2013-03-21.

Multi-component transaction processing system

Номер патента: WO2000062188A8. Автор: Peter Kay,David T Pietsch Jr. Владелец: DTP HOLDINGS Inc. Дата публикации: 2001-11-15.

Method and Device for Configuring Functional Capabilities in a Data Processing System

Номер патента: US20090083533A1. Автор: Christine Axnix,Juergen Probst. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2009-03-26.

Information processing system

Номер патента: EP4404063A2. Автор: Koichi Nagai,Hiroyasu NAKATSUKA. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-07-24.

Information processing system

Номер патента: US20240248797A1. Автор: Koichi Nagai,Hiroyasu NAKATSUKA. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Data processing system and method of automatically initiating process

Номер патента: US20240264978A1. Автор: LEI FENG,Guoxin Sun. Владелец: Data Systems Consulting Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

METHODS AND APPARATUS FOR THERMAL BASED SUBSTRATE PROCESSING WITH VARIABLE TEMPERATURE CAPABILITY

Номер патента: US20120003388A1. Автор: Wu Kai,YUAN XIAOXIONG,TZU GWO-CHUAN,KHANDELWAL AMIT,WANG BENJAMIN CHENG,GELATOS AVGERINOS V.,KARAZIM MICHAEL P.,LIN JING,CUVALCI OLKAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING INCLUDING A MASKING LAYER

Номер патента: US20120001320A1. Автор: Kumar Nitin,Duong Anh,Lang Chi-I,Chiang Tony P.,BOUSSIE Thomas R.,Malhotra Sandra G.,Fresco Zachary,Tong Jinhong. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Chamber cleaning for substrate processing systems

Номер патента: WO2024196580A1. Автор: Hu Kang,Ming Li,Dong Wang,Xin Meng,Defu LIANG,Rohit ODE,Huifeng Zheng,Joseph Lindsey Womack. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-09-26.

Pedestal and showerhead for substrate processing

Номер патента: WO2024173095A1. Автор: Shoudho DAS,Subashchandra Gangadhar RAI,Pavan Gururaj KOTY. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-08-22.

Shell liner assembly for ore grinding machine

Номер патента: CA1133872A. Автор: Darrell R. Larsen. Владелец: MINNEAPOLIS ELECTRIC STEEL CASTINGS Co. Дата публикации: 1982-10-19.

Combination wear and lubricating liner assembly for railway car truck bolster bowl

Номер патента: CA2146624C. Автор: Wajih Kanjo. Владелец: Westinghouse Air Brake Co. Дата публикации: 1998-08-11.

Porous showerheads for substrate processing systems

Номер патента: WO2024191656A1. Автор: Yi Song,Jihong Chen,Rong Wang,Vijay Nithiananthan. Владелец: Silfex, Inc.. Дата публикации: 2024-09-19.

Shell liner assembly for ore grinding mills

Номер патента: CA1138397A. Автор: Darrell R. Larsen. Владелец: MINNEAPOLIS ELECTRIC STEEL CASTINGS Co. Дата публикации: 1982-12-28.

SUBSTRATE STAGE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120000612A1. Автор: Muraki Yusuke,ODAGIRI Masaya,FUJIHARA Jin. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

POWER SUPPLYING MEANS HAVING SHIELDING MEANS FOR FEEDING LINE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20120000609A1. Автор: DO Jae-Chul,JEON Bu-Il,SONG Myung-Gon,LEE Jung-Rak. Владелец: JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

DETECTOR ASSEMBLY FOR USE IN ENVIRONMENTS CONTAINING BACKGROUND MAGNETIC NOISE AND METHOD THEREOF

Номер патента: US20120004878A1. Автор: . Владелец: U.S. Government as represented by the Secretary of the Army. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120000629A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

CLEANING AGENT FOR SUBSTRATE AND CLEANING METHOD

Номер патента: US20120000485A1. Автор: Mizuta Hironori,Kakizawa Masahiko,Hayashida Ichiro. Владелец: WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE TRANSFER METHOD ADOPTED IN SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120004753A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

Cleaning apparatus for substrate

Номер патента: SG150478A1. Автор: Satoru Ueno. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2009-03-30.

MASS FLOW CONTROLLER, MASS FLOW CONTROLLER SYSTEM, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, AND GAS FLOW RATE ADJUSTING METHOD

Номер патента: US20120000542A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120000886A1. Автор: NISHINO Masaru,HONDA Masanobu,Kubota Kazuhiro,Ooya Yoshinobu. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SIGNAL PROCESSING SYSTEM AND SIGNAL PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002827A1. Автор: . Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

OVER-ACCELERATION AND OVER-SPEED DETECTION AND PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120000729A1. Автор: Marvin Daryl J.,Schienda Greg A.,Terry Harold,Draper James M.,Cooney Anthony,Carballo Jose M.. Владелец: OTIS ELEVATOR COMPANY. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120001937A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM HAVING INFORMATION PROCESSING PROGRAM STORED THEREIN, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120001944A1. Автор: SAKURAI Masahiro,Machino Taichi,Ikeda Teppei. Владелец: NINTENDO CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING SYSTEM, IMAGE PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002238A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING SYSTEM AND STORAGE MEDIUM IN WHICH IMAGE PROCESSING PROGRAM IS STORED

Номер патента: US20120002936A1. Автор: TAKASUGI Atsushi. Владелец: OKI SEMICONDUCTOR CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Biological Clean Fuel Processing Systems and Methods

Номер патента: US20120003705A1. Автор: MORRIS Jeffrey M.,Jin Song,Fallgren Paul,Bland Alan E.,Newcomer Jesse D.,Colberg Patricia,Richards Patick. Владелец: The University of Wyoming Research Corporation d/b/a Western Research Institute. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM HAVING INFORMATION PROCESSING PROGRAM STORED THEREIN, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120004017A1. Автор: . Владелец: NINTENDO CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

System for exploration of oil and gas in complex-structure areas with developed salt-dome tectonics with mapping of roof of salt and subsalt deposits and computer-process system therefor

Номер патента: RU2594112C2. Автор: Анатолий Александрович Громов,Сергей Александрович Чернышов,Наталия Павловна Смилевец,Илья Александрович Мищенко,Александра Ивановна Волгина. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Сервисная Компания "Геовизор". Дата публикации: 2016-08-10.

METHOD OF ARRANGING PADS IN SEMICONDUCTOR DEVICE, SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE USING THE METHOD, AND PROCESSING SYSTEM HAVING MOUNTED THEREIN THE SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE

Номер патента: US20120002456A1. Автор: OH Chi-sung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Signal processing system

Номер патента: RU2498258C2. Автор: Олег Владимирович Соколов,Владимир Александрович Окладнов,Екатерина Олеговна Киселева. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Государственный научно-исследовательский институт авиационных систем". Дата публикации: 2013-11-10.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.