Method of cleaning wafer and method of manufacturing gate structure
Номер патента: US20060172548A1
Опубликовано: 03-08-2006
Автор(ы): Charlie Lee, Chih-Ning Wu, Kuan-Yang Liao
Принадлежит: United Microelectronics Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 03-08-2006
Автор(ы): Charlie Lee, Chih-Ning Wu, Kuan-Yang Liao
Принадлежит: United Microelectronics Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Metal gate structure and method of manufacturing same
Номер патента: WO2009142982A3. Автор: Willy Rachmady,Jason Klaus,Soley Ozer. Владелец: Intel Corporation. Дата публикации: 2010-03-04.