Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Substrate processing system and substrate processing method

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240155737A1
Опубликовано: 09-05-2024
Автор(ы): Hiroki Endo, Kenichiro Nakamura
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Substrate processing apparatus, substrate processing system, electrical power supply system, and electrical power supply method

Номер патента: US20240297054A1. Автор: Naoki Fujiwara,Naoki Matsumoto,Naoki Mihara,Koichi Nagami,Shinya Ishikawa,Shinya Tamonoki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing liquid for etching a metal layer, substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11908938B2. Автор: Yosuke Hanawa,Dai Ueda. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

A support unit, a substrate processing apparatus including the same, and a substrate processing method

Номер патента: KR102398674B1. Автор: 손덕현,심진우. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2022-05-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240240321A1. Автор: Jin An JUNG,Da Un Jung,In Woo BACK. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus, semiconductor device manufacturing method, and substrate processing method

Номер патента: US20240363309A1. Автор: Naofumi Ohashi,Tsuyoshi Takeda,Teruo Yoshino. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate processing apparatus, information processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20210020487A1. Автор: Yuichi Takenaga,Youngtai KANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-01-21.

Substrate processing system, aligning apparatus, and substrate shape monitoring method

Номер патента: US20230294932A1. Автор: Kento TOKAIRIN. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Substrate support plate, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method

Номер патента: US20240363331A1. Автор: Seunghwan Lee,DaeYoun Kim,Jaehyun Kim. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate processing apparatus, substrate transfer method and substrate transfer device

Номер патента: US09530676B2. Автор: Kenichi Suzuki,Hiroshi Sotozaki,Mitsuru Miyazaki,Toshio Yokoyama,Junji Kunisawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-12-27.

Cleaning method for substrate processing system, storage medium, and substrate processing system

Номер патента: US20090229635A1. Автор: Hiroaki Mochizuki,Kiyohito Iijima,Masahiro Numakura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-09-17.

Substrate processing apparatus, information processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US11804395B2. Автор: Yuichi Takenaga,Youngtai KANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-31.

Substrate processing apparatus having electrostatic chuck and substrate processing method

Номер патента: US11929251B2. Автор: Toshihisa Nozawa. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-03-12.

Transfer device, substrate processing system, transfer method and substrate processing method

Номер патента: US11837487B2. Автор: Takeshi Tamura,Seiji Nakano,Masatoshi Kaneda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Transport device, substrate processing system, transport method, and substrate processing method

Номер патента: TW201919969A. Автор: 田村武,中野征二,金田正利. Владелец: 日商東京威力科創股份有限公司. Дата публикации: 2019-06-01.

Progressive heating of components of substrate processing systems using TCR element-based heaters

Номер патента: US12062554B2. Автор: Easwar Srinivasan,Ramesh Chandrasekharan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate processing apparatus, substrate mounting mechanism, and substrate processing method

Номер патента: JP6615153B2. Автор: 誠志 村上,栄之輔 津田,貴之 釜石. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-04.

A showerhead unit, a substrate processing apparatus including the same, and a substrate processing method

Номер патента: KR102126979B1. Автор: 김인주,김성엽,임주선. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2020-06-26.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US09607867B2. Автор: Yuji Kajihara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Substrate processing apparatus, model data generation apparatus, substrate processing method, and model data generation method

Номер патента: US20240194507A1. Автор: Kiyoshi Mori,Tsuyoshi Moriya,Takayuki Yamagishi,Haruhiko Furuya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing system and condition monitoring method

Номер патента: US20240087936A1. Автор: Toshiaki Kodama,Takeshi NIIDOME. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Substrate processing system with multiple processing devices deployed in shared ambient emvironment and associated methods

Номер патента: WO2012047531A3. Автор: Jeffrey Marks,David J. Hemker,Lubab L. Sheet. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-06-28.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4207246A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake,Michiyoshi Yamashita. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-07-05.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230326757A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake,Michiyoshi Yamashita. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-10-12.

Plasma Processing Method and Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20230420223A1. Автор: Soya Todo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Substrate holding/rotating device, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method

Номер патента: US20180277417A1. Автор: Hiroaki Ishii,Ryo Muramoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-27.

Substrate processing apparatus substrate polishing method and substrate processing method

Номер патента: KR101214507B1. Автор: 겐야 이토,마사야 세키,다마미 다카하시,미츠히코 시라카시,가즈유키 이노우에,겐지 야마구치. Владелец: 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼. Дата публикации: 2012-12-27.

SUBSTRATE HOLDING/ROTATING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20180277417A1. Автор: ISHII Hiroaki,MURAMOTO Ryo. Владелец: . Дата публикации: 2018-09-27.

MIXED-PLATFORM APPARATUS, SYSTEMS, AND METHODS FOR SUBSTRATE PROCESSING

Номер патента: US20170290166A1. Автор: Hudgens Jeffrey C.,Rice Michael Robert. Владелец: . Дата публикации: 2017-10-05.

Mixed-platform apparatus, systems, and methods for substrate processing

Номер патента: KR102161685B1. Автор: 마이클 알. 라이스,제프리 씨. 허진스. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2020-10-05.

Mixed-platform apparatus, systems, and methods for substrate processing

Номер патента: TW201834117A. Автор: 萊斯麥可Ｒ,休根斯傑佛瑞Ｃ. Владелец: 美商應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2018-09-16.

Hybrid platform-based apparatus, system, and method for substrate processing

Номер патента: CN108695213B. Автор: 迈克尔·R·赖斯,杰弗里·C·赫金斯. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-03-18.

Mixed-platform apparatus, systems, and methods for substrate processing

Номер патента: KR20220119750A. Автор: 마이클 알. 라이스,제프리 씨. 허진스. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2022-08-30.

Flexible temperature compensation systems and methods for substrate processing systems

Номер патента: US09864361B2. Автор: Andrew D. Bailey, III,Marcus Carbery. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Support information display method, maintenance support method of substrate processing apparatus, support information display control apparatus, substrate processing system and recording medium

Номер патента: US09810905B2. Автор: Hiroshi Nakamura,Toru Yamauchi,Toshiaki Kodama,Sensho Kobayashi,Kazuya Uoyama,Gaku Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-07.

Substrate processing baffle, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240280906A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing apparatus including exhaust ports and substrate processing method

Номер патента: US09875895B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang,Sung-Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-23.

Focus ring, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230143327A1. Автор: Sang Ki Nam,Kyung-Sun Kim,Kangmin JEON,Nam Kyun Kim,Kuihyun YOON,Seunghan BAEK,Dongseok Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-05-11.

Substrate processing condition setting method, substrate processing method, substrate processing condition setting system, and substrate processing system

Номер патента: US20230268208A1. Автор: Kensuke Shinohara,Sei Negoro,Masahiro TOKUYAMA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Substrate processing tube, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the apparatus

Номер патента: US20240011154A1. Автор: Jaehyung Lee,Hyunju Lee,Hyouncheol Kim,Byunghwan Kong,ByeongHoon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-11.

Substrate processing system, control device, and substrate processing method

Номер патента: US20180254222A1. Автор: Masami Oikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-09-06.

Substrate processing system, control device, and substrate transfer processing method

Номер патента: US20240213064A1. Автор: Minoru Nagasawa,Toshiharu Hirata,Takafumi Matsuhashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Diagnostic and control systems and methods for substrate processing systems using DC self-bias voltage

Номер патента: US9404183B2. Автор: Douglas Keil,Edward Augustyniak. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2016-08-02.

Supercritical fluid supply apparatus, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240069451A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-29.

Plasma baffle, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230245864A1. Автор: Hakyoung Kim,Chulwoo PARK,Dowon Kim,Youngjin Noh,Jisoo Im,Minyoung HUR. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing method and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240234178A1. Автор: Daiki Kimoto. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US12062563B2. Автор: Itsuki Kobata,Keita Yagi,Nobuyuki Takahashi,Yoichi Shiokawa,Toru Maruyama,Katsuhide Watanabe. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate processing method

Номер патента: US20240250064A1. Автор: Yoshihisa Matsubara,Yoshihiro Tsutsumi,Yohei Yamashita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09859136B2. Автор: Yoshifumi Amano,Yoichi Tokunaga,Hiromitsu Namba,. Fitrianto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09490151B2. Автор: Hiroyuki Takahashi,Satoshi TODA,Yuji Asakawa,Yohei Midorikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240242972A1. Автор: Kei Suzuki,Masaki Inaba. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200105574A1. Автор: Satoshi Morita,Katsuhiro Morikawa,Masami Akimoto,Kouichi Mizunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230207344A1. Автор: Seiji Nakano,Tokutarou Hayashi,Yohei Yamawaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12142483B2. Автор: Yoshihiro Kawaguchi,Seiji Nakano,Hirotoshi Mori,Hayato TANOUE,Munehisa Kodama,Yohei Yamawaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-12.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240017375A1. Автор: Takeshi Tamura,Tomohiro Kaneko,Munehisa Kodama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4420831A1. Автор: Kenichi Kobayashi,Makoto Kashiwagi,Mao Fujisawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-28.

Substrate supporting device, a substrate processing apparatus including the same, and a substrate processing method using the same

Номер патента: US20240162017A1. Автор: Heewon MIN,Dongyun Yeo,Juho Kim,Songyun Kang,Kuihyun YOON,Seungbin LIM,Youngrok KWON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate processing system, method for transferring substrate in system, robot blade for substrate processing system, and robot for substrate processing system

Номер патента: JP4596619B2. Автор: シャンムガスンドラム アルールクマール,ピー． カラジム マイケル. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2010-12-08.

SUBSTRATE ALIGNMENT DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE ALIGNMENT METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20230010624A1. Автор: Hiroshi Kato,Kazuki Nakamura,Yoshifumi Okada,Junichi Ishii,Takashi Shinohara,Tomoyuki Shinohara,Takuma Takahashi,Nobuaki Okita. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-12.

Apparatus, system, and method for non-contact temperature monitoring of substrate supports

Номер патента: US20230282500A1. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Bhaskar PRASAD,Srinivasa Rao Yedla. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-07.

Substrate supporting device, substrate processing system comprising same and substrate processing method

Номер патента: CN108022868B. Автор: 金载烈,徐钟锡,金性洙. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-14.

TRANSFER DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, TRANSFER METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20200234990A1. Автор: Tamura Takeshi,KANEDA Masatoshi,Nakano Seiji. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-23.

Substrate holding/rotating device, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method

Номер патента: KR101911144B1. Автор: 히로미치 가바,아키히코 다키. Владелец: 가부시키가이샤 스크린 홀딩스. Дата публикации: 2018-10-23.

A support unit, a substrate processing apparatus comprising the same and a substrate processing method

Номер патента: KR102407266B1. Автор: 김대훈,윤강섭,최예진. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2022-06-13.

Cooling unit, substrate processing apparatus using the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: CN114334715A. Автор: 李相勋,徐钟锡,金俊镐. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-12.

A transfer unit, a substrate processing apparatus including the same, and a substrate processing method

Номер патента: KR102319199B1. Автор: 방제오. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2021-10-29.

Substrate Processing Module, Substrate Processing Apparatus Including the same, and Substrate Transferring Method

Номер патента: US20150179489A1. Автор: Jun-Jin Hyon,Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Chang-Dol Kim. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2015-06-25.

Substrate holding device, substrate processing apparatus, substrate testing device, and substrate holding method

Номер патента: TW200512795A. Автор: Takahisa Tazoe. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2005-04-01.

Textured silicon liners in substrate processing systems

Номер патента: US09799492B2. Автор: Julian Blake. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2017-10-24.

Textured silicon liners in substrate processing systems

Номер патента: US09437397B2. Автор: Julian Blake. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2016-09-06.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240355647A1. Автор: Takashi Uno,Naoyuki Okamura,Keisuke Sakaguchi,Katsufumi Matsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240331998A1. Автор: Susumu Hayakawa,Tomohiro Kaneko,Kazuya IKEUE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: EP4418307A1. Автор: Keisuke Sakaguchi,Hiroshi Marumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-21.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09768042B2. Автор: Ayumi Higuchi,Asuka WAKITA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240355669A1. Автор: Yasutaka Mizomoto,Yohei Yamashita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4231785A1. Автор: Kiyoshi Maeda,Yasuhiko Saito,Atsutoshi Inokuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20040060574A1. Автор: Kiyofumi Sakaguchi,Hiroshi Watanabe,Shigeru Kido,Tamotsu Mezaki. Владелец: CHEMICAL ART Tech Inc. Дата публикации: 2004-04-01.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: EP4404242A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake,Yuta Mitsuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-24.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240274450A1. Автор: Masanobu Sato,Hiroshi Horiguchi,Saki Miyagawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Electrostatic chuck, vacuum processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US12014946B2. Автор: Genji Sakata,Hidekazu Yokoo. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Substrate processing method

Номер патента: US20110237083A1. Автор: Akira Nakagawa,Yoshinobu Hayakawa,Yusuke Okazaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-09-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240274451A1. Автор: Masanobu Sato,Hiroshi Horiguchi,Saki Miyagawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09997382B2. Автор: Kenji Kobayashi,Kazuhide Saito,Kenji Izumoto,Akihisa Iwasaki,Takemitsu Miura. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Substrate treatment method and substrate treatment device

Номер патента: US09991137B2. Автор: Tatsuya Fujii. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Substrate processing device and substrate processing method for carrying out chemical treatment for substrate

Номер патента: US09786527B2. Автор: Nobuyuki Shibayama. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09576808B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi,Toru Endo,Hirofumi MASUHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234173A1. Автор: Hiroki Koyama. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: US11764055B2. Автор: Nobuyuki Shibayama,Hiromichi KABA,Toru EDO. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09449807B2. Автор: Toshimitsu Namba. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and recording medium

Номер патента: US09852933B2. Автор: Norihiro Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230307262A1. Автор: Koichi Higuchi,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210366721A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Masaru Izawa,Nobuya MIYOSHI,Kazunori Shinoda,Yutaka Kouzuma. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-11-25.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium of performing liquid exchange processing according to liquid exchange condition

Номер патента: US11282719B2. Автор: Kouji Takuma,Go Ayabe,Jong Won Yun,Ryo Manabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11735457B2. Автор: Hozumi Yasuda,Nobuyuki Takada. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-08-22.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US11854840B2. Автор: Yuji Takimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12076820B2. Автор: Hirotoshi Mori,Hayato TANOUE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240071772A1. Автор: Masanobu Honda,Shinya Ishikawa,Kenta Ono. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Processing liquid ejection nozzle, nozzle arm, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US11776824B2. Автор: Yoshifumi Amano,Kazuhiro Aiura,Tatsuhiro Ueki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Substrate processing system, substrate processing method and computer-readable recording medium

Номер патента: US11929268B2. Автор: Munehisa Kodama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-12.

Substrate processing apparatus and method of cleaning substrate processing apparatus

Номер патента: US12046485B2. Автор: Shusei TAKEBAYASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Integrated hardware-software computer vision system for autonomous control and inspection of substrate processing systems

Номер патента: WO2021021501A1. Автор: Scott Baldwin,Hossein SADEGHI,Andrew D. Bailey Iii. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2021-02-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230084826A1. Автор: Jung Hwan Lee,Young Jun Kim,Sung Ho ROH,Cheong Hwan Jeong,Tae Dong Kim. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing apparatus, program for controlling the same, and method for fabricating semiconductor device

Номер патента: US09443748B2. Автор: Makoto Shirakawa. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-09-13.

Substrate holding/rotating device, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method

Номер патента: US09892955B2. Автор: Hiromichi KABA,Akihiko TAKI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Substrate processing apparatus, computer-readable storage medium storing a program, and substrate processing method

Номер патента: US20230230857A1. Автор: Mitsuru Miyazaki,Masayoshi Imai. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-07-20.

SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, CONTROL DEVICE, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20180254222A1. Автор: OIKAWA Masami. Владелец: . Дата публикации: 2018-09-06.

SUBSTRATE CLEANING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE CLEANING METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20210210338A1. Автор: NISHIYAMA Koji. Владелец: . Дата публикации: 2021-07-08.

SUBSTRATE CLEANING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE CLEANING METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20170221696A1. Автор: NISHIYAMA Koji. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-03.

Substrate cleaning device, substrate processing apparatus, substrate cleaning method and substrate processing method

Номер патента: US20190214245A1. Автор: Koji Nishiyama. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-11.

Substrate cleaning device, substrate processing apparatus, substrate cleaning method and substrate processing method

Номер патента: KR102051261B1. Автор: 고지 니시야마. Владелец: 가부시키가이샤 스크린 홀딩스. Дата публикации: 2019-12-02.

Substrate cleaning device, substrate processing apparatus, substrate cleaning method and substrate processing method

Номер патента: TW202111800A. Автор: 西山耕二. Владелец: 斯庫林集團股份有限公司. Дата публикации: 2021-03-16.

Substrate inspection device, substrate processing apparatus, substrate inspection method and substrate processing method

Номер патента: TW201825888A. Автор: 柏山真人,松尾友宏,查爾斯 派克楚斯基,森田彰彥. Владелец: 斯庫林集團股份有限公司. Дата публикации: 2018-07-16.

Substrate processing device

Номер патента: US20190198356A1. Автор: Ayumi Higuchi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-27.

SUBSTRATE SUPPORTING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20220044956A1. Автор: CHOI Seung Woo,LEE Seung Hwan,Park Ju Hyuk. Владелец: . Дата публикации: 2022-02-10.

SUBSTRATE HOLDING/ROTATING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20170092530A1. Автор: TAKI Akihiko,KABA Hiromichi. Владелец: . Дата публикации: 2017-03-30.

SUBSTRATE HOLDING/ROTATING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20170092532A1. Автор: TAKI Akihiko,KABA Hiromichi. Владелец: . Дата публикации: 2017-03-30.

SUBSTRATE HOLDING AND ROTATING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE EQUIPPED WITH SAME, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20160096205A1. Автор: Kato Hiroshi. Владелец: . Дата публикации: 2016-04-07.

SUBSTRATE SUPPORTING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20190311940A1. Автор: CHOI Seung Woo,LEE Seung Hwan,Park Ju Hyuk. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-10.

Substrate drying apparatus using supercritical fluid, substrate processing equipment including the same, and substrate processing method

Номер патента: JP4545181B2. Автор: 重 根 趙,▲教▼ 旭 具. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2010-09-15.

Substrate holding and rotating device, substrate processing device equipped with same, and substrate processing method

Номер патента: US9962744B2. Автор: Hiroshi Kato. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Substrate holding and rotating device, substrate processing device equipped with same, and substrate processing method

Номер патента: WO2014203587A1. Автор: 加藤　洋. Владелец: 大日本スクリーン製造株式会社. Дата публикации: 2014-12-24.

Substrate holding/rotating device, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method

Номер патента: KR101911145B1. Автор: 히로미치 가바,아키히코 다키. Владелец: 가부시키가이샤 스크린 홀딩스. Дата публикации: 2018-10-23.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20210020487A1. Автор: TAKENAGA Yuichi,KANG Youngtai. Владелец: . Дата публикации: 2021-01-21.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20220270904A1. Автор: TAKENAGA Yuichi,KANG Youngtai. Владелец: . Дата публикации: 2022-08-25.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: JP7224254B2. Автор: 裕一 竹永,榮太 康. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-02-17.

Injector and substrate processing appartatus using the same, and substrate processing method

Номер патента: US20200102652A1. Автор: Tomoyuki NAGATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS HAVING ELECTROSTATIC CHUCK AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20210166940A1. Автор: NOZAWA Toshihisa. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-03.

Maintenance method of substrate processing apparatus, method for manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and storage medium capable of reading maintenance program of substrate processing apparatus

Номер патента: US20160211157A1. Автор: Kaori Inoshima. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-07-21.

Substrate processing apparatus having electrostatic chuck and substrate processing method

Номер патента: CN112992639A. Автор: 野泽俊久. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2021-06-18.

Nozzle, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method

Номер патента: CN112439573B. Автор: 金善美,权五镇,崔世亨. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-13.

Nozzle, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method

Номер патента: US11529655B2. Автор: Oh Jin Kwon,Sunmi Kim,Sehyeong CHOI. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-20.

Nozzle, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method

Номер патента: CN112439573A. Автор: 金善美,权五镇,崔世亨. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-05.

Edge ring, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240093368A1. Автор: Donggi Lee,Hongsik Park,Hakjung Kim,Hongtaek LIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Injector and substrate processing appartatus using the same, and substrate processing method

Номер патента: US20200102652A1. Автор: Tomoyuki NAGATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Injector and substrate processing apparatus using the same, and substrate processing method

Номер патента: US11846023B2. Автор: Tomoyuki NAGATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-19.

Nozzle, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method

Номер патента: US11897005B2. Автор: Oh Jin Kwon,Sunmi Kim,Sehyeong CHOI. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Vibration damping apparatus, reaction force processing system, stage apparatus, exposure apparatus, substrate processing device, and method for manufacturing article

Номер патента: US20220373055A1. Автор: Masamichi Ueno. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-11-24.

Substrate processing apparatus and vacuum forming method of substrate processing apparatus

Номер патента: KR102348968B1. Автор: 김종식,황철주,신현욱. Владелец: 주성엔지니어링(주). Дата публикации: 2022-01-11.

Substrate processing apparatus, cor processing module and substrate lift apparatus

Номер патента: KR100830745B1. Автор: 에이이치 고모리,다카유키 가마이시. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2008-05-20.

Substrate processing apparatus and loading member provided in substrate processing apparatus

Номер патента: CN114628283A. Автор: 吴承勋,崔永燮,朴美昭,诸振模,禹钟贤. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-14.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS HAVING EXHAUST GAS DECOMPOSER, AND EXHAUST GAS PROCESSING METHOD THEREFOR

Номер патента: US20210002761A1. Автор: HWANG Chul-Joo,SEO Dong Won,KIM Heon Do. Владелец: . Дата публикации: 2021-01-07.

SUBSTRATE TRANSFER APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME, AND SUBSTRATE MISALIGNMENT COMPENSATION METHOD

Номер патента: US20190378735A1. Автор: Kim Hyun Jun,KIM DUK SIK. Владелец: . Дата публикации: 2019-12-12.

Substrate transfer apparatus, substrate processing apparatus including the same, and substrate misalignment compensation method

Номер патента: US11380565B2. Автор: Hyun Jun Kim,Duk Sik Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-07-05.

Substrate-processing apparatus with buffer mechanism and substrate-transferring apparatus

Номер патента: CN101136349B. Автор: T·山岸,T·小林,A·渡边,K·金内. Владелец: ASM Japan KK. Дата публикации: 2010-12-08.

Substrate processing apparatus including nozzle unit and substrate processing method

Номер патента: US20240091819A1. Автор: Hyeon Jun Lee,So Young PARK,Ju Hwan Lee,Myung A Jeon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230395390A1. Автор: Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Substrate processing method, non-transitory storage medium and heating apparatus

Номер патента: US09558960B2. Автор: Takahiro Shiozawa,Kenichi Ueda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US10867817B2. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-15.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20180218929A1. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-08-02.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20200168487A1. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-28.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US10615062B2. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-07.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20230282493A1. Автор: Yuji Kimura,Koji Tanaka,Shinichi Ikeda,Kazuaki Kitamura,Yukiyoshi Saito,Akihiro TERAMOTO,Masataka GOSHO,Keita Hirase,Shota TAKEI,Shunsuke KURIZAKI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, substrate processing system and recording medium

Номер патента: US9514951B2. Автор: Keisuke Yoshida,Masatoshi Kaneda,Yuzo Ohishi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-06.

Substrate processing device and etching liquid

Номер патента: US20220213382A1. Автор: Koji Kagawa,Kenji Sekiguchi,Koukichi Hiroshiro,Tetsuya SAKAZAKI,Kazuyoshi Mizumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-07-07.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20110065288A1. Автор: Toru Harada,Masayoshi Minami. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-03-17.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US12128451B2. Автор: Junichi Ishii,Hiroaki Ishii,Kazuhiro Honsho. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Substrate processing system and particle removal method

Номер патента: US12062557B2. Автор: Tatsuya Morioka,Daisuke Hara,Akihiro Matsui,Hideyuki Osada,Genichi Nanasaki,Hikaru Nihei. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and maintenance method

Номер патента: US12040166B2. Автор: Jun Hirose,Atsushi Sawachi,Takuya Nishijima,Ichiro SONE,Suguru Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and maintenance method

Номер патента: US20240339306A1. Автор: Jun Hirose,Atsushi Sawachi,Takuya Nishijima,Ichiro SONE,Suguru Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

System and method for reducing temperature transition in an electrostatic chuck

Номер патента: US09779974B2. Автор: Tao Zhang,Eric A. Pape,Ole Waldmann. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Package substrate processing method and protective tape

Номер патента: US20190109094A1. Автор: Youngsuk Kim,Byeongdeck Jang. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2019-04-11.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and substrate

Номер патента: US20240162052A1. Автор: Nobuhiko MOURI,Takanori Obaru. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230207376A1. Автор: Kiyoshi Mori,Haruhiko Furuya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200083064A1. Автор: Nobuhiko MOURI,Kento Kurusu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-03-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11482428B2. Автор: Nobuhiko MOURI,Kento Kurusu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-25.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: EP4415033A1. Автор: Kazuki Nakamura,Yoshifumi Okada,Nobuaki Okita. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-14.

Substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20200126822A1. Автор: Hitoshi Nakai,Manabu Okutani,Yasunori KANEMATSU. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Thin substrate electrostatic chuck system and method

Номер патента: US09601363B2. Автор: Peter Zupan,Ewald Wiltsche. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2017-03-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09964358B2. Автор: Takashi Miyamoto,Osamu Yamazaki,Konosuke Hayashi,Jun Matsushita. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234100A9. Автор: Je Ho Kim,Tae Suk Jung. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12036662B2. Автор: Yoshifumi Okada,Tomoyuki Shinohara,Nobuaki Okita. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09728443B2. Автор: Kenji Kobayashi,Manabu Okutani,Naohiko YOSHIHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240178047A1. Автор: Yungi Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Package substrate processing method

Номер патента: US12080564B2. Автор: Kazuma Sekiya. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20220203409A1. Автор: Junichi Ishii,Hiroaki Ishii,Kazuhiro Honsho. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-30.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20220139699A1. Автор: Junichi Ishii,Hiroaki Ishii,Takayuki Nishida,Ryo Muramoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

In-situ film growth rate monitoring apparatus, systems, and methods for substrate processing

Номер патента: US12077880B2. Автор: Yong Zheng,TAO Sheng,Nyi Oo Myo,Zhepeng Cong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing apparatus having exhaust gas decomposer, and exhaust gas processing method therefor

Номер патента: US11970770B2. Автор: Dong Won Seo,Heon Do Kim,Chul-Joo Hwang. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Substrate processing apparatus and control method for a substrate processing apparatus

Номер патента: US20240120204A1. Автор: Yuji Takimoto,Keisuke Tsugao. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Systems and methods for monitoring of a controlled environment in a substrate processing system

Номер патента: US20240304477A1. Автор: Bert Jongbloed,Gido Van Der Star. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing method, substrate processing system and computer-readable recording medium

Номер патента: US20240290607A1. Автор: Takashi Uno,Satoshi Okawa,Naoyuki Okamura,Katsufumi Matsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

High-density substrate processing systems and methods

Номер патента: US12074042B2. Автор: Tuan A. Nguyen,Jason M. Schaller,Khokan Chandra Paul,Swaminathan T. Srinivasan,Charles T. Carlson,Steve Hongkham. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-27.

Substrate processing system

Номер патента: US20200257269A1. Автор: Masanori Nakayama,Tsukasa Kamakura. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-08-13.

Vacuum molding apparatus, substrate processing system having the same and substrate processing method using the same

Номер патента: US20150056754A1. Автор: Seock Hyun Park. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-26.

Apparatus for transferring substrate, substrate processing system and method of processing substrate

Номер патента: US20240120225A1. Автор: Akinori Shimamura,Dongwei Li,Hiromitsu Sakaue,Takehiro Shindo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Substrate processing system, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20240355644A1. Автор: Naoki Shibata,Shinsuke TAKAKI,Yoji SAKATA,Tomoya ONITSUKA,Hiroki Tadatomo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

In-line machine vision system for part tracking of substrate processing system

Номер патента: US20240278991A1. Автор: Scott Baldwin,Deqi Wang,Hossein SADEGHI,Damon Tyrone Genetti. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing apparatus, control system, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20190301020A1. Автор: Hiroki OKAMIYA,Kazuo NAKAYA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2019-10-03.

Substrate processing system for removing peripheral portion of substrate, substrate processing method and computer readable recording medium thereof

Номер патента: US11752576B2. Автор: Hayato TANOUE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-12.

Processing system, processing method, measurement apparatus, substrate processing apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US12140878B2. Автор: Shinichi Egashira. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-11-12.

Systems and methods for improving wafer etch non-uniformity when using transformer-coupled plasma

Номер патента: US09484214B2. Автор: Alex Paterson,Arthur Sato,Tom Kamp. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-11-01.

Substrate processing chamber, substrate processing system including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230043451A1. Автор: Yongmyung Jun,Seohyun Kim,Hyunjin Ko,Jae Seong RYU,Inkwang BAE,Seungbu BAEK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-09.

Substrate processing system, controller for substrate processing system and operation method of substrate processing system

Номер патента: US20220033989A1. Автор: Hideki Wakabayashi,Yosuke Nagasawa,Tensei SATO,Kazuma Ideguchi,Shugo Midorikawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2022-02-03.

Substrate processing apparatus, semiconductor device manufacturing method, substrate processing method, and recording medium

Номер патента: US09543220B2. Автор: Takeo Sato. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-01-10.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and memory medium

Номер патента: US09601394B2. Автор: Teruhiko Kodama,Masashi Enomoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Substrate processing system for processing substrates with an electronics module located behind a door in a front wall of the substrate processing system

Номер патента: US12051602B2. Автор: Jeroen de Jonge. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-07-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20070065760A1. Автор: Yoshitake Ito. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-03-22.

Substrate processing method

Номер патента: US20240234189A1. Автор: Tomohiro Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing system

Номер патента: US20200126831A1. Автор: Ting-Yu Wu,Chuan-Chang Feng,Mao-Lin Liu. Владелец: Scientech Corp. Дата публикации: 2020-04-23.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, fluid supplying method and storage medium

Номер патента: US09662685B2. Автор: Gentaro Goshi,Kazuyuki Mitsuoka,Takayuki Toshima,Takehiko Orii,Hiroki Ohno,Gen You. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Systems and methods for eliminating flourine residue in a substrate processing chamber using a plasma-based process

Номер патента: US09601319B1. Автор: Joydeep Guha,Andrew Stratton Bravo,Amit Pharkya. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240014011A1. Автор: Hyun Kim,Kang Hee KIM,Yong Taek Eom. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Substrate processing method, thermal processing apparatus, and semiconductor manufacturing equipment

Номер патента: US20240186161A1. Автор: Sung Kyu Park,Sung Yong Lee,Myung Hwan Oh. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240304452A1. Автор: Hiroshi Marumoto,Tsunemoto OGATA,Suguen Lee. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Organic solvent supplying apparatus, substrate processing method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240203726A1. Автор: Ki Bong Kim,Yong Hyun Choi,Myung Seok Cha,Ju Yeon SONG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240128111A1. Автор: Tae Yong Kim,Byungin AN. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20190393031A1. Автор: Toru Hisamatsu,Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12074048B2. Автор: Yuji Kawaguchi,Hiroki Harada,Tokutarou Hayashi,Tatsuhiko Tsujihashi,Tsuyoshi OTSUKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20190206695A1. Автор: Kazuya Koyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-07-04.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US12106941B2. Автор: Chul-Joo Hwang. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09449857B2. Автор: Hiroaki Inadomi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Substrate processing system and method of determining flow rate of gas

Номер патента: US20190301912A1. Автор: Kazuyuki Miura,Hiroshi Yazaki,Yasuhiro Shoji,Norihiko Amikura,Risako Miyoshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-10-03.

Substrate processing system

Номер патента: US20240258147A1. Автор: Shinichi Taniguchi,Akihiro Iwasaki,Tsuyoshi Tomita,Kenji Amahisa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing system

Номер патента: EP4407665A2. Автор: Shinichi Taniguchi,Akihiro Iwasaki,Tsuyoshi Tomita,Kenji Amahisa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, non-transitory computer-readable recording medium and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12106998B2. Автор: Naofumi Ohashi,Masanori Nakayama,Teruo Yoshino. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09929008B2. Автор: Yu Sasaki,Kosuke Takahashi,Masahiko Kaminishi,Yu WAMURA,Fumiaki Hayase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Substrate processing system

Номер патента: EP4407665A3. Автор: Shinichi Taniguchi,Akihiro Iwasaki,Tsuyoshi Tomita,Kenji Amahisa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-06.

Substrate Processing System

Номер патента: US20100132611A1. Автор: Yoshitaka Koyama. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2010-06-03.

Substrate processing system, controller and method using test operation without substrate

Номер патента: US11661669B2. Автор: Hideki Wakabayashi,Yosuke Nagasawa,Tensei SATO,Kazuma Ideguchi,Shugo Midorikawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-05-30.

Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20170062245A1. Автор: Sang-Dong Kwon,Sang-Rok Oh,Jong-Woo Sun,Kwang-Nam Kim,Jung-pyo HONG,Yong-Moon Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-03-02.

Substrate transferring unit, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20230062447A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park,Seungmin SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-02.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240261814A1. Автор: Hiroshi Abe,Kenji Kobayashi,Takashi Ota,Wataru Sakai,Ryo Muramoto,Manabu Okutani,Takaaki Ishizu,Sei Negoro. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220152780A1. Автор: Junichi Kitano,Yuichi Douki,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4456119A1. Автор: Ju Young Park,So Jin Jeong,Seong Min Nam,Da In Kim. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-10-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09640382B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi,Toru Endo,Hirofumi MASUHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-02.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09595433B2. Автор: Hiroaki Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12033872B2. Автор: Hiroshi Yoshida,Takashi Nagai,Koji Ogura,Takumi Honda,Jun Nonaka,Keita Hirase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12042813B2. Автор: Hiroshi Abe,Kenji Kobayashi,Takashi Ota,Wataru Sakai,Ryo Muramoto,Manabu Okutani,Takaaki Ishizu,Sei Negoro. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12054828B2. Автор: Kohei Fukushima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing apparatus, mixing method, and substrate processing method

Номер патента: US12068175B2. Автор: Hiroshi Yoshida,Yoshinori Nishiwaki,Takao Inada,Jun Nonaka,Kouji Ogura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Semiconductor processing system having multiple decoupled plasma sources

Номер патента: US09947557B2. Автор: Richard Gottscho,Harmeet Singh,Peter L. G. Ventzek,John Patrick Holland. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-04-17.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20200243350A1. Автор: Hiroshi Abe,Manabu Okutani,Naohiko YOSHIHARA,Katsuei HIGASHI,Tsutomu Osuka. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-30.

Substrate processing system

Номер патента: US20190025799A1. Автор: Masanori Nakayama,Tsukasa Kamakura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2019-01-24.

Substrate processing apparatus, method of monitoring abnormality of substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20200201305A1. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Mitsuru Fukuda,Hiroyuki Iwakura,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Takayuki KAWAGISHI,Kayoko Yashiki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-06-25.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: US20240096652A1. Автор: Kaori Umezawa,Kosuke TAKAI,Mana TANABE. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus, alignment device, substrate processing method and alignment method

Номер патента: US20190049865A1. Автор: Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12057326B2. Автор: Hiroaki Inadomi,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230241636A1. Автор: Yoko TAKAKITA. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: EP1801860A1. Автор: Takehiko c/o Tokyo Electron AT Limited ORII,Kenji c/o Tokyo Electron AT Limited SEKIGUCHI,Noritaka c/o Tokyo Electron Kyushu Ltd. UCHIDA,Satoru c/o Tokyo Electron Kyushu Limited TANAKA,Hiroki c/o Tokyo Electron AT Limited OHNO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-06-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09972515B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180185885A1. Автор: Akio Hashizume,Junichi Ishii,Takayuki Nishida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12020936B2. Автор: Takeshi Tamura,Hirotoshi Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Substrate processing apparatus and method for fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20240153811A1. Автор: Young Joon Kim,Sang Duk HWANG,Jai Hoon KANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240339339A1. Автор: Hiroaki Inadomi,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240332041A1. Автор: Yoshifumi Amano,Kazuhiro Aiura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Plasma processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230402256A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Jun Sato,Takashi Chiba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180033618A1. Автор: Kazuo Yabe,Jun Ogawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-01.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20190153602A1. Автор: Shinichiro Misaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-05-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4432335A2. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240312849A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12094694B2. Автор: Sumi Tanaka,Tamihiro Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing system, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20210003990A1. Автор: Naofumi Ohashi,Shun Matsui,Yasuhiro Mizuguchi,Tadashi Takasaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2021-01-07.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240157408A1. Автор: Jiro Higashijima,Yusuke Hashimoto,Daisuke Goto,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210237221A1. Автор: Hozumi Yasuda,Nobuyuki Takada. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-08-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09815093B2. Автор: Takayoshi Tanaka. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US09790597B2. Автор: Kenichi Yamaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US09607865B2. Автор: Masahiro Abe,Yuji Nagashima,Masaaki Furuya,Takashi Ootagaki,Konosuke Hayashi,Atsushi Kinase. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium

Номер патента: US11257701B2. Автор: Hidekazu Kiyama,Kazutoshi Ishimaru,Takehiro Kadokura,Takashige Suematsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-02-22.

Reflective deposition rings and substrate processing chambers incorporating same

Номер патента: US09905443B2. Автор: Ashish Goel,Joung Joo Lee,Joseph M. Ranish,Xiaoxiong Yuan,Anantha K. Subramani. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-02-27.

Substrate processing method for transferring a substrate

Номер патента: US09643220B2. Автор: Hiroshi Kato. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Substrate temperature measuring device, substrate processing apparatus including the same, and substrate temperature measuring method using the same

Номер патента: US20240019311A1. Автор: Yihwan Kim,Ji Hoon Kim,Yeon Tae KIM,Hun Yong PARK,Kee Soo Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-18.

Substrate processing device, substrate processing system, and data processing method

Номер патента: EP4325549A1. Автор: Takashi Ota,Takashi Ikeuchi,Tetsuya Hiraoka,Hideji NAOHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-21.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and data processing method

Номер патента: US20240203765A1. Автор: Takashi Ota,Takashi Ikeuchi,Tetsuya Hiraoka,Hideji NAOHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Temperature control system and system of processing substrate

Номер патента: US20240038555A1. Автор: Haruka KANEKO,Takehiko Arita,Hayato Sakai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20170278726A1. Автор: Katsuhiko Miya. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-28.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US09308559B2. Автор: Yoshifumi Amano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-04-12.

Substrate cleaning device, substrate processing apparatus, substrate cleaning method and substrate processing method

Номер патента: US20180071883A1. Автор: Ryuichi Yoshida,Koji Nishiyama,Toru MOMMA,Hiromi MURACHI,Chikara Sagae. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240238848A1. Автор: Shuhei Takahashi,Yoshifumi Amano,Yuki Ito,Akira Fujita,Takafumi Kinoshita,Tomoyuki Hashimoto,Kazuhiro Aiura,Daisuke Saiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Tools and methods for mounting transport rails in a substrate processing system

Номер патента: US20090279990A1. Автор: Stuart Scollay. Владелец: Intevac Inc. Дата публикации: 2009-11-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12057327B2. Автор: Satoshi BIWA,Satoshi Okamura,Katsuhiro Ookawa,Yuichi Douki,Yuichiro KUNUGIMOTO,Masataka GOSHO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Method for automatic measurement and for teaching-in of location positions of objects within a substrate processing system by means of sensor carriers and associated sensor carrier

Номер патента: EP2304769A1. Автор: Torsten Mueller,Andreas Hertgens,Pau Waltner. Владелец: Aes Motomation Gmbh. Дата публикации: 2011-04-06.

Method for automatic measurement and for teaching-in of location positions of objects within a substrate processing system by means of sensor carriers and associated sensor carrier

Номер патента: WO2010115632A1. Автор: Torsten Mueller,Andreas Hertgens,Pau Waltner. Владелец: Aes Motomation Gmbh. Дата публикации: 2010-10-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240266144A1. Автор: Kyung-Sun Kim,Jaewon Jeong,Naohiko Okunishi,SeungBo SHIM,Kyeongtea BANG,Kihwan Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240371661A1. Автор: Satoshi BIWA,Satoshi Okamura,Katsuhiro Ookawa,Yuichi Douki,Yuichiro KUNUGIMOTO,Masataka GOSHO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230416917A1. Автор: Sang Cheol Park,Bong Su Choi,Seung Han KIM,Kee Jun KIM. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US20240162061A1. Автор: Yoshihiro Kawaguchi,Yohei Yamashita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate processing unit, substrate transfer method, substrate cleansing process unit, and substrate plating apparatus

Номер патента: EP1920458A1. Автор: Kenichi Suzuki,Masahiko Sekimoto,Kenichi Kobayashi,Toshio Yokoyama,Ryo Kato,Teruyuki Watanabe. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2008-05-14.

Information processing device and information processing method

Номер патента: US20240242960A1. Автор: Mitsunori Sugiyama. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Roller for a carrier transport assembly, substrate processing system, method of maintaining a substrate processing system, and method of manufacturing a device

Номер патента: WO2022128112A1. Автор: Oliver Heimel,Shinichi Kurita,Ralph Lindenberg,Andre Brüning,Christian Wolfgang Ehmann,Kaiyun JIANG. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-06-23.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20050099629A1. Автор: Keiji Emoto,Kotaro Akutsu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-05-12.

Substrate processing system and substrate transfer apparatus and method

Номер патента: US20230282492A1. Автор: Toshiaki Toyomaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Substrate processing method, substrate processing system and substrate processing apparatus

Номер патента: US10520831B2. Автор: Yoshihiro Kondo,Masashi Enomoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-31.

Substrate processing method, substrate processing system and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180076066A1. Автор: Yoshihiro Kondo,Masashi Enomoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-15.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230102650A1. Автор: Sungjoo An,Janghee Lee,Geuno JEONG,Seran OH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-30.

Schedule preparation method for substrate processing device and substrate processing device

Номер патента: US10514684B2. Автор: Satoshi Yamanaka. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-12-24.

Substrate processing apparatus, operating method thereof, and photo spinner equipment

Номер патента: US20240178011A1. Автор: Ho Jin Jang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus and spray module of substrate processing apparatus

Номер патента: US20220392790A1. Автор: Jongchul Kim,InWoo BACK,YeongSeop BYEON,InCheol YEO. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-08.

Substrate processing apparatus, method of processing substrate, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240249962A1. Автор: Naofumi Ohashi,Hideharu Itatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing method

Номер патента: US20180061631A1. Автор: Sadamu Fujii,Rei Takeaki,Taiki HINODE. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-01.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US12091751B2. Автор: Satoshi Takano,Naofumi Ohashi,Tomihiro Amano. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus and method of detecting indentation formed in substrate

Номер патента: SG10201806154TA. Автор: Takahashi Nobuyuki,Wen Zhongxin,Sakugawa Suguru. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-02-27.

Control method of substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240153748A1. Автор: Morihito Inagaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing apparatus and method of transferring a substrate

Номер патента: US09786532B2. Автор: Takashi Mitsuya,Keiichi Kurashina,Masahiko Sekimoto,Kenichi Kobayashi,Toshio Yokoyama,Kenichi Akazawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-10-10.

Apparatus for material deposition, substrate processing system and method of substrate processing

Номер патента: CN115443529A. Автор: 西蒙·刘,拉尔夫·林登贝格,约阿希姆·松嫩申,苏哈斯·博斯基. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-12-06.

Substrate processing apparatus, substrate inspection method and substrate processing system

Номер патента: US6790287B2. Автор: Joichi Nishimura,Masami Ohtani,Kenji Hashinoki,Masayoshi Shiga. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2004-09-14.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE LOADING METHOD, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20200115796A1. Автор: NAGATA Tomoyuki. Владелец: . Дата публикации: 2020-04-16.

Exposure apparatus, substrate processing apparatus, substrate exposure method and substrate processing method

Номер патента: KR102307596B1. Автор: 마사히코 하루모토,유지 다나카,마사야 아사이,야스히로 후쿠모토,다카후미 오키,도모히로 마쓰오,지사요 나카야마. Владелец: 가부시키가이샤 스크린 홀딩스. Дата публикации: 2021-09-30.

Substrate processing system managing apparatus information of substrate processing apparatus

Номер патента: US20060241803A1. Автор: Tetsuya Hamada,Kenji Kamei,Toru Kitamoto,Hidekazu Inoue. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2006-10-26.

Substrate processing apparatus, method of monitoring abnormality of substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US11782425B2. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Mitsuru Fukuda,Hiroyuki Iwakura,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Takayuki KAWAGISHI,Kayoko Yashiki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-10-10.

Substrate Processing System, Operation Method and Substrate Detection System

Номер патента: KR100472341B1. Автор: 겐이치 야마가,유지 오노,마사히로 미야시타,오사무 다니가와. Владелец: 동경 엘렉트론 주식회사. Дата публикации: 2005-07-05.

DIAGNOSTIC AND CONTROL SYSTEMS AND METHODS FOR SUBSTRATE PROCESSING SYSTEMS USING DC SELF-BIAS VOLTAGE

Номер патента: US20130327272A1. Автор: Augustyniak Edward,KEIL DOUGLAS. Владелец: . Дата публикации: 2013-12-12.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING EXHAUST PORTS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20170148649A1. Автор: Yang Il-Kwang,Je Sung-Tae,Song Byoung-Gyu,Kim Yong-Ki,Kim Kyong-Hun,Shin Yang-Sik. Владелец: EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.. Дата публикации: 2017-05-25.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING EXHAUST PORTS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20140315375A1. Автор: Yang Il-Kwang,Je Sung-Tae,Song Byoung-Gyu,Kim Yong-Ki,Kim Kyong-Hun,Shin Yang-Sik. Владелец: EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.. Дата публикации: 2014-10-23.

Control system of substrate processing apparatus, collecting unit, substrate processing apparatus and control method of the substrate processing apparatus

Номер патента: CN102280362A. Автор: 片冈纪彦,森真一郎. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-12-14.

Control system of substrate processing apparatus, collecting unit, substrate processing apparatus and control method of the substrate processing apparatus

Номер патента: CN102280362B. Автор: 片冈纪彦,森真一郎. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2014-06-04.

Substrate processing device, semiconductor manufacturing device, and substrate processing method

Номер патента: WO2020174874A1. Автор: 及川　文利. Владелец: 株式会社荏原製作所. Дата публикации: 2020-09-03.

Reflector, substrate processing apparatus employing the same, and substrate processing methods using the same

Номер патента: KR100702010B1. Автор: 황성욱,신철호. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2007-03-30.

Substrate processing system, gate valve, and substrate transfer method

Номер патента: JP2016004985A. Автор: Koji Maeda,Masamichi Hara,正道 原,Naoyuki Suzuki,Tetsuya Miyashita,哲也 宮下,直行 鈴木,原　正道,前田　幸治,鈴木　直行,幸治 前田. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-01-12.

Substrate processing apparatus control system and substrate processing apparatus

Номер патента: US20030060917A1. Автор: Kenji Sugimoto,Kenji Kamei,Tamihiro Bun,Kinya Murata,Kenji Hashinoki,Noriaki Yokono,Tsuyoshi Mitsuhashi. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2003-03-27.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE HOLDER FIXING UNIT OF SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: JP5476006B2. Автор: 雅行 鈴木,秀雄 石津. Владелец: Kokusai Electric Semiconductor Service Inc. Дата публикации: 2014-04-23.

Substrate transferring apparatus, substrate processing apparatus, substrate transferring arm and substrate transferring method

Номер патента: TW200814226A. Автор: Akitake Tamura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-03-16.

Substrate Processing Apparatus, Method of Measuring Temperature of Substrate Processing Apparatus and Non-Transitory Computer-Readable Recording Medium

Номер патента: US20150099235A1. Автор: Honda Shigeru,WATANABE Akihito,TAKASHIMA Katsumi,MIYASHITA Naoya. Владелец: . Дата публикации: 2015-04-09.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND PIPE CLEANING METHOD FOR SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20170117165A1. Автор: Maruyama Toru,Maeda Koji,KUNISAWA Junji,MIYAZAKI Mitsuru,Imai Masayoshi,HOMBO Teruaki,TOYOMASU FUJIHIKO. Владелец: . Дата публикации: 2017-04-27.

SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND COMPONENT INSPECTION METHOD FOR SUBSTRATE PROCESSING DEVICE

Номер патента: US20200234985A1. Автор: HASHIZUME Akio. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-23.

Substrate processing device and component inspection method for substrate processing device

Номер патента: WO2019021586A1. Автор: 橋詰　彰夫. Владелец: 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス. Дата публикации: 2019-01-31.

Substrate processing apparatus and component inspection method for substrate processing apparatus

Номер патента: CN110809814A. Автор: 桥诘彰夫. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-02-18.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND OBJECT CONVEYING METHOD IN SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: JP7303648B2. Автор: 丈二 ▲桑▼原. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE TRANSFER METHOD AND SUBSTRATE TRANSFER DEVICE

Номер патента: US20150221536A1. Автор: Suzuki Kenichi,Sotozaki Hiroshi,YOKOYAMA Toshio,KUNISAWA Junji,MIYAZAKI Mitsuru. Владелец: . Дата публикации: 2015-08-06.

Substrate transfer apparatus, substrate processing apparatus using the same, and substrate holding apparatus for use in the apparatuses

Номер патента: KR100257281B1. Автор: 이치로오 미쯔요시,야스히코 오오하시. Владелец: 이시다 아키라. Дата публикации: 2000-05-15.

Substrate transfer device, substrate processing device equipped with it, and substrate transfer method

Номер патента: JP6802726B2. Автор: 丈二 ▲桑▼原. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-16.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, EXHAUST SYSTEM AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20180144953A1. Автор: Sakata Masakazu,Ozaki Takashi,Yamada Tomoyuki,Kasai Takeshi,YAMADA Masayuki,Kanayama Kenji,Ogawa Unryu,NAKASHIMA Seiyo,OKUNO Masanori,YONEJIMA Toshihiko,OKAMIYA Hiroki,NOGAMI Katsuaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC.. Дата публикации: 2018-05-24.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, CONTROL SYSTEM, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20190301020A1. Автор: NAKAYA Kazuo,OKAMIYA Hiroki. Владелец: KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION. Дата публикации: 2019-10-03.

Substrate processing apparatus, exhaust system and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US10163663B2. Автор: Tomoyuki Yamada,Masayuki Yamada,Masakazu Sakata,Takashi Ozaki,Takeshi Kasai,Kenji Kanayama,Unryu Ogawa,Toshihiko Yonejima,Masanori OKUNO,Hiroki OKAMIYA,Katsuaki NOGAMI,Seiyo Nakashima. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2018-12-25.

Method of estimating lithography system, method of adjusting substrate processing apparatus, lithography system, and exposure apparatus

Номер патента: KR100781099B1. Автор: 이마이유지. Владелец: 가부시키가이샤 니콘. Дата публикации: 2007-11-30.

Real time monitoring system and method for substrate processing

Номер патента: KR100435216B1. Автор: 김팔곤. Владелец: 스피닉스(주). Дата публикации: 2004-06-16.

Plasma processing system and apparatus and a sample processing method

Номер патента: US20040118517A1. Автор: Kazue Takahashi,Toshio Masuda,Hideyuki Yamamoto,Mitsuru Suehiro,Hiroshi Kanekiyo,Tatehito Usui,Hiromichi Enami. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-06-24.

SUBSTRATE SUPPORT PLATE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20210166910A1. Автор: KIM Jaehyun,Lee SeungHwan,Kim DaeYoun. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-03.

Substrate processing method, substrate processing system, and computer-readable storage medium

Номер патента: US20080160781A1. Автор: Osamu Miyahara,Junichi Kitano,Kenji Tsutsumi,Hideharu Kyouda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-07-03.

Substrate processing method, substrate processing system, and computer-readable storage medium

Номер патента: US20120061021A1. Автор: Osamu Miyahara,Junichi Kitano,Kenji Tsutsumi,Hideharu Kyouda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-03-15.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230101475A1. Автор: Hiroki Tajiri,Masayuki ORISAKA,Takashi Izuta. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing device, substrate processing method, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20220406626A1. Автор: Hiroshi Fujita,Tomohiko Sugita,Tatsuhiko Koide. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-12-22.

Substrate processing device, manufacturing method for semiconductor device, and reaction tube

Номер патента: US12062546B2. Автор: Tomoshi Taniyama,Takayuki Nakada,Hidenari YOSHIDA,Shigeru Odake. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: US20220068642A1. Автор: Yoshihisa Matsubara,Daisuke Suzuki,Koji Kagawa,Kenji Sekiguchi,Yoshihiro Takezawa,Syuhei YONEZAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12033864B2. Автор: Hiromi Miyashita,Rei Shoji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240301555A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180197748A1. Автор: Kazuaki Nishimura,Koji Takeya,Jun Lin. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-07-12.

Substrate processing method

Номер патента: US09543162B2. Автор: Takashi Ota,Kazuhide Saito,Taiki HINODE. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240096659A1. Автор: Takashi Watanabe,Jun Takagi,Hiroyasu Iimori,Fuyuma ITO,Yuya Akeboshi,Ai MORI,Yosuke Maruyama. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09870914B2. Автор: Yuki Yoshida,Koji Kagawa,Meitoku Aibara,Hisashi Kawano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20240087918A1. Автор: Katsuhiro Sato,Hiroshi Fujita,Tomohiko Sugita,Tatsuhiko Koide. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12044973B2. Автор: Hiroki Sakurai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220334491A1. Автор: Hiroki Sakurai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09966282B2. Автор: Kunihiro Miyazaki,Kenji Minami,Yuji Nagashima,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Ambient laminar gas flow distribution in laser processing systems

Номер патента: US09557111B2. Автор: Stephen Moffatt,Aaron Muir Hunter. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Methods and apparatus for treating exhaust gas in a processing system

Номер патента: US09597634B2. Автор: Daniel O. Clark,Colin John Dickinson,Mehran Moalem. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-03-21.

Substrate processing system printed-circuit control board assembly with one or more heater layers

Номер патента: US20190166700A1. Автор: Eric Pape,Fred Dennis Egley,Changyou Jing. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2019-05-30.

Substrate processing system printed-circuit control board assembly with one or more heater layers

Номер патента: WO2019108365A1. Автор: Eric Pape,Changyou Jing,Fred Egley. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2019-06-06.

Substrate processing device, polishing device, and substrate processing method

Номер патента: US20240139782A1. Автор: Kohei Sato,Hiroki Takahashi,Koichi Fukaya,Daichi Kondo. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Substrate warping monitoring device and substrate processing apparatus using the same, and substrate warping monitoring method

Номер патента: US20190013224A1. Автор: Yuya SASAKI,Junnosuke Taguchi,Toshiya CHIBA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-01-10.

Substrate processing system, file management method of substrate processing device, program, substrate processing device and management device

Номер патента: KR102099518B1. Автор: 오사무 우에다,가즈요시 야마모토,가즈히데 아사이. Владелец: 가부시키가이샤 코쿠사이 엘렉트릭. Дата публикации: 2020-04-09.

ABNORMALITY DETECTION DEVICE OF CHEMICAL SOLUTION, LIQUID PROCESSING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, ABNORMALITY DETECTION METHOD OF CHEMICAL SOLUTION, LIQUID PROCESSING METHOD, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20210157237A1. Автор: MORI Takuya,HAYASHI Masato,SHITE Hideo,Sakamoto Hirokazu. Владелец: . Дата публикации: 2021-05-27.

Exposure equipment, substrate processing equipment, substrate exposure method and substrate processing method

Номер патента: JP6985803B2. Автор: 裕二 田中,靖博 福本,友宏 松尾,孝文 大木,正也 浅井,将彦 春本,知佐世 中山. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-22.

Mixing device, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method

Номер патента: US20230173438A1. Автор: Moon Soon Choi,Kyung Hun Lee,Do Gyeong Ha,Bu Young JUNG,Chae Young LIM,Gu Yeol AN. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Method of preparing a chemical liquid for substrate processing, chemical liquid preparation unit, and substrate processing system

Номер патента: CN103426795A. Автор: 三浦淳靖,石川秀和. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2013-12-04.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, AND RECORDING MEDIUM

Номер патента: US20220081770A1. Автор: Takebayashi Motonari,NAKAJO Hiroshi. Владелец: KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION. Дата публикации: 2022-03-17.

SUPPORT UNIT, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD USING THE SAME

Номер патента: JP7256159B2. Автор: バン，ジャエオ,ソ，キョンジン,アン，ヨンソ. Владелец: セメス カンパニー，リミテッド. Дата публикации: 2023-04-11.

SUBSTRATE WARPING MONITORING DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS USING THE SAME, AND SUBSTRATE WARPING MONITORING METHOD

Номер патента: US20190013224A1. Автор: TAGUCHI Junnosuke,SASAKI Yuya,CHIBA Toshiya. Владелец: . Дата публикации: 2019-01-10.

Substrate processing apparatus, vaporization system and mist filter

Номер патента: US20180274093A1. Автор: Atsushi Hirano,Kosuke Takagi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-09-27.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, evaporation system and mist filter

Номер патента: KR101534604B1. Автор: 유지 타케바야시,코스케 타카기. Владелец: 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키. Дата публикации: 2015-07-08.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240249964A1. Автор: Seiji Nakashima,Shinsuke TAKAKI,Akihiro TERAMOTO,Ryo SHOBU. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US12045037B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Yamamoto,Shinji Shimizu,Hiroshi Horiguchi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240307821A1. Автор: Koji Kagawa,Mitsunori Nakamori,Yosuke Hachiya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing system and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240112933A1. Автор: Bongcheol Kim,Jeonghee Choi,Hyungwan Do. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-04.

Substrate processing system and substrate transfer control method

Номер патента: US09646864B2. Автор: Daisuke Morisawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Systems and methods for reducing effluent build-up in a pumping exhaust system

Номер патента: US12049698B2. Автор: Adrien Lavoie,Ramesh Chandrasekharan,Antonio Xavier,Steven Goza,Joseph Nesmith. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-07-30.

Substrate processing system

Номер патента: US20200411341A1. Автор: George Xinsheng Guo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-12-31.

Systems and Methods for Sealing in Site-Isolated Reactors

Номер патента: US20130039813A1. Автор: Kurt H. Weiner,Aaron T. Francis. Владелец: Intermolecular Inc. Дата публикации: 2013-02-14.

Substrate processing system, substrate processing method, and control program

Номер патента: US12062559B2. Автор: Minoru Nagasawa,Kunio Takano,Toshiharu Hirata,Takafumi Matsuhashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Acoustically-monitored semiconductor substrate processing systems and methods

Номер патента: US09429247B2. Автор: Michael Johnson,Joseph Yudovsky,Todd J. Egan,Kommisetti SUBRAHMANYAM. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-08-30.

Method, computer program product and apparatus for scheduling maintenance actions in a substrate processing system

Номер патента: US20050033463A1. Автор: Wim Tel,Harm Rossing,Suzan Auer-Jongepier. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2005-02-10.

Management device for substrate processing system and management method for substrate processing system

Номер патента: US20230205174A1. Автор: Man Gyu LEE. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Flow metrology calibration for improved processing chamber matching in substrate processing systems

Номер патента: US20240255341A1. Автор: Evangelos T. Spyropoulos,Piyush Agarwal. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Systems and methods for detecting the existence of one or more environmental conditions within a substrate processing system

Номер патента: WO2017132203A1. Автор: David Mordo,Fareen Adeni Khaja. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2017-08-03.

Substrate processing system and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230175124A1. Автор: Jiwon KWAK,Songyi Baek,Taemin Kim,Sejin KYUNG,Daewee KONG,Youngtack SIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-08.

Board processing apparatus, board processing method, and board processing system

Номер патента: US20160161941A1. Автор: Takashi Koshida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Substrate processing system

Номер патента: US20240191351A1. Автор: Dieter Pierreux. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US09953840B2. Автор: Mitsunori Nakamori,Hiromi Kiyose,Kazuyuki Mitsuoka,Hiroshi Marumoto,Hisashi Kawano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Substrate processing device, substrate processing method, and substrate processing system

Номер патента: US20160189991A1. Автор: Seiichiro Sano,Katsuaki Takagi,Satoshi Yamanaka,Yuzo Uchida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-30.

Substrate processing method, substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20240288775A1. Автор: Soichiro Okada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate Processing System and Operation Inspecting Method

Номер патента: US20100223277A1. Автор: Mitsuhiro Matsuda,Yoshitaka Koyama,Hideto Yamaguchi,Yasuhiro Joho. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2010-09-02.

Substrate processing device, substrate processing method, and substrate processing system

Номер патента: US09673072B2. Автор: Seiichiro Sano,Katsuaki Takagi,Satoshi Yamanaka,Yuzo Uchida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Metal doping of amorphous carbon and silicon films used as hardmasks in substrate processing systems

Номер патента: US09520295B2. Автор: Fayaz Shaikh,Sirish Reddy,Alice Hollister. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-12-13.

Substrate processing system

Номер патента: WO2024151636A1. Автор: Jairo T. Moura,Robert T. Caveney. Владелец: Brooks Automation Us, Llc. Дата публикации: 2024-07-18.

Virtual metrology systems and methods for using feedforward critical dimension data to predict other critical dimensions of a wafer

Номер патента: US20180211891A1. Автор: Ramanapathy Veerasingam. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-07-26.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240307925A1. Автор: Osamu Miyahara,Yoshitomo Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing system

Номер патента: US20240355654A1. Автор: Jairo T. Moura,Robert T. Caveney. Владелец: Brooks Automation US LLC. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate processing method including reprocessing rejected wafers

Номер патента: US09847263B2. Автор: Tsuneo Torikoshi,Hirofumi OTAKI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-12-19.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240282578A1. Автор: Takayuki Katsunuma,Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Toru Hisamatsu,Shinya Ishikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing method, program, computer-readable storage medium, and substrate processing system

Номер патента: US09690185B2. Автор: Hidetami Yaegashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20120160805A1. Автор: Mitsuo Suzuki,Kiyoshi Ehara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2012-06-28.

Substrate processing systems and robot apparatus for transporting substrates in electronic device manufacturing

Номер патента: US09457464B2. Автор: Izya Kremerman,Jeffrey C. Hudgens. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Substrate processing method

Номер патента: SG177250A1. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii,Hideto Nagashima. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-02-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20240253093A1. Автор: Koji Ando,Noritake SUMI,Tomohiro Motono. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: EP4428898A2. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and method of detecting abnormality in transport container

Номер патента: US09773690B2. Автор: Katsuhiro Morikawa,Suguru Enokida,Ikuo Sunaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220285166A1. Автор: Takumi Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240242985A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220251709A1. Автор: Takafumi Niwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-11.

Substrate processing system having improved substrate transport system

Номер патента: US20090060689A1. Автор: G. X. Guo,K. A. Wang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-03-05.

Substrate processing method

Номер патента: US20110200949A1. Автор: Hiroshi Nakamura,Tadatoshi Tomita,Takafumi Niwa,Yuhei Kuwahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-08-18.

Substrate processing method

Номер патента: US8367308B2. Автор: Hiroshi Nakamura,Tadatoshi Tomita,Takafumi Niwa,Yuhei Kuwahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-02-05.

Substrate processing apparatus and methods

Номер патента: US09972511B2. Автор: Takashi KURATOMI,Brent Biggs. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing method, substrate processing device, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20240120177A1. Автор: Kyung-Sun Kim,Seung Bo SHIM,Tae-Hwa Kim,Ji Mo LEE,Jae Bin KIM,Dong Hyeon Na,Myeong Soo SHIN,Woong Jin CHEON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-11.

Substrate processing method and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20060289431A1. Автор: Shinichi Ito,Tsuyoshi Shibata,Kei Hayasaki,Koutarou Sho. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-12-28.

Continuous substrate processing system

Номер патента: US09748125B2. Автор: Nag B. Patibandla,Li-Qun Xia,Banqiu Wu,Toshiaki Fujita,Pravin K. Narwankar,Ralf Hofmann,Jeonghoon Oh,Srinivas Satya. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-29.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US09601357B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Mitsukazu Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09502239B2. Автор: Masahisa OKUNO,Hideto TATENO,Takuya Joda,Masamichi Kurokawa,Tooru KAKUDA. Владелец: AZ Electronic Materials Luxembourg SARL. Дата публикации: 2016-11-22.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20070277856A1. Автор: Akio Hashizume. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-12-06.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20150243536A1. Автор: Yoshifumi Okada. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US10186418B2. Автор: Yoshifumi Okada. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-22.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and computer-readable medium storing program

Номер патента: US09859109B2. Автор: Hideaki Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, and computer-readable storage medium stored with substrate processing program

Номер патента: US09627192B2. Автор: Naoyuki Okamura,Kazuki Kosai,Fumihiro Kamimura,Kazuhiro Teraoka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Large area substrate processing system with between chamber platform

Номер патента: US20100158642A1. Автор: John A. Miller,Thomas L. Duer. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2010-06-24.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240321650A1. Автор: Yuji Otsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and substrate manufacturing method

Номер патента: US20240312804A1. Автор: Yohei Yamashita,Gousuke Shiraishi,Hayato TANOUE,Kento ARAKI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Systems and methods for performing in-situ deposition of sidewall image transfer spacers

Номер патента: US09972502B2. Автор: Stefan Schmitz,Jae Ho Lee,Changwoo Lee,Michael Goss,Noel Sun,Phil Friddle,Naveed Ansari. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and computer-readable storage medium recording therein substrate processing program

Номер патента: US09805957B2. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yuki Yoshida,Satoru Tanaka,Kazuyoshi Shinohara,Yosuke Kawabuchi,Kotaro Oishi,Hisashi Kawano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20130084709A1. Автор: Masahiro Miyagi,Kazunori Fujikawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-04-04.

Substrate processing system, substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240014055A1. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Kayoko Yashiki,Kyohei Kita. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-01-11.

Substrate Treating Apparatus And Substrate Treating Method

Номер патента: US20130199578A1. Автор: Hiroyuki Araki,Kentaro Tokuri. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2013-08-08.

Chiller make-break connector for substrate processing systems

Номер патента: US12074039B2. Автор: Alexander Charles Marcacci. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20130340796A1. Автор: Itaru Kanno,Norihiro Ito,Yosuke Hachiya,Kotaro Ooishi,Hisashi Kawano,Jun Nogami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-12-26.

Substrate processing system with vertical arrangement structure

Номер патента: US20230260806A1. Автор: Hyung Chul Kim,Dong Hwa Lee,You Sun JUNG. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Substrate processing method

Номер патента: US20070004057A1. Автор: Toshio Kaneko,Toru Nishiwaki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-01-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230311170A1. Автор: Toru Hirata,Yoshinori Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

RF reference measuring circuit for a direct drive system supplying power to generate plasma in a substrate processing system

Номер патента: US12106947B2. Автор: Maolin Long. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12054824B2. Автор: Nobuhiro Takahashi,Kiyotaka Horikawa,Junichiro Matsunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Etch system and method for single substrate processing

Номер патента: US09852920B2. Автор: Ian J. Brown,Wallace P. Printz. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Control apparatus, substrate processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US09772624B2. Автор: Takanori Saito,Yuichi Takenaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09721815B2. Автор: Hiroaki Takahashi,Kentaro Tokuri. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Substrate processing method and method of manufacturing substrate for liquid discharge head including forming hole in substrate by dry etching

Номер патента: US09676193B2. Автор: Masataka Kato,Hiroshi Higuchi,Toshiyasu Sakai,Masaya Uyama,Seiko Minami,Yoshinao Ogata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

Substrate processing method, substrate processing apparatus and non-transitory storage medium

Номер патента: US09627232B2. Автор: Keiichi Tanaka,Kousuke Yoshihara,Tomohiro Iseki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Slide and pivot assemblies for process module bias assemblies of substrate processing systems

Номер патента: US20230154772A1. Автор: BIN Yuan,Michael C. Kellogg,David William Paquet,Dexter Yuk Hing CHONG. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-05-18.

Prevention of contamination of substrates during pressure changes in processing systems

Номер патента: EP4388581A1. Автор: Ashley M. Okada,Dean C. Hruzek,Kenneth Le,Changgong WANG,Yuanhong Guo,Atilla KILICARSLAN,Raechel Chu-Hui Tan,Robert A. Medure,Sai Padhy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240282598A1. Автор: Hiroshi Marumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230207339A1. Автор: Kohei Sato,Hiroki Takahashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing method, micropattern forming method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US12057323B2. Автор: Kuntack Lee,Jihoon Jeong,Sangjine Park,Seohyun Kim,Sukhoon KIM,Younghoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240299971A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US09978619B2. Автор: Naoki Tajima,Koji Motoi,Terutaka YAMAOKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US09881784B2. Автор: Kazuyuki Mitsuoka,Takayuki Toshima,Takehiko Orii,Hiroki Ohno,Keiji Tanouchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium recording substrate processing program

Номер патента: US09824861B2. Автор: Junya Sato,Yoshikazu Ishikawa,Toshihiko Hamada,Toshiyuki Kobayashi,Masahiro Numakura,Shouichi Otake. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-21.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US09396978B2. Автор: Takeshi Matsumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-07-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240231232A1. Автор: Tsuyoshi Watanabe,Yoji SAKATA,Masashi Tsuchiyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234170A9. Автор: Kenji Fukushima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US9337070B2. Автор: Hideaki Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-10.

Substrate processing system including coil with RF powered faraday shield

Номер патента: US12087557B2. Автор: SHEN Peng,Anthony Nguyen,Dan Marohl,Tamarak Pandhumsoporn. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12094732B2. Автор: Takashi Katayama,Keisuke Miyajima,Keiji Magara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4447096A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Substrate processing system, substrate detecting apparatus, and substrate detecting method

Номер патента: US20120160040A1. Автор: Yuichi Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-06-28.

Method for cleaning chamber or component, substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: EP4383314A1. Автор: Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-12.

Substrate-processing method and substrate-processing apparatus

Номер патента: US20240234162A9. Автор: Rui KANEMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Silicon carbide substrate or substrate processing method

Номер патента: US20240055487A1. Автор: Tien-Hsi Lee,Wei-Chi Huang,Yu-Tang Lin,Jun-Huang Wu,Yu-Sheng Chiou,Shu-Cheng Li. Владелец: National Central University. Дата публикации: 2024-02-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240100647A1. Автор: Boun Yoon,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09865452B2. Автор: Keisuke Egashira,Kouzou Tachibana,Kotaro Oishi,Hideaki Udou. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Silicon substrate processing method, element embedded substrate, and channel forming substrate

Номер патента: US20140217066A1. Автор: Kazuhiro Gomi. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2014-08-07.

Systems and methods for selectively etching tungsten in a downstream reactor

Номер патента: US09837286B2. Автор: Joydeep Guha,Dengliang Yang,Helen H. Zhu,Joon Hong Park,Brad Jacobs,George Matamis. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-12-05.

Robot for a substrate processing system

Номер патента: US09576833B2. Автор: Richard Blank,Matt Mclellan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-02-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09795999B2. Автор: Takashi Ootagaki,Konosuke Hayashi,Yosuke Himori. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US11822318B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Yamamoto,Shinji Shimizu,Hiroshi Horiguchi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US20230418267A1. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Yamamoto,Shinji Shimizu,Hiroshi Horiguchi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Substrate processing method

Номер патента: US11264236B2. Автор: Takayuki Katsunuma,Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Toru Hisamatsu,Shinya Ishikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-01.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12125710B2. Автор: Sho Kumakura,Yusuke Takino. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230257877A1. Автор: Yasushi Takeuchi,Manabu Honma,Junnosuke Taguchi,Ibuki HAYASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240242977A1. Автор: Mikio Nakashima,Takahiro Hayashida,Shota Umezaki,Takafumi YASUNAGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

System and method for depositing plural thin film layers on a substrate

Номер патента: WO1986004617A1. Автор: Michael B. Jacobson,Robert J. Lawton,Darrel R. Bloomquist,James E. Opfer,George A. Drennan. Владелец: Hewlett-Packard Company. Дата публикации: 1986-08-14.

Substrate processing method

Номер патента: US09956594B2. Автор: Atsuyasu Miura,Naoki Sawazaki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US09553003B2. Автор: Masahiro Abe,Yuji Nagashima,Masaaki Furuya,Takashi Ootagaki,Konosuke Hayashi,Atsushi Kinase. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2017-01-24.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20210242084A1. Автор: Yoshihiro Kawaguchi,Hirotoshi Mori,Kazuya HISANO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-08-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20090192652A1. Автор: Tomoyuki Yamada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2009-07-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240248417A1. Автор: Hiroyuki Iwaki,Shinsuke TAKAKI,Ryohei FUJISE,Yoji SAKATA,Kenichirou Matsuyama,Tomoya ONITSUKA,Hiroki Tadatomo,Shingo Katsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20080075640A1. Автор: Teruo Yoshino,Tomohiko Takeda,Nobuo Ishimaru,Katsuyoshi Hamano,Ken Sugihara. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2008-03-27.

Systems and methods for selective metal compound removal

Номер патента: US11769671B2. Автор: Anchuan Wang,Zhenjiang Cui. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240261932A1. Автор: Yuichi Sato,Kohei Ohshima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-08.

Substrate processing apparatus including heat-shield plate

Номер патента: US09953850B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang,Sung-Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09703199B2. Автор: Takashi Taguchi,Toru Asano,Tsuyoshi Mitsuhashi,Yukio Toriyama. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-11.

Substrate processing apparatus including auxiliary gas supply port

Номер патента: US09593415B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang,Sung-Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Systems and methods for reducing effluent build-up in a pumping exhaust system

Номер патента: US11332824B2. Автор: Adrien Lavoie,Ramesh Chandrasekharan,Antonio Xavier,Steven Goza,Joseph Nesmith. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2022-05-17.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240201602A1. Автор: Cheng Cheng,HUI Wang,Jun Wang,Jun Wu,Mark Lee,Andrew Jung,Bruce SOHN,Yy KIM. Владелец: Cleanchip Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Compact substrate processing tool with multi-station processing and pre-processing and/or post-processing stations

Номер патента: US09916995B2. Автор: Karl Leeser. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09805938B2. Автор: Naozumi Fujiwara,Yuji Sugahara,Toru EDO,Seiji Ano,Jun SAWASHIMA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09583360B2. Автор: Akio Ui,Hisataka Hayashi,Keisuke Kikutani. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Substrate processing system, substrate processing method, and control program

Номер патента: US20220148898A1. Автор: Minoru Nagasawa,Kunio Takano,Toshiharu Hirata,Takafumi Matsuhashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-12.

Substrate processing system, method for controlling substrate processing system, and storage medium

Номер патента: US20150013722A1. Автор: Yoshifumi Amano,Yuki Ito,Eiichiro Okamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-01-15.

Substrate processing system, method for controlling substrate processing system, and storage medium

Номер патента: US9782807B2. Автор: Yoshifumi Amano,Yuki Ito,Eiichiro Okamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Substrate transferring apparatus, and liquid processing apparatus and substrate processing equipment including same

Номер патента: US20240222174A1. Автор: Eun Jung Lee,Young Jin Jang,Gui Su PARK,Jun Hyun LIM,Hee Jun YOUN,Seul Gi CHOI. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20150020967A1. Автор: Akio Hashizume,Takashi Ota,Yuya Akanishi. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2015-01-22.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and program

Номер патента: US9153430B2. Автор: Jie Wang,Takaaki Noda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2015-10-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20190103291A1. Автор: Tooru Nakamura,Kouji Kimoto,Hiroaki Inadomi,Yoshihisa Aoyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-04-04.

Systems and methods for metastable activated radical selective strip and etch using dual plenum showerhead

Номер патента: US20240258131A1. Автор: David Cheung,Dengliang Yang,Dan Zhang,Wei Yi Luo,Haoquan Fang,Gnanamani Amburose,Eunsuk Ko. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus and method thereof

Номер патента: US20240326406A1. Автор: Seong Soo JEONG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US09530677B2. Автор: Akinori Tanaka,Daisuke Hara,Takatomo Yamaguchi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-12-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09330950B2. Автор: Shinji Wakabayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US10186422B2. Автор: Keiji Osada,Daisuke Morisawa,Naohide Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-01-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240290577A1. Автор: Naoki Fujiwara,Naoki Matsumoto,Hiroki Endo,Naoki Mihara,Koichi Nagami,Nozomu Nagashima,Shinya Ishikawa,Shinya Tamonoki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Systems and methods for metastable activated radical selective strip and etch using dual plenum showerhead

Номер патента: US20240258130A1. Автор: David Cheung,Dengliang Yang,Dan Zhang,Wei Yi Luo,Haoquan Fang,Gnanamani Amburose,Eunsuk Ko. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Systems and methods for metastable activated radical selective strip and etch using dual plenum showerhead

Номер патента: US20240258129A1. Автор: David Cheung,Dengliang Yang,Dan Zhang,Wei Yi Luo,Haoquan Fang,Gnanamani Amburose,Eunsuk Ko. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Internal pressure control apparatus and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240304427A1. Автор: Tae-hyun Kim,Sang Ki Nam,Sung Ho Jang,Seul Gi Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-12.

Autoclean for load locks in substrate processing systems

Номер патента: US12094739B2. Автор: Travis R. Taylor,Adam Patrick BATEMAN. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09766617B2. Автор: Keiji Osada,Junichi Ogawa,Youichi Nakayama,Hiroaki DEWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220384151A1. Автор: Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220134375A1. Автор: Tomohiro Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

Substrate Processing Method and Solvent Used for Same Method

Номер патента: US20180323076A1. Автор: Akifumi YAO,Masaki Fujiwara,Soichi Kumon,Hidehisa Nanai. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-08.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US09552987B2. Автор: Takahiro Shiozawa,Kenichi Ueda,Keiichi Tanaka,Yuichiro Miyata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-24.

Substrate processing device

Номер патента: US20170117160A1. Автор: Akio Hashizume,Takashi Ota. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-27.

Substrate processing method

Номер патента: US20240150890A1. Автор: Atsuki Fukazawa,Hiroki Maehara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US8034720B2. Автор: Eiichi Nishimura,Jun Yamawaku,Chie Kato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-10-11.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240379377A1. Автор: Tadahiro Ishizaka,Hideaki Yamasaki,Shinya Okabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-14.

Semiconductor substrate processing method

Номер патента: US20010012649A1. Автор: Yasuo Yamaguchi,Toshiaki Iwamatsu,Yasuhiro Kimura,Yuuichi Hirano,Hideki Naruoka,Yoshiko Yoshida. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2001-08-09.

Semiconductor substrate processing method

Номер патента: US20030148595A1. Автор: Yasuo Yamaguchi,Toshiaki Iwamatsu,Yasuhiro Kimura,Yuuichi Hirano,Hideki Naruoka,Yoshiko Yoshida. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2003-08-07.

Substrate processing method

Номер патента: US20100048026A1. Автор: Takashi Sone,Ellchl Nishimura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-02-25.

Etching processing method

Номер патента: US20150170933A1. Автор: Shin Okamoto,Fumio Yamazaki,Takashi Nishijima,Hiromasa Mochiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-06-18.

Etching processing method

Номер патента: US09496150B2. Автор: Shin Okamoto,Fumio Yamazaki,Takashi Nishijima,Hiromasa Mochiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-15.

Substrate processing apparatus, linked processing system, and substrate processing method

Номер патента: US11784057B2. Автор: Jong Won Yun. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-10.

Prediction method and apparatus for substrate processing apparatus

Номер патента: US20070215574A1. Автор: Hideki Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-09-20.

Abnormality detection device of chemical solution, liquid processing device, substrate processing apparatus, abnormality detection method of chemical solution, liquid processing method, and substrate processing method

Номер патента: US12032294B2. Автор: Masato Hayashi,Takuya Mori,Hirokazu Sakamoto,Hideo Shite. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Substrate processing system, method of controlling substrate processing system, computer-readable storage medium, and method of manufacturing article

Номер патента: US20190371637A1. Автор: Kenji Yamamoto,Mitsuhiro Masuda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-12-05.

Substrate processing system processing recipe optimization method, substrate processing system, substrate processing apparatus

Номер патента: JP4942174B2. Автор: 清司 鈴木,裕一 竹永,要 山地. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-05-30.

Substrate processing apparatus with an air curtain in a loading/unloading part

Номер патента: US11749549B2. Автор: Dong Min Kim. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-05.

Process monitoring device for use in substrate process apparatus, process monitoring method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20140166205A1. Автор: Takahiro Senda,Toshihisa Nozawa,Kazuyuki Kato,Kazuki Moyama,Caizhong Tian,Munetaka Yamagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-06-19.

Substrate processing apparatus having exhaust gas decomposer, and exhaust gas processing method therefor

Номер патента: US10808315B2. Автор: Dong Won Seo,Heon Do Kim,Chul-Joo Hwang. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-20.

Substrate processing apparatus having exhaust gas decomposer, and exhaust gas processing method therefor

Номер патента: US11371142B2. Автор: Dong Won Seo,Heon Do Kim,Chul-Joo Hwang. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-28.

Substrate state determining apparatus, substrate processing apparatus, model generating apparatus, and substrate state determining method

Номер патента: KR102465661B1. Автор: 아츠시 스즈키,유타 하가,히로유키 사토,준야 사토,나오 아카시,모토이 오카다,게이 사노,다카유키 기타,기와무 츠키노,다쿠로 츠츠이. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-11-09.

Substrate processing device, substrate transfer device, and substrate replacement method

Номер патента: JP2598353B2. Автор: 信行 高橋,実 並木. Владелец: アネルバ株式会社. Дата публикации: 1997-04-09.

Substrate state determination device, substrate processing device, model creation device, and substrate state determination method

Номер патента: JP7134033B2. Автор: 弘幸 佐藤,淳司 鈴木,淳哉 佐藤,基 岡田,拓郎 筒井,圭 佐野,貴之 北,直 明石,雄太 芳賀,極 月野. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-09.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and abnormality detection method

Номер патента: US12087562B2. Автор: Katsuhito Hirose,Kazushi HIKAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240242975A1. Автор: Kotaro Tsurusaki,Yoshihiro Kai,Keiji Onzuka,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Liquid chemical supplying system, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US20160368030A1. Автор: Sang Won Bae,Hyosan Lee,Seokhoon Kim,Kuntack Lee,Kyoung Hwan Kim,Jung-min Oh,Ingi KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-12-22.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using rf plasma cycling and purging

Номер патента: US20170011893A1. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-01-12.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using RF plasma cycling and purging

Номер патента: US09899195B2. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Systems and methods for reducing backside deposition and mitigating thickness changes at substrate edges

Номер патента: US09852901B2. Автор: Sesha Varadarajan,Shankar Swaminathan,Adrien Lavoie,Saangrut Sangplung,Frank Pasquale,Ted Minshall,Mohamed Sabri,Cody Barnett. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-12-26.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using RF plasma cycling and purging

Номер патента: US09478408B2. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Systems and methods for reducing backside deposition and mitigating thickness changes at substrate edges

Номер патента: US09460915B2. Автор: Sesha Varadarajan,Shankar Swaminathan,Adrien Lavoie,Saangrut Sangplung,Frank Pasquale,Ted Minshall,Mohamed Sabri,Cody Barnett. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-10-04.

Processing system and methods to co-strike plasma to enhance tungsten growth incubation delay

Номер патента: US20240274407A1. Автор: Kelvin Chan,Kai Wu,David Peterson,Peiqi Wang,Mingrui ZHAO,Ping-Hwa HSIEH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Processing system and methods to co-strike plasma to enhance tungsten growth incubation delay

Номер патента: WO2024172880A1. Автор: Kelvin Chan,Kai Wu,David Peterson,Peiqi Wang,Mingrui ZHAO,Ping-Hwa HSIEH. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US12051571B2. Автор: Tatsuya Yamaguchi,Syuji Nozawa,Kazuya Ichiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Group management apparatus, substrate processing system and method of managing files of substrate processing apparatus

Номер патента: US09400794B2. Автор: Osamu Ueda,Hiroyuki Iwakura,Kazuhide Asai. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-07-26.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing system, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230099451A1. Автор: Osamu Ueda,Kazuhide Asai,Norihito SHINOZAWA,Takanori KYOGOKU. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing tool with integrated metrology and method of using

Номер патента: US20190295870A1. Автор: Robert Clark,Kandabara Tapily. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-09-26.

Processing system and methods for forming void-free and seam-free tungsten features

Номер патента: US20240209500A1. Автор: Kai Wu,Kazuya DAITO,Harpreet Singh,Michael C. Kutney,Peiqi Wang,Wei Min Chan,Xi CEN,Mingrui ZHAO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230091850A1. Автор: Yuji Takebayashi,Shota Tanaka,Yusaku OKAJIMA,Hiroki HATTA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Substrate processing method and control apparatus

Номер патента: US09798317B2. Автор: Katsuhiko Komori,Yuichi Takenaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12065746B2. Автор: Masaki Inaba,Yasutoshi Okuno,Akihisa Iwasaki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220189779A1. Автор: Tsuyoshi Takahashi,Yu Nunoshige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-06-16.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240290609A1. Автор: Tadahiro Ishizaka,Takashi Sakuma,Yoshiyuki Hanada,Kunihiro Tada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Megasonic processing system with gasified fluid

Номер патента: WO2006028983A3. Автор: YI WU,Ismail Kashkoush,Tom Nicolosi. Владелец: Tom Nicolosi. Дата публикации: 2007-05-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240189856A1. Автор: Koichi Matsunaga,Teruhiko Kodama,Hideaki Iwasaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing tool with integrated metrology and method of using

Номер патента: US11769677B2. Автор: Robert Clark,Kandabara Tapily. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230057538A1. Автор: Chul-Joo Hwang,Duck Ho Kim,Il Hyong CHO. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-23.

Method for processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US09768012B2. Автор: Masanori Sakai,Tsutomu Kato,Yuji Takebayashi,Hirohisa Yamazaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09970109B2. Автор: Jun Yoshikawa,Motoshi Fukudome. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium

Номер патента: US20190139791A1. Автор: Hiromi Kiyose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-05-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12027393B2. Автор: Takuya Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210335636A1. Автор: Takuya Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-10-28.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180195178A1. Автор: Masayuki Otsuji. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-12.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20200144052A1. Автор: Gentaro Goshi,Keisuke Egashira. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-07.

Methods for removing contamination from surfaces in substrate processing systems

Номер патента: US09805914B2. Автор: Chun Yan,Xinyu Bao,Adam Lane,Zhenwen Ding,Teng-Fang Kuo,Jim Zhongyi He. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US09431220B1. Автор: Naofumi Ohashi,Atsuhiko Suda,Kazuyuki Toyoda,Masanori Nakayama,Shun Matsui. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-08-30.

Substrate processing method

Номер патента: US20230335399A1. Автор: Sungha CHOI,Kihun KIM,HongSuk Kim,SangHeon Yong,JuHyuk Park. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-10-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210159095A1. Автор: Masami Yamashita,Gentaro Goshi,Toru Ihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09865454B2. Автор: Hitoshi Kato,Jun Sato,Masato Yonezawa,Hiroyuki Kikuchi,Shigehiro Miura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Substrate processing system, liquid amount measuring method, and computer-readable recording medium

Номер патента: US20220171294A1. Автор: Shinichi Hatakeyama,Akihiro TERAMOTO,Yuichiro KUNUGIMOTO,Yuta Nishiyama,Shota Ueyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-06-02.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240274433A1. Автор: Takayuki Komiya,Tsuyoshi Tsunatori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20210063882A1. Автор: Keiichi Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Substrate processing method, manufacturing method of euv mask, and euv mask

Номер патента: US20110207031A1. Автор: Hideaki Sakurai,Masatoshi Terayama. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-08-25.

Film forming method and substrate processing device

Номер патента: US20240274436A1. Автор: Keiichi Nagasaka,Toru Kitada,Shota ISHIBASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240304439A1. Автор: Koji Akiyama,Philippe Gaubert,Hajime Nakabayashi,Chihiro Tamura,Hisashi WARASHINA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20210063883A1. Автор: Keiichi Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Substrate processing method

Номер патента: US20240254619A1. Автор: SeungJu Chun. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US11978644B2. Автор: Kotaro Tsurusaki,Yoshihiro Kai,Keiji Onzuka,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-07.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20210111038A1. Автор: Kotaro Tsurusaki,Yoshihiro Kai,Keiji Onzuka,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-04-15.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20220392779A1. Автор: Kotaro Tsurusaki,Yoshihiro Kai,Keiji Onzuka,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230307258A1. Автор: Toru Endo,Keisuke TAKAGI,Yusuke TAKEMATSU,Naohiko YOSHIHARA,Katsuei HIGASHI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Method of Manufacturing Semiconductor Device, Substrate Processing Method and Apparatus, Non-Transitory Computer Readable Recording Medium, and Semiconductor Device

Номер патента: US20140084389A1. Автор: Arito Ogawa. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2014-03-27.

Substrate processing method

Номер патента: US09937602B2. Автор: Yukiteru Matsui,Masako Kodera,Yosuke Otsuka. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Substrate processing method

Номер патента: US20240258102A1. Автор: Sungha CHOI,Kihun KIM,HongSuk Kim,Jihye YANG,SangHeon Yong,JuHyuk Park. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing method

Номер патента: US20240376625A1. Автор: HUI Wang,Jian Wang,Zhaowei Jia,Meng Wu,Chenhua LU,Quan Cao. Владелец: ACM Research Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-11-14.

Substrate processing method and ionic liquid

Номер патента: US20230226571A1. Автор: Mitsuaki Iwashita,Takeo Nakano,Hirokazu Ueda,Ryuichi Asako,Naoki UMESHITA,Kenichi UKI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-07-20.

Substrate processing method

Номер патента: US20240246122A1. Автор: kana Tahara,Masaki Inaba,Katsuya Akiyama. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Coating system and method for coating interior fluid wetted surfaces of a component of a semiconductor substrate processing apparatus

Номер патента: US09873940B2. Автор: Tom Stevenson,LIN Xu,Hong Shih,John Daugherty,John Michael Kerns,Robert Griffith O'Neill,Nash Anderson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-01-23.

Substrate processing apparatus including processing unit

Номер патента: US09869019B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09818600B2. Автор: Takayuki Sato. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing method

Номер патента: US20240258101A1. Автор: Sungha CHOI,Kihun KIM,HongSuk Kim,Jihye YANG,SangHeon Yong,JuHyuk Park. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing device and determination method

Номер патента: US11461136B2. Автор: Ken Watanabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-04.

Substrate processing method

Номер патента: US20230326740A1. Автор: Minjung Kim,HyungSuk MOON,Seungkoo Shin,Sanghwang Park,Hyejoo Yoon. Владелец: POSTECH Research and Business Development Foundation. Дата публикации: 2023-10-12.

Small cell base station system, and related devices and data processing methods

Номер патента: US09961563B2. Автор: WEI Xiang,BO Yang,Shaohu FANG. Владелец: Comba Telecom Systems China Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Information processing system, image forming apparatus, management apparatus, information processing method, and storage medium for deleting or retreating image forming apparatus data

Номер патента: US20130016399A1. Автор: Makoto Kobayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-01-17.

Information processing system, mobile terminal, linkage server, and information processing method

Номер патента: US20130090140A1. Автор: Masahiro Takei,Kazuhiro Okanoue,Mitsunori Morisaki,Yohei Hirokawa. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2013-04-11.

Information processing system, system, and information processing method

Номер патента: US11736536B2. Автор: Yoshihiro Ogura. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

Image processing system, projector, information storage medium, and image processing method

Номер патента: EP1791370A2. Автор: Hideki c/o SEIKO EPSON CORPORATION MATSUDA. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2007-05-30.

Information processing system, image generation system, communication terminal, information processing method, or storage medium

Номер патента: US20230409659A1. Автор: Atsushi Ikeda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-12-21.

Information-processing system, information-processing device, program, and information-processing method

Номер патента: EP2669816A1. Автор: Shunsaku Kato,Kiyoshi Mizuki,Hideto Yuzawa. Владелец: Nintendo Co Ltd. Дата публикации: 2013-12-04.

Information processing system, mobile terminal, linkage server, and information processing method

Номер патента: US8855608B2. Автор: Masahiro Takei,Kazuhiro Okanoue,Mitsunori Morisaki,Yohei Hirokawa. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2014-10-07.

DIAGNOSTIC AND CONTROL SYSTEMS AND METHODS FOR SUBSTRATE PROCESSING SYSTEMS USING DC SELF-BIAS VOLTAGE

Номер патента: US20160326650A1. Автор: Augustyniak Edward,KEIL DOUGLAS. Владелец: . Дата публикации: 2016-11-10.

Substrate processing apparatus using hydrogen radicals and substrate processing method using hydrogen radicals

Номер патента: KR20220026136A. Автор: 최재욱,강동석,김수웅,서동원,이백주. Владелец: 주식회사 한화. Дата публикации: 2022-03-04.

Substrate Processing System, Gate Valve and Substrate Transfer Method

Номер патента: US20150371812A1. Автор: SUZUKI Naoyuki,HARA Masamichi,Maeda Kouji,Miyashita Tetsuya. Владелец: . Дата публикации: 2015-12-24.

PROCESS MONITORING DEVICE FOR USE IN SUBSTRATE PROCESS APPARATUS, PROCESS MONITORING METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20140166205A1. Автор: SENDA Takahiro,TIAN Caizhong,NOZAWA Toshihisa,Moyama Kazuki,Yamagami Munetaka,KATO Kazuyuki. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2014-06-19.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND GAS SWITCHING METHOD FOR SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20220059323A1. Автор: SASAKI Nobutaka. Владелец: . Дата публикации: 2022-02-24.

SYSTEM AND METHOD FOR SUBSTRATE PROCESSING CHAMBERS

Номер патента: US20190122872A1. Автор: KULKARNI MAYUR G.,Balasubramanian Ganesh,Zhang Yuxing,Baluja Sanjeev,BANSAL Amit Kumar,Ma Qiang,Jiang Zhijun,Srivastava Shailendra,GHOSH KALYANJIT,DASH Priyanka,Ulavi Tejas,JAFARI Shawyon,HWUNG Daniel,ALAYAVALLI Kaushik,ZHOU Yusheng ALVIN. Владелец: . Дата публикации: 2019-04-25.

Stencil mask layout pattern data division processing system, stencil mask layout pattern data division processing method, and program read by computer to execute stencil mask layout pattern data dividing process

Номер патента: US20030027058A1. Автор: Kokoro Kato. Владелец: Kokoro Kato. Дата публикации: 2003-02-06.

Substrate processing system and group management device

Номер патента: US20230101147A1. Автор: Ryuichi Kimura,Hiroakira MATSUI,Naruhisa MIYAZAKI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Systems and Methods for Monitoring One or More Characteristics of a Substrate

Номер патента: US20210109015A1. Автор: Mark Somervell,Masahide Tadokoro,Michael Carcasi,Joshua Hooge. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-04-15.

Substrate processing system and its control method

Номер патента: US20240055283A1. Автор: Kenji Ikeda,Tasuku Suzuki,Nobuyuki Kawabata,Jun Kitagawa,Masato Anzai,Taichi YOSHIOKA. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-02-15.

System and apparatus for efficient deposition of transparent conductive oxide

Номер патента: US09460925B2. Автор: Wei Wang,ZHENG Xu,Jianming Fu,Kenneth Reese Reynolds,Ollivier Jacky Lefevre. Владелец: SolarCity Corp. Дата публикации: 2016-10-04.

Process gas preheating systems and methods for double-sided multi-substrate batch processing

Номер патента: US09982364B2. Автор: Brian H. Burrows,Sumedh Acharya,David Masayuki Ishikawa,Paul J. Steffas. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-29.

Systems and methods for controlling pressure in substrate processing systems

Номер патента: US20240175138A1. Автор: Xing Lin,Alexandros Demos,Fan GAO,Arun Murali,Peipei Gao,Gregory Deye,Caleb Miskin,Amir Kajbafvala,Frederick Aryeetey. Владелец: Rondo Energy Inc. Дата публикации: 2024-05-30.

Systems and methods for pulse width modulated dose control

Номер патента: US20240093365A1. Автор: Mariusch Gregor. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Autoconfiguration of hardware components of various modules of a substrate processing tool

Номер патента: WO2021141665A1. Автор: Bridget Hill,Scott Baldwin,Raymond Chau,Rainer UNTERGUGGENBERGER,Thomas A. STUBBLEBINE. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2021-07-15.

Autoconfiguration of hardware components of various modules of a substrate processing tool

Номер патента: US12073224B2. Автор: Bridget Hill,Scott Baldwin,Raymond Chau,Rainer UNTERGUGGENBERGER,Thomas A. STUBBLEBINE. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Schedule creation method, schedule creating device, substrate processing apparatus, substrate processing system, and storage medium

Номер патента: US20230041766A1. Автор: Jun Kawai,Takashi Kasahara,Keisuke Inugai. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-09.

Systems and methods for pulse width modulated dose control

Номер патента: EP4391011A2. Автор: Mariusch Gregor. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-06-26.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4394847A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake,Yuta Mitsuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-03.

Systems and methods for pulse width modulated dose control

Номер патента: EP3688794A1. Автор: Mariusch Gregor. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2020-08-05.

Substrate processing system, method of managing the same and method of manufacturing semiconductor device with the same

Номер патента: US9859175B2. Автор: Bum-soo Kim,Masayuki Tomoyasu,Kiwook Song,Kye Hyun Baek,Eunwoo LEE,Jong Seo Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-02.

Systems and methods for pulse width modulated dose control

Номер патента: EP4235743A2. Автор: Mariusch Gregor. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-08-30.

Substrate processing method, recording medium, and substrate processing apparatus

Номер патента: US12083553B2. Автор: Yusuke MIYAKUBO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing method

Номер патента: US09477162B2. Автор: Tetsuya Hamada,Shuichi Yasuda,Tadashi Miyagi,Koji Kaneyama,Kazuhito Shigemori,Masashi Kanaoka. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20140363587A1. Автор: Jeung Hoon Han,Song Whe Huh. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-11.

Defect control and stability of dc bias in rf plasma-based substrate processing systems using molecular reactive purge gas

Номер патента: US20180347046A1. Автор: Arul Dhas,Christopher Ramsayer,Kareem Boumatar. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-12-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09960073B2. Автор: Jeung Hoon Han,Song Whe Huh. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US8883030B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Toru Endo. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-11.

Substrate Processing System with a Damage Preventing Function

Номер патента: US20150129420A1. Автор: Sang Hyun Park,Dong Hyun Lee,Sung Jin Park,Kwang Jin Jeon,Jin Haon Kwon,Hyun Pil Oh. Владелец: SNU PRECISION CO LTD. Дата публикации: 2015-05-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11587805B2. Автор: Masanobu Watanabe,Katsunori Ichino,Tomoki Okazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-02-21.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230241634A1. Автор: Yuji Okita,Hiroaki Kakuma,Hideji NAOHARA,Tatsuya Masui,Yuichi DEBA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240361072A1. Автор: Kazuhiro Shoji,Tomohiro Uemura,Shuhei NEMOTO,Ryotaro SHINOHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate processing method

Номер патента: US20210028199A1. Автор: Posung Pan. Владелец: Chongqing HKC Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-28.

Substrate processing apparatus for supplying gas of water repellent agent and substrate processing method

Номер патента: US12042815B2. Автор: Koji Tanaka,Koji Yamashita,Yusuke Yamamoto,Kotaro Tsurusaki,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing method

Номер патента: US12074176B2. Автор: Posung Pan. Владелец: Chongqing HKC Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

System and method to control pvd deposition uniformity

Номер патента: WO2020214908A1. Автор: Wen Xiao,Sanjay Bhat,Vibhu Jindal. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-10-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240258107A1. Автор: kana Tahara,Masaki Inaba,Ryo Muramoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4421856A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240286168A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Electrostatic chuck, glass substrate processing method, and said glass substrate

Номер патента: US09866151B2. Автор: Toshifumi Sugawara,Yoshiaki Tatsumi. Владелец: Creative Technology Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20180019441A1. Автор: Beom Jun KIM,Il Ho Noh,Seung Duk Bang,Soo Ho Oh,Sin Pyoung Kim. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-18.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: EP3904979A2. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-11-03.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20210333722A1. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-10-28.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20230161270A1. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-05-25.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: EP3904979A3. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-01-12.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20240288780A1. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12087588B2. Автор: Yoshihiro Kawaguchi,Hirotoshi Mori,Hayato TANOUE,Kazuya HISANO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing based on resistivity measurements

Номер патента: WO2014189790A1. Автор: Paul Sullivan,Nicholas P. T. Bateman. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2014-11-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240295821A1. Автор: Makoto Muramatsu,Hiroyuki Fujii,Keisuke Yoshida,Soichiro Okada,Yasuyuki Ido,Nanoka Miyahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180056470A1. Автор: Katsuhiko Tokushige,Mitsuru Miyazaki,Masayoshi Imai,Katsuhide Watanabe,Junji Kunisawa,Takeshi Iizumi,Suguru Ogura. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-03-01.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20230321696A1. Автор: Kohei Sato,Hiroki Takahashi,Ban ITO,Seungho Yun. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-10-12.

Part for substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20210178523A1. Автор: Michishige Saito,Sho Yamahira. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-06-17.

Substrate processing method

Номер патента: US12100578B2. Автор: Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Polishing head, substrate processing apparatus including the same and processing method of substrate using the same

Номер патента: US20210114163A1. Автор: Joon-Hwa Bae,Byoung Kwon Choo,Keun Woo Lee,Woo Jin Cho,Sung Hyeon PARK,Seung Bae Kang,Jung Gun Nam,Kyung Bo LEE. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-22.

Substrate processing with reduced warpage and/or controlled strain

Номер патента: US20120071007A1. Автор: Yun Wang,Shaoyin Chen. Владелец: Ultratech Inc. Дата публикации: 2012-03-22.

Discharge method, discharge system and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20230052781A1. Автор: Daesoo Kim,Jimin CHOI. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-16.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240243019A1. Автор: Masanori Nakayama,Hiroki Kishimoto,Hiroto Igawa,Yuki Yamakado,Yuichiro Takeshima,Yasutoshi Tsubota. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Monolithic ceramic component of gas delivery system and method of making and use thereof

Номер патента: US09580360B2. Автор: John Daugherty,Iqbal Shareef,Mike Ingamells. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Substrate processing apparatus, substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20200006092A1. Автор: Yoshinori Ikeda,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-01-02.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20150059645A1. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Toru Endo. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-05.

Substrate processing module and laser beam providing method

Номер патента: US20240006167A1. Автор: Yunsang Kim,Kwang Ryul Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09713822B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Toru Endo. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-25.

Ultrapure water supply apparatus, substrate processing system including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230302502A1. Автор: Jiyeon Lee,Seyoon KIM,Cheolmin SHIN,Jongha Yun,Juhui PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus equipped with substrate scanner

Номер патента: US20210280444A1. Автор: Hsin-Hsu Lin,Ming-Tso Chen,Kao-Hua Wu,Ming-Che Lai,Hua-Wei Peng,Chia-He Cheng,Chao-Chi Lu,Kuo-Tsai Lo,Huan-Hsin Yeh. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2021-09-09.

Machine learning platform for substrate processing

Номер патента: EP4405766A1. Автор: David Everton Norman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-31.

MIXED-PLATFORM APPARATUS, SYSTEMS, AND METHODS FOR SUBSTRATE PROCESSING

Номер патента: US20150082625A1. Автор: Hudgens Jeffrey C.,Rice Michael Robert. Владелец: . Дата публикации: 2015-03-26.

Heating element for a substrate processing system.

Номер патента: NL2033372B1. Автор: Van Rijn Richard,Joseph Wehenkel Dominique. Владелец: Applied Nanolayers B V. Дата публикации: 2024-05-08.

Temperature measuring method, substrate processing system and component to be provided in substrate processing apparatus of the substrate processing system

Номер патента: US09952032B2. Автор: Chishio Koshimizu,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Pulsed voltage boost for substrate processing

Номер патента: US11776788B2. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230085592A1. Автор: Jong Sik Kim,Ji Hun Lee. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing method

Номер патента: US20230235457A1. Автор: Ji Hyun Cho,Hong Min Yoon,Jae Sung Roh,Chul Joo Hwang,Cheong SON,Se Whan JIN,Hong Soo YOON,Youn Joo JANG. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-27.

Substrate Processing Apparatus, Method of Manufacturing Semiconductor Device and Substrate Processing Method

Номер патента: US20220090260A1. Автор: Hirohisa Yamazaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-03-24.

Substrate Processing Apparatus, Substrate Processing Method, Method of Manufacturing Semiconductor Device and Non-transitory Computer-readable Recording Medium

Номер патента: US20230081219A1. Автор: Hirohisa Yamazaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using same

Номер патента: US09564287B2. Автор: Jun Abe,Takeshi Ohse,Norikazu Yamada,Shinji Himori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-07.

Substrate Processing Apparatus and Substrate Processing Method

Номер патента: US20180037995A1. Автор: Takayuki Karakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230116739A1. Автор: Sung-Yeol Kim,Sung Yong Lim,Woong Jin CHEON,Sung Hwi Cho,Mee Hyun LIM,Seong Ha JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-13.

Liner assemblies for substrate processing systems

Номер патента: US12071686B2. Автор: Shawn George Thomas,Arash Abedijaberi. Владелец: GlobalWafers Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240282557A1. Автор: Jinuk Park,Euijin Park,Dongyup Choo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Anode electrode structure, lithium-ion battery, method of making an anode electrode structure, method of making a lithium-ion battery, and substrate processing system for producing an anode electrode structure

Номер патента: WO2022039964A8. Автор: Roland Trassl. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-09-01.

Anode electrode structure, lithium-ion battery, method of making an anode electrode structure, method of making a lith him -i on battery, and substrate processing system for producing an anode electrode structure

Номер патента: WO2022039964A1. Автор: Roland Trassl. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-02-24.

Use of an asymmetric waveform to control ion bombardment during substrate processing

Номер патента: WO1999028524A1. Автор: Sebastien Raoux,Mandar Mudholkar. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 1999-06-10.

Distance measurement between gas distribution device and substrate support at high temperatures

Номер патента: US12050112B2. Автор: Nick Ray Linebarger, JR.,Mark E. Emerson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-07-30.

Distance measurement between gas distribution device and substrate support at high temperatures

Номер патента: WO2020142367A1. Автор: Nick Ray Linebarger, JR.,Mark E. Emerson. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2020-07-09.

Substrate processing system including rf matching circuit for multi-frequency, multi-level, multi-state pulsing

Номер патента: US20240355588A1. Автор: Seyed Jafar Jafarian-Tehrani. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate processing method and apparatus

Номер патента: US11189461B2. Автор: Yoshinori Yamamoto,Naoki Takahashi,Hideomi Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-11-30.

Substrate processing method and apparatus

Номер патента: US20200294767A1. Автор: Yoshinori Yamamoto,Naoki Takahashi,Hideomi Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-09-17.

Substrate processing apparatus and method for processing substrate

Номер патента: US20230245858A1. Автор: Hitoshi Kato,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing system including dual ion filter for downstream plasma

Номер патента: US20240266147A1. Автор: Mark Kawaguchi,Stephen Whitten,Dan Zhang,Himanshu CHOKSHI,Shih-Chung Kon,Gnanamani Amburose,Chih-Hsun Hsu,Andrew Stratton Bravo,Serge Kosche. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-08.

Optimization program and substrate process system

Номер патента: US09804592B2. Автор: Kazuya Fukao. Владелец: Fuji Machine Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

System and method for determining image variation tendency and controlling image resolution

Номер патента: US09876966B2. Автор: Guo-Zhen Wang,Yu-Hao Huang. Владелец: PixArt Imaging Inc. Дата публикации: 2018-01-23.

DISPLACEMENT DETECTION APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, DISPLACEMENT DETECTION METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20150235368A1. Автор: KAKUMA Hiroaki. Владелец: . Дата публикации: 2015-08-20.

Information processing system, information processing device, information processing method, information processing program, imaging device, method for controlling imaging device, and control program

Номер патента: EP4246954A1. Автор: Takashi Tsuchiya,Tetsuo Kaneko. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2023-09-20.

Information processing system, information processing apparatus, information processing method, information processing program, imaging apparatus, method of controlling imaging apparatus, and control program

Номер патента: US20230421715A1. Автор: Takashi Tsuchiya,Tetsuo Kaneko. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Information processing apparatus, information processing system, communication support system, information processing method, and non-transitory recording medium

Номер патента: US12107904B2. Автор: Yuuta YOSHINO,Soh Okumura. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Image processing system, image processing device, and image processing method

Номер патента: US09710715B2. Автор: Takashi Uozumi,Taro Kikuchi. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Information processing system, information processing device, information processing method, and recording medium

Номер патента: US12074723B2. Автор: Keigo Ihara. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Information processing system, information processing device, information processing method, and recording medium

Номер патента: US20240356772A1. Автор: Keigo Ihara. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-10-24.

Screen splicing system and video data stream processing method

Номер патента: US09645784B2. Автор: Linjie Shen,Chunbo HU,Chongji Huang,Zhenxiao LE. Владелец: Hangzhou Hikvision Digital Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Communication device, information processing system, recording medium, and information processing method

Номер патента: US20180204436A1. Автор: Yasushi Miyajima. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2018-07-19.

SUBSTRATE STATE DETERMINING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, MODEL GENERATING APPARATUS, AND SUBSTRATE STATE DETERMINING METHOD

Номер патента: US20200080202A1. Автор: Suzuki Atsushi,Sato Hiroyuki,SATO Junya,Haga Yuta,TSUTSUI Takuro,OKADA Motoi,SANO Kei,Kita Takayuki,Akashi Nao,Tsukino Kiwamu. Владелец: . Дата публикации: 2020-03-12.

Sensing network system, nodes and data processing method thereof

Номер патента: US09705981B2. Автор: Todd LIN. Владелец: Egis Technology Inc. Дата публикации: 2017-07-11.

Multi-mixer system and associated receiver and signal processing method

Номер патента: US09847754B2. Автор: Chi-Yao Yu,Kun-Da Chu. Владелец: MediaTek Inc. Дата публикации: 2017-12-19.

Image capturing apparatus, information processing system, information processing apparatus, and polarized-image processing method

Номер патента: US20190230281A1. Автор: Akihiko Sugawara,Akio Ohba,Hiroyuki Segawa,Hidehiko Ogasawara. Владелец: Sony Interactive Entertainment Inc. Дата публикации: 2019-07-25.

Image processing device, image processing system, computer readable recording medium, and image processing method

Номер патента: US20080165389A1. Автор: Katsumi Shiina. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2008-07-10.

Information processing device, information processing system, computer-readable storage medium, and information processing method

Номер патента: EP4116731A4. Автор: Masanori Ogawa,Hiroaki Hasegawa,Kei Kitano. Владелец: Sato Holdings Corp. Дата публикации: 2023-08-16.

Information processing device, information processing system, computer-readable storage medium, and information processing method

Номер патента: EP4116731B1. Автор: Masanori Ogawa,Hiroaki Hasegawa,Kei Kitano. Владелец: Sato Holdings Corp. Дата публикации: 2024-07-10.

Image processing system, projector, information storage medium, and image processing method

Номер патента: EP1583370A1. Автор: Masanobu Kobayashi,Osamu Wada. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2005-10-05.

Image processing system, projector, information storage medium, and image processing method

Номер патента: TWI278227B. Автор: Masanobu Kobayashi,Osamu Wada. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2007-04-01.

Image signal processing device, image processing system having the same, and image signal processing method using the image signal processing device

Номер патента: US9324132B2. Автор: Su Hee Kim,Jung Gap Kuk. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-04-26.

Moving image capturing device, information processing system, information processing device, and image data processing method

Номер патента: US09736458B2. Автор: Hideyuki Saito,Akio Ohba,Hiroyuki Segawa. Владелец: Sony Interactive Entertainment Inc. Дата публикации: 2017-08-15.

Information processing device for handling privacy information, information processing system for handling privacy information, and information processing method and program for handling privacy information

Номер патента: US09418233B2. Автор: Ryo Furukawa. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2016-08-16.

Cloud service system and cloud service-based data processing method

Номер патента: EP4303745A4. Автор: Chuan Ye. Владелец: Huawei Cloud Computing Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Information processing system, information processing apparatus, image processing apparatus, processing method of information processing system, and program

Номер патента: US20160006838A1. Автор: Yoichiro Makino. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-01-07.

Image processing method and image processing system

Номер патента: US20160150163A1. Автор: Guo-Zhen Wang,Yu-Hao Huang. Владелец: PixArt Imaging Inc. Дата публикации: 2016-05-26.

Information processing system, information processing device, information processing method, information processing program, imaging device, control method of imaging device, and control program

Номер патента: US20240007599A1. Автор: Soichiro Maita. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-01-04.

Information processing apparatus, information processing system, communication support system, information processing method, and non-transitory recording medium

Номер патента: US20230328117A1. Автор: Yuuta YOSHINO,Soh Okumura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-10-12.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, IMAGE PROCESSING APPARATUS, PROCESSING METHOD OF INFORMATION PROCESSING SYSTEM, AND PROGRAM

Номер патента: US20160006838A1. Автор: Makino Yoichiro. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-07.

Apparatus, image processing system, communication system, method for setting, image processing method, and recording medium

Номер патента: US20220345619A1. Автор: Yoshinaga Kato. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2022-10-27.

The video signal processing system and input video signal nonlinear processing method

Номер патента: KR100196983B1. Автор: 에드워드 하펄 피터,하인즈 사우더 토마스. Владелец: 어얼벡 데니스 에이치. Дата публикации: 1999-06-15.

Call detail collection device, call detail processing device, call detail processing device, call detail management device, call detail processing system, call detail collection method, call detail processing method, call detail processing method, and call detail management method

Номер патента: JP3274441B2. Автор: 慎一郎 須田,駿 豊間. Владелец: エヌ・ティ・ティ・コムウェア株式会社. Дата публикации: 2002-04-15.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, ELECTRONIC APPARATUS, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING METHOD, ELECTRONIC APPARATUS PROCESSING METHOD AND NON-TRANSITORY COMPUTER READABLE MEDIUM

Номер патента: US20180018019A1. Автор: WAGATSUMA Yoshifumi. Владелец: KONICA MINOLTA, INC.. Дата публикации: 2018-01-18.

DISTRIBUTED PROCESSING SYSTEM, LEARNING MODEL CREATING METHOD AND DATA PROCESSING METHOD

Номер патента: US20170091669A1. Автор: UEDA Haruyasu,KUROMATSU Nobuyuki. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2017-03-30.

ELECTRONIC DEVICE, CONTENT PROCESSING DEVICE, CONTENT PROCESSING SYSTEM,IMAGE DATA OUTPUT METHOD, AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20210266514A1. Автор: Nakata Masashi. Владелец: Sony Interactive Entertainment Inc.. Дата публикации: 2021-08-26.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, ELECTRONIC APPARATUS, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING METHOD, ELECTRONIC APPARATUS PROCESSING METHOD AND NON-TRANSITORY COMPUTER READABLE MEDIUM

Номер патента: US20170358323A1. Автор: WAGATSUMA Yoshifumi. Владелец: KONICA MINOLTA, INC.. Дата публикации: 2017-12-14.

Document processing system, search apparatus, information searching method, document processing method and computer readable medium

Номер патента: US20100238506A1. Автор: Tetsunori Murakami. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2010-09-23.

Electronic device, content processing device, content processing system,image data output method, and image processing method

Номер патента: US20210266514A1. Автор: Masashi Nakata. Владелец: Sony Interactive Entertainment Inc. Дата публикации: 2021-08-26.

Information processing system, population flow estimation device, program, information processing method, and population flow estimation method

Номер патента: EP3070665A4. Автор: Yutaka Yamada,Yuji Soga,Kazuhisa Shibayama,Hirofusa Watamori. Владелец: AGOOP Corp. Дата публикации: 2016-11-09.

Information interaction processing method, system and terminal

Номер патента: CA3026523C. Автор: Yi Zhang. Владелец: 10353744 Canada Ltd. Дата публикации: 2021-09-14.

Information interaction processing method, system and terminal

Номер патента: CA3026523A1. Автор: Yi Zhang. Владелец: 10353744 Canada Ltd. Дата публикации: 2017-01-05.

Information processing system, system, and method of processing workflow

Номер патента: EP3537698A1. Автор: Tomohiro Kuroyanagi,Masafumi Tokiwa. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-11.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, MOBILE TERMINAL, LINKAGE SERVER, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20130090140A1. Автор: Takei Masahiro,MORISAKI Mitsunori,Hirokawa Yohei,Okanoue Kazuhiro. Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2013-04-11.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, RECORDING/PLAYBACK APPARATUS, PLAYBACK TERMINAL, INFORMATION PROCESSING METHOD, AND PROGRAM

Номер патента: US20140050457A1. Автор: Yukimatsu Yosuke. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2014-02-20.

MOVING PICTURE CAPTURING DEVICE, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, INFORMATION PROCESSING DEVICE, AND IMAGE DATA PROCESSING METHOD

Номер патента: US20140078265A1. Автор: OHBA Akio,SEGAWA Hiroyuki. Владелец: SONY COMPUTER ENTERTAINMENT INC.. Дата публикации: 2014-03-20.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, PORTABLE INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20140129619A1. Автор: KAWAMOTO Shintaro. Владелец: FUJI XEROX CO., LTD.. Дата публикации: 2014-05-08.

IN-VEHICLE RELAY DEVICE, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, RELAY DEVICE, INFORMATION PROCESSING DEVICE, INFORMATION PROCESSING METHOD, AND NON-TRANSITORY RECORDING MEDIUM STORING PROGRAM

Номер патента: US20190069257A1. Автор: IWAKIRI Hideyuki. Владелец: TOYOTA JIDOSHA KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2019-02-28.

MOVING IMAGE CAPTURING DEVICE, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, INFORMATION PROCESSING DEVICE, AND IMAGE DATA PROCESSING METHOD

Номер патента: US20140152773A1. Автор: OHBA Akio,SEGAWA Hiroyuki,SAITO Hideyuki. Владелец: . Дата публикации: 2014-06-05.

DISPLAY PROCESSING APPARATUS, IMAGE FORMING APPARATUS, DISPLAY PROCESSING SYSTEM OF A REMOTE SCREEN, AND DISPLAY PROCESSING METHOD

Номер патента: US20140185090A1. Автор: Ohata Tsutomu. Владелец: KONICA MINOLTA, INC.. Дата публикации: 2014-07-03.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, SERVER AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20170171431A1. Автор: Towata Hiroaki. Владелец: . Дата публикации: 2017-06-15.

INFORMATION PROCESSING DEVICE, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20180176289A1. Автор: Watanabe Kazuhiro. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2018-06-21.

IMAGE CAPTURING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND POLARIZED-IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20190230281A1. Автор: OHBA Akio,SEGAWA Hiroyuki,Sugawara Akihiko,Ogasawara Hidehiko. Владелец: . Дата публикации: 2019-07-25.

INFORMATION-PROCESSING SYSTEM, INFORMATION-PROCESSING APPARATUS, MANAGEMENT APPARATUS, AND PROCESSING METHOD

Номер патента: US20170250802A1. Автор: Shimizu Takashi,MIYOSHI Takashi. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2017-08-31.

IMAGE PROCESSING SYSTEM, NON-TRANSITORY RECORDING MEDIUM, AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20200322506A1. Автор: FUKUDA Takahito,IKEGAME Tetsuya,YAMAGISHI Kazunori. Владелец: . Дата публикации: 2020-10-08.

PROCESSING APPARATUS, PROCESSING SYSTEM, NON-TRANSITORY COMPUTER READABLE MEDIUM, AND PROCESSING METHOD

Номер патента: US20170364312A1. Автор: SHIBUYA Takeshi,MORITA Koma. Владелец: FUJI XEROX CO., LTD.. Дата публикации: 2017-12-21.

Image processing system, projector, information storage medium, and image processing method

Номер патента: KR100600228B1. Автор: 마츠다히데키. Владелец: 세이코 엡슨 가부시키가이샤. Дата публикации: 2006-07-13.

VoIP terminal having a function of credit card settlement, settlement processing system using a VoIP terminal and settlement processing method using a VoIP terminal

Номер патента: KR101542474B1. Автор: 전병국. Владелец: 주식회사 다산네트웍솔루션즈. Дата публикации: 2015-08-11.

Moving picture capturing device, information processing system, information processing device, and image data processing method

Номер патента: KR101451734B1. Автор: 아키오 오바,히로유키 세가와. Владелец: 소니 컴퓨터 엔터테인먼트 인코포레이티드. Дата публикации: 2014-10-16.

Information processing system, image input/output apparatus, and data processing method

Номер патента: US8482764B2. Автор: Yasushi Shimizu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-07-09.

Image processing system, projector, information storage medium, and image processing method

Номер патента: EP1519575A1. Автор: Hideki Seiko Epson Corporation Matsuda,Kunio Seiko Epson Corporation Yoneno. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2005-03-30.

Image processing system, projector, information storage medium and image processing method

Номер патента: EP1441549A3. Автор: Hideki c/o SEIKO EPSON CORPORATION MATSUDA. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2005-07-06.

Information-processing system, information-processing apparatus, management apparatus, and processing method

Номер патента: US10560262B2. Автор: Takashi Shimizu,Takashi Miyoshi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2020-02-11.

Service processing system, virtual operation device, ATM and service processing method

Номер патента: CN107241349B. Автор: 王庆华. Владелец: Shenzhen Yihua Financial Intelligent Research Institute. Дата публикации: 2023-05-30.

Image processing system, image processing server, MFP, and image processing method

Номер патента: JP5262869B2. Автор: 敏雄 穐山. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2013-08-14.

Multi-media processing system for live stream and multi-media processing method for live stream

Номер патента: US20220232297A1. Автор: Ming-Chang Wang,Shih-Yu LIU,Shih-Ming Lan. Владелец: Avermedia Technologies Inc. Дата публикации: 2022-07-21.

Moving image photographing apparatus, information processing system, information processing apparatus, and image data processing method

Номер патента: JP5701707B2. Автор: 大場　章男,博之 勢川,章男 大場,英幸 斎藤. Владелец: Sony Interactive Entertainment Inc. Дата публикации: 2015-04-15.

Image processing system, projector, information storage medium and image processing method

Номер патента: EP1492355B1. Автор: Masanobu Kobayashi,Osamu Wada. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2008-07-30.

Image processing system, projector, information storage medium, and image processing method

Номер патента: EP1478192A3. Автор: Hideki c/o SEIKO EPSON CORPORATION MATSUDA. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2006-02-01.

Information processing system, netscape messaging server Netscape and information processing method

Номер патента: CN103139198B. Автор: 吉田和司. Владелец: Sony Computer Entertainment Inc. Дата публикации: 2016-01-13.

Image processing system, projector, information storage medium, and image processing method

Номер патента: US6899431B2. Автор: Osamu Wada. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2005-05-31.

Image processing system, projector, information storage medium, and image processing method

Номер патента: US7517089B2. Автор: Hideki Matsuda. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2009-04-14.

Image processing system, projector, information storage medium and image processing method

Номер патента: KR100660039B1. Автор: 고바야시마사노부. Владелец: 세이코 엡슨 가부시키가이샤. Дата публикации: 2006-12-20.

Image processing system, projector, information memorizing medium and image processing method

Номер патента: TW200427338A. Автор: Masanobu Kobayashi,Osamu Wada. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2004-12-01.

Image processing system, projector, information storage medium and image processing method

Номер патента: EP1473933A2. Автор: Masanobu Kobayashi,Osamu Wada. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2004-11-03.

Image processing system, projector, information storage medium and image processing method

Номер патента: DE602004032580D1. Автор: Hideki Matsuda. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2011-06-16.

Video information processing system, mobile communication terminal, and video information processing method

Номер патента: CN112911197A. Автор: 松原孝志. Владелец: Maxell Ltd. Дата публикации: 2021-06-04.

Image processing system, projector, information storage medium and image processing method

Номер патента: DE602004020287D1. Автор: Hideki Matsuda. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2009-05-14.

Moving picture capturing device, information processing system, information processing device, and image data processing method

Номер патента: TW201251459A. Автор: Akio Ohba,Hiroyuki Segawa. Владелец: Sony Computer Entertainment Inc. Дата публикации: 2012-12-16.

Video signal processing device, video processing system, semiconductor integrated circuit, and video signal processing method

Номер патента: WO2011001481A1. Автор: 西尾勇希. Владелец: パナソニック株式会社. Дата публикации: 2011-01-06.

Moving image capture device, information processing system, information processing device, and image data processing method

Номер патента: AU2012288349A1. Автор: Hideyuki Saito,Akio Ohba,Hiroyuki Segawa. Владелец: Sony Computer Entertainment Inc. Дата публикации: 2014-02-27.

Call processing system, communication server, communication terminal, and call processing method

Номер патента: JPWO2005081429A1. Автор: 正義 孫,孫　正義. Владелец: SoftBank BB Corp. Дата публикации: 2007-10-25.

Image processing system, projector, information storage medium and image processing method

Номер патента: EP1492355A2. Автор: Masanobu Kobayashi,Osamu Wada. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2004-12-29.

Information processing system, server device, access device, and information processing method

Номер патента: US20070005656A1. Автор: Koji Hirose,Koji Iwamoto,Takumi Ikeda,Hajime Maekawa,Hideaki Takechi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-01-04.

Information processing system, information processing apparatus, server apparatus, information processing method, and program

Номер патента: US20080256086A1. Автор: Takashi Tominaga,Shigeru Inoue,Hideo Nagasaka,Tadaaki Kimijima,Toshimasa Miyoshi,Mamoru Tokashiki,Soichiro Atsumi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2008-10-16.

Image processing system, projector, information storage medium, and image processing method

Номер патента: EP1583361A3. Автор: Hideki Matsuda. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2011-11-30.

In-vehicle relay device, information processing system, relay device, information processing device, information processing method, and non-transitory recording medium storing program

Номер патента: US20190069257A1. Автор: Hideyuki Iwakiri. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2019-02-28.

Network information processing system, network information processing apparatus, and information processing method

Номер патента: EP2605450A4. Автор: Itaru Nishioka. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2016-12-21.

Image processing system, imaging device, terminal device, and image processing method

Номер патента: US20240119598A1. Автор: Susumu IINO,Keiji Uemura,Masahide Koike. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2024-04-11.

Processing apparatus, processing system, non-transitory computer readable medium, and processing method for managing reservation of resources

Номер патента: US10684808B2. Автор: Takeshi Shibuya,Koma Morita. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-16.

Information processing system, information processing apparatus, server and information processing method

Номер патента: US20170171431A1. Автор: Hiroaki Towata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-06-15.

Sensing network system, nodes and data processing method thereof

Номер патента: US20160323370A1. Автор: Todd LIN. Владелец: Egis Technology Inc. Дата публикации: 2016-11-03.

Information processing system, information processing apparatus, server and information processing method

Номер патента: US10009512B2. Автор: Hiroaki Towata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-06-26.

Code processing system, key generation device, encoder, decoder, code processing method and code processing program

Номер патента: EP2690817A4. Автор: Tatsuaki Okamoto,Katsuyuki Takashima. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 2014-11-26.

Image processing device, image processing system, computer readable recording medium, and image processing method

Номер патента: US7652796B2. Автор: Katsumi Shiina. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2010-01-26.

Processing apparatus, processing system, non-transitory computer readable medium, and processing method

Номер патента: US20170364312A1. Автор: Takeshi Shibuya,Koma Morita. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-21.

Information processing device, information processing system, computer-readable storage medium, and information processing method

Номер патента: EP4116731A1. Автор: Masanori Ogawa,Hiroaki Hasegawa,Kei Kitano. Владелец: Sato Holdings Corp. Дата публикации: 2023-01-11.

MULTI-MIXER SYSTEM AND ASSOCIATED RECEIVER AND SIGNAL PROCESSING METHOD

Номер патента: US20170019068A1. Автор: Yu Chi-Yao,Chu Kun-Da. Владелец: . Дата публикации: 2017-01-19.

SMALL CELL BASE STATION SYSTEM, AND RELATED DEVICES AND DATA PROCESSING METHODS

Номер патента: US20170142598A1. Автор: Yang Bo,XIANG Wei,FANG Shaohu. Владелец: . Дата публикации: 2017-05-18.

Collecting and processing of information system and its voice playing device, processing method

Номер патента: CN108574771A. Автор: 邬宁,范书德,林嘉宁,柴凯,路庆帆. Владелец: Peak (beijing) Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-25.

For the far end device of multiband distributed system, multiband distributed system and to uplink/downlink signals processing method

Номер патента: CN109495902A. Автор: 李国华,杜小燕,沈仕乐. Владелец: Guangzhou Kaixin Communication System Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-19.

Digital radar receiver of radar system and multi-channel reception signal processing method using the same

Номер патента: KR102409414B1. Автор: 유경주,윤주현,이승제. Владелец: 한화시스템 주식회사. Дата публикации: 2022-06-15.

Mobile client plug-in system and mobile client plug-in processing method

Номер патента: CN105407130A. Автор: 孙雪飞,黄云波. Владелец: Chengdu Qudian Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-03-16.

Vehicle-mounted sound effect system and vehicle-mounted sound effect processing method

Номер патента: CN114954286A. Автор: 曾桂华,李慧欣,纪宏菲,房佳雪,海陆空. Владелец: FAW Group Corp. Дата публикации: 2022-08-30.

Phonoreception vision special effect system and phonoreception vision special effect processing method

Номер патента: CN104754395A. Автор: 胡俊峰. Владелец: Suzhou Lejuyitang Electronic Technology Co Ltd. Дата публикации: 2015-07-01.

Conditional Conditional Access System and Conditional Conditional Access Service Processing Method Using It

Номер патента: KR100194790B1. Автор: 이장원,조현숙,조진만,채종석,은성경,김신효. Владелец: 정선종. Дата публикации: 1999-06-15.

A kind of protection failure information system and its protection alarm information processing method

Номер патента: CN105337419B. Автор: 王勇,刘刚,杨东,刘海琼,赵纪元,盛海华,罗少杰,潘武略,方天宇,胡新猛. Владелец: State Grid Zhejiang Electric Power Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-29.

Substrate processing apparatus control system and substrate processing apparatus control method

Номер патента: US20240149599A1. Автор: Beomjeong OH,Jong Nam NA. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Customer-specific data cleansing processing system and customer-specific data cleansing processing method

Номер патента: SG11201401593PA. Автор: Norihiro Tsushima,Masato Tachibana. Владелец: Hitachi Systems Ltd. Дата публикации: 2014-12-30.

Substrate processing apparatus, semiconductor manufacturing equipment, and substrate processing method

Номер патента: US20230244150A1. Автор: Kuntack Lee,Jihoon Jeong,Sangjine Park,Seohyun Kim,Sukhoon KIM,Younghoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing apparatus, semiconductor manufacturing equipment, and substrate processing method

Номер патента: US20220075268A1. Автор: Kuntack Lee,Jihoon Jeong,Sangjine Park,Seohyun Kim,Sukhoon KIM,Younghoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-03-10.

Augmented reality processing system, information display device, and augmented reality processing method

Номер патента: US20240005619A1. Автор: Yasunobu Hashimoto,Kazuhiko Yoshizawa. Владелец: Maxell Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Interferometry system and methods for substrate processing

Номер патента: WO2020009732A1. Автор: Benjamin M. Johnston,Jae Myung YOO,Cheuk Ming LEE,Thang Duc NGUYEN,David Michael CORRIVEAU,Glen Alan GOMES. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-01-09.

Display signal processing system, display signal generation device, display device, processing method, display signal generation method, and display method

Номер патента: US20170330499A1. Автор: Ryosuke Nakagoshi. Владелец: JVCKenwood Corp. Дата публикации: 2017-11-16.

Road traffic information processing system, statistical processing device, road traffic information processing method and navigation device control module

Номер патента: RU2436167C1. Автор: Кендзи НАГАСЕ. Владелец: Аисин Ав Ко., Лтд.. Дата публикации: 2011-12-10.

Information processing system, information processing device, program, and information processing method

Номер патента: EP3832285A1. Автор: Hiroyuki Takahashi,Takayoshi Yamamoto,Shigeyuki Okada,Takahiro KARAKAMA. Владелец: Extranet Systems Inc. Дата публикации: 2021-06-09.

Information processing system, management apparatus, processing requesting apparatus, information processing method, and computer readable medium storing program

Номер патента: US20110314157A1. Автор: Shinichi Saito. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2011-12-22.

Image processing system, X-ray diagnostic apparatus, and image processing method

Номер патента: US09865082B2. Автор: Shinichi Hashimoto,Takuya Sakaguchi,Hiroyuki Ohuchi,Ko FUCHIGAMI. Владелец: Toshiba Medical Systems Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Information processing system, non-transitory storage medium, and information processing method

Номер патента: US20240208439A1. Автор: Mitsuo Sawada,Taichi MATSUMURA,Katsuma ISHIZAKI. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Information processing system, terminal apparatus, information processing apparatus, information processing method

Номер патента: US20160217721A1. Автор: Kenta Nakatsu. Владелец: Kyocera Document Solutions Inc. Дата публикации: 2016-07-28.

Image processing system, X-ray diagnostic apparatus, and image processing method

Номер патента: US09747689B2. Автор: Shinichi Hashimoto,Takuya Sakaguchi,Hiroyuki Ohuchi,Ko FUCHIGAMI. Владелец: Toshiba Medical Systems Corp. Дата публикации: 2017-08-29.

Data processing system with error processing and the error processing method

Номер патента: CA1165006A. Автор: Masami Ishii,Shinichi Kubo,Shozo Taniguchi,Osamu Shinke. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1984-04-03.

Distributed processing system for graph query language and distributed processing method for query language thereof

Номер патента: US20180067997A1. Автор: Kyungho Kim,Kisung Kim,Choelsun KANG,Kwanmo KIM. Владелец: BITNINE Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-08.

Information processing system, information processing apparatus, program, and information processing method

Номер патента: US11821783B2. Автор: Hiroyuki Takahashi,Takayoshi Yamamoto,Shigeyuki Okada,Takahiro KARAKAMA. Владелец: Extranet Systems Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Information processing system, information processing apparatus, program, and information processing method

Номер патента: US20240009561A1. Автор: Takuya Kozaki. Владелец: Akatsuki Inc. Дата публикации: 2024-01-11.

Information processing system, information processing device, learning device, information processing method, learning method, and program

Номер патента: US20220301662A1. Автор: Hiroaki Shimizu,Makoto Sato,Hitoshi Yamano,Ryohei EGUCHI. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-22.

Information processing system, information processing device, display terminal, information processing method, and communication method

Номер патента: US20230177597A1. Автор: Hiroshi Kato,Kazuhiko Yamauchi,Masashi Fumoto,Takenori Matsumoto,Tatsuyuki Negishi,Akinori Ozeki,Kiyotaka Tanimoto,Chinatsu YONEYAMA,Matthew KAMIYA. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Information processing system, hand held cellular phone, and information processing method

Номер патента: USRE45767E1. Автор: Takaharu Kitada. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2015-10-20.

Biometric information processing system, biometric information processing device, biometric information processing method, and recording medium

Номер патента: US20240038354A1. Автор: Hironori Sato,Yoko Kanemitsu. Владелец: OMRON HEALTHCARE CO LTD. Дата публикации: 2024-02-01.

Cloud service system and cloud service-based data processing method

Номер патента: EP4303745A1. Автор: Chuan Ye. Владелец: Huawei Cloud Computing Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-10.

Substrate processing system and method of installing plc software

Номер патента: US20160335065A1. Автор: Taku Omori. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2016-11-17.

Substrate processing system and method of installing PLC software

Номер патента: US09747092B2. Автор: Taku Omori. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2017-08-29.

Substrate processing system, storage medium and method of registering new device

Номер патента: US09778941B2. Автор: Taku Omori. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2017-10-03.

Substrate processing device and control method for substrate processing device

Номер патента: US20230201860A1. Автор: Jae Hong Kim,Young-Joo Seo,Sang Hyun Son,Sang Min HA,Hyeong Jun CHO. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Can roll, long-substrate processing device, and method for managing long-substrate processing device

Номер патента: EP3699318B1. Автор: Hideharu Okami. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2024-09-04.

SUBSTRATE CLEANING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE CLEANING METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20180071883A1. Автор: Yoshida Ryuichi,NISHIYAMA Koji,MOMMA Toru,MURACHI Hiromi,SAGAE Chikara. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-15.

SUBSTRATE CLEANING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE CLEANING METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20200230778A1. Автор: Yoshida Ryuichi,NISHIYAMA Koji,MOMMA Toru,MURACHI Hiromi,SAGAE Chikara. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-23.

Substrate inspection device, substrate processing apparatus, substrate inspection method and substrate processing method

Номер патента: TW201923306A. Автор: 松尾友宏,中川幸治. Владелец: 日商斯庫林集團股份有限公司. Дата публикации: 2019-06-16.

Substrate inspection device, substrate processing device, substrate inspection method, and substrate processing method

Номер патента: WO2020044784A1. Автор: 幸治 中川,友宏 松尾. Владелец: 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス. Дата публикации: 2020-03-05.

Substrate inspection device, substrate processing apparatus, substrate inspection method and substrate processing method

Номер патента: TW202009478A. Автор: 松尾友宏,中川幸治. Владелец: 日商斯庫林集團股份有限公司. Дата публикации: 2020-03-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240139909A1. Автор: Matsutaro Miyamoto. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Cleaning assemblies for substrate processing chambers

Номер патента: WO2022203869A1. Автор: Saket Rathi,Tuan Anh Nguyen,Amit Kumar BANSAL,Nitin Pathak,Yuxing Zhang,Badri N. RAMAMURTHI,Thomas Rubio,Dharma Ratnam SRICHURNAM,Udit S. KOTAGI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-09-29.

Cleaning assemblies for substrate processing chambers

Номер патента: US12012653B2. Автор: Saket Rathi,Tuan Anh Nguyen,Amit Kumar BANSAL,Nitin Pathak,Yuxing Zhang,Badri N. RAMAMURTHI,Thomas Rubio,Dharma Ratnam SRICHURNAM,Udit S. KOTAGI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Exposure equipment, substrate processing equipment, substrate exposure method and substrate processing method

Номер патента: JP6811119B2. Автор: 裕二 田中,田中　裕二,靖博 福本,友宏 松尾,孝文 大木,正也 浅井,将彦 春本,知佐世 中山. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-13.

SUBSTRATE SUPPORT PLATE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20210180188A1. Автор: KIM Jaehyun,Lee SeungHwan,Kim DaeYoun. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-17.

Substrate Processing System Managing Apparatus Information of Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20070294058A1. Автор: Tetsuya Hamada,Kenji Kamei,Toru Kitamoto,Hidekazu Inoue. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2007-12-20.

Substrate processing system managing apparatus information of substrate processing apparatus

Номер патента: KR100602509B1. Автор: 히데카즈 이노우에,테츠야 하마다,토루 키타모토,켄지 카메이. Владелец: 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤. Дата публикации: 2006-07-19.

Substrate Processing System Managing Apparatus Information of Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20070293974A1. Автор: Tetsuya Hamada,Kenji Kamei,Toru Kitamoto,Hidekazu Inoue. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2007-12-20.

Position detection apparatus, substrate processing apparatus, position detection method and substrate processing method

Номер патента: US20160091892A1. Автор: Hiroshi Sano,Yuji Okita,Hiroaki Kakuma. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-03-31.

Substrate processing apparatus, device manufacturing method, and substrate processing method

Номер патента: JPWO2015152218A1. Автор: 正和 堀,堀　　正和,加藤　正紀,正紀 加藤,義昭 鬼頭,智也 鈴木,圭 奈良,鈴木　智也,智行 渡辺. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-04-13.

Position detection apparatus, substrate processing apparatus, position detection method and substrate processing method

Номер патента: US9975247B2. Автор: Hiroshi Sano,Yuji Okita,Hiroaki Kakuma. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

METHOD OF CONTROLLING SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, MAINTENANCE METHOD OF SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND TRANSFER METHOD PERFORMED IN SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20140046470A1. Автор: NOMURA Makoto. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC.. Дата публикации: 2014-02-13.

NOZZLE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20210060622A1. Автор: Kwon Oh Jin,Kim Sunmi,CHOI Sehyeong. Владелец: SEMES CO., LTD.. Дата публикации: 2021-03-04.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING EQUIPMENT, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20220075268A1. Автор: Lee Kuntack,KIM Younghoo,Kim Seohyun,Park Sangjine,Jeong Jihoon,Kim Sukhoon. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-10.

FLEXIBLE TEMPERATURE COMPENSATION SYSTEMS AND METHODS FOR SUBSTRATE PROCESSING SYSTEMS

Номер патента: US20160370788A1. Автор: Bailey,III Andrew D.,Carbery Marcus. Владелец: . Дата публикации: 2016-12-22.

Data processing method and system, device, storage system, and medium

Номер патента: US20240354023A1. Автор: Peng Xu,Yu Du,Zhongjie Wu. Владелец: Hangzhou Alicloud Feitian Information Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, METHOD OF MONITORING ABNORMALITY OF SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND RECORDING MEDIUM

Номер патента: US20200201305A1. Автор: Asai Kazuhide,Iwakura Hiroyuki,Yashiki Kayoko,FUKUDA Mitsuru,HAYASHIHARA Hidemoto,YAMAMOTO Kazuyoshi,KAWAGISHI Takayuki. Владелец: KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION. Дата публикации: 2020-06-25.

ROTATION DETECTION JIG, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF OPERATING THE SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20180251892A1. Автор: KATO Hitoshi,Kobayashi Takeshi,Ohizumi Yukio. Владелец: . Дата публикации: 2018-09-06.

Can roll, long-substrate processing device, and method for managing long-substrate processing device

Номер патента: EP3699318A4. Автор: Hideharu Okami. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2021-06-23.

Substrate processing apparatus, trap device, method for controlling substrate processing apparatus, and method for controlling trap device

Номер патента: WO2010103953A1. Автор: 弘司 福森. Владелец: 東京エレクトロン株式会社. Дата публикации: 2010-09-16.

Cylinder roller, long substrate processing apparatus, and method for managing long substrate processing apparatus

Номер патента: CN111247267A. Автор: 大上秀晴. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2020-06-05.

Payment system and method, server apparatus, payment processing method, and computer program product

Номер патента: US7702582B2. Автор: Tooru Tanabe,Ichiro Hatano. Владелец: Pioneer Corp. Дата публикации: 2010-04-20.

Three-dimensional scan data processing system and three-dimensional scan data processing method

Номер патента: EP4216230A4. Автор: Myoung Woo Song,Dong Hwa Kang. Владелец: Medit Corp. Дата публикации: 2024-10-23.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS HAVING EXHAUST GAS DECOMPOSER, AND EXHAUST GAS PROCESSING METHOD THEREFOR

Номер патента: US20180305815A1. Автор: HWANG Chul-Joo,SEO Dong Won,KIM Heon Do. Владелец: . Дата публикации: 2018-10-25.

Information processing system, delivery management method, wearable device, information processing method, and non-transitory computer readable recording medium storing information processing program

Номер патента: US20240338642A1. Автор: Mikiko Matsuo,Kenta Murakami. Владелец: Panasonic Intellectual Property Corp of America. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate Processing Fluid Delivery System and Method

Номер патента: US20130152857A1. Автор: Tony P. Chiang,Jason Wright. Владелец: Intermolecular Inc. Дата публикации: 2013-06-20.

INTERFEROMETRY SYSTEM AND METHODS FOR SUBSTRATE PROCESSING

Номер патента: US20200011652A1. Автор: Johnston Benjamin M.,LEE Cheuk Ming,YOO Jae Myung,GOMES Glen Alan,CORRIVEAU David Michael,NGUYEN Thang Duc. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-09.

IN-SITU FILM GROWTH RATE MONITORING APPARATUS, SYSTEMS, AND METHODS FOR SUBSTRATE PROCESSING

Номер патента: US20220349088A1. Автор: MYO NYI OO,Cong Zhepeng,Zheng Yong,SHENG Tao. Владелец: . Дата публикации: 2022-11-03.

Recording substrate processing apparatus, printing system and drying method

Номер патента: JP6636023B2. Автор: ヘー．エム． レマッケルス，ヘンドリカス,ベーク，アルベルト エム． ファン,ベーク，アルベルト エム． ファン. Владелец: オセ−テクノロジーズ ビーブイキャノン プロダクション プリンティング ネザーランド ビーブイ. Дата публикации: 2020-01-29.

Method for evaluating lithography system, method for adjusting substrate-processing apparatus, lithography system, and exposure apparatus

Номер патента: SG108821A1. Автор: IMAI Yuji. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2005-02-28.

Three-dimensional scan data processing system and threedimensional scan data processing method

Номер патента: US20230338122A1. Автор: Dong Hwa Kang,Myoung Song. Владелец: Medit Corp. Дата публикации: 2023-10-26.

Heavy oil hydrotreating system and heavy oil hydrotreating method

Номер патента: CA3005154C. Автор: Hongguang Li,Tiebin LIU,Xinguo GENG,Yanbo WENG. Владелец: Sinopec Fushun Research Institute of Petroleum and Petrochemicals. Дата публикации: 2020-09-01.

Information processing system, information processing device, program, and information processing method

Номер патента: EP3832285A4. Автор: Hiroyuki Takahashi,Takayoshi Yamamoto,Shigeyuki Okada,Takahiro KARAKAMA. Владелец: Extranet Systems Inc. Дата публикации: 2022-11-09.

Information processing system, recording medium, and information processing method

Номер патента: US20200388142A1. Автор: Yoshiki Takeoka,Manabu Kii,Yasuhide Hosoda. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2020-12-10.

Information processing system, recording medium, and information processing method

Номер патента: US10796556B2. Автор: Yoshiki Takeoka,Manabu Kii,Yasuhide Hosoda. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2020-10-06.

Calibration system, information processing system, robot control system, calibration method, information processing method, robot control method, calibration program, information processing program, calibration device, information processing device, and robot control device

Номер патента: EP4129584A4. Автор: Yoshihiro Nakano. Владелец: MinebeaMitsumi Inc. Дата публикации: 2024-04-24.

Fine concrete aggregate processing system and fine concrete aggregate system processing method

Номер патента: CN110639675A. Автор: 徐亮,向阳,王晗,包俊,颜锦凯,崔恩豪,刘岭楠. Владелец: PowerChina Huadong Engineering Corp Ltd. Дата публикации: 2020-01-03.

Fine concrete aggregate processing system and fine concrete aggregate system processing method

Номер патента: CN110639675B. Автор: 徐亮,向阳,王晗,包俊,颜锦凯,崔恩豪,刘岭楠. Владелец: PowerChina Huadong Engineering Corp Ltd. Дата публикации: 2022-06-10.

Information processing system, information processing device, information processing method, and storage medium

Номер патента: US20180150470A1. Автор: Masamichi Asukai. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2018-05-31.

Information processing system, information processing device, information processing method, and storage medium for calculating degree of happiness in an area

Номер патента: US11138282B2. Автор: Masamichi Asukai. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2021-10-05.

Information processing apparatus, information processing system, computer program and information processing method

Номер патента: US20100287362A1. Автор: Kazuki Matsui. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2010-11-11.

Water quality meter data processing device, water quality meter data processing system and water quality meter data processing method

Номер патента: US20230366848A1. Автор: Manabu Shibata,Hideki Nakayama,Daisuke Irikura,Yasuto Kaba,Yuichi Ichinari. Владелец: Horiba Advanced Techno Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

DISPLAY SIGNAL PROCESSING SYSTEM, DISPLAY SIGNAL GENERATION DEVICE, DISPLAY DEVICE, PROCESSING METHOD, DISPLAY SIGNAL GENERATION METHOD, AND DISPLAY METHOD

Номер патента: US20170330499A1. Автор: NAKAGOSHI Ryosuke. Владелец: . Дата публикации: 2017-11-16.

Account is real time processing system and account batch real-time processing method in batches

Номер патента: CN101604437A. Автор: 赵旭. Владелец: Alibaba Group Holding Ltd. Дата публикации: 2009-12-16.

Network-on-chip processing system and network-on-chip data processing method

Номер патента: CN111078623B. Автор: 不公告发明人. Владелец: Shanghai Cambricon Information Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-29.

Finger/palm print image processing system and finger/palm print image processing method

Номер патента: EP1724725B1. Автор: Akira c/o NEC Corporation MONDEN. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2015-09-23.

Three-dimensional scanning data processing system and three-dimensional scanning data processing method

Номер патента: CN116235253A. Автор: 姜东和,宋命愚. Владелец: Medit Corp. Дата публикации: 2023-06-06.

Network-on-chip processing system and network-on-chip data processing method

Номер патента: CN111078624A. Автор: 不公告发明人. Владелец: Shanghai Cambricon Information Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-28.

Plastic foam packaging material processing system and plastic foam packaging material processing method

Номер патента: CN110919735A. Автор: 王清伟,陈昌艮. Владелец: 陈昌艮. Дата публикации: 2020-03-27.

Plastic foam packaging material processing system and plastic foam packaging material processing method

Номер патента: CN110919735B. Автор: 王清伟,陈昌艮. Владелец: Foshan Xinmingyi Packaging Material Co ltd. Дата публикации: 2021-05-11.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, INFORMATION PROCESSING DEVICE, LEARNING DEVICE, INFORMATION PROCESSING METHOD, LEARNING METHOD, AND PROGRAM

Номер патента: US20220301662A1. Автор: Shimizu Hiroaki,SATO Makoto,Yamano Hitoshi,EGUCHI Ryohei. Владелец: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.. Дата публикации: 2022-09-22.

Medical image processing apparatus, medical image processing system, learned model, learning apparatus, medical image processing method, and program

Номер патента: GB2614130A. Автор: Iwase Yoshihiko,Tomita Ritsuya,Mizobe Hideaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-06-28.

Target lens shape measuring apparatus, eyeglass lens processing system having the same, and eyeglass lens processing method

Номер патента: US20050251280A1. Автор: Ryoji Shibata. Владелец: Nidek Co Ltd. Дата публикации: 2005-11-10.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, SYSTEM, AND METHOD OF PROCESSING WORKFLOW

Номер патента: US20190278630A1. Автор: KUROYANAGI Tomohiro,TOKIWA Masafumi. Владелец: . Дата публикации: 2019-09-12.

Print image processing system, system and the control method of the print data received

Номер патента: CN104253924B. Автор: 中岛启. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-08-15.

Information interaction processing method, system and terminal

Номер патента: CA3024734C. Автор: Yi Zhang. Владелец: 10353744 Canada Ltd. Дата публикации: 2023-03-14.

INFORMATION PROCESSING DEVICE FOR HANDLING PRIVACY INFORMATION, INFORMATION PROCESSING SYSTEM FOR HANDLING PRIVACY INFORMATION, AND INFORMATION PROCESSING METHOD AND PROGRAM FOR HANDLING PRIVACY INFORMATION

Номер патента: US20150012965A1. Автор: Furukawa Ryo. Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2015-01-08.

IMAGE PROCESSING SYSTEM, IMAGE PROCESSING APPARATUS, TERMINAL APPARATUS, IMAGE PROCESSING METHOD, AND NON-TRANSITORY COMPUTER READABLE MEDIUM

Номер патента: US20160011835A1. Автор: Igarashi Osamu. Владелец: FUJI XEROX CO., LTD.. Дата публикации: 2016-01-14.

Distributed processing system for graph query language and distributed processing method for query language thereof

Номер патента: US20180067997A1. Автор: Kyungho Kim,Kisung Kim,Choelsun KANG,Kwanmo KIM. Владелец: BITNINE Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-08.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, PROGRAM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20210164829A1. Автор: Takahashi Hiroyuki,YAMAMOTO Takayoshi,OKADA Shigeyuki,KARAKAMA Takahiro. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-03.

IMAGE PROCESSING SYSTEM, X-RAY DIAGNOSTIC APPARATUS, AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20150193932A1. Автор: HASHIMOTO Shinichi,Sakaguchi Takuya,OHUCHI Hiroyuki,FUCHIGAMI Ko. Владелец: . Дата публикации: 2015-07-09.

IMAGE PROCESSING SYSTEM, X-RAY DIAGNOSTIC APPARATUS, AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20150193962A1. Автор: HASHIMOTO Shinichi,Sakaguchi Takuya,OHUCHI Hiroyuki,FUCHIGAMI Ko. Владелец: . Дата публикации: 2015-07-09.

IMAGE PROCESSING SYSTEM, COMPUTER READABLE RECORDING MEDIUM, AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20190187064A1. Автор: KATO Yutaka. Владелец: Omron Corporation. Дата публикации: 2019-06-20.

IMAGE PROCESSING SYSTEM, COMPUTER READABLE RECORDING MEDIUM, AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20190188841A1. Автор: KATO Yutaka. Владелец: Omron Corporation. Дата публикации: 2019-06-20.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, TERMINAL APPARATUS, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20160217721A1. Автор: Nakatsu Kenta. Владелец: . Дата публикации: 2016-07-28.

DATA PROCESSING SYSTEM, CENTRAL ARITHMETIC PROCESSING APPARATUS, AND DATA PROCESSING METHOD

Номер патента: US20210334223A1. Автор: Suzuki Takahiro,KANI Jun-ichi,KIM Sang-Yuep. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corporation. Дата публикации: 2021-10-28.

Information processing apparatus, information processing system, computer-readable recording medium, and information processing method

Номер патента: US20170270417A1. Автор: Yasuhiro Watanabe. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2017-09-21.

Image processing system, image formation output control apparatus, information processing method, information processing program

Номер патента: JP6424678B2. Автор: 博光 宮川. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-21.

The biological reinforced artificial swamp waste water reclaiming integrated processing systems of SBBR+HVC and its integrated processing method

Номер патента: CN108516654A. Автор: 张华�,张帆,陈晓东,孙莹,许翼,李子音. Владелец: Shenyang Academy Environmental Sciences. Дата публикации: 2018-09-11.

Biological information processing system, terminal, biological information processor, biological information processing method, and program

Номер патента: KR20020092420A. Автор: 오시마기요코,우치다신지. Владелец: 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤. Дата публикации: 2002-12-11.

Document processing system, terminal device, document providing device, document processing method, recording medium

Номер патента: JP4320491B2. Автор: 和幸 丸川. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2009-08-26.

Information processing system, hand-held celluar telephone and information processing method

Номер патента: CN1129860C. Автор: 北田隆治. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2003-12-03.

Data processing system, server device, terminal device, and data processing method

Номер патента: CN110633103A. Автор: 神田祐和. Владелец: Casio Computer Co Ltd. Дата публикации: 2019-12-31.

Big data processing system for access speed improvement and data processing method

Номер патента: KR101583537B1. Автор: 정용훈. Владелец: 주식회사 피닉스욘드. Дата публикации: 2016-01-12.

Information processing system, server device, server program, and information processing method

Номер патента: JP6386711B2. Автор: 典子 北村,輝之 廣澤. Владелец: Nintendo Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-05.

Biological information processing system, terminal biological information processor biological information processing method and program

Номер патента: CN1457245A. Автор: 内田真司,大嵨希代子. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2003-11-19.

Distributed processing system based on resource locality and distributed processing method thereof

Номер патента: KR101411563B1. Автор: 김진형,정한민,김장원,송사광,정도헌,황명권. Владелец: 한국과학기술정보연구원. Дата публикации: 2014-06-25.

Biological information processing system, terminal, biolobical information processor, biolobical information processing method, and program

Номер патента: WO2002062222A1. Автор: Shinji Uchida,Kiyoko Ooshima. Владелец: MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD.. Дата публикации: 2002-08-15.

Image process system by applying selective filtering and image process method therefor

Номер патента: KR102206490B1. Автор: 김영근,이완희,김용준,황정현,성민제. Владелец: 주식회사 아이닉스. Дата публикации: 2021-01-22.

Processing system for reducing runoff pollution loads and processing method thereof

Номер патента: KR101158052B1. Автор: 김원재,정진홍,오현제,한형진. Владелец: 한국건설기술연구원. Дата публикации: 2012-06-22.

Waste gas processing system of ammonia engine and waste gas processing method of ammonia engine

Номер патента: JP2023026798A. Автор: 一誠 辻,Takamitsu Fukui,Tomoo Ikoma,知央 生駒,Kazumasa Tsuji,孝充 福井. Владелец: Nikki Universal Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-01.

Information processing apparatus, information processing system, computer-readable recording medium, and information processing method

Номер патента: US20170270417A1. Автор: Yasuhiro Watanabe. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2017-09-21.

Medical image processing apparatus, medical image processing system, learned model, learning apparatus, medical image processing method, and program

Номер патента: GB2614130B. Автор: Iwase Yoshihiko,Tomita Ritsuya,Mizobe Hideaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-09-27.

Information processing apparatus, information processing system, computer readable recording medium and information processing method

Номер патента: US11970080B2. Автор: Yasuhiro Iwaki,Syouji INOSE,Kazuhiro Kodaira. Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Data processing system, central arithmetic processing apparatus, and data processing method

Номер патента: US20210334223A1. Автор: Takahiro Suzuki,Jun-ichi Kani,Sang-Yuep KIM. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 2021-10-28.

Information processing device, information processing system, non-transitory recording medium, and information processing method

Номер патента: US20220156110A1. Автор: Yoshihisa Matsukawa. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-19.

Vending processing method, system and device and cash registering processing method and device

Номер патента: CN111383405A. Автор: 胡斐. Владелец: Alibaba Group Holding Ltd. Дата публикации: 2020-07-07.

System and method for automated fluid processing, method for determining object matching

Номер патента: ES2630213T3. Автор: Daniel Burkard. Владелец: F Hoffmann La Roche AG. Дата публикации: 2017-08-18.

Both Eyes 3D Camera of YUV Colour System and 3D Image Display and Processing Method Using The Same

Номер патента: KR100755020B1. Автор: 양필수,장상만,페트로브 드미트리. Владелец: 주식회사 후후. Дата публикации: 2007-09-06.

Question answering system and its question and answer processing method

Номер патента: CN103902672B. Автор: 司德谭. Владелец: Weimeng Chuangke Network Technology China Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Medical open platform system and diagnosis and treatment data processing method

Номер патента: CN111276254A. Автор: 不公告发明人. Владелец: Yinji Information Technology Beijing Co ltd. Дата публикации: 2020-06-12.

Multimedia content service system and it's advertisement information processing method

Номер патента: KR100962691B1. Автор: 강민수. Владелец: 강민수. Дата публикации: 2010-06-14.

Electric catalyticing system and the doctorization wastewater effluent processing method for applying to the system

Номер патента: CN110255785A. Автор: 林金华,傅唤春. Владелец: Hangzhou Better Than Blue Environmental Protection Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-20.

Hemodialysis system and haemodialysis control unit alarm processing method

Номер патента: CN107451418A. Автор: 刘秀丽,吴振华,林宁,程捷,叶毓焘,林家荣,梁倩玲,韩冰雯. Владелец: First Peoples Hospital of Foshan. Дата публикации: 2017-12-08.

Methods, systems, and apparatus for conducting a calibration operation for a plurality of mass flow controllers (mfcs) of a substrate processing system

Номер патента: WO2022220900A1. Автор: Zhiyuan Ye,Ala Moradian,Errol Antonio C. Sanchez,Patricia M. Liu,Zuoming Zhu,Bindusagar MARATH SANKARATHODI,Jyothi RAJEEVAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-10-20.

Methods, systems, and apparatus for conducting a calibration operation for a plurality of mass flow controllers (mfcs) of a substrate processing system

Номер патента: US20230366715A1. Автор: Zhiyuan Ye,Ala Moradian,Errol Antonio C. Sanchez,Patricia M. Liu,Zuoming Zhu,Bindusagar MARATH SANKARATHODI,Jyothi RAJEEVAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-16.

Gas recycling systems, substrate processing systems, and related apparatus and methods for semiconductor manufacturing

Номер патента: US20240175126A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Mukhles SOWWAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-30.

Gas recycling systems, substrate processing systems, and related apparatus and methods for semiconductor manufacturing

Номер патента: WO2024118117A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Mukhles SOWWAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-06-06.

Substrate processing method and substrate processing system using the same

Номер патента: US20240239099A1. Автор: Sujin Kim,Junho Kim,Hyunmin Lee,Solmin PARK. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Movable central reflectors of semiconductor processing equipment, and related systems and methods

Номер патента: US20240360587A1. Автор: Ala Moradian,Lori D. Washington,Saurabh Chopra,Vishwas Kumar Pandey. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: EP4393607A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-03.

Substrate processing method

Номер патента: US20180134607A1. Автор: Yasushi Ito,Kenichi Ichikawa,Kaori TATEISHI. Владелец: Via Mechanics Ltd. Дата публикации: 2018-05-17.

Automated sample deposition and staining systems and associated methods

Номер патента: US20240230689A9. Автор: Rebecca BARTEL,John Hart,Anthony White,Hariharan Subramanian,Chester Henderson,Sergey Rozhok,Nathan Ray,Micah LITOW,Justin R. DERBAS,Michael Verleye. Владелец: Nanocytomics LLC. Дата публикации: 2024-07-11.

Method for performing preventative maintenance in a substrate processing system

Номер патента: WO2011112968A1. Автор: Robert D. Clark,Cory Wajda,Steven P. CONSIGLIO. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2011-09-15.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and computer-readable storage medium storing substrate processing program

Номер патента: US09675992B2. Автор: Satoshi Kaneko,Yoshihiro Kawaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-13.

Information processing device, substrate processing device, and information processing method

Номер патента: US20240302817A1. Автор: Takamasa Nakamura,Hirofumi OTAKI,Sho ICHINOSE. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-09-12.

Devices and methods for starting strip material in a substrate processing machine

Номер патента: US09764512B2. Автор: Orion A. CAVINS,Cynthia A. STEWART-IRVIN,Martin E. Koeltzow. Владелец: HB Fuller Co. Дата публикации: 2017-09-19.

Devices and methods for starting strip material in a substrate processing machine

Номер патента: US09669588B2. Автор: Orion A. CAVINS,Martin E. Koeltzow. Владелец: HB Fuller Co. Дата публикации: 2017-06-06.

System and methods for processing a substrate

Номер патента: WO2013091694A1. Автор: NEIL Morrison,Tobias Stolley,Volker Hacker,Uwe Hermanns. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-06-27.

System and methods for processing a substrate

Номер патента: US09926627B2. Автор: NEIL Morrison,Tobias Stolley,Volker Hacker,Uwe Hermanns. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-27.

Guardbands in substrate processing systems

Номер патента: US20230376020A1. Автор: Fei Li,James Robert Moyne,Jimmy Iskandar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Guardbands in substrate processing systems

Номер патента: US20230376374A1. Автор: Fei Li,James Robert Moyne,Jimmy Iskandar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230085449A1. Автор: Takafumi Niwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing system, substrate processing apparatus and method for accumulating data for substrate processing apparatus

Номер патента: US09720407B2. Автор: Yoshitaka Koyama,Hiroyuki Iwakura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-08-01.

Cooling flow in substrate processing according to predicted cooling parameters

Номер патента: WO2024147966A1. Автор: Umesh Kelkar,Ala Moradian,Karthik Ramanathan,Orlando Trejo,Elizabeth Kathryn Neville. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-07-11.

Cooling flow in substrate processing according to predicted cooling parameters

Номер патента: US20240230189A1. Автор: Umesh Kelkar,Ala Moradian,Karthik Ramanathan,Orlando Trejo,Elizabeth Kathryn Neville. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240309506A1. Автор: Sung Hwan Lee,Kun Woo Park,Woo Young Park,Jae Jin Han. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Surface treatment method and substrate treatment device

Номер патента: US20240191344A1. Автор: Yumiko Kawano,Hiroki Murakami,Shuji Azumo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Qfn substrate processing method

Номер патента: MY147723A. Автор: Kazuma Sekiya. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2013-01-15.

Methods of detecting non-conforming substrate processing events during chemical mechanical polishing

Номер патента: US12036635B2. Автор: Jamie Stuart Leighton,Jeonghoon Oh,Ashish BHUSHAN,John Anthony GARCIA,Stephen Thomas CORMIER,Nick Joseph JACKSON,Manoj BALAKUMAR,Nandkishore PATIDAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US09606454B2. Автор: Takashi Taguchi,Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240329547A1. Автор: Shinichi Machidori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Apparatus, systems, and methods of using a transfer chamber

Номер патента: WO2024091395A1. Автор: Robert Huber,Thomas Ackermann. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-02.

Systems and methods for bulk vaporization of precursor

Номер патента: US09964332B2. Автор: Gary Lind. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Schedule creation program generating method, schedule creation program generating apparatus, schedule creating apparatus, recording medium, substrate processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US20240329624A1. Автор: Jun Kawai,Takashi Kasahara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus, data processing method, and data processing program

Номер патента: US20240272592A1. Автор: Yuki Kataoka,Takuro TSUTSUI,Yukiya SAITOU,Yuanchieh LING. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09587314B2. Автор: Taketoshi Sato,Hiroaki Hiramatsu,Yukitomo Hirochi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-03-07.

Data processing system and method

Номер патента: RU2701710C1. Автор: Ричард Чарльз КОЛЛИНЗ,Диана КОКС,Ллойд ХАЗБАНДЗ,Дэвид ДЖЭКСОН,Питер Филип Лондсдэйл НЭНСОН,Джордж А. АЛЛЕН. Владелец: Сименс Продакт Лайфсайкл Менеджмент Софтвэар Инк.. Дата публикации: 2019-09-30.

Substrate processing apparatus, simulation apparatus, storage medium and simulation method

Номер патента: US09558304B2. Автор: Satoko Yamamoto,Kimitoshi MIURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Method for recycling substrate process components

Номер патента: WO2018182886A1. Автор: Brian T. West. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-10-04.

Method for recycling substrate process components

Номер патента: US20180281027A1. Автор: Brian T. West. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-10-04.

Lightpipe for high temperature substrate processing

Номер патента: US20240142310A1. Автор: Ji-Dih Hu. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Lightpipe for high temperature substrate processing

Номер патента: WO2024091827A3. Автор: Ji-Dih Hu. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2024-07-04.

Lightpipe for high temperature substrate processing

Номер патента: WO2024091827A2. Автор: Ji-Dih Hu. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2024-05-02.

SUBSTRATE STAGE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120000612A1. Автор: Muraki Yusuke,ODAGIRI Masaya,FUJIHARA Jin. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE TRANSFER METHOD ADOPTED IN SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120004753A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120001937A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

Substrate processing apparatus, substrate transport method, and substrate processing method

Номер патента: JP4076009B2. Автор: 孝志 野上,智志 谷山. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2008-04-16.

Substrate processing apparatus, display method for substrate processing apparatus, and data analysis method for substrate processing apparatus

Номер патента: JP4577889B2. Автор: 亨 米林. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2010-11-10.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND PIPE CLEANING METHOD OF SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: JP7302997B2. Автор: 伊雄 岡本,洋正 矢部,隆英 須田. Владелец: Chemours Mitsui Fluoroproducts Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-04.

Real-time batch account process system and real-time batch account process method

Номер патента: TW201131500A. Автор: XU Zhao. Владелец: Alibaba Group Holding Ltd. Дата публикации: 2011-09-16.

SUBSTRATE CLEANING/DRYING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS COMPRISING THE SAME, AND SUBSTRATE CLEANING/DRYING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY PANEL

Номер патента: US20120031438A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-02-09.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE TRANSFER METHOD AND SUBSTRATE TRANSFER DEVICE

Номер патента: US20120308356A1. Автор: Suzuki Kenichi,Sotozaki Hiroshi,YOKOYAMA Toshio,KUNISAWA Junji,MIYAZAKI Mitsuru. Владелец: . Дата публикации: 2012-12-06.

Tracing 3D display system and method made with image processing method

Номер патента: TW413793B. Автор: Jiun-Jie Huang,Wei-Fen Ni,Kuen Li. Владелец: Ind Tech Res Inst. Дата публикации: 2000-12-01.

Information processing system, portable information terminal device and information processing method, program information providing device and program information providing method, program recording medium, and program

Номер патента: JP4930812B2. Автор: 昌毅 高瀬,浩二 国井,博幸 清水. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2012-05-16.

Information processing system, information processing deice, simulation deice, information processing method, simulation method, and program

Номер патента: JP2015075942A. Автор: 太志 西村,Futoshi Nishimura. Владелец: NS Solutions Corp. Дата публикации: 2015-04-20.

VIDEO SIGNAL PROCESSING DEVICE, VIDEO PROCESSING SYSTEM, SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT, AND VIDEO SIGNAL PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120013709A1. Автор: . Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2012-01-19.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, CONTENT RECORDING/REPRODUCING DEVICE, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120059837A1. Автор: FUJITA Hitoshi. Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2012-03-08.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120231881A1. Автор: Matsunaga Hiroshi. Владелец: NINTENDO CO., LTD.. Дата публикации: 2012-09-13.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120306867A1. Автор: . Владелец: NINTENDO CO., LTD.. Дата публикации: 2012-12-06.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, IMAGE FORMING APPARATUS, MANAGEMENT APPARATUS, INFORMATION PROCESSING METHOD, AND COMPUTER PROGRAM

Номер патента: US20130010329A1. Автор: Yuki Naoto. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2013-01-10.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, IMAGE FORMING APPARATUS, MANAGEMENT APPARATUS, INFORMATION PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM FOR DELETING OR RETREATING IMAGE FORMING APPARATUS DATA

Номер патента: US20130016399A1. Автор: KOBAYASHI Makoto. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2013-01-17.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, REPRODUCING DEVICE, INFORMATION PROCESSING DEVICE, INFORMATION PROCESSING METHOD, AND PROGRAM

Номер патента: US20130039485A1. Автор: KUNO Hiroshi,HAYASHI Takamichi,Ueda Kenjiro. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2013-02-14.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, MOBILE INFORMATION TERMINAL, SERVER, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20130065616A1. Автор: Yamashita Shingo,Tada Koji. Владелец: SONY COMPUTER ENTERTAINMENT INC.. Дата публикации: 2013-03-14.

Information processing system, information processing device, program, and information processing method

Номер патента: JP6802320B2. Автор: 睦 埋金. Владелец: Metawater Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-16.

Information processing system, information processing device, program, and information processing method

Номер патента: JP2020187618A. Автор: 睦 埋金,Mutsumi Umegane. Владелец: Metawater Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-19.

Redelivery information processing system for delivery luggage and redelivery information processing method

Номер патента: JP4718233B2. Автор: 雄一 浅師. Владелец: Yamato Transport Co Ltd. Дата публикации: 2011-07-06.

Card information processing system, card information processing apparatus, card information processing method, and program

Номер патента: JP5997511B2. Автор: 理葉 柴本,直希 鷲尾,央孝 仁野,広之 大網. Владелец: Japan Research Institute Ltd. Дата публикации: 2016-09-28.

Image processing system with environment sensing function and image processing method

Номер патента: CN102044234A. Автор: 黄英杰. Владелец: Primax Electronics Ltd. Дата публикации: 2011-05-04.

Automatic processing system for luggage in airport and its processing method

Номер патента: CN100462153C. Автор: 刘卫东,陈翼,罗晓,黄荣顺,陈明玉,余海华,毛刚,张向民,金尔文,李连,杜明谦,蒋祥枫. Владелец: Second Research Institute of CAAC. Дата публикации: 2009-02-18.

Sales data processing system, sales data processing device, sales data processing method, and program

Номер патента: JP6805283B2. Автор: 文克 齋藤,恵姜 鐘. Владелец: Teraoka Seiko Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-23.

Information processing system, information processing apparatus, management apparatus, installation processing method, program, and storage medium

Номер патента: JP5359911B2. Автор: 賢 青木. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2013-12-04.

Image processing system utilizing field depth information and image processing method thereof

Номер патента: CN105262931A. Автор: 庄哲纶,彭诗渊. Владелец: Glomerocryst Semiconductor Ltd Co. Дата публикации: 2016-01-20.

Embedded system and real-time monitoring and processing method thereof

Номер патента: CN100375060C. Автор: 吴涛. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2008-03-12.

Television circuit system and backlight dynamically control the processing method causing brightness inconsistent

Номер патента: CN102625065B. Автор: 刘卫东,乔明胜,陈兴锋. Владелец: Qingdao Hisense Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-13.

Electronic receipt system and electronic payment receipt information processing method

Номер патента: JP6921172B2. Автор: 剛 五反田. Владелец: Toshiba TEC Corp. Дата публикации: 2021-08-18.

Computer intelligent power supply system and computer circuit breaking intelligent processing method

Номер патента: CN100533345C. Автор: 魏立民. Владелец: SHENZHEN MEIKAI ELECTRONICS STOCK CO Ltd. Дата публикации: 2009-08-26.

METHODS AND APPARATUS FOR THERMAL BASED SUBSTRATE PROCESSING WITH VARIABLE TEMPERATURE CAPABILITY

Номер патента: US20120003388A1. Автор: Wu Kai,YUAN XIAOXIONG,TZU GWO-CHUAN,KHANDELWAL AMIT,WANG BENJAMIN CHENG,GELATOS AVGERINOS V.,KARAZIM MICHAEL P.,LIN JING,CUVALCI OLKAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING INCLUDING A MASKING LAYER

Номер патента: US20120001320A1. Автор: Kumar Nitin,Duong Anh,Lang Chi-I,Chiang Tony P.,BOUSSIE Thomas R.,Malhotra Sandra G.,Fresco Zachary,Tong Jinhong. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120000886A1. Автор: NISHINO Masaru,HONDA Masanobu,Kubota Kazuhiro,Ooya Yoshinobu. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120000629A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

Chamber cleaning for substrate processing systems

Номер патента: WO2024196580A1. Автор: Hu Kang,Ming Li,Dong Wang,Xin Meng,Defu LIANG,Rohit ODE,Huifeng Zheng,Joseph Lindsey Womack. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-09-26.

SYSTEM AND METHOD FOR PROCESSING DATA SIGNALS

Номер патента: US20120002854A1. Автор: Hardy Christopher Judson,Khare Kedar Bhalchandra,King Kevin Franklin,Marinelli Luca. Владелец: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Дата публикации: 2012-01-05.

POWER SUPPLYING MEANS HAVING SHIELDING MEANS FOR FEEDING LINE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20120000609A1. Автор: DO Jae-Chul,JEON Bu-Il,SONG Myung-Gon,LEE Jung-Rak. Владелец: JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM HAVING INFORMATION PROCESSING PROGRAM STORED THEREIN, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120001944A1. Автор: SAKURAI Masahiro,Machino Taichi,Ikeda Teppei. Владелец: NINTENDO CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

MICROSCOPE CONTROL DEVICE, IMAGE MANAGEMENT SERVER, IMAGE PROCESSING METHOD, PROGRAM, AND IMAGE MANAGEMENT SYSTEM

Номер патента: US20120002033A1. Автор: Yamane Kenji,Kajimoto Masato,Wakita Yoshihiro,Tagami Naoki. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

SIGNAL PROCESSING SYSTEM AND SIGNAL PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002827A1. Автор: . Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM HAVING INFORMATION PROCESSING PROGRAM STORED THEREIN, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120004017A1. Автор: . Владелец: NINTENDO CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

MASS FLOW CONTROLLER, MASS FLOW CONTROLLER SYSTEM, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, AND GAS FLOW RATE ADJUSTING METHOD

Номер патента: US20120000542A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING SYSTEM, IMAGE PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002238A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING METHOD, AND PROGRAM

Номер патента: US20120001733A1. Автор: Kousaka Satoshi,Abeno Takashi. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Porous showerheads for substrate processing systems

Номер патента: WO2024191656A1. Автор: Yi Song,Jihong Chen,Rong Wang,Vijay Nithiananthan. Владелец: Silfex, Inc.. Дата публикации: 2024-09-19.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.