ENERGY FILTER FOR USE IN THE IMPLANTATION OF IONS INTO A SUBSTRATE
Номер патента: US20220181114A1
Опубликовано: 09-06-2022
Автор(ы): Constantin Csato, Florian Krippendorf
Принадлежит: MI2 Factory GmbH
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 09-06-2022
Автор(ы): Constantin Csato, Florian Krippendorf
Принадлежит: MI2 Factory GmbH
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Energy filter element for ion implantation systems for the use in the production of wafers
Номер патента: US12080510B2. Автор: Florian Krippendorf,Constantin Csato. Владелец: MI2 Factory GmbH. Дата публикации: 2024-09-03.