Systems and methods for reducing backside deposition and mitigating thickness changes at substrate edges
Номер патента: US09852901B2
Опубликовано: 26-12-2017
Автор(ы): Adrien Lavoie, Cody Barnett, Frank Pasquale, Mohamed Sabri, Saangrut Sangplung, Sesha Varadarajan, Shankar Swaminathan, Ted Minshall
Принадлежит: Lam Research Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 26-12-2017
Автор(ы): Adrien Lavoie, Cody Barnett, Frank Pasquale, Mohamed Sabri, Saangrut Sangplung, Sesha Varadarajan, Shankar Swaminathan, Ted Minshall
Принадлежит: Lam Research Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Systems and methods for deposition of molybdenum for source/drain contacts
Номер патента: US20230298902A1. Автор: Dong Li,Petri Raisanen,Eric James Shero,Jiyeon Kim. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-09-21.