Measuring system for determining position change of optical element for projection exposure apparatus for microlithography, has sensor head and light conductor for emitting measuring light of measurement light source to sensor head
Номер патента: DE102012216286A1
Опубликовано: 04-04-2013
Автор(ы): Peter Vogt
Принадлежит: CARL ZEISS SMT GMBH
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 04-04-2013
Автор(ы): Peter Vogt
Принадлежит: CARL ZEISS SMT GMBH
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for ascertaining distortion properties of an optical system in a measurement system for microlithography
Номер патента: US09785058B2. Автор: Michael Himmelhaus,Susanne Toepfer,Dirk Seidel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-10-10.