Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Projection optical system, projection exposure apparatus, and projection exposure method

Projection optical system, projection exposure apparatus, and projection exposure method

Номер патента: US6556353B2
Опубликовано: 29-04-2003
Автор(ы): Yasuhiro Omura
Принадлежит: Nikon Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Optical system with improved durability for projection exposure apparatus and method for manufacturing optical system for projection exposure apparatus

Номер патента: US20020135746A1. Автор: Seishi Fujiwara,Hiroki Jinbo. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-09-26.

Method for producing a mirror having at least two mirror surfaces, mirror of a projection exposure apparatus for microlithography, and projection exposure apparatus

Номер патента: US20120224186A1. Автор: Wolfgang Singer,Ralf Mueller,Jochen Hetzler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-09-06.

Method for producing a mirror having at least two mirror surfaces, mirror of a projection exposure apparatus for microlithography, and projection exposure apparatus

Номер патента: TWI574054B. Автор: 勞夫 穆勒,喬誠 赫茲勒,渥夫剛 辛格. Владелец: 卡爾蔡司Ｓｍｔ有限公司. Дата публикации: 2017-03-11.

Chromatically corrected imaging illumination optical unit for use in a lithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024156598A1. Автор: Alexander Epple,Stig Bieling,Markus Schwab,Henning Mehnert. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-08-02.

Mirror of a projection exposure apparatus for microlithography with mirror surfaces on different mirror sides, and projection exposure apparatus

Номер патента: US09606339B2. Автор: Wolfgang Singer,Ralf Mueller,Jochen Hetzler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-28.

Projection optical system, method of making projection optical system, method of making illumination optical system, and method of making exposure apparatus

Номер патента: US20030063394A1. Автор: Takeshi Suzuki,Issey Tanaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-04-03.

Four mirror EUV projection optics

Номер патента: US5956192A. Автор: David M. Williamson. Владелец: SVG Lithography Systems Inc. Дата публикации: 1999-09-21.

Projection optical system and exposure apparatus using the same

Номер патента: US5835285A. Автор: Misako Kobayashi,Yutaka Suenaga,Kazumasa Endo,Hitoshi Matsuzawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-11-10.

Optical element formed with optical thin film and ultraviolet exposure apparatus

Номер патента: EP1172670A3. Автор: Shunji Nikon Corp. Intell. Prop. Dep. Watanabe. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-07-16.

Projection optical system

Номер патента: WO2005054956A3. Автор: Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple,Hans-Juergen Rostalski. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2005-11-24.

Projection optical system

Номер патента: WO2005054956A2. Автор: Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple,Hans-Jürgen Rostalski. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2005-06-16.

Projection optical system

Номер патента: EP1690139A2. Автор: Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple,Hans-Jürgen Rostalski. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2006-08-16.

Projection optical system

Номер патента: EP1690139B1. Автор: Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple,Hans-Jürgen Rostalski. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-01-14.

Imaging optical unit for a projection exposure apparatus

Номер патента: US09459539B2. Автор: Hans-Juergen Mann,Susanne Beder,Christoph Menke. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-10-04.

Optical system, projection exposure system and method

Номер патента: US20240288784A1. Автор: Toralf Gruner,Martin Martin von Hodenberg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-08-29.

Optical system and projection exposure apparatus

Номер патента: US20240184212A1. Автор: Boaz Pnini. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-06.

Imaging optical system for imaging an object field in an image field and illumination optical system for illuminating an object field

Номер патента: EP2446313A2. Автор: Hans-Jürgen Mann,Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Martin Endres,Marco Pretorius,Christoph Menke,Johannes Zellner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-05-02.

Method of determining lens materials for a projection exposure apparatus

Номер патента: US20070195423A1. Автор: Toralf Gruner,David Shafer,Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple,Hans-Juergen Mann,Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Vladimir Kamenov,Rudolf Buenau. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-08-23.

Imaging optics, projection exposure apparatus for microlithography with such an imaging optical system and method for producing a microstructured component with such a projection exposure apparatus

Номер патента: DE102007051669A1. Автор: Hans-Jürgen Mann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-04-30.

Imaging optical system and the projection exposure apparatus that is used for micro-lithography with imaging optical system of this type

Номер патента: CN102317866A. Автор: 威廉.乌尔里克,汉斯-于尔根.曼,埃里克.洛普斯特拉,戴维.莎弗. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-01-11.

Pupil facet mirror, illumination optics and optical system for a projection exposure apparatus

Номер патента: DE102018200167A1. Автор: Markus DEGÜNTHER. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-07-11.

Pupil facet mirror, illumination optics and optical system for a projection exposure apparatus

Номер патента: DE102017220586A1. Автор: Thomas Fischer,Martin Endres,Stig Bieling. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-05-23.

Projection optical system, exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US20050151950A1. Автор: Akihiro Yamada. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-07-14.

Large-field unit-magnification projection optical system

Номер патента: US7746571B2. Автор: TieJun Li,Jun Wei,Ling Huang. Владелец: Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2010-06-29.

Large-field unit-magnification projection optical system

Номер патента: WO2007140663A1. Автор: TieJun Li,Jun Wei,Ling Huang. Владелец: SHANGHAI MICRO ELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD.. Дата публикации: 2007-12-13.

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography

Номер патента: WO2021052940A1. Автор: Stefan Xalter,Bernhard Gellrich,Jens Kugler,Stefan Hembacher,Mark Feygin. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2021-03-25.

Projection optical system, method for producing the same, and projection exposure apparatus using the same

Номер патента: AU1891200A. Автор: Hiroyuki Hiraiwa,Issey Tanaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-07-24.

PROJECTION OPTICAL UNIT FOR IMAGING AN OBJECT FIELD INTO AN IMAGE FIELD, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS COMPRISING SUCH A PROJECTION OPTICAL UNIT

Номер патента: US20190025562A1. Автор: Schwab Markus. Владелец: . Дата публикации: 2019-01-24.

PROJECTION OPTICAL UNIT FOR IMAGING AN OBJECT FIELD INTO AN IMAGE FIELD, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS COMPRISING SUCH A PROJECTION OPTICAL UNIT

Номер патента: US20160085061A1. Автор: Schwab Markus. Владелец: . Дата публикации: 2016-03-24.

Projection optical unit for imaging an object field into an image field, and projection exposure apparatus comprising such a projection optical unit

Номер патента: US10558026B2. Автор: Markus Schwab. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-02-11.

Projection optical unit for imaging an object field into an image field, and projection exposure apparatus comprising such a projection optical unit

Номер патента: US10146033B2. Автор: Markus Schwab. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-12-04.

Projection optical unit for imaging an object field in an image field and a projection exposure apparatus including such a projection optical unit

Номер патента: JP6688219B2. Автор: マルクス シュバープ. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2020-04-28.

Deep ultraviolet unit-magnification projection optical system and projection exposure apparatus

Номер патента: US20040239893A1. Автор: Romeo Mercado,Shiyu Zhang. Владелец: Ultratech Inc. Дата публикации: 2004-12-02.

Deep ultraviolet unit-magnification projection optical system and projection exposure apparatus

Номер патента: WO2004107037A1. Автор: Romeo I. Mercado,Shiyu Zhang. Владелец: Ultratech, Inc.. Дата публикации: 2004-12-09.

Projection optical system, exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: EP2000840A4. Автор: Tomowaki Takahashi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2009-07-29.

Anamorphically imaging projection lens system and related optical systems, projection exposure systems and methods

Номер патента: US09568832B2. Автор: Hans-Juergen Mann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-02-14.

Optical element, projection optical unit and projection exposure apparatus

Номер патента: US20240176249A1. Автор: Jens Kugler,Marwene Nefzi,Matthias Fetzer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-30.

Projection exposure apparatus and method, catadioptric optical system and manufacturing method of devices

Номер патента: US7301605B2. Автор: Yasuhiro Omura,Soichi Owa,Naomasa Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2007-11-27.

Optical system of microlithography projection exposure apparatus and microlithography exposure method

Номер патента: JP2011524642A. Автор: ミハエル トーツェック. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2011-09-01.

Projection exposure apparatus, projection exposure apparatus adjustment method, and projection exposure method

Номер патента: JP3985346B2. Автор: 稔彦 小澤,秀基 小松田,泰弘 大村,孝司 森. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2007-10-03.

Method of determining lens materials for a projection exposure apparatus

Номер патента: US20060109560A1. Автор: Toralf Gruner,Aurelian Dodoc,Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Vladimir Kamenov. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2006-05-25.

Arrangement for actuating at least one optical element in an optical system

Номер патента: US10303065B2. Автор: Markus Hauf,Alexander Vogler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-05-28.

Illumination optics for EUV projection lithography, illumination system, projection exposure apparatus and method for projection exposure

Номер патента: DE102016205624B4. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-12-28.

OPTICAL SYSTEM FOR A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20200218164A1. Автор: Patra Michael. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-09.

Optical system for microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: JP5224218B2. Автор: ミハエル トーツェック,トラルフ グルナー,ラルフ ミューラー,ハイコ フェルトマン,ハンス ヨーヘン パウル. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2013-07-03.

Optical system for a projection exposure apparatus

Номер патента: US10871717B2. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-12-22.

Method for producing a mirror as an optical component for an optical system of a projection exposure apparatus for projection lithography

Номер патента: WO2019052790A1. Автор: Stefan Hembacher. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-03-21.

Method for producing a mirror as an optical component for an optical system of a projection exposure apparatus for projection lithography

Номер патента: TWI798263B. Автор: 史蒂芬 漢貝其. Владелец: 德商卡爾蔡司Ｓｍｔ有限公司. Дата публикации: 2023-04-11.

Optical element, projection optical unit and projection exposure apparatus

Номер патента: EP4384874A1. Автор: Jens Kugler,Marwene Nefzi,Matthias Fetzer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-19.

Optical system, in particular projection exposure system for microlithography

Номер патента: DE19859634A1. Автор: Erich Merz,Jochen Becker. Владелец: CARL ZEISS AG. Дата публикации: 2000-06-29.

Optical System, in Particular Projection exposure system for microlithography

Номер патента: KR100591306B1. Автор: 홀더러후베르트,메르츠에리히,바그너크리스티앙,가버에어빈,게르하르트미햐엘. Владелец: 칼 짜이스 에스엠테 아게. Дата публикации: 2006-06-19.

Optical system for microlithographic projection exposure system, has partial sections to which distinct-polarization states are assigned, which remain obtained by sections so that light enters in sections with two input-polarization states

Номер патента: DE102008054683A1. Автор: Michael Totzeck. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-09-17.

Optical system for microlithographic projection exposure system utilized for manufacturing e.g. LCD, has screen polarizer converting linear polarization distribution with polarization direction of bundle into mixed polarization distribution

Номер патента: DE102012206151A1. Автор: Ingo Sänger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-05-02.

Optical system for microlithographic projection exposure system utilized for manufacturing e.g. LCD, has mirror elements adjusted independent of each other, and retarding layer arranged on reflection surface of one of mirror elements

Номер патента: DE102012206154A1. Автор: Ingo Sänger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-06-06.

Optical system for microlithographic projection exposure system for manufacture of e.g. LCD, has polarization manipulator whose two sub-elements are made of respective optical positive and negative uniaxial crystal materials

Номер патента: DE102012212864A1. Автор: Ingo Sänger,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-08-22.

Optical system for microlithographic projection exposure system for manufacturing e.g. LCDs, has beam-splitting optic element arranged such that degree of polarization of incident light beam is lesser than specified value

Номер патента: DE102011079837A1. Автор: Johannes Ruoff,Jörg ZIMMERMANN,Ingo Sänger,Martin Meier,Frank Schlesener,Christoph Hennerkes. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-01-31.

Optical system for a projection exposure system

Номер патента: DE102019200193B3. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-02-06.

Optical system for a projection exposure machine

Номер патента: DE102017215664A1. Автор: Jörg ZIMMERMANN,Alexander Winkler,Daniel Lenz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-03-07.

METHOD FOR EVALUATING AND IMPROVING PUPIL LUMINANCE DISTRIBUTION, ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM AND ADJUSTMENT METHOD THEREOF, EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20150323786A1. Автор: Kita Naonori. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2015-11-12.

Extreme ultraviolet lithography projection optics system and associated methods.

Номер патента: NL2013719B1. Автор: Lu Yen-Cheng,Yu Shinn-Sheng,Yen Anthony. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-04.

Projection optical system and projection and light exposure apparatus using it

Номер патента: US20050002007A1. Автор: Ryoko Otomo. Владелец: Fujinon Corp. Дата публикации: 2005-01-06.

Catadioptric reduction projection optical system and exposure apparatus employing the same

Номер патента: US5694241A. Автор: Yutaka Suenaga,Toshiro Ishiyama. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1997-12-02.

Projection exposure apparatus and method for designing a component of a projection exposure apparatus

Номер патента: US20240085800A1. Автор: Markus Raab,Matthias Manger,Dieter Bader,Thilo Pollak,Stefan BAUEREGGER,Alexander Ostendorf,Bastian Keller,Joerg Tschischgale,Dietmar Duerr,Irina Schrezenmeier,Andreas Beljakov. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-03-14.

Beam distributing optical device, illuminating optical unit comprising a beam distributing optical device of said type, optical system comprising an illuminating optical unit of said type, and projection lighting apparatus comprising an optical system of said type

Номер патента: EP3111269B1. Автор: Markus DEGÜNTHER,Michael Patra,Thomas Korb. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2021-08-11.

Beam distributing optical device, illuminating optical unit comprising a beam distributing optical device of said type, optical system comprising an illuminating optical unit of said type, and projection lighting apparatus comprising an optical system of said type

Номер патента: KR20160126034A. Автор: 마르쿠스 데귄테르,토마스 코르브,미카엘 파트라. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2016-11-01.

Assembly in an optical system, in particular of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2021078421A1. Автор: Toralf Gruner,Joachim Hartjes,Alexander Wolf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2021-04-29.

Assembly in an optical system, in particular of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP4049088A1. Автор: Toralf Gruner,Joachim Hartjes,Alexander Wolf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-08-31.

Optical system and projection exposure apparatus

Номер патента: EP4388371A1. Автор: Boaz Pnini. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-26.

Apparatus and method for avoiding a degradation of an optical used surface of a mirror module, projection system, illumination system and projection exposure apparatus

Номер патента: US20240319621A1. Автор: Moritz Becker,Julian Kaller,Arnoldus Jan Storm. Владелец: NEDERLANDSE ORGANISATIE VOORTOEGEPAST-NATUURWETENSCHAPPELIJK ONDERZOEK TNO. Дата публикации: 2024-09-26.

Projection optical system and exposure device having the projection optical system

Номер патента: US20040189965A1. Автор: Tomowaki Takahashi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2004-09-30.

Illumination apparatus, projection exposure apparatus, and device fabricating method

Номер патента: US20060164622A1. Автор: Shinichi Hara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-07-27.

A fluid purging system, projection system, illumination system, lithographic apparatus, and method

Номер патента: WO2021244808A1. Автор: Zhuangxiong HUANG,Ferdy Migchelbrink,José Nilton FONSECA JUNIOR,Franciscus Johannes Leonardus HEUTZ. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2021-12-09.

Method for heating an optical element in a microlitho-graphic projection exposure apparatus and optical system

Номер патента: US20230350312A1. Автор: Dirk Hellweg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-11-02.

Optical system, and method for operating an optical system

Номер патента: US20230324648A1. Автор: Toralf Gruner,Norman Baer,Paul Buettner,Thomas Monz,André DIRAUF. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-10-12.

Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09720329B2. Автор: Stephan Muellender,Hans-Juergen Mann,Rolf Freimann,Hartmut Enkisch. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-08-01.

Catoptric projection optical system

Номер патента: EP1450209A1. Автор: Takahiro Sasaki,Toshihiro Sunaga,Koshi Hatakeyama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-08-25.

Arrangement for the thermal actuation of a mirror, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09798254B2. Автор: Markus Hauf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-10-24.

Arrangement for thermal actuation of a mirror in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09500957B2. Автор: Joachim Hartjes. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-11-22.

Assembly in an optical system, in particular of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20220214627A1. Автор: Toralf Gruner,Joachim Hartjes,Alexander Wolf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-07-07.

Mirror module, in particular for a microlithographic projection exposure appararatus

Номер патента: US09996015B2. Автор: Bernhard Gellrich,Andreas Wurmbrand,Jens Prochnau,Dirk Schaffer,Markus Kern. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-06-12.

Lighting system of a microlithographic projection exposure system and method for operating such a lighting system

Номер патента: US09977334B2. Автор: Markus Deguenther,Johannes Eisenmenger,Thomas Korb,Vladimir Davydenko. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-22.

Imaging optical system and projection exposure installation for microlithography including same

Номер патента: US09541841B2. Автор: Alexander Epple,Hans-Juergen Mann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-01-10.

Imaging optical system and projection exposure installation for microlithography with an imaging optical system of this type

Номер патента: US09500958B2. Автор: David Shafer,Hans-Juergen Mann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-11-22.

Catadioptric imaging system and a projection exposure apparatus provided with said imaging system

Номер патента: US20030030917A1. Автор: Yasuhiro Omura. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-02-13.

Imaging optical unit for a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2014019617A1. Автор: Hans-Jürgen Mann,Christoph Menke. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-02-06.

Facet mirror for an illumination optical unit of a projection exposure apparatus

Номер патента: US11789367B2. Автор: Willi Anderl,Hubert Holderer,Markus Holz,Stefan Seitz,Christian Körner,Manuel Stompe. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-10-17.

Method for aligning a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20190049853A1. Автор: Rolf Freimann,Jochen Hetzler,Bernd Doerband. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-02-14.

Facet mirror for an illumination optical unit of a projection exposure apparatus

Номер патента: US20220206398A1. Автор: Willi Anderl,Hubert Holderer,Markus Holz,Stefan Seitz,Christian Körner,Manuel Stompe. Владелец: Bertrandt Ingenieurbuero GmbH. Дата публикации: 2022-06-30.

Method for aligning a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20170023865A1. Автор: Rolf Freimann,Jochen Hetzler,Bernd Doerband. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-01-26.

Imaging optical system and exposure apparatus

Номер патента: US20070007471A1. Автор: Hideki Ina,Koichi Sentoku,Yoshinori Miwa,Gaku Takahashi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-01-11.

Optical system and projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024133262A1. Автор: Christian Werner,Tobias Hegele,Dietmar Duerr,Johannes Kruis,Sebastian Henseler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-27.

Optical assembly, optical system and projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024179896A1. Автор: Roman Orlik. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-09-06.

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography

Номер патента: US20210080841A1. Автор: Stefan Xalter,Bernhard Gellrich,Jens Kugler,Stefan Hembacher,Mark Feygin. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2021-03-18.

Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus

Номер патента: US7023527B2. Автор: Masaki Kato,Masashi Tanaka,Kinya Kato,Hiroshi Chiba,Hiroshi Shirasu,Masato Kumazawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2006-04-04.

Projection exposure methods and apparatus, and projection optical system

Номер патента: EP1936420A3. Автор: Yasuhiro Omura. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-09-10.

Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus

Номер патента: US9140993B2. Автор: Naomasa Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2015-09-22.

Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus

Номер патента: EP2927935A3. Автор: Naomasa Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-01-27.

Immersion objective optical system, exposure apparatus, device fabrication method, and boundary optical element

Номер патента: WO2008047587A3. Автор: Hironori Ikezawa,Yasuhiro Omura. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 2008-07-17.

Control apparatus and control method, exposure apparatus and exposure method, device manufacturing method, data generating method and program

Номер патента: US20200257205A1. Автор: Satoshi Yashiki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2020-08-13.

Method of adjusting projection optical apparatus

Номер патента: US20020113953A1. Автор: Hiroshi Chiba. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-08-22.

Exposure apparatus, exposure method, and flat panel display manufacturing method

Номер патента: US20240103379A1. Автор: Masaki Kato,Hitoshi Mizuno,Yasushi Mizuno. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-03-28.

Exposure apparatus and device manufacturing method for projecting light from a secondary light source onto a mask or pattern

Номер патента: US5684567A. Автор: Takahisa Shiozawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1997-11-04.

Microlithography projection optical system, tool and method of production

Номер патента: US09482961B2. Автор: Wilhelm Ulrich,Hans-Juergen Mann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-11-01.

Exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method for electronic device

Номер патента: US20240111215A1. Автор: Masaki Kato,Hitoshi Mizuno,Yasushi Mizuno. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-04-04.

Cataoptric projection optical system, exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US20040189968A1. Автор: Chiaki Terasawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-30.

Optical system, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2017102599A1. Автор: Ulrich SCHÖNHOFF. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-22.

Projection exposure method and projection exposure apparatus

Номер патента: US09933710B2. Автор: Toralf Gruner,Johannes Ruoff,Stephan André,Daniel Golde. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-04-03.

Optical system for semiconductor lithography

Номер патента: US09383544B2. Автор: Frank Melzer,Damian Fiolka,Stefan Xalter,Yim-Bun Patrick Kwan. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-07-05.

Exposure apparatus and inspection method

Номер патента: US20240110844A1. Автор: Masaki Kato,Hitoshi Mizuno,Yasushi Mizuno. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-04-04.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09817317B2. Автор: Frank Schlesener,Ingo Saenger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-14.

Attenuation filter for projection lens, projection lens having attenuation filter for projection exposure apparatus, and projection exposure apparatus having projection lens

Номер патента: US20190064676A1. Автор: Toralf Gruner,Ricarda Schoemer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-02-28.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09720327B2. Автор: Manfred Maul. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-08-01.

Projection optical apparatus using plural wavelengths of light

Номер патента: US5138176A. Автор: Kenji Nishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1992-08-11.

Projection optical system and method for photolithography and exposure apparatus and method using same

Номер патента: US7688517B2. Автор: Hironori Ikezawa,Yasuhiro Omura. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2010-03-30.

Projection optical system and method for photolithography and exposure apparatus and method using same

Номер патента: US20080049336A1. Автор: Hironori Ikezawa,Yasuhiro Omura,David Williamson. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-02-28.

Mirror arrangement for an EUV projection exposure apparatus, method for operating the same, and EUV projection exposure apparatus

Номер патента: US09709770B2. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Hendrik Wagner,Walter Pauls,Rumen ILIEW,Ricarda Schoemer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-07-18.

Pollutant removal method and apparatus, and exposure method and apparatus

Номер патента: US20050274898A1. Автор: Shunji Watanabe,Masato Hamatani,Tatsuya Kitamoto. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2005-12-15.

Arrangement for actuating an element in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09841682B2. Автор: Ulrich Schoenhoff,Sascha Bleidistel,Juergen Fischer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-12-12.

Method for operating a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09665010B2. Автор: Markus Deguenther. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-05-30.

Arrangement for actuating an element in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09568837B2. Автор: Ulrich Schoenhoff,Sascha Bleidistel,Juergen Fischer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-02-14.

Catadioptric projection objective comprising deflection mirrors and projection exposure method

Номер патента: US09817220B2. Автор: Toralf Gruner,Thomas Schicketanz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-14.

Method for adjusting an optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2013135500A1. Автор: Ingo Saenger,Bastian Trauter. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-09-19.

Projection exposure apparatus for euv microlithography and method for microlithographic exposure

Номер патента: WO2012041720A2. Автор: Aksel GÖHNERMEIER,Heiko Feldmann,Johannes Ruoff,Oliver Natt,Marc Bienert. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-04-05.

Euv illumination device and method for operating a microlithographic projection exposure apparatus designed for operation in the euv

Номер патента: EP4405751A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-07-31.

Image-forming optical system, exposure apparatus, and device producing method

Номер патента: EP4372469A3. Автор: Hideki Komatsuda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-09-04.

Image-forming optical system, exposure apparatus, and device producing method

Номер патента: US12105428B2. Автор: Hideki Komatsuda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Illuminating method and illuminating apparatus for carrying out the same, and projection exposure method and projection exposure apparatus for carrying out the same

Номер патента: US5016149A. Автор: Minoru Tanaka,Yoshitada Oshida,Tetsuzo Tanimoto,Yasuhiro Yoshitake. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1991-05-14.

Reflective optical element, illumination optical unit, projection exposure apparatus, and method for producing a protective layer

Номер патента: US20230205090A1. Автор: Sandro Hoffmann,Valentin Jonatan Bolsinger,Sandra Haschke. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-06-29.

Euv illumination device and method for operating a microlithographic projection exposure apparatus designed for operation in the euv

Номер патента: US20240248410A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-07-25.

Reflective image-forming optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US09541842B2. Автор: Yoshio KAWABE. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Euv collector for an euv projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024002672A1. Автор: Daniel Brown,Yezheng Tao,Haining Wang,Markus Karl,Evan DAVIS,Michael Purvis,Silvi Haendel,Alexander Schafgans. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-04.

Projection exposure apparatus, and method for reducing deformations, resulting from dynamic accelerations, of components of the projection exposure apparatus

Номер патента: US20190219926A1. Автор: Erik Loopstra,Bernhard Geuppert,Jens Kugler,Stefan Hembacher. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2019-07-18.

Pattern-independent and hybrid matching/tuning including light manipulation by projection optics

Номер патента: US20140282303A1. Автор: Yu Cao,Jun Ye,Hanying Feng. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2014-09-18.

Mirror for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP3117257A1. Автор: Hartmut Enkisch. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-01-18.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2020254147A1. Автор: Toralf Gruner,Hans Michael Stiepan. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-12-24.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP2126636A2. Автор: Manfred Maul,Nils Dieckmann,Oliver Natt,Christian Hettich. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-12-02.

Assembly, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US12105434B2. Автор: Stefan Troeger,Thomas Gorius. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-10-01.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09933706B2. Автор: Damian Fiolka,Markus Deguenther,Gerhard-Wilhelm Ziegler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-04-03.

Facet mirror for a projection exposure apparatus

Номер патента: US09823577B2. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-21.

Optical element with an antireflection coating, projection objective, and exposure apparatus comprising such an element

Номер патента: US09684252B2. Автор: Alexandra Pazidis,Christoph Zaczek. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-20.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09671699B2. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-06.

Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09575414B2. Автор: Johannes Wangler,Markus Deguenther,Manfred Maul,Axel Scholz,Michael Layh,Ralf Scharnweber,Heiko Siekmann,Reinhard Voelkel,Kenneth Weible,Uwe Spengler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-02-21.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09523923B2. Автор: Markus Deguenther. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-12-20.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09454085B2. Автор: Damian Fiolka,Markus Deguenther,Gerhard-Wilhelm Ziegler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-09-27.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP1586946A3. Автор: Damian Fiolka,Manfred Maul,Olaf Dittmann,Michael Totzeck. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-01-17.

Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus

Номер патента: US5729331A. Автор: Masaki Kato,Masashi Tanaka,Kinya Kato,Hiroshi Chiba,Hiroshi Shirasu,Masato Kumazawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-03-17.

Optical system, microlithographic projection exposure apparatus, method for heating an optical element and method for producing an optical fibre arrangement

Номер патента: WO2023083568A1. Автор: Markus Hauf,Stefan Bleil,Carsten Marzok,Torsten Steinbrueck. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-05-19.

Illumination optical system, exposure apparatus, and method of manufacturing article

Номер патента: US09946056B2. Автор: Hiromi Suda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Bipod, optical system and projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024061869A1. Автор: Tobias Hegele,Sonia Anaelle Bissie,Dietmar Duerr. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-03-28.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus, and method of processing a mirror

Номер патента: WO2024074306A1. Автор: Eric Eva,Matthias KAES. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-04-11.

Component for a projection exposure apparatus for semiconductor lithography and projection exposure apparatus

Номер патента: WO2023237452A1. Автор: Michael Groiss. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-12-14.

Optical assembly, projection exposure apparatus and method

Номер патента: US20220382165A1. Автор: Johannes Lippert,Markus Raab,Andreas Raba. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-12-01.

Illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20080212061A1. Автор: Takafumi Kawasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-09-04.

Illumination optical system, exposure apparatus, and method of manufacturing article

Номер патента: US20190079377A1. Автор: Yuji Nakamura,Daisuke Kobayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-03-14.

Method and device for determining the heating state of an optical element in an optical system

Номер патента: US20230288260A1. Автор: Eva Schneider,Maike Lorenz,Vladimir MITEV,Ruediger MACK,Johannes Schurer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-09-14.

Illumination optical unit for a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2013135532A1. Автор: Ingo Sänger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-09-19.

Multi-channel light source for projection optics heating

Номер патента: US20240077803A1. Автор: Mahesh Upendra AJGAONKAR,Laurentius Johannes Adrianus Van Bokhoven. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2024-03-07.

Optical component and optical system, in particular for microlithography

Номер патента: US20230384687A1. Автор: Martin Hermann,Jeffrey Erxmeyer,Conrad Wolke,Nils Lundt. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-11-30.

Projection exposure apparatus with near-field manipulator

Номер патента: US20170052453A1. Автор: Johannes Lippert,Yim-Bun Patrick Kwan,Jasper Wesselingh,Peter Deufel,Pascal Marsollek. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-02-23.

Optical assembly, method for deforming an optical element, and projection exposure system

Номер патента: US20230393485A1. Автор: Eva Schneider,Maike Lorenz,Tim Hoffmann,Vladimir MITEV,Ruediger MACK,Johannes Schurer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-12-07.

Reflective optical element for the euv wavelength range, method for producing and for correcting such an element, projection lens for microlithography comprising such an element, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection lens

Номер патента: WO2013050199A1. Автор: Markus Weiss,Boris Bittner,Norbert Wabra,Norbert Kerwien,Martin Weiser,Christoph SCHLICHENMAIER,Wilfried Clauss. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-04-11.

Method for assigning a pupil facet of a pupil facet mirror of an illumination optical unit of a projection exposure apparatus to a field facet of a field facet mirror of the illumination optical unit

Номер патента: US9791785B2. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-10-17.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus comprising a depolarizing element

Номер патента: US9170499B2. Автор: Damian Fiolka,Manfred Maul,Olaf Dittmann,Markus Schwab,Wolfgang Seitz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-10-27.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5365371A. Автор: Kazuya Kamon. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1994-11-15.

Optical unit for an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20050237623A1. Автор: Damian Fiolka,Manfred Maul. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2005-10-27.

Assembly, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20230034958A1. Автор: Stefan Troeger,Thomas Gorius. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-02-02.

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography

Номер патента: US20240111223A1. Автор: Klaus Rief. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-04-04.

Mirror for a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024012978A1. Автор: Sandro Hoffmann,Valentin Jonatan Bolsinger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-18.

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography

Номер патента: US20240012334A1. Автор: Markus Raab,Matthias Manger,Andreas Raba,Mirko Buechsenschuetz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-11.

Mirror element, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20180101002A1. Автор: Martin Hermann,Hartmut Enkisch,Christoph Nottbohm. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-04-12.

Mirror element, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20170176741A1. Автор: Martin Hermann,Hartmut Enkisch,Christoph Nottbohm. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-22.

Wavefront correction element for use in an optical system

Номер патента: US20200033735A1. Автор: Peter Huber. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-01-30.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20200026195A1. Автор: Johannes Lippert,Toralf Gruner,Kerstin Hild. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-01-23.

Optical Element With An Antireflection Coating, Projection Objective, And Exposure Apparatus Comprising Such An Element

Номер патента: US20120038897A1. Автор: Alexandra Pazidis,Christoph Zaczek. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-02-16.

Method for producing a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP4320467A1. Автор: Erik Loopstra,Eric Eva,Christoph Zaczek. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-02-14.

Euv collector for use in an euv projection exposure apparatus

Номер патента: EP3440490A1. Автор: Johannes Zellner,Holger Kierey. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-02-13.

Method for producing a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20240019613A1. Автор: Erik Loopstra,Eric Eva,Christoph Zaczek. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-18.

Mirror, optical system and method for operating an optical system

Номер патента: US20230305290A1. Автор: Toralf Gruner,Bernhard Gellrich,Hartmut Enkisch. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-09-28.

Mirror, more particularly for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20180039001A1. Автор: Anastasia Gonchar. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-02-08.

Optical element, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP3559749A1. Автор: Holger Kierey,Georgo Metalidis,Florian Herold,Ralf Moser,Wolfgang Merkel,Arno Schmittner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-10-30.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP4168857A1. Автор: Toralf Gruner,Daniel Golde,Kerstin Hild,Vitaliy Shklover,Hans Michael Stiepan. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-04-26.

Device and method for influencing the polarization distribution in an optical system

Номер патента: US8077289B2. Автор: Damian Fiolka. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-12-13.

Euv collector for use in an euv projection exposure apparatus

Номер патента: US20190033723A1. Автор: Johannes Zellner,Holger Kierey. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-01-31.

System and projection exposure apparatus

Номер патента: US20230408934A1. Автор: Jens Kugler,Marwene Nefzi. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-12-21.

Pattern exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US20240255855A1. Автор: Masaki Kato,Yasushi Mizuno,Toshiharu Nakashima,Keisuke Hasegawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Microlithography illumination optical system and microlithography projection exposure apparatus including same

Номер патента: US09933704B2. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra,Michael Layh. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-04-03.

Exposure apparatus, device manufacturing method, maintenance method, and exposure method

Номер патента: US7557900B2. Автор: Kenichi Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2009-07-07.

Projection exposure apparatus, method for operating the projection exposure apparatus

Номер патента: WO2023072745A1. Автор: Matthias Hillenbrand,Dirk Ehm,Tobias Härter,Heiner Zwickel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-05-04.

Exposure apparatus and exposure method using the same

Номер патента: US09791783B2. Автор: Baek-Kyun Jeon,Jae-Weon HUR,Hong-Yeon Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

METHOD FOR PRODUCING A REFLECTING OPTICAL ELEMENT OF A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND REFLECTING OPTICAL ELEMENT FOR A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS, PROJECTION LENS AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20210157244A1. Автор: Pauls Walter,Manger Matthias,Petri Christoph,BEZOLD Steffen,KAES Matthias,ALEXEEV Pavel. Владелец: . Дата публикации: 2021-05-27.

Soft X-ray reduction projection exposure apparatus, soft X-ray reduction projection exposure method, and pattern forming method

Номер патента: JP3467485B2. Автор: 勝 笹子,隆弘 松尾. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2003-11-17.

Projection optical system and projection exposure apparatus having the same

Номер патента: US6829041B2. Автор: Yasuyuki Unno. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-12-07.

Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2005081067A1. Автор: Wolfgang Singer,Toralf Gruner,Alexander Epple,Norbert Wabra,Susanne Beder,Bernhard Kneer. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2005-09-01.

Projection exposure apparatus with manipulators

Номер патента: WO2024110341A1. Автор: Stratis Tzoumas,Malte Langenhorst,Jonas Umlauft,Christian LUTZWEILER. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-30.

Projection exposure mask, scan type projection exposure apparatus, and scan type projection exposure method

Номер патента: KR100609943B1. Автор: 이이즈카카즈오,이소하타준지,타나카노부요시. Владелец: 캐논 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2006-08-08.

Method of operating a projection exposure tool for microlithography

Номер патента: US09442381B2. Автор: Ralf Mueller,Christian Wald,Michael Totzeck,Ulrich Loering,Olaf Conradi,Dirk Juergens. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-09-13.

Optical system for microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: JP4843272B2. Автор: トラルフ・グルナー,ヨエルグ・シシュゲイル. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2011-12-21.

Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method

Номер патента: EP1622191A1. Автор: Hironori Ikezawa,Yasuhiro Omura,Kumiko Ishida. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2006-02-01.

Projection exposure apparatus having an alignment sensor for aligning a mask image with a substrate

Номер патента: US5654553A. Автор: Masahiko Okumura,Masaharu Kawakubo. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1997-08-05.

Focusing device for projection exposure apparatus

Номер патента: US4952815A. Автор: Kenji Nishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1990-08-28.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4965630A. Автор: Koichi Matsumoto,Kazuo Ushida,Kyoichi Suwa,Kinya Kato,Toshiyuki Namikawa,Koichi Ohno. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1990-10-23.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5576801A. Автор: Kazuo Ushida,Masaomi Kameyama. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1996-11-19.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4891663A. Автор: Ryusho Hirose. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1990-01-02.

Semiconductor exposure method and apparatus, and a reticle therefor

Номер патента: US6080512A. Автор: Hideki Ina. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2000-06-27.

Illumination device for projection exposure apparatus

Номер патента: US5345292A. Автор: Hiroyuki Ishii,Masato Muraki,Shigeru Hayata,Takahisa Shiozawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1994-09-06.

Optical system, in particular illumination device or projection objective for a microlithography projection exposure apparatus

Номер патента: JP4421604B2. Автор: パツィディス アレクサンドラ,ツァチェク クリストフ. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー. Дата публикации: 2010-02-24.

Exposure apparatus, liquid supply method and recovery method, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: JP5076497B2. Автор: 健一 白石. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-11-21.

Exposure apparatus, exposure method using the same, and method of manufacture of circuit device

Номер патента: US20010043321A1. Автор: Kenji Nishi,Toru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2001-11-22.

Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device

Номер патента: EP3067749A3. Автор: Hiroyuki Nagasaka,Minoru Onda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-11-16.

Projection exposure apparatus for microlithography for the production of semiconductor components

Номер патента: US09513562B2. Автор: Armin Schoeppach,Juergen Huber,Juergen Fischer,Norbert Muehlberger,Armin Werber,Matthias Orth,Thorsten Rassel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-12-06.

Liquid recovery apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US8854599B2. Автор: Hideaki Hara,Dai Arai,Hiroaki Takaiwa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2014-10-07.

Projection exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20020039180A1. Автор: Gerd FÜRTER. Владелец: CARL ZEISS AG. Дата публикации: 2002-04-04.

Projection objective and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US20100085644A1. Автор: Hans-Juergen Rostalski. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-04-08.

Illumination system for a microlithography projection exposure apparatus and projection exposure

Номер патента: WO2007137763A3. Автор: Alexander Kohl. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2008-05-02.

Illumination apparatus, projection exposure apparatus including the illumination apparatus, projection exposure method using the illumination apparatus, and adjustment method of the projection exposure apparatus

Номер патента: JP4065923B2. Автор: 秀基 小松田. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-03-26.

Exposure apparatus, exposure method, method of adjusting pressure of projection optical system and method of assembling exposure apparatus

Номер патента: US20030020888A1. Автор: Toshihiro Miyake,Yasuaki Tanaka,Katsuyuki Akagawa,Jin Nishkawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-01-30.

Projection exposure apparatus, method of manufacturing the projection exposure apparatus, and method of adjusting the projection exposure apparatus

Номер патента: KR100760880B1. Автор: 이와사끼마사야,야마시따오사무. Владелец: 가부시키가이샤 니콘. Дата публикации: 2007-09-21.

Method for modifying a polarization distribution in a microlithographic projection exposure apparatus, and a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: DE102008040611A1. Автор: Damian Fiolka. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-01-28.

MICROLITHOGRAPHY ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM AND MICROLITHOGRAPHY PROJECTION EXPOSURE APPARATUS INCLUDING SAME

Номер патента: US20130077076A1. Автор: Layh Michael,Patra Michael,Deguenther Markus. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-03-28.

METHOD FOR PRODUCING A MIRROR AS AN OPTICAL COMPONENT FOR AN OPTICAL SYSTEM OF A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR PROJECTION LITHOGRAPHY

Номер патента: US20200206855A1. Автор: Hembacher Stefan. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-02.

Optical system, in particular illumination device or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: KR101450362B1. Автор: 다미안 피올카,토랄프 그루너,미카엘 토트젝크. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2014-10-14.

Optical system, in particular illumination device or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2008119794A1. Автор: Damian Fiolka,Toralf Gruner,Michael Totzeck. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2008-10-09.

Focus test mask for projection exposure system, focus monitoring system using the same, and focus monitoring method

Номер патента: US6088113A. Автор: Young-Chang Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2000-07-11.

Apparatus and method for projection exposure

Номер патента: EP1482364B1. Автор: Shinichi Matsunaga,Katsumi Momose,Masaru Yamaga. Владелец: Orc Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2012-02-29.

Apparatus and method for projection exposure

Номер патента: EP0834771A1. Автор: Naomasa Shiraishi. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1998-04-08.

Exposure apparatus, device manufacturing method, maintenance method, and exposure method

Номер патента: US8115902B2. Автор: Kenichi Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-02-14.

Exposure apparatus, device manufacturing method, maintenance method, and exposure method

Номер патента: JPWO2005076323A1. Автор: 健一 白石. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2007-10-18.

Exposure apparatus, device manufacturing method, maintenance method, and exposure method

Номер патента: US20090244503A1. Автор: Kenichi Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2009-10-01.

Projection exposure apparatus and method involving variation and correction of light intensity distributions, detection and control of imaging characteristics, and control of exposure

Номер патента: US6078380A. Автор: Nobutaka Magome,Naomasa Shiraishi,Tetsuo Taniguchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-06-20.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US20140125960A1. Автор: Bunsuke Takeshita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-05-08.

Exposure method, exposure apparatus, and method of manufacturing article

Номер патента: US20190041759A1. Автор: Tadao Nakamura,Ryo Koizumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-02-07.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: EP3745206A1. Автор: Ryo Koizumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-12-02.

Projection exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: EP1355194A3. Автор: Toshihiko Tsuji. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-10-13.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5677757A. Автор: Naomasa Shiraishi,Tetsuo Taniguchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1997-10-14.

Exposure apparatus, exposure method, and device fabrication method

Номер патента: US20080291421A1. Автор: Takafumi Miyaharu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-11-27.

Projection optical apparatus, exposure method and apparatus, photomask, and device and photomask manufacturing method

Номер патента: US20080165334A1. Автор: Hitoshi Hatada,Masato Kumazawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-07-10.

Exposure apparatus

Номер патента: US20240329545A1. Автор: Naoya SOHARA. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2024-10-03.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09726981B2. Автор: Ryo Sasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-08-08.

Maskless exposure apparatus using optical modulator, and method for monitoring pattern generating performance by the optical modulator

Номер патента: US20060066829A1. Автор: Yoshiyuki Sekine. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-03-30.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US20090207400A1. Автор: Shinichiro Hirai,Naoto Hayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-08-20.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20080062391A1. Автор: Yoshiyuki Okada,Yoshinori Uchida. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-03-13.

Exposure apparatus, exposure method, and article manufacturing method

Номер патента: US20230333490A1. Автор: Jun Kawashima,Takahiro Takiguchi,Jun Moizumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-10-19.

Projection exposure system for microlithography and method of monitoring a lateral imaging stability

Номер патента: US9720328B2. Автор: Ulrich Mueller,Matthias Manger,Armin Rauthe-Schoech. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-08-01.

Optical Property Measurement Apparatus and Optical Property Measurement Method, Exposure Apparatus and Exposure Method, and Device Manufacturing Method

Номер патента: US20080043236A1. Автор: Toru Fujii,Yasushi Mizuno,Koji Kaise. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-02-21.

Exposure apparatus and method of decreasing fluctuations in optical characteristics of projection system

Номер патента: US8564758B2. Автор: Takashi Sukegawa,Yasuo Hasegawa,Atsushi Shigenobu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-10-22.

Exposure apparatus

Номер патента: US5559584A. Автор: Masatoshi Ikeda,Akira Miyaji. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1996-09-24.

Exposure method, exposure apparatus, and method for manufacturing article

Номер патента: US20240142879A1. Автор: Jun Moizumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Exposure method, exposure apparatus, and method for manufacturing article

Номер патента: US20240142880A1. Автор: Jun Moizumi,Jinnai Watanabe. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US09817316B2. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Martin von Hodenberg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-14.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US09665006B2. Автор: Volker Graeschus,Toralf Gruner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-05-30.

Projection exposure device and projection exposure method

Номер патента: US20230359126A1. Автор: Yoshiyuki Enomoto. Владелец: V Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Optimization of source, mask and projection optics

Номер патента: US09619603B2. Автор: Yu Cao,Jun Ye,Hanying Feng. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-04-11.

Exposure apparatus, exposure method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20190271922A1. Автор: Manabu Takakuwa. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-09-05.

Exposure apparatus, exposure method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US10921722B2. Автор: Manabu Takakuwa. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2021-02-16.

Blocking element for protecting optical elements in projection exposure apparatuses

Номер патента: US09684243B2. Автор: Joachim Hartjes,Guenther Dengel,Bernhard Sitek,Maik-René Piatkowski. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-20.

X-ray optical apparatus and device fabrication method

Номер патента: US5896438A. Автор: Akira Miyake,Masami Tsukamoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-04-20.

Projection exposure apparatus comprising a manipulator system

Номер патента: WO2024088904A1. Автор: Sebastian Fuchs,Uwe Schellhorn,Ferdinand DJURIC-RISSNER,Malte Langenhorst,Martin Leuermann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-02.

Full-field maskless lithography projection optics

Номер патента: US09411246B2. Автор: David Michael Williamson. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-08-09.

Immersion photolithography system and method using inverted wafer-projection optics interface

Номер патента: US6980277B2. Автор: Harry Sewell. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2005-12-27.

Production control method for a projection exposure apparatus, projection exposure apparatus, and projection exposure method

Номер патента: WO2024099795A1. Автор: Martin Leuermann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-16.

Projection exposure apparatus comprising a manipulator, and method for controlling a projection exposure apparatus

Номер патента: US09760019B2. Автор: Boris Bittner,Holger Walter. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-09-12.

Microlithography projection exposure apparatus having at least two operating states

Номер патента: US09529276B2. Автор: Winfried Kaiser,Hans-Juergen Mann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-12-27.

Immersion photolithography system and method using inverted wafer-projection optics interface

Номер патента: US7898643B2. Автор: Harry Sewell. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2011-03-01.

Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: WO2009020222A1. Автор: Hideki Komatsuda. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2009-02-12.

Projection exposure apparatus including at least one mirror

Номер патента: US09910364B2. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Stefan Rist,Ricarda Schoemer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-03-06.

Projection exposure apparatus with optimized adjustment possibility

Номер патента: US09423696B2. Автор: Boris Bittner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-08-23.

Projection exposure method, system and objective

Номер патента: US09678440B2. Автор: Dirk Juergens. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-13.

Exposure apparatus, photolithographical reticles and exposure methods thereof

Номер патента: US20150205215A1. Автор: Yang Liu,Qiang Wu,Chang Liu,Huayong Hu,Jing'an HAO. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2015-07-23.

Exposure apparatus, photolithographical reticles and exposure methods thereof

Номер патента: US09606451B2. Автор: Yang Liu,Qiang Wu,Chang Liu,Huayong Hu,Jing'an HAO. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US20180136565A1. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Martin von Hodenberg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-17.

Photomask and projection exposure mechanism using the same

Номер патента: US5441835A. Автор: Katsuhiko Harazaki. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 1995-08-15.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20090015845A1. Автор: Toralf Gruner,Joerge Tschischgale. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-01-15.

Blocking element for protecting optical elements in projection exposure apparatuses

Номер патента: US20150177626A1. Автор: Joachim Hartjes,Guenther Dengel,Bernhard Sitek,Maik-René Piatkowski. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-06-25.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: WO2015049319A1. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Martin von Hodenberg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-04-09.

Method for distortion correction in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US7605905B2. Автор: Hans-Jürgen Mann,Bernhard Kneer,Andreas Kirchner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-10-20.

Optical component group, in particular for use in an illumination device of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20240255856A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-08-01.

Projection exposure apparatus with at least one manipulator

Номер патента: US09927714B2. Автор: Boris Bittner,Stefan Rist. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-03-27.

Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09348232B2. Автор: Jan Horn,Christian Kempter,Wolfgang Fallot-Burghardt. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-05-24.

Method and apparatus for projection exposure

Номер патента: US5329335A. Автор: Toshio Wada,Hiroyuki Inoue,Kouhei Eguchi. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 1994-07-12.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US9013680B2. Автор: Damian Fiolka,András G. MAJOR,Ralf Mueller. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-04-21.

Method of setting up a projection exposure system, a projection exposure method and a projection exposure system for microlithography

Номер патента: US20230367231A1. Автор: Toralf Gruner,Eva Schneider,Timur Tudorovskiy. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-11-16.

Microlithographic exposure method as well as a projection exposure system for carrying out the method

Номер патента: US20110069296A1. Автор: Johannes Wangler,Damian Fiolka,Aksel Goehnermeier,Markus Brotsack,Toralf Gruner,Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Nils Dieckmann,Markus Schwab,Markus Zenzinger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-03-24.

Exposure apparatus

Номер патента: EP1901336B1. Автор: Masayuki Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-01-11.

Imaging stabilization apparatus and method for high-performance optical systems

Номер патента: US20040074895A1. Автор: Steve Shannon,Evan Mapoles,David Gaines,Michael Newcomb. Владелец: Ultratech Inc. Дата публикации: 2004-04-22.

Imaging stabilization apparatus and method for high-performance optical systems

Номер патента: US6989515B2. Автор: Steve Shannon,Evan R. Mapoles,Michael A. Newcomb,David P. Gaines. Владелец: Ultratech Inc. Дата публикации: 2006-01-24.

Projection exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US5539497A. Автор: Kenji Nishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1996-07-23.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20160091801A1. Автор: Atsushi Takagi,Tomomi Funayoshi,Yoya Muraguchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-03-31.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09465303B2. Автор: Atsushi Takagi,Tomomi Funayoshi,Yoya Muraguchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Light exposure method, and light exposure apparatus

Номер патента: US9291919B2. Автор: Hiroaki Oizumi. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2016-03-22.

Method for maintaining a projection exposure apparatus, service module and arrangement for semiconductor lithography

Номер патента: US20230072843A1. Автор: Dirk Heinrich Ehm,Jens Kugler,Marwene Nefzi,Benjahman Julius Modeste. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-03-09.

Projection optical system

Номер патента: WO2005064406A3. Автор: Eric Eva,Daniel Kraehmer. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2005-11-24.

Exposure apparatus, structure, method for setting up apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20090168036A1. Автор: Hiromichi Hara,Yasuyo Kawabata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-07-02.

Exposure apparatus, structure, method for setting up apparatus, and device manufacturing method having filling member formed by hardening liquid to support setting leg

Номер патента: US8780329B2. Автор: Hiromichi Hara,Yasuyo Kawabata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-07-15.

Method for maintaining a projection exposure apparatus, service module and arrangement for semiconductor lithography

Номер патента: EP4154063A1. Автор: Jens Kugler,Marwene Nefzi,Dirk Ehm,Benjahman Julius Modeste. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-03-29.

Exposure apparatus and method for cleaning the same

Номер патента: US20160357117A1. Автор: Jinhong Park,Sungjoo Kim,Yun Kyeong Jang,Dohyun Seo,HyunHoon LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-12-08.

Damping arrangement for dissipating oscillating energy of an element in a system, more particularly in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09593733B2. Автор: Markus Hauf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-14.

Arrangement for actuating an element in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09304404B2. Автор: Ulrich Schoenhoff,Bernhard Geuppert,Hans Butler,Juergen Fischer,Robertus Johannes Marinus De Jongh. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-04-05.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09612538B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography having a connecting element

Номер патента: US20240168396A1. Автор: Rodolfo Guglielmi Rabe,Timo Speidel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-23.

Euv optics module for an euv projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024104849A1. Автор: Udo Dinger,Moritz Becker,Stephanus Fengler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-23.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20100196831A1. Автор: Osamu Tsunoda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2010-08-05.

Exposure apparatus and prevention method and system for image offset thereof

Номер патента: US10359709B2. Автор: Chun-Bin Wen. Владелец: Chongqing HKC Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-23.

Exposure apparatus, exposing method, method for manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US09915882B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US7679716B2. Автор: Makoto Nomoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2010-03-16.

Projection exposure apparatus, projection exposure method and method of manufacturing the projection exposure apparatus

Номер патента: US20020180942A1. Автор: Kenji Suzuki,Takashi Mori. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-12-05.

Scanning projection exposure apparatus and aligning method therefor

Номер патента: US20010026897A1. Автор: Shinichi Shima. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-10-04.

Projection exposure method and apparatus

Номер патента: US20020196417A1. Автор: Hiroyoshi Kubo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-12-26.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09857701B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09535339B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-01-03.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US9383660B2. Автор: Toshiyuki Yoshihara,Kazuhiro Tadokoro. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-07-05.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20120293781A1. Автор: Toshiyuki Yoshihara,Kazuhiro Tadokoro. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-11-22.

Evaluation method, storage medium, exposure apparatus, exposure method, and method of manufacturing article

Номер патента: US09996916B2. Автор: Tomohiro Hoshino,Ryo Sasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-06-12.

Exposure apparatus, exposure method, and method of manufacturing article

Номер патента: US09766548B2. Автор: Bunsuke Takeshita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-09-19.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US09454087B2. Автор: Kenichi Kobayashi,Hitoshi Nakano,Takahito Chibana. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-09-27.

Exposure method and apparatus

Номер патента: US20060268255A1. Автор: Yoshihiro Shiode,Seiya Miura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-11-30.

Projection exposure apparatus having a filter arranged in its projection optical system and method for protecting circuit patterns

Номер патента: US6118516A. Автор: Nobutaka Magome,Shigeru Hirukawa,Naomasa Shiraishi,Yasuaki Tanaka,Nobuyuki Irie. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-09-12.

Projection exposure method and apparatus in which scanning exposure is performed in accordance with a shot layout of mask patterns

Номер патента: US5793471A. Автор: Yuichi Yamada,Shigeyuki Uzawa,Tsuneo Kanda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1998-08-11.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US20240231238A9. Автор: Shohei Iwata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US8294875B2. Автор: Yoshinori Ohsaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-10-23.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09910371B2. Автор: Kentaro Kawanami. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-03-06.

Exposure apparatus, exposure method, and article manufacturing method

Номер патента: EP4455793A2. Автор: Junichi Motojima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-10-30.

Exposure apparatus, exposure method, and article manufacturing method

Номер патента: US20240361707A1. Автор: Junichi Motojima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-10-31.

Mask alignment mark, photomask, exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method of device

Номер патента: US09772566B2. Автор: Kazuo Tawarayama,Nobuhiro Komine. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2017-09-26.

Projection exposure apparatus and method

Номер патента: US5751403A. Автор: Hideo Mizutani,Tohru Kawaguchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-05-12.

Exposure apparatus with interferometer

Номер патента: US7023561B2. Автор: Eiichi Murakami,Osamu Kakuchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-04-04.

Projection exposure method and apparatus to determine optical performance of reticle

Номер патента: US5686984A. Автор: Akiyoshi Suzuki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1997-11-11.

Immersion exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20090091721A1. Автор: Kaoru Ogino. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-04-09.

Exposure apparatus

Номер патента: US20010015798A1. Автор: Kazuhiro Takahashi,Yoshiyuki Nagai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-08-23.

Immersion type projection exposure apparatus

Номер патента: US5610683A. Автор: Kazuo Takahashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1997-03-11.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4780747A. Автор: Hideo Mizutani,Kazuaki Suzuki,Hidemi Kawai. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1988-10-25.

Projection exposure apparatus and device manufacturing method using the same

Номер патента: US20020097758A1. Автор: Masakatsu Ota,Naoto Sano. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-07-25.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5719704A. Автор: Yuji Kudo,Naomasa Shiraishi,Saburo Kamiya. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-02-17.

Exposure method, exposure apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US09891525B2. Автор: Nobuhiko Yabu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-02-13.

Mask, exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09563116B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-02-07.

Immersion Lithography Apparatus and Exposure Method

Номер патента: US20080106713A1. Автор: Takuya Kono,Makiko Katano,Ayako Mizuno. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-05-08.

Flare-measuring mask, flare-measuring method, and exposure method

Номер патента: US09529251B2. Автор: Masayuki Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-12-27.

Projection exposure methods and systems

Номер патента: US20090280437A1. Автор: Paul Graeupner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-11-12.

Exposure apparatus

Номер патента: US09703212B2. Автор: Masaru Suzuki. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US09513564B2. Автор: Kazuyoshi Ozawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Projection exposure apparatus and method which uses multiple diffraction gratings in order to produce a solid state device with fine patterns

Номер патента: US5715039A. Автор: Hiroshi Fukuda,Rudolf Murai von Bunau. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1998-02-03.

Exposure apparatus

Номер патента: US20240329549A1. Автор: Hiroyuki Suzuki,Naoya SOHARA. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2024-10-03.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4370054A. Автор: Hironori Yamamoto,Junji Isohata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1983-01-25.

Optical apparatus, photomask inspecting apparatus, and exposure apparatus

Номер патента: US20090244531A1. Автор: Akira Takada. Владелец: Topcon Corp. Дата публикации: 2009-10-01.

Exposure apparatus, manufacturing method of flat-panel display, device manufacturing method, and exposure method

Номер патента: US20200174373A1. Автор: Yasuo Aoki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2020-06-04.

Projection exposure device and projection exposure method thereof

Номер патента: SG11201810475VA. Автор: Hideto Kotani,Takamasa Oba,Ryowa Tanaka. Владелец: CERMA PRECISION Inc. Дата публикации: 2018-12-28.

Position measurement method, position control method, measurement method, loading method, exposure method and exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US9298108B2. Автор: Masahiko Yasuda,Taro Sugihara. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-03-29.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US20190033724A1. Автор: Masaki Mizutani. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-01-31.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US10663867B2. Автор: Masaki Mizutani. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-05-26.

Scanning exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20090274983A1. Автор: Makiko Ogasawara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-11-05.

Scanning exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US8248580B2. Автор: Makiko Ogasawara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-08-21.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09885963B2. Автор: Hideki Matsumoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-02-06.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09874823B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-01-23.

Exposure apparatus and method for producing device

Номер патента: US7242455B2. Автор: Masahiro Nei,Shigeru Hirukawa,Naoyuki Kobayashi,Hiroshi Chiba. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2007-07-10.

Projection exposure apparatus and method for controlling a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2013185919A1. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-12-19.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus and method of reducing image placement errors

Номер патента: US09785052B2. Автор: Dirk Hellweg,Joerg Zimmermann,Johannes Ruoff,Jens Timo NEUMANN,Dirk Juergens. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-10-10.

Exposure apparatus and method for manufacturing device

Номер патента: US7480029B2. Автор: Hideaki Hara. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2009-01-20.

Coupling apparatus, exposure apparatus, and device fabricating method

Номер патента: US8228484B2. Автор: KAZUYA Ono,Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-07-24.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US6714281B1. Автор: Osamu Morimoto,Toshitaka Amano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-03-30.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US20140218712A1. Автор: Toshiki Iwai,Ryo Sasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-08-07.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US20120008122A1. Автор: Toshiki Iwai,Ryo Sasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-01-12.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20200371443A1. Автор: Akio Akamatsu,Akihito Hashimoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-11-26.

Exposure apparatus and method for manufacturing device

Номер патента: US7580114B2. Автор: Hiroyuki Nagasaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2009-08-25.

Scanning exposure apparatus with surface position detecting system

Номер патента: US6023320A. Автор: Haruna Kawashima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2000-02-08.

Scanning exposure apparatus, scanning exposure method and mask

Номер патента: US20020159041A1. Автор: Makoto Tsuchiya. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-10-31.

Two-sided substrate imaging using single-approach projection optics

Номер патента: US20020024642A1. Автор: Marc Zemel. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-02-28.

Movable body drive system and movable body drive method, pattern formation apparatus and method, exposure apparatus and method, device manufacturing method, and decision-making method

Номер патента: US10073359B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-09-11.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US20060209281A1. Автор: Tatsuya Hayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-09-21.

Exposure apparatus and method

Номер патента: US7227615B2. Автор: Toshinobu Tokita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2007-06-05.

Exposure apparatus and a device manufacturing method which keep temperature of a diaphragm of a projection optical system substantially constant

Номер патента: US20030043352A1. Автор: Akiyoshi Suzuki,Yuji Sudoh. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-06.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US20200019066A1. Автор: Takafumi Miyaharu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-01-16.

Measuring an optical symmetry property on a projection exposure apparatus

Номер патента: US09703205B2. Автор: Frank Schlesener,Jens Timo NEUMANN. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-07-11.

Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device

Номер патента: US7453550B2. Автор: Soichi Owa,Hiroyuki Nagasaka,Yasugumi Nishii. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-11-18.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US8456609B2. Автор: Makoto Shibuta. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2013-06-04.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US8294876B2. Автор: Shigeru Hirukawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-10-23.

Measuring apparatus and exposure apparatus having the same

Номер патента: US20060238736A1. Автор: Takahisa Shiozawa,Takafumi Miyaharu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-10-26.

Exposure apparatus, exposure method, and method of manufacturing article

Номер патента: US20200409276A1. Автор: Koji Mikami,Ryo Koizumi,Jun Moizumi,Kouki Miyano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-12-31.

Control apparatus and method for controlling a manipulator in respect of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20200225587A1. Автор: Christian Wald,Bjoern Butscher. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-07-16.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: EP1670043A4. Автор: Osamu Tanitsu,Hisashi Nishinaga,Mitsunori Toyoda,Masahiro Nakagawa,Yasushi Mizuno,Tsuneyuki Hagiwara,Ikuo Hikima,Naonori Kita,Nozomu Emura. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-07-30.

Exposure apparatus, exposure method, method for manufacturing device

Номер патента: US20110235006A1. Автор: Yoshitomo Nagahashi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-09-29.

Exposure apparatus

Номер патента: US6049372A. Автор: Kinya Kato,Kei Nara,Yukio Kakizaki,Hiroshi Shirasu. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-04-11.

Exposure apparatus, exposure method, and device fabrication method

Номер патента: US7932996B2. Автор: Susumu Makinouchi,Motokatsu Imai. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-04-26.

Exposure apparatus, exposure method, and device fabrication method

Номер патента: US8272544B2. Автор: Susumu Makinouchi,Motokatsu Imai. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-09-25.

Coupling apparatus, exposure apparatus, and device fabricating method

Номер патента: US8120751B2. Автор: KAZUYA Ono,Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-02-21.

Extreme ultraviolet exposure apparatus and method, and method of manufacturing semiconductor device by using the exposure method

Номер патента: US10969691B2. Автор: Seung-Yoon Lee,Doo-gyu LEE,Chan-sam Chang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-04-06.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: EP4361728A1. Автор: Shohei Iwata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-05-01.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US20240134286A1. Автор: Shohei Iwata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Measuring method, adjustment method for stage movement characteristics, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US8072579B2. Автор: Yusuke Tokuyama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-12-06.

Exposure apparatus, exposure method and method for producing a device

Номер патента: EP3462241A1. Автор: Hiroyuki Nagasaka,Kenichi Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2019-04-03.

Measurement method, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: EP1808883A1. Автор: Tsuneyuki NIKON CORPORATION HAGIWARA. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2007-07-18.

Exposure apparatus and device manufacturing method using the same

Номер патента: EP1170634A1. Автор: Mitsuru Inoue,Ryuichi Ebinuma,Kazunori Iwamoto,Eiji Osanai,Hiroaki Takeishi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2002-01-09.

Immersion exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US8164754B2. Автор: Nobuyuki Saito,Haruna Kawashima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-04-24.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20090237633A1. Автор: Shinichi Shima,Yasuo Takama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-09-24.

Immersion exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20090268176A1. Автор: Nobuyuki Saito,Haruna Kawashima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-10-29.

Carrier method, exposure method, carrier system and exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US09835958B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-12-05.

Optimization flows of source, mask and projection optics

Номер патента: US09588438B2. Автор: Rafael C. Howell,Luoqi Chen,Hanying Feng,Yi-Fan Chen,Duan-Fu Hsu,Xinjian Zhou. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-03-07.

Exposure method, exposure apparatus, and method for producing device

Номер патента: US9354525B2. Автор: Hiroyuki Nagasaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-05-31.

EUV microlithography projection exposure apparatus with a heat light source

Номер патента: US09588435B2. Автор: Damian Fiolka. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-07.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US8797505B2. Автор: Hiroyuki Nagasaka,Takeshi Okuyama. Владелец: Nikon Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2014-08-05.

Detection apparatus, measurement apparatus, exposure apparatus, method of manufacturing article, and measurement method

Номер патента: US20160070175A1. Автор: Akio Akamatsu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-03-10.

Optical system for a microlithographic projection exposure apparatus and microlithographic exposure method

Номер патента: US20110063597A1. Автор: Markus Mengel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-03-17.

Immersion lithography with equalized pressure on at least projection optics component and wafer

Номер патента: US20060289794A1. Автор: Steven Holmes,Toshiharu Furukawa,Mark Hakey,David Horak,Peter Mitchell. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2006-12-28.

Immersion lithography with equalized pressure on at least projection optics component and wafer

Номер патента: US20080165335A1. Автор: Peter H. Mitchell,Mark C. Hakey,Toshiharu Furukawa,Steven J. Holmes,David V. Horak. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-07-10.

Exposure apparatus

Номер патента: US20070053033A1. Автор: Takahisa Shiozawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2007-03-08.

Exposure apparatus

Номер патента: US20080218719A1. Автор: Takahisa Shiozawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-09-11.

Exposure apparatus

Номер патента: US20040246456A1. Автор: Takahisa Shiozawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-12-09.

Optical system, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP3482257A1. Автор: Hartmut Enkisch,Thomas Schicketanz,Oliver Dier,Matus Kalisky. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-05-15.

Microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP2198344A1. Автор: Arif Kazi,Sascha Bleidistel,Aurelian Dodoc,Olaf Conradi. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-06-23.

Exposure apparatus to correct position between reticle and substrate according to propagation time and shifting rate

Номер патента: US8179518B2. Автор: Yukio Takabayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-05-15.

Exposure equipment, exposure method and device manufacturing method

Номер патента: EP1768170A1. Автор: Hiroyuki NIKON CORPORATION I.P. Dept. NAGASAKA,Takeshi NIKON CORPORATION I.P. Dept. OKUYAMA. Владелец: Nikon Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2007-03-28.

Measurement method, exposure method, exposure apparatus, and device fabrication method

Номер патента: US20080170240A1. Автор: Kenji Yamazoe. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-07-17.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US20190204756A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-07-04.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US20200096877A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-03-26.

Sensor Apparatus and Method for Lithographic Measurements

Номер патента: US20210271178A1. Автор: Alessandro POLO,Simon Reinald HUISMAN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2021-09-02.

Production method of projection optical system

Номер патента: US6788389B2. Автор: Takeshi Suzuki,Hironori Ikezawa,Yasuhiro Omura,Youhei Fujishima,Toshihiko Ozawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2004-09-07.

Projection optical apparatus for mask to substrate alignment

Номер патента: US4780616A. Автор: Kenji Nishi,Makoto Uehara,Kazuaki Suzuki,Hidemi Kawai. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1988-10-25.

Exposure apparatus, wafer stage and exposure order setting device

Номер патента: US20160266504A1. Автор: Masaru Suzuki. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-09-15.

Flare-measuring mask, flare-measuring method, and exposure method

Номер патента: US20150138559A1. Автор: Masayuki Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2015-05-21.

Flare-measuring mask, flare-measuring method, and exposure method

Номер патента: WO2010101048A1. Автор: Masayuki Shiraishi. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2010-09-10.

Flare-measuring mask, flare-measuring method, and exposure method

Номер патента: US20100227261A1. Автор: Masayuki Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2010-09-09.

Maskless exposure apparatus and method, and manufacturing method of a semiconductor device including the maskless exposure method

Номер патента: US20210165331A1. Автор: Sang-hyun Park,Jae-Young Jang,Eui-seok Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-06-03.

Management apparatus, exposure method, and method of manufacturing device

Номер патента: US20110063593A1. Автор: Tsuneo Kanda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-03-17.

Exposure apparatus, measurement apparatus, measurement method, and device manufacturing method

Номер патента: EP4202549A1. Автор: Yoji Watanabe. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2023-06-28.

Substrate transport apparatus and method, exposure apparatus and exposure method, and device fabricating method

Номер патента: US7898645B2. Автор: Takashi Horiuchi,Nobuyoshi Tanno. Владелец: Zao Nikon Co Ltd. Дата публикации: 2011-03-01.

Exposure method

Номер патента: US5448333A. Автор: Hiroki Tateno,Yoshichika Iwamoto. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1995-09-05.

Pattern formation method, pattern formation apparatus, exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20090135399A1. Автор: Soichi Owa,Shigeru Hirukawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2009-05-28.

Module for a projection exposure apparatus, method, and projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024153656A1. Автор: Matthias Manger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-07-25.

Exposure apparatus

Номер патента: US5523574A. Автор: Tomohide Hamada,Hiroshi Shirasu. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1996-06-04.

Exposure apparatus, exposure method, method for producing the device and optical part

Номер патента: IL176057A. Автор: Shigeru Hirukawa,Hiroyuki Nagasaka,Hitoshi Ishizawa,Hiroaki Takaiwa,Ryuichi Hoshika. Владелец: Ryuichi Hoshika. Дата публикации: 2013-01-31.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US20120320360A1. Автор: Shinichi Hirano,Kohei Yamada. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-12-20.

Exposure apparatus, measuring device, measuring method, and device manufacturing method

Номер патента: US20240027917A1. Автор: Yoji Watanabe. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-01-25.

Optical system in an illumination device of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2013060561A1. Автор: Ingo Sänger,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-05-02.

Determination method, exposure method, and storage medium

Номер патента: US20120051622A1. Автор: Hiroyuki Ishii,Koji Mikami,Youzou Fukagawa,Yuichi Gyoda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-03-01.

Near-field exposure apparatus and near-field exposure method

Номер патента: WO2008047818A1. Автор: Toshiki Ito,Natsuhiko Mizutani,Yasuhisa Inao. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2008-04-24.

Scanning exposure methods

Номер патента: US20010038959A1. Автор: Akimitsu Ebihara. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2001-11-08.

Near-field exposure apparatus and near-field exposure method

Номер патента: US7871744B2. Автор: Toshiki Ito,Natsuhiko Mizutani,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-01-18.

Near-field exposure apparatus and near-field exposure method

Номер патента: US20090311631A1. Автор: Toshiki Ito,Natsuhiko Mizutani,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-12-17.

Near-field exposure apparatus and near-field exposure method

Номер патента: WO2008047818A8. Автор: Toshiki Ito,Natsuhiko Mizutani,Yasuhisa Inao. Владелец: Yasuhisa Inao. Дата публикации: 2008-06-19.

Exposure apparatus, method of controlling the same, and manufacturing method

Номер патента: US20080259347A1. Автор: Yasutomo Kurono. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-10-23.

Computer readable medium and exposure method

Номер патента: US20100053580A1. Автор: Yoshiyuki Sekine,Kenji Yamazoe. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2010-03-04.

Method for measuring an angularly resolved intensity distribution and projection exposure apparatus

Номер патента: US09915871B2. Автор: Dirk Hellweg,Wolfgang Emer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-03-13.

Exposure system, exposure method and method for manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US7436491B2. Автор: Kazuya Fukuhara. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2008-10-14.

Method for measuring an angularly resolved intensity distribution and projection exposure apparatus

Номер патента: US20180299787A1. Автор: Dirk Hellweg,Wolfgang Emer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-10-18.

Light intensity distribution measurement apparatus and measurement method, and exposure apparatus

Номер патента: US20090180094A1. Автор: Akinori Ohkubo. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-07-16.

Imaging characteristic and asymetric abrerration measurement of projection optical system

Номер патента: US5615006A. Автор: Takeshi Kato,Kyoichi Suwa,Shigeru Hirukawa,Shinjiro Kondo. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1997-03-25.

Exposure apparatus and methods

Номер патента: WO2010013052A3. Автор: Peter Anthony Ivey,Alan Purvis,Richard Peter Mcwilliam,Gavin Lewis Williams,Dr Nicholas Luke Seed,Richard Ian Curry,Jose Juan De Jesus Toris-Garcia. Владелец: University of Sheffield. Дата публикации: 2010-04-01.

Exposure apparatus and methods

Номер патента: EP2321702A2. Автор: Peter Anthony Ivey,Alan Purvis,Richard Peter Mcwilliam,Gavin Lewis Williams,Dr Nicholas Luke Seed,Richard Ian Curry,Jose Juan De Jesus TORIZ-GARCIA. Владелец: University of Sheffield. Дата публикации: 2011-05-18.

Exposure apparatus and methods

Номер патента: WO2010013052A2. Автор: Peter Anthony Ivey,Alan Purvis,Richard Peter Mcwilliam,Gavin Lewis Williams,Dr Nicholas Luke Seed,Richard Ian Curry,Jose Juan De Jesus Toris-Garcia. Владелец: University of Sheffield. Дата публикации: 2010-02-04.

Projection exposure apparatus which determines the minimum number of shots to optimially expose the substrate surface

Номер патента: US5654792A. Автор: Masami Yonekawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1997-08-05.

Substrate conveyance device and substrate conveyance method, exposure apparatus and exposure method, device manufacturing method

Номер патента: US8345216B2. Автор: Takashi Horiuchi,Atsushi Ohta. Владелец: Zao Nikon Co Ltd. Дата публикации: 2013-01-01.

Maskless exposure method

Номер патента: US20090262319A1. Автор: Seiji Ishikawa,Toshimasa Ishigaki,Hiroyasu Matsuura,Tadamichi Wachi. Владелец: Hitachi Displays Ltd. Дата публикации: 2009-10-22.

Lithographic projection apparatus and device manufacturing method

Номер патента: WO2005064407A3. Автор: Peter Dirksen. Владелец: Peter Dirksen. Дата публикации: 2006-02-23.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US20160004166A1. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-01-07.

Euv exposure apparatus, and overlay correction method and semiconductor device fabricating method using the same

Номер патента: US20210397079A1. Автор: Jeongjin Lee,Chan Hwang,Seungyoon LEE,Doogyu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-12-23.

Euv exposure apparatus, and overlay correction method and semiconductor device fabricating method using the same

Номер патента: US20210333701A1. Автор: Jeongjin Lee,Chan Hwang,Seungyoon LEE,Doogyu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-10-28.

Projection exposure apparatus using wavefront detection

Номер патента: US20030210388A1. Автор: Ryo Sasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2003-11-13.

Exposure apparatus, and method of manufacturing device

Номер патента: US09829794B2. Автор: Nobuyuki Saito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Exposure apparatus, exposure method, method of manufacturing device, program, and storage medium

Номер патента: US09494876B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Projection exposure apparatus and stage unit, and exposure method

Номер патента: US20110019170A1. Автор: Yasunaga Kayama,Dai Arai. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-01-27.

Exposure apparatus, exposure method and semiconductor device fabricated with the exposure method

Номер патента: US6717652B2. Автор: Toshifumi Suganaga. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2004-04-06.

Exposure apparatus, exposure method and semiconductor device fabricated with the exposure method

Номер патента: US20020072000A1. Автор: Toshifumi Suganaga. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2002-06-13.

Projection exposure methods and systems

Номер патента: US09885958B2. Автор: Paul Graeupner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-02-06.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US8253931B2. Автор: Takafumi Miyaharu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-08-28.

Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device

Номер патента: US9182684B2. Автор: Hiroyuki Nagasaka,Yasufumi Nishii. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2015-11-10.

Exposure apparatus and photo mask

Номер патента: US5541026A. Автор: Koichi Matsumoto. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1996-07-30.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US09500955B2. Автор: CAN Wang,Jianwei Yu. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Reticle for exposure, exposure method and production method of semiconductor wafer

Номер патента: US20130101925A1. Автор: Hironobu Shimizu. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2013-04-25.

Exposure method and apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20020140915A1. Автор: Yoshinori Miwa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-03.

Exposure method, exposure apparatus and cleaning method

Номер патента: US20130201460A1. Автор: Yasuhisa Tani. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2013-08-08.

Reticle transmittance measurement method, projection exposure method using the same, and projection exposure device

Номер патента: US09904170B2. Автор: Michihiro Murata,Yutaka Gomi. Владелец: Ablic Inc. Дата публикации: 2018-02-27.

Projection exposure apparatus and device manufacturing method capable of controlling polarization direction

Номер патента: US5933219A. Автор: Yasuyuki Unno. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-08-03.

Exposure method, exposure device, and device manufacturing method

Номер патента: EP1632991A1. Автор: Hiroyuki c/o NIKON CORPORATION NAGASAKA. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2006-03-08.

exposure apparatus, device manufacturing method and maintenance method

Номер патента: EP2256790A2. Автор: Kenichi Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2010-12-01.

Reticle for projection exposure apparatus and exposure method using the same

Номер патента: US20090225294A1. Автор: Daisuke Okano. Владелец: Seiko Instruments Inc. Дата публикации: 2009-09-10.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09983483B2. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra,Stig Bieling,Markus Schwab,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-29.

Illumination system for illuminating a mask in a microlithographic exposure apparatus

Номер патента: US09977333B2. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra,Michael Layh,Erich Schubert,Alexander Kohl,Gerhard-Wilhelm Ziegler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-22.

EUV light source for a lighting device of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09823571B2. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-21.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09703206B2. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-07-11.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09678438B2. Автор: Michael Patra,Markus Schwab. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-13.

Illumination system for illuminating a mask in a microlithographic exposure apparatus

Номер патента: US09599904B2. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra,Michael Layh,Erich Schubert,Alexander Kohl,Gerhard-Wilhelm Ziegler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-21.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09477157B2. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra,Stig Bieling,Markus Schwab,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-10-25.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09341957B2. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-05-17.

Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus using it

Номер патента: US5798823A. Автор: Yuji Kudo. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-08-25.

Exposure method using reticle remount for temperature influence correction

Номер патента: US6103433A. Автор: Yukio Tokuda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2000-08-15.

Projection exposure apparatus and method for measuring a projection lens

Номер патента: EP3423902A1. Автор: Frank Schadt,Eugen Foca,Uwe Hempelmann,Frank Schleicher. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-01-09.

Stop apparatus for delimiting a beam path between a light source and an illumination optical unit of a projection exposure apparatus for projection lithography

Номер патента: NL2029213B1. Автор: Patra Michael. Владелец: Zeiss Carl Smt Gmbh. Дата публикации: 2023-09-15.

Measuring method, adjustment method for stage movement characteristics, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US20090257045A1. Автор: Yusuke Tokuyama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-10-15.

Measuring an optical symmetry property on a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2014139651A1. Автор: Frank Schlesener,Jens Timo NEUMANN. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-09-18.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09753378B2. Автор: Junichi Chonan. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-09-05.

Exposure apparatus and measuring device for a projection lens

Номер патента: US8330935B2. Автор: Karl-Heinz Schuster,Toralf Gruner,Ulrich Wegmann,Albrecht Ehrmann,Bernhard Geuppert,Norbert Wabra,Jens Kugler,Ulrich Loering,Joerg Mallmann,Rainer Hoch,Bernhard Kneer,Franz Sorg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-12-11.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2014114494A1. Автор: Ingo Sänger,Christoph Hennerkes. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-07-31.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US9405202B2. Автор: Christoph Hennerkes,Ingo Saenger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-08-02.

Exposure apparatus

Номер патента: US20100245789A1. Автор: Yuichi Iwasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2010-09-30.

Illumination apparatus and projection exposure apparatus using the same

Номер патента: US20020109108A1. Автор: Satoru Mizouchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-15.

Assembly for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024099636A1. Автор: Thomas Monz,Julian Zips. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-16.

Method for producing or setting a projection exposure apparatus

Номер патента: US20220043358A1. Автор: Rolf Freimann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-02-10.

[substrate exposure apparatus and method]

Номер патента: US20040165163A1. Автор: Kuo-Tso Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-26.

Illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20130265559A1. Автор: Nobuyuki Saito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-10-10.

Illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US9140991B2. Автор: Nobuyuki Saito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-09-22.

Irradiation strength distribution measuring apparatus and method of measuring

Номер патента: WO2008089898A1. Автор: Rolf Freimann. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2008-07-31.

Exposure method, exposure apparatus, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20210294205A1. Автор: Manabu Takakuwa,Hayato Terai. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-09-23.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US09977337B2. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Shoji Kojima. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Reticle transmittance measurement method, and projection exposure method using the same

Номер патента: US09733567B2. Автор: Michihiro Murata,Yutaka Gomi. Владелец: Ablic Inc. Дата публикации: 2017-08-15.

Optical system for a lithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20240012333A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-11.

Optical system for a lithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP4314949A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-02-07.

Method for measuring an angularly resolved intensity distribution and projection exposure apparatus

Номер патента: US20140009764A1. Автор: Dirk Hellweg,Wolfgang Emer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-01-09.

Method of forming photoresist pattern and projection exposure apparatus

Номер патента: US20230185201A1. Автор: Kanyu Cao. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-06-15.

Method for measuring an angularly resolved intensity distribution and projection exposure apparatus

Номер патента: US20160011520A1. Автор: Dirk Hellweg,Wolfgang Emer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-01-14.

Exposure method, exposure apparatus, and method of manufacturing device

Номер патента: US8390809B2. Автор: Nozomu Hayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-03-05.

Exposure method, exposure apparatus, and method of manufacturing device

Номер патента: US09541845B2. Автор: Yoshihiro Omameuda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5317450A. Автор: Kazuya Kamon. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1994-05-31.

Residual gas analyser, projection exposure apparatus comprising a residual gas analyser and method of residual gas analysis

Номер патента: WO2024017606A1. Автор: Kai Kroll,Thorsten Benter,Hendrik Kersten,Achim SCHOELL,Marco Thinius. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-25.

Mask data generation program, mask data generation method, mask fabrication method, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: EP1903390A3. Автор: Kenji Yamazoe. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-03-13.

Illumination device, exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20030007137A1. Автор: Takehiko Iwanaga. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2003-01-09.

Method for stress-adjusted operation of a projection exposure system and corresponding projection exposure system

Номер патента: US09696631B2. Автор: Markus Deguenther,Toralf Gruner,Bernhard Kneer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-07-04.

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography

Номер патента: WO2024013177A1. Автор: Carlos Alberto Jansen,Alexander Fritzkowski,Eric van Rijen. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-18.

Exposure method, exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20180364607A1. Автор: Yoshio Goto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-12-20.

Alignment system and alignment method in exposure apparatus

Номер патента: US20020024644A1. Автор: Hideki Ina,Seiji Miyata. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-02-28.

Projection exposure tool for microlithography and method for microlithographic exposure

Номер патента: WO2012041458A3. Автор: Helmut Haidner,Markus GÖPPERT,Carmen Hettich. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-11-08.

Facet mirror, illumination optical unit, arrangement of a facet mirror, projection exposure apparatus and method for producing a nanostructured component

Номер патента: WO2024061733A1. Автор: Martin Endres. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-03-28.

Direct exposure apparatus and direct exposure method

Номер патента: US7486383B2. Автор: Takahiro Inoue,Kazunari Sekigawa,Hiroaki Samizu. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2009-02-03.

Exposure apparatus and exposure method thereof

Номер патента: US09746777B2. Автор: Chien-Li Chen,Wen-Yen Yen,Yen-Chen Liao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-08-29.

Illuminating optical system for use in projecting exposure device

Номер патента: US5695274A. Автор: Hitoshi Ohashi,Yasuhiro Kamihara. Владелец: Olympus Optical Co Ltd. Дата публикации: 1997-12-09.

Microlithographic Projection Exposure Apparatus

Номер патента: US20080192224A1. Автор: Markus DEGÜNTHER,Toralf Gruner,Alexander Epple. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-08-14.

Reticle, reticle-chuck, reticle positioning system and optical system

Номер патента: WO2013174398A1. Автор: Dirk Heinrich Ehm,Thomas Ihl,Moritz Becker,Stefan-Wolfgang Schmidt,Vera Butscher. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-11-28.

Exposure apparatus, control method of exposure apparatus, information processing apparatus, information processing method, and article manufacturing method

Номер патента: US20240126182A1. Автор: Jun Moizumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-04-18.

Interferometer system, wavefront analysis system, projection system, lithographic apparatus and method to analyze a wavefront of a light beam of an heterodyne interferometer system

Номер патента: WO2024175282A1. Автор: Maarten Jozef Jansen. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-08-29.

Prediction apparatus and method for optical source

Номер патента: US20240319612A1. Автор: Russell Allen BURDT,Jung Yoon SHIN. Владелец: Cymer LLC. Дата публикации: 2024-09-26.

Light source apparatus and data processing method

Номер патента: US09841684B2. Автор: Hiroshi Tanaka,Osamu Wakabayashi,Masato Moriya,Hiroyuki Masuda,Akihiko KUROSU,Hideyuki Ochiai. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-12-12.

Exposure apparatus and a method for exposing a photosensitive element and a method for preparing a printing form from the photosensitive element

Номер патента: US09529263B2. Автор: Rolf Schwan,Helmut Luetke,Volker Struewe. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2016-12-27.

Illumination system and polarizer for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US7408622B2. Автор: Damian Fiolka,Manfred Maul,Axel Scholz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-08-05.

Illumination system and polarizer for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20080239273A1. Автор: Damian Fiolka,Manfred Maul,Axel Scholz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-10-02.

Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2005103826A1. Автор: Wolfgang Singer,Johannes Wangler. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2005-11-03.

Optical arrangement, in particular projection exposure apparatus for EUV lithography, as well as reflective optical element with reduced contamination

Номер патента: US8585224B2. Автор: Dirk Heinrich Ehm,Stephan Muellender,Thomas Stein,Johannes Hubertus Josephina Moors,Bastiaan Theodoor Wolschrijn,Dieter Kraus,Richard Versluis,Marcus Gerhardus Hendrikus Meijerink. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2013-11-19.

Projection exposure apparatus

Номер патента: WO2012028569A9. Автор: Dirk Heinrich Ehm,Oliver Dier,Stefan-Wolfgang Schmidt. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-06-07.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20130258303A1. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-10-03.

Method for measuring orthogonality in a stage of an exposure apparatus

Номер патента: US5995225A. Автор: Shuji Kawamura,Tsuyoshi Naraki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1999-11-30.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20180217507A1. Автор: Hartmut Enkisch,Oliver Dier,Kerstin Hild,Matus Kalisky. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-08-02.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20100321661A1. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-12-23.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20180024439A1. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-01-25.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2009106217A1. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2009-09-03.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US8467033B2. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-06-18.

Maskless exposure apparatus and method

Номер патента: US9052599B2. Автор: Sung Min Ahn,Sang Don Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2015-06-09.

Coating/developing apparatus and substrate transfer method

Номер патента: US20080117390A1. Автор: Akira Miyata,Tomohiro Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-05-22.

Substrate holding apparatus, exposure apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US20190369506A1. Автор: Akihiro Takahashi,Noboru Osaka,Shunya Sakata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-12-05.

Exposure apparatus

Номер патента: EP4443242A1. Автор: Yi Lu,Keqiang Li,Xiaosong Liu,Zhiyang Wu. Владелец: Contemporary Amperex Technology Hong Kong Ltd. Дата публикации: 2024-10-09.

Optical apparatus and manufacturing method using the same

Номер патента: US09690200B2. Автор: Jongjin Lee,Hikuk Lee,Inbae CHANG,Sangjoon Hong,Sangdon Jang. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5300967A. Автор: Kazuya Kamon. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1994-04-05.

Projection exposure apparatus having an off-axis alignment system and method of alignment therefor

Номер патента: USRE36730E. Автор: Kenji Nishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-06-13.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20160077444A1. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-03-17.

Exposure apparatus, exposure method, and exposure mask

Номер патента: EP1782456A4. Автор: Natsuhiko Mizutani,Ryo Kuroda,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-07-30.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032043B1. Автор: Miyashita Koutaro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-05-17.

Semiconductor exposure method and method of controlling semiconductor exposure apparatus

Номер патента: US20070182948A1. Автор: Benjamin Szu-Min Lin,Sho-Shen Lee. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2007-08-09.

X-ray exposure apparatus and method, semiconductor manufacturing apparatus, and microstructure

Номер патента: US20020048341A1. Автор: Shunichi Uzawa,Yutaka Watanabe,Toyoki Kitayama,Kenji Itoga. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-04-25.

Arrangement apparatus and arrangement method

Номер патента: US12112962B2. Автор: Kohei Seyama. Владелец: Shinkawa Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Movable body apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09977345B2. Автор: Yasuo Aoki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Apparatus and method of controlling chuck, and exposure apparatus and control method thereof

Номер патента: US09507272B2. Автор: Sang Don Jang,Tae Kyu Son,Ja Yul KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-11-29.

Movable body apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09500963B2. Автор: Yasuo Aoki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-11-22.

Exposure apparatus, exposure method, device manufacturing method, and carrier method

Номер патента: US09442396B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-09-13.

Method for stress-adjusted operation of a projection exposure system and corresponding projection exposure system

Номер патента: WO2011104389A3. Автор: Markus Deguenther,Toralf Gruner,Bernhard Kneer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-10-20.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20190146359A1. Автор: Takanori Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-05-16.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20090040499A1. Автор: Fumitake Kobayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-02-12.

Exposure apparatus and decontamination apparatus

Номер патента: US20240094646A1. Автор: SHINJI Ueyama,Shinsuke Fujioka,Nozomi Tanaka,Ken Ozawa,Katsunobu Nishihara,Atsushi Sunahara,Yubo Wang,Tomoyuki JOHZAKI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Projection exposure tool for microlithography and method for microlithographic exposure

Номер патента: WO2012041461A2. Автор: Toralf Gruner,Sascha Bleidistel,Joachim Hartjes,Markus Schwab,Alexander Wolf,Jochen Hetzler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-04-05.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: EP3739390A1. Автор: Masatoshi Shimazaki,Atsushi Shigenobu,Yutoku Yoshioka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-11-18.

Scanning exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20090147231A1. Автор: Takashi Sukegawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-06-11.

Imaging optical system, imaging apparatus, stereo camera, distance measuring apparatus, and mobile object

Номер патента: US20210011249A1. Автор: Yukihisa Yokoyama. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-01-14.

Imaging optical system storing information on its aberration, imaging apparatus, and control method thereof

Номер патента: US11822211B2. Автор: Yumi Watanabe,Hideyuki Hamano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Method for evaluating and improving pupil luminance distribution, illumination optical system and adjustment method thereof, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09581811B2. Автор: Naonori Kita. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Optical system, in particular illumination device or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: DE102007027985A1. Автор: Damian Fiolka,Nils Dieckmann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-06-26.

Optical system of microlithography projection exposure apparatus

Номер патента: JP2014131031A. Автор: Ingo Saenger,ゼンガー インゴ. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-07-10.

Optical system and a projection-exposure system

Номер патента: KR101538163B1. Автор: 다니 찬,한스-위르겐 만. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2015-07-20.

Optical system and a projection-exposure system

Номер патента: KR101630122B1. Автор: 다니 찬,한스-위르겐 만. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2016-06-21.

Evaluation method and improvement method of pupil luminance distribution, illumination optical system and adjustment method thereof, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: JPWO2013164997A1. Автор: 尚憲 北. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2015-12-24.

Imaging optical system, imaging apparatus, stereo camera, distance measuring apparatus, and mobile object

Номер патента: EP3764146B1. Автор: Yukihisa Yokoyama. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-03.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US20190137895A1. Автор: Hikaru Sugita,Masato Homma. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-05-09.

Method for driving spatial light modulator, method for forming pattern for exposure, exposure method, and exposure apparatus

Номер патента: US09599906B2. Автор: Yoji Watanabe. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method

Номер патента: US9429851B2. Автор: Yasuhiro Omura,Hiroyuki Nagasaka,Takaya Okada. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-08-30.

Exposure apparatus, exposure method, and article manufacturing method

Номер патента: US11841614B2. Автор: Kanji Suzuki,Manabu Hakko. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-12-12.

Projection optical system, exposure apparatus, and assembly method thereof

Номер патента: EP2449431A1. Автор: Masayuki Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-05-09.

Exposure apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US20200301287A1. Автор: Michio Kono. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-09-24.

Optical element and exposure apparatus

Номер патента: US7993008B2. Автор: Hitoshi Ishizawa,Takeshi Shirai,Takao Kokubun,Atsunobu Murakami. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-08-09.

Optical element and exposure apparatus

Номер патента: US10175584B2. Автор: Hitoshi Ishizawa,Takeshi Shirai,Takao Kokubun,Atsunobu Murakami. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2019-01-08.

Projection exposure apparatus with at least one manipulator

Номер патента: US09846367B2. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Martin von Hodenberg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-12-19.

Illumination method, illumination apparatus and projection exposure apparatus

Номер патента: US5302999A. Автор: Yoshitada Oshida,Yukihiro Shibata,Tsuneo Terasawa,Makoto Murayama,Minori Noguchi,Shigemi Ishii,Tutomu Tawa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1994-04-12.

Projection optical system

Номер патента: EP1471389A2. Автор: Masayuki Suzuki,Takahiro Sasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-10-27.

Projection exposure apparatus with multiple sets of piezoelectric elements moveable in different directions and related method

Номер патента: US9110388B2. Автор: Sascha Bleidistel,Bernhard Geuppert. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-08-18.

Projecting optical system for photodrawing machine

Номер патента: US3984845A. Автор: Susumu Tashiro,Tetsuo Kamoshita. Владелец: Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1976-10-05.

Optical system, in particular an illumination system or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2008074673A3. Автор: Damian Fiolka,Nils Dieckmann. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2008-09-12.

Method for producing a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US12117731B2. Автор: Erik Loopstra,Eric Eva,Christoph Zaczek,Matthew Lipson,Moshe Shemesh,Drew CHIEDA,Victor PEREZ-FALCON. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-10-15.

Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09977338B2. Автор: Norbert Wabra,Robert Eder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-22.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09910359B2. Автор: Markus Deguenther,Frank Schlesener,Thomas Korb,Vladimir Davydenko,Stefanie Hilt,Wolfgang Hoegele. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-03-06.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09810993B2. Автор: Peter Huber. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-07.

Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09588445B2. Автор: Norbert Wabra,Robert Eder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-07.

Microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09535336B2. Автор: Severin Waldis,Florian Bach,Yim-Bun Patrick Kwan,Sascha Bleidistel,Armin Werber,Daniel Benz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-01-03.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09500954B2. Автор: Markus Deguenther,Frank Schlesener,Thomas Korb,Vladimir Davydenko,Stefanie Hilt,Wolfgang Hoegele. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-11-22.

Projection exposure method, projection exposure apparatus, laser radiation source and bandwidth narrowing module for a laser radiation source

Номер патента: US20110304837A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-12-15.

Illumination optical assembly, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US09513560B2. Автор: Hirohisa Tanaka,Shinichi Nakajima,Hiroshi Ooki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-12-06.

Illumination optical system, exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20220357659A1. Автор: Daisuke Kobayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-11-10.

Imaging optical system and projection exposure apparatus for microlithography comprising an imaging optical system of this type

Номер патента: WO2009053023A2. Автор: Hans-Jürgen Mann. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2009-04-30.

EUV exposure apparatus with reflective elements having reduced influence of temperature variation

Номер патента: US10317802B2. Автор: Markus Hauf,Yim-Bun-Patrick Kwan,Jan Van Schoot,Holger Walter,Franz-Josef Stickel,Ulrich Loering,Norman Baer,Oliver Natt,Gero Wittich,Timo Laufer,Peter Kuerz,Guido Limbach,Stefan Hembacher. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2019-06-11.

Projection Objective For a Microlithographic Projection Exposure Apparatus

Номер патента: US20080123069A1. Автор: Norbert Wabra,Robert Eder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-05-29.

Method for producing a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20240192605A1. Автор: Erik Loopstra,Eric Eva,Christoph Zaczek,Matthew Lipson,Moshe Shemesh,Drew CHIEDA,Victor PEREZ-FALCON. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-13.

Method for producing a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024125829A1. Автор: Erik Loopstra,Eric Eva,Christoph Zaczek,Matthew Lipson,Moshe Shemesh,Drew CHIEDA,Victor PEREZ-FALCON. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-20.

Projection optical apparatus that is removable installed in a light emitting apparatus and projector

Номер патента: US12072615B2. Автор: Naoto Takehana,Hirofumi Okubo,Kosho Kamijo. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Field facet mirror for use in an illumination optical system of a projection exposure apparatus for EUV microlithography

Номер патента: JP6280827B2. Автор: マルティン エンドレス,アドリアン シュタイク. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2018-02-14.

IMAGING OPTICAL SYSTEM, IMAGING APPARATUS, STEREO CAMERA, DISTANCE MEASURING APPARATUS, AND MOBILE OBJECT

Номер патента: US20210011249A1. Автор: Yokoyama Yukihisa. Владелец: . Дата публикации: 2021-01-14.

Projection optical system and projection type display device

Номер патента: US20240264519A1. Автор: Yukiko Nagatoshi,Masanao Kawana. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-08-08.

Projection optical system and projection apparatus

Номер патента: US11409191B2. Автор: Kazuhiko Inoue,Atsuo Masui. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2022-08-09.

Projection optical system and image projector

Номер патента: US09927684B2. Автор: Tsuneo Uchida,Katsu Yamada. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Projection optical system and projection-type display apparatus

Номер патента: US09442358B2. Автор: Masaru Amano,Takeshi Kamiya,Tomoyuki Baba,Masanao Kawana. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-09-13.

Projection optical system and projection display device

Номер патента: US10466578B2. Автор: Masaru Amano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-11-05.

Projection optical system with a concave reflector in the projection lens

Номер патента: US20230084002A1. Автор: Sheng-Che Wu,Yu-Hung Chou,Wei-Hao Huang. Владелец: Sun Yang Optics Development Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Projection optical system

Номер патента: US20220171169A1. Автор: Sheng-Che Wu,Yu-Hung Chou,Wei-Hao Huang. Владелец: Sun Yang Optics Development Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-02.

Projection optical system and projector having the same

Номер патента: US09448390B2. Автор: Makoto Otani,Eiji Morikuni. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Optical system and projector

Номер патента: EP3779553A1. Автор: Toshifumi Yasui. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2021-02-17.

Pupil conjugate-coupling device in projecting optical system

Номер патента: US5442413A. Автор: Ryota Ogawa,Yasuyuki Tejima,Nobutaka Minefuji,Yasunori Izawa. Владелец: Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1995-08-15.

Projection optical system and image display device with refractive optical system to form an image on a receiving surface

Номер патента: US11868035B2. Автор: Takayuki ISHIGAME. Владелец: Ricoh Industrial Solutions Inc. Дата публикации: 2024-01-09.

Projection optical system and image projection device

Номер патента: CA2797388C. Автор: Kazuhiro Fujita,Tatsuya Takahashi,Issei Abe. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2016-02-09.

Projection optical system and image projection device

Номер патента: WO2011145535A1. Автор: Kazuhiro Fujita,Tatsuya Takahashi,Issei Abe. Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2011-11-24.

Optical system and projector

Номер патента: US11835696B2. Автор: Toshifumi Yasui. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2023-12-05.

Projection optical system and projector including the same

Номер патента: US20120320347A1. Автор: Makoto Otani,Eiji Morikuni. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2012-12-20.

Projection optical system and projector including the same

Номер патента: US8801197B2. Автор: Makoto Otani,Eiji Morikuni. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2014-08-12.

Projection optical system and image projection device

Номер патента: EP3373059A1. Автор: Tsuneo Uchida,Katsu Yamada. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-12.

Projection optical system and image projection apparatus

Номер патента: US11762176B2. Автор: Kenji Miya. Владелец: Ricoh Industrial Solutions Inc. Дата публикации: 2023-09-19.

Projection optical system and image projector

Номер патента: US20170285451A1. Автор: Tsuneo Uchida,Katsu Yamada. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-05.

Projection optical system and projection apparatus

Номер патента: US20210003913A1. Автор: Kazuhiko Inoue,Atsuo Masui. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2021-01-07.

Projection optical system and projector device

Номер патента: EP3819693A1. Автор: Takahiko Matsuo. Владелец: Nittoh Inc. Дата публикации: 2021-05-12.

Projection optical system and projection type display apparatus

Номер патента: US20240077794A1. Автор: Yukiko Nagatoshi,Taku Furubayashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-03-07.

Ultra-short focus projecting optical system and projection device

Номер патента: US11822062B2. Автор: HAO WANG,Liwei QUAN,Yuancai LI,Shoulin Li. Владелец: Union Optech Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Ultra-short focus projecting optical system and projection device

Номер патента: US20230043860A1. Автор: HAO WANG,Liwei QUAN,Yuancai LI,Shoulin Li. Владелец: Union Optech Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-09.

Projection optical system and projection display device

Номер патента: US20190056647A1. Автор: Masaru Amano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-02-21.

Projection optical system and projector apparatus

Номер патента: US11720007B2. Автор: Takahiko Matsuo. Владелец: Nittoh Inc. Дата публикации: 2023-08-08.

Projection optical system and projection type display device

Номер патента: US20160246036A1. Автор: Masaru Amano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-08-25.

Projection optical apparatus having reinforcing member and projector

Номер патента: US11415868B2. Автор: Hirofumi Okubo. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2022-08-16.

Projection optical system and projection type display apparatus using the same

Номер патента: US20170059972A1. Автор: Junya Ichimura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-03-02.

Ultra-short throw projection optical system

Номер патента: US10444478B2. Автор: Junqiang GONG. Владелец: Union Optech Co Ltd. Дата публикации: 2019-10-15.

Ultra-short throw projection optical system

Номер патента: US20180284403A1. Автор: Junqiang GONG. Владелец: Union Optech Co Ltd. Дата публикации: 2018-10-04.

Projection optical system and projector

Номер патента: EP3309598A1. Автор: Nobutaka Minefuji. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2018-04-18.

Projection optical system and projector apparatus

Номер патента: US20210124244A1. Автор: Takahiko Matsuo. Владелец: Nittoh Inc. Дата публикации: 2021-04-29.

Illumination optical system, alignment apparatus, and projection exposure apparatus using the same

Номер патента: US5797674A. Автор: Tadashi Nagayama. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-08-25.

Projection optical system and projector apparatus

Номер патента: US09645371B2. Автор: Yohei Takano. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Projection optical system and projection type display device

Номер патента: US09869849B2. Автор: Masaru Amano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-01-16.

Projection optical system and projection apparatus

Номер патента: US20150226946A1. Автор: Kyoichi Miyazaki. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-13.

Projection optical system and projector

Номер патента: US20240329366A1. Автор: Akihisa KAGEYAMA. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-10-03.

Oblique projection optical apparatus

Номер патента: US5947576A. Автор: Akira Sato,Katsuhiro Takamoto. Владелец: Minolta Co Ltd. Дата публикации: 1999-09-07.

Variable magnification projection optical system and image projection apparatus

Номер патента: US20150219884A1. Автор: Kazuhiko Inoue,Yusuke Imai,Katsuhiro Takamoto,Sadanobu IMAMURA. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2015-08-06.

Dual reflective micro projection optical engine

Номер патента: US20230205070A1. Автор: Zhiqiang Gao,Steve Yeung,Xiaofeng Tang,Weizhan Zhu,Mingnei Ding. Владелец: Iview Displays Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Imaging optical system, projection-type display apparatus, and imaging apparatus

Номер патента: US12019223B2. Автор: Yukiko Nagatoshi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-06-25.

Optical system, image projection apparatus, and imaging apparatus

Номер патента: US20220082805A1. Автор: Tsuneo Uchida,Katsu Yamada,Satoshi KUZUHARA. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-17.

Exposure apparatus, exposure method, and method for manufacturing semiconductor apparatus

Номер патента: US11747737B2. Автор: Kazuhiro Takahashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-09-05.

Exposure apparatus, exposure method, and method for manufacturing semiconductor apparatus

Номер патента: EP3964894A3. Автор: Kazuhiro Takahashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-07-27.

Exposure apparatus, exposure method, and method for manufacturing semiconductor apparatus

Номер патента: US20220066326A1. Автор: Kazuhiro Takahashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-03-03.

Exposure apparatus, exposure method, and method for manufacturing semiconductor apparatus

Номер патента: EP3964894A2. Автор: Kazuhiro Takahashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-03-09.

Image display apparatus and image display unit

Номер патента: US09864260B2. Автор: Yasuyuki Shibayama,Hibiki Tatsuno,Yohei Takano. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Image display apparatus and image display unit

Номер патента: US9864260B2. Автор: Yasuyuki Shibayama,Hibiki Tatsuno,Yohei Takano. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Projection optical system, projection apparatus, and projection system

Номер патента: US09864177B2. Автор: Yasuyuki Shibayama,Hibiki Tatsuno,Yohei Takano. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method for product

Номер патента: US12105430B2. Автор: Yuhei Sumiyoshi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-10-01.

Image projection apparatus and illumination optical system

Номер патента: US09470884B2. Автор: Ichiro Mori. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Image projection apparatus and illumination optical system

Номер патента: US09880452B2. Автор: Ichiro Mori. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2018-01-30.

Projection apparatus and projection control apparatus

Номер патента: US09829781B2. Автор: Makio KURASHIGE,Yukio Taniguchi,Yasuyuki Ooyagi. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2017-11-28.

Projection apparatus and projection control apparatus

Номер патента: US09366946B2. Автор: Makio KURASHIGE,Yukio Taniguchi,Yasuyuki Ooyagi. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2016-06-14.

Projection optical system and projection apparatus that enlarge and project an image displayed on a display

Номер патента: US20210026229A1. Автор: Atsushi Matsuura,Kazuhiko Inoue,Atsuo Masui. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2021-01-28.

Wide angle projection optical system and apparatus with a short projection distance

Номер патента: US10317786B2. Автор: Atsushi Matsuura,Kazuhiko Inoue,Atsuo Masui. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2019-06-11.

Projection optical system and projection apparatus

Номер патента: US20180307041A1. Автор: Atsushi Matsuura,Kazuhiko Inoue,Atsuo Masui. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2018-10-25.

Optical scanning apparatus, image projecting apparatus, and mobile object

Номер патента: US20190285886A1. Автор: Toshihiro Yamashiro,Tsuyoshi Hashiguchi. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-19.

Display apparatus and display unit

Номер патента: US09599816B2. Автор: Satoshi KUZUHARA. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Light guiding plate, image display apparatus, and method for manufacturing light guiding plate

Номер патента: US20240353605A1. Автор: Kazuma Aiki,Satoshi Imai. Владелец: Sony Semiconductor Solutions Corp. Дата публикации: 2024-10-24.

Projection optical system and image projecting apparatus

Номер патента: US09946144B2. Автор: Kazuhiro Fujita,Atsushi Takaura,Issei Abe. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-17.

Projection optical system and image projecting apparatus

Номер патента: EP2041611A1. Автор: Kazuhiro Fujita,Atsushi Takaura,Issei Abe. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2009-04-01.

Projection optical system and image display apparatus

Номер патента: US09983394B2. Автор: Hibiki Tatsuno. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-29.

Projection apparatus and illumination apparatus

Номер патента: US09964845B2. Автор: Makio KURASHIGE. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2018-05-08.

Three-dimensional image display apparatus using laser beam scanning projection optical systems

Номер патента: US09936178B2. Автор: Jae Won Kim,Hyoung Lee,Dong Gyu Lee,Ki Hyuk Yoon,Sung Kyu Kim. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2018-04-03.

Projection optical system and projector

Номер патента: US20200241400A1. Автор: Masashi Yoshida,Takahiko Matsuo. Владелец: Nittoh Inc. Дата публикации: 2020-07-30.

Projection optical system and projection-type display apparatus

Номер патента: US09454070B2. Автор: Masaru Amano,Takeshi Kamiya,Tomoyuki Baba,Masanao Kawana. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-09-27.

Projection optical system and projector apparatus

Номер патента: US09785043B2. Автор: Takahiko Matsuo. Владелец: Nittoh Inc. Дата публикации: 2017-10-10.

Prism for projection optical system and optical system having same

Номер патента: US09651790B2. Автор: Koji Takahara. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2017-05-16.

Projection optical system and projector

Номер патента: EP3650903A1. Автор: Toshifumi Yasui. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2020-05-13.

Holographic 3D image display apparatus and illumination unit for the same

Номер патента: US09658378B2. Автор: Hoon Song,Hong-seok Lee,Gee-young Sung,Kang-hee WON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-05-23.

Projection optical system and image display apparatus including a refraction optical system and first and second reflecing surfaces

Номер патента: US09766438B2. Автор: Nobuyuki Arai,Hirotoshi Nakayama,Hibiki Tatsuno,Yohei Takano. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Projection optical engine, electronic device, and projection imaging method

Номер патента: US20240236289A1. Автор: Pengfei Zhao,Kun LUO,Congbiao JIANG. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Projection optical system and projector

Номер патента: US09798125B2. Автор: Nobutaka Minefuji. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Three-plate optical system and projector

Номер патента: US09877001B2. Автор: Masahiro Terada. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2018-01-23.

Projection apparatus and image capturing apparatus for measurement system

Номер патента: US20150288929A1. Автор: Masakazu Tohara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-10-08.

Projection optical apparatus and projector

Номер патента: US09690176B2. Автор: Naoto Takehana. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2017-06-27.

Projection device, interface device, and projection method

Номер патента: US20210216001A1. Автор: Satoshi Komatsu,Fujio Okumura,Satoshi KYOSUNA,Hirofumi TSUDA. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2021-07-15.

Projection optical system

Номер патента: US20130308106A1. Автор: Osamu Nagase,Kazuhiro Fujita,Atsushi Takaura,Issei Abe,Yoshitsugu Kohno,Akihiro Yamakage. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-11-21.

Variable magnification projection optical system and projection apparatus

Номер патента: US20220397748A1. Автор: Atsuo Masui. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2022-12-15.

Projection optical system and projection-type image display device

Номер патента: US09696614B2. Автор: Toshihiko Sakai. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2017-07-04.

Projection type image display apparatus and image display system

Номер патента: US20040021833A1. Автор: Jun Koide. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-02-05.

Projection apparatus and control method

Номер патента: US11947105B2. Автор: Kazuki Inoue,Kazuki Ishida. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-04-02.

Projection apparatus and control method

Номер патента: US20220373782A1. Автор: Kazuki Inoue,Kazuki Ishida. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-11-24.

Optical unit and projection apparatus

Номер патента: US11215907B2. Автор: Kazuki Inoue,Chikara Yamamoto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-01-04.

Attachment optical system and projection display system

Номер патента: US20220317428A1. Автор: Hirotaka Yanagisawa. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2022-10-06.

Optical unit and projection apparatus

Номер патента: US20200379324A1. Автор: Kazuki Inoue,Chikara Yamamoto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-12-03.

Attachment optical system and projection display system

Номер патента: US20220326491A1. Автор: Hirotaka Yanagisawa. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2022-10-13.

Method for producing a reflective optical component for an EUV projection exposure apparatus and component of this type

Номер патента: US09541685B2. Автор: Holger Kierey,Heiko Siekmann,Andre Bresan. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-01-10.

Image display apparatus and projection optical system

Номер патента: US11528458B2. Автор: Jun Nishikawa,Naoko Edamitsu. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2022-12-13.

Image projection apparatus and illumination optical system

Номер патента: US20170017142A1. Автор: Ichiro Mori. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2017-01-19.

Image projection apparatus and illumination optical system

Номер патента: US20180120680A1. Автор: Ichiro Mori. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2018-05-03.

Projection optical apparatus

Номер патента: EP2191328A1. Автор: Osamu Nagase,Kazuhiro Fujita,Atsushi Takaura,Issei Abe,Yoshitsugu Kohno,Akihiro Yamakage. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2010-06-02.

Projection optical apparatus and image projection apparatus

Номер патента: US09529175B2. Автор: Toshinobu Matsuyama. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method for product

Номер патента: US11835863B2. Автор: Yuhei Sumiyoshi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

Exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method for product

Номер патента: EP4109179A2. Автор: Yuhei Sumiyoshi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-12-28.

Exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method for product

Номер патента: US20240077806A1. Автор: Yuhei Sumiyoshi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Projection optical engine, electronic device, and projection imaging method

Номер патента: EP4400909A1. Автор: Pengfei Zhao,Kun LUO,Congbiao JIANG. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-17.

Display processing device and projection type image display device

Номер патента: US20170045809A1. Автор: Jun Nishikawa,Yukihiro Sasazaki. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2017-02-16.

Projection lens assembly method and projection image display apparatus

Номер патента: US20180224730A1. Автор: Koji Hirata,Shuji Kato,Masahiko Yatsu,Yuki MATSUMIYA. Владелец: Maxell Ltd. Дата публикации: 2018-08-09.

Optical element and projection image display apparatus

Номер патента: US11294114B2. Автор: Junichi Sugawara,Toshiaki Sugawara,Yoshi Kanega. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2022-04-05.

Image display apparatus and projection optical system

Номер патента: US20190219905A1. Автор: Jun Nishikawa. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2019-07-18.

Optical element and projection image display apparatus

Номер патента: US20220155510A1. Автор: Junichi Sugawara,Toshiaki Sugawara,Yoshi Kanega. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2022-05-19.

Optical element and projection image display apparatus

Номер патента: US20200284964A1. Автор: Junichi Sugawara,Toshiaki Sugawara,Yoshi Kanega. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2020-09-10.

Projection optical system, projection-type image display device, imaging device, and method of manufacturing optical element

Номер патента: US20200278601A1. Автор: Hirotaka Yanagisawa,Eiji Morikuni. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2020-09-03.

Projection optical system, projection-type image display device, imaging device, and method of manufacturing optical element

Номер патента: US11073754B2. Автор: Hirotaka Yanagisawa,Eiji Morikuni. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2021-07-27.

Projection optical system and image projection device

Номер патента: US20200174349A1. Автор: Yusuke Ogawa. Владелец: Sony Semiconductor Solutions Corp. Дата публикации: 2020-06-04.

Projection optical apparatus and projector

Номер патента: US20240027729A1. Автор: Yuta Ito,Kosho Kamijo. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-01-25.

Optical apparatus and three-dimensional modelling apparatus

Номер патента: EP4324625A1. Автор: Hirofumi Mizuno. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-21.

Projection optical system, projection-type image display device, and imaging device

Номер патента: US11073753B2. Автор: Hirotaka Yanagisawa,Eiji Morikuni. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2021-07-27.

Projection optical system and projector

Номер патента: US20210181487A1. Автор: Toshifumi Yasui. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2021-06-17.

Projection optical system, projection-type image display device, and imaging device

Номер патента: US20200278600A1. Автор: Hirotaka Yanagisawa,Eiji Morikuni. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2020-09-03.

Range-based focus assistance for projection optics

Номер патента: US20240329511A1. Автор: Maxwell Schweiner,Matthew Stoner,Evan Gnam,Noah Meltzer. Владелец: Electronic Theatre Controls Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Head-mounted display apparatus and optical unit

Номер патента: US20240061258A1. Автор: Takuya Ikeda,Toshiyuki Noguchi,Toshiaki Miyao,Kazuya KAMAKURA. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-02-22.

Projection optical system, and image display device using the same

Номер патента: US20130107232A1. Автор: Hibiki Tatsuno. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-02.

Projection optical system and projection type image display device

Номер патента: US20190166329A1. Автор: Koji SHIOKAWA. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2019-05-30.

Projector having a beam splitter device comprising a polarization beam splitter and projection optics having a beam splitter device

Номер патента: US09860498B2. Автор: Eberhard Piehler. Владелец: Jabil Optics Germany GmbH. Дата публикации: 2018-01-02.

Light projection optical system and light projection apparatus using the same

Номер патента: US20070273847A1. Автор: Toshihide Nozawa,Shigeyuki Minami. Владелец: Olympus Imaging Corp. Дата публикации: 2007-11-29.

Projection optical system

Номер патента: US20060244930A1. Автор: Yuichi Atarashi,Kohtaro Hayashi,Masayuki Imaoka,Hiroshi Kibayashi. Владелец: Konica Minolta Opto Inc. Дата публикации: 2006-11-02.

Projection apparatus and storage medium

Номер патента: US20200225567A1. Автор: Atsushi Kano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-07-16.

Projection optical apparatus and projector

Номер патента: US20160216598A1. Автор: Naoto Takehana. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2016-07-28.

Projection optical path and projection device

Номер патента: EP4246228A1. Автор: Dean Liu,Jingjian GONG,Yangchun DENG,Weitao DING,Gongtao LU. Владелец: Goertek Optical Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-20.

Optical Systems

Номер патента: GB2448132B. Автор: Edward Buckley,Diego Gil-Leyva. Владелец: LIGHT BLUE OPTICS LTD. Дата публикации: 2012-10-10.

Optical systems

Номер патента: WO2008120015A8. Автор: Edward Buckley,Diego Gil-Leyva. Владелец: Diego Gil-Leyva. Дата публикации: 2008-12-11.

Microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09767068B2. Автор: Christian Kempter. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-09-19.

Micro projection optical engine

Номер патента: US20230185173A1. Автор: Zhiqiang Gao,Steve Yeung,Xiaofeng Tang,Weizhan Zhu,Mingnei Ding. Владелец: Iview Displays Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-15.

Micro projection optical engine

Номер патента: US20230185174A1. Автор: Zhiqiang Gao,Steve Yeung,Xiaofeng Tang,Weizhan Zhu,Mingnei Ding. Владелец: Iview Displays Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-15.

Dual reflective micro projection optical engine

Номер патента: US20230205062A1. Автор: Zhiqiang Gao,Steve Yeung,Xiaofeng Tang,Weizhan Zhu,Mingnei Ding. Владелец: Iview Displays Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Free-form surface lens, method of designing free-form surface lens, free-form surface mirror, method of designing free-form surface mirror, and projection type video display apparatus

Номер патента: US20190129075A1. Автор: Koji Hirata,Shuji Kato,Masahiko Yatsu,Yuki MATSUMIYA,Kayono KIMURA. Владелец: Maxell Ltd. Дата публикации: 2019-05-02.

Fully sealed liquid crystal projection optical unit device with high-efficiency heat dissipation function

Номер патента: US20200267357A1. Автор: JIN Zhang. Владелец: Luxnpro Chengdu Electronics Co ltd. Дата публикации: 2020-08-20.

Projection optical path and projection device

Номер патента: US20230408894A1. Автор: Dean Liu,Jingjian GONG,Yangchun DENG,Weitao DING,Gongtao LU. Владелец: Goertek Optical Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Wavefront correction element for use in an optical system

Номер патента: US20180059413A1. Автор: Boris Bittner,Martin Weiser,Matus Banyay. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-03-01.

Optical system, projection apparatus, and imaging apparatus

Номер патента: US20200192210A1. Автор: Kazuyoshi Okada,Kenkichi Hayashi,Yasunobu Kishine. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-06-18.

Fixing device, projection optical device, and projector

Номер патента: US11921407B2. Автор: Naoto Takehana,Hirofumi Okubo,Kosho Kamijo. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-03-05.

Optical apparatus and distance measuring system

Номер патента: US20200300610A1. Автор: Takehiro Nishimori. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2020-09-24.

Field facet mirror for use in an illumination optics of a projection exposure apparatus for euv microlithography

Номер патента: WO2010037453A1. Автор: Martin Endres,Adrian Staicu. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2010-04-08.

Field facet mirror for use in an illumination optics of a projection exposure apparatus for euv microlithography

Номер патента: WO2010037453A8. Автор: Martin Endres,Adrian Staicu. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2010-09-16.

Imaging apparatus and distance measuring apparatus using the same

Номер патента: US09876992B2. Автор: Tsuguhiro Korenaga,Kazufumi Mizusawa,Norihiro Imamura,Kunio Nobori,Takeo Azuma. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-23.

Illumination optical system, image projection apparatus, and control method thereof

Номер патента: US09800848B2. Автор: Kazuhiro Inoko. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-10-24.

Method and device for measuring wavefront, and exposure method and device

Номер патента: US20190219451A1. Автор: Katsura Otaki,Takashi Gemma,Katsumi Sugisaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2019-07-18.

Optical apparatus and imaging system including the same

Номер патента: US20200117073A1. Автор: Kazuhiko Kajiyama,Tsubasa Nakamura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-04-16.

Pulse width expansion apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US12038567B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Hirotaka Miyamoto. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-07-16.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5272501A. Автор: Kenji Nishi,Naomasa Shiraishi,Saburo Kamiya. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1993-12-21.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4758864A. Автор: Kazumasa Endo,Yasuhisa Matsumoto. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1988-07-19.

Detection apparatus, measurement apparatus, exposure apparatus, method of manufacturing article, and measurement method

Номер патента: US09534888B2. Автор: Akio Akamatsu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09507267B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5323207A. Автор: Hideki Ina. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1994-06-21.

Measuring method, stage apparatus, and exposure apparatus

Номер патента: US09804506B2. Автор: Dai Arai. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Measuring method, stage apparatus, and exposure apparatus

Номер патента: US09372410B2. Автор: Dai Arai. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-06-21.

Circuit pattern design method,exposure method, charged-particle beam exposure system

Номер патента: US20020010906A1. Автор: Ryoichi Inanami,Shunko Magoshi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2002-01-24.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US9001307B2. Автор: Akimitsu Ebihara. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2015-04-07.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US9274437B2. Автор: Akimitsu Ebihara. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-03-01.

Exposure apparatus and method for manufacturing device

Номер патента: EP1571694A4. Автор: Nobutaka Magome,Dai Arai,Hiroaki Takaiwa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-10-15.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: EP2275869B1. Автор: Akimitsu Ebihara. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2014-01-15.

Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method

Номер патента: EP2998982A1. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-03-23.

Scanning exposure apparatus and method

Номер патента: US7218379B2. Автор: Yoshinori Ohsaki,Yuichi Osakabe. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2007-05-15.

Surface position detection apparatus and method, and exposure apparatus and device manufacturing method using the exposure apparatus

Номер патента: US20060033055A1. Автор: Yuji Kosugi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-02-16.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20080291414A1. Автор: Norihiko Kobayashi,Ryosuke Tsutsumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-11-27.

Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method

Номер патента: US9625834B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4739373A. Автор: Kenji Nishi,Nobutaka Magome. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1988-04-19.

Exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US10191388B2. Автор: Akimitsu Ebihara. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2019-01-29.

Alignment device in an IC projection exposure apparatus

Номер патента: US4390279A. Автор: Kyoichi Suwa. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1983-06-28.

Position detecting apparatus and projection exposure apparatus

Номер патента: US5684569A. Автор: Masahiro Nakagawa,Ayako Sugaya. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1997-11-04.

Illumination system for an EUV projection lithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09851641B2. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-12-26.

Position detector, position detection method, exposure apparatus, and method of manufacturing device

Номер патента: US09639000B2. Автор: Hironori Maeda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-05-02.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus having a temperature control device

Номер патента: US09523922B2. Автор: Severin Waldis,Florian Bach,Armin Werber,Berndt Warm,Daniel Benz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-12-20.

Exposure apparatus and exposing method and method of manufacturing a printed wiring board

Номер патента: US7760328B2. Автор: Hiroshi Oyama,Yoshihide Yamaguchi. Владелец: Hitachi Via Mechanics Ltd. Дата публикации: 2010-07-20.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20190033721A1. Автор: Asahiko Nogami. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2019-01-31.

Method for operating a projection exposure tool and control apparatus

Номер патента: WO2012031765A2. Автор: Toralf Gruner,Michael Gerhard,Bernd DÖRBRAND. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-03-15.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5365051A. Автор: Hiroyuki Suzuki,Osamu Furukawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1994-11-15.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4814829A. Автор: Akiyoshi Suzuki,Masao Kosugi,Masao Totsuka,Kazuhito Outsuka,Hideki Ina,Fumio Sakai,Shigeki Ogawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1989-03-21.

A maskless exposure apparatus with alignment

Номер патента: WO2016107798A1. Автор: Endre Kirkhorn,Trond Jørgensen,Øyvind Tafjord. Владелец: Visitech AS. Дата публикации: 2016-07-07.

Laser apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240235149A1. Автор: Toru Suzuki,Osamu Wakabayashi,Hironori IGARASHI,Yousuke FUJIMAKI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-07-11.

Imprint lithography apparatus and device manufacturing method therefor

Номер патента: US09718234B2. Автор: Hironori Maeda,Ken Minoda,Kazuhiko Mishima,Seiya Miura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-08-01.

Movable body system, movable body drive method, pattern formation apparatus, pattern formation method, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09436102B2. Автор: Yuho Kanaya. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-09-06.

Measuring method and measuring apparatus of pupil transmittance distribution, exposure method and exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US9389519B2. Автор: Naonori Kita. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-07-12.

Process for projection exposure of a workpiece with back alignment marks

Номер патента: US5874190A. Автор: Yoneta Tanaka. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 1999-02-23.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US20060279717A1. Автор: Tomohiko Hirano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-12-14.

Optical system, optical apparatus, and method for manufacturing optical system

Номер патента: US11714292B2. Автор: Satoshi Miwa,Hiroshi YABUMOTO. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2023-08-01.

Imaging optical system and imaging apparatus, camera apparatus, observation apparatus, and endoscope apparatus using the same

Номер патента: JP4112066B2. Автор: 青木法彦. Владелец: Olympus Corp. Дата публикации: 2008-07-02.

Heat treatment apparatus for ceramic materials for optical use, heat treatment method for ceramic materials for optical use, heat treatment method for synthetic quartz glass, method for producing optical system, and method for manufacturing exposure apparatus

Номер патента: EP2682373A4. Автор: Yuta Hara. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2014-08-20.

An exposure apparatus, apparatus and method for producing a three-dimensional object

Номер патента: DE102015226523A1. Автор: Hannes Horst. Владелец: EOS GmbH. Дата публикации: 2017-06-22.

Photoelectric conversion device correcting aberration of optical system, and solid state image pick-up apparatus and device and camera using photoelectric conversion device

Номер патента: US6704051B1. Автор: Hidekazu Takahashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-03-09.

Optical system, color information display method, light deflection apparatus, and image projection display apparatus

Номер патента: JP4688130B2. Автор: 剛一 大高,健 南條,静一 加藤,明広 山影,政秋 石山. Владелец: Ricoh Optical Industries Co Ltd. Дата публикации: 2011-05-25.

Projection exposure method

Номер патента: US20090244504A1. Автор: Masaki Satake,Kazuya Fukuhara,Yosuke Kitamura,Shoji Mimotogi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-10-01.

Projection optical system and projection display device

Номер патента: US20090153809A1. Автор: Osamu Nagase,Takashi Ikeda,Shinichi Okuno,Ryuhei Amano,Yoshitsugu Kohno. Владелец: Ricoh Optical Industries Co Ltd. Дата публикации: 2009-06-18.

Image projection apparatus having plural interchangeable projection optical systems

Номер патента: US8721089B2. Автор: Junichi Hatakeyama,Azusa Sugawara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-05-13.

Projection lens, optical projection apparatus and method for reducing distortion utilizing the same

Номер патента: US20060268235A1. Автор: Chih Wang,Cheng Lee,Jung Chen. Владелец: BenQ Corp. Дата публикации: 2006-11-30.

Projecting optical device

Номер патента: US5683161A. Автор: Takatoshi Ishikawa,Soh Ohzawa,Katsuhiro Takamoto. Владелец: Minolta Co Ltd. Дата публикации: 1997-11-04.

Rear projection optical system

Номер патента: US20030011753A1. Автор: Tomokazu Masubuchi,Shigeyoshi Sakata. Владелец: Minolta Co Ltd. Дата публикации: 2003-01-16.

Color separation and synthesis systems, color separation systems and color synthesis systems, illumination optical systems, projection optical systems, and projection display devices using these systems

Номер патента: US7621642B2. Автор: Chikara Yamamoto. Владелец: Fujinon Corp. Дата публикации: 2009-11-24.

Projection optical apparatus, projector, and method for projection optical apparatus that suppresses degredation of a resin lens

Номер патента: US11703746B2. Автор: Kaho Watanabe. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2023-07-18.

Projection optical apparatus and projector

Номер патента: US20240027888A1. Автор: Yuta Ito. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-01-25.

Projection optical path and projection device

Номер патента: US12038681B2. Автор: Dean Liu,Jingjian GONG,Yangchun DENG,Weitao DING,Gongtao LU. Владелец: Goertek Optical Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Projection optical path and projection device

Номер патента: US20230296971A1. Автор: Dean Liu,Jingjian GONG,Yangchun DENG,Weitao DING,Gongtao LU. Владелец: Goertek Optical Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Projection exposure apparatus for microlithography comprising an optical distance measurement system

Номер патента: US09759550B2. Автор: Toralf Gruner,Joachim Hartjes,Markus Schwab,Alexander Wolf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-09-12.

Projection optical path and projection device

Номер патента: EP4246225A1. Автор: Dean Liu,Jingjian GONG,Yangchun DENG,Weitao DING,Gongtao LU. Владелец: Goertek Optical Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-20.

Projection light path and projection apparatus

Номер патента: EP4246226A1. Автор: Dean Liu,Jingjian GONG,Yangchun DENG,Weitao DING,Gongtao LU. Владелец: Goertek Optical Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-20.

Projection optical device and image projection apparatus

Номер патента: US9625797B2. Автор: Hideo Kanai,Masamichi Yamada,Tetsuya Fujioka,Satoshi Tsuchiya,Naoyuki Ishikawa,Yasunari Mikutsu,Yukimi Nishi,Akihisa Mikawa. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Projection optical path and projection device

Номер патента: US20230408898A1. Автор: Dean Liu,Jingjian GONG,Yangchun DENG,Weitao DING,Gongtao LU. Владелец: Goertek Optical Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Micro projection optical engine

Номер патента: US20230185176A1. Автор: Zhiqiang Gao,Steve Yeung,Xiaofeng Tang,Weizhan Zhu,Mingnei Ding. Владелец: Iview Displays Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-15.

Dual reflective micro projection optical engine

Номер патента: US20230205063A1. Автор: Zhiqiang Gao,Steve Yeung,Xiaofeng Tang,Weizhan Zhu,Mingnei Ding. Владелец: Iview Displays Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Projection device and projection system with suspending attachment

Номер патента: US11921408B2. Автор: Nobuyuki Otsuki. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-03-05.

Projection exposure apparatus for microlithography comprising an optical distance measurement system

Номер патента: WO2014012641A2. Автор: Toralf Gruner,Joachim Hartjes,Markus Schwab,Alexander Wolf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-01-23.

Image forming apparatus, exposure apparatus and image forming method

Номер патента: US20080232844A1. Автор: Yukihiro Matsushita,Youji Houki,Yoshihiko Taira. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2008-09-25.

Photographing apparatus and photographing control system

Номер патента: US09584727B2. Автор: Yasuhiro Yamamoto. Владелец: Ricoh Imaging Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Projection optical system and projection-type image display apparatus using it

Номер патента: US6903881B2. Автор: Tomoyuki Baba. Владелец: Fujinon Corp. Дата публикации: 2005-06-07.

Projection optical system and projection type display device

Номер патента: US20190011681A1. Автор: Masaru Amano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-01-10.

Optical system, imaging system including the same, and movable apparatus

Номер патента: US20240231058A1. Автор: Masatsugu Nakano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Projection optical system and image projection apparatus including the same

Номер патента: US09594236B2. Автор: Yusuke Akiyama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-03-14.

Projection optical system and projector

Номер патента: US20240329369A1. Автор: Akihisa KAGEYAMA. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-10-03.

Zoom lens, image projection apparatus, and image pickup apparatus

Номер патента: US20210033831A1. Автор: Shuichi Kurokawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-02-04.

Optical system, optical apparatus, and method for manufacturing optical system

Номер патента: US20240210656A1. Автор: TAEKO Toshi,Miwako Yoshida,Tomoki Ito,Ayumu MAKIDA,Keigo Koida. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Optical system, image projection apparatus, and imaging apparatus

Номер патента: US20240319485A1. Автор: Tsuneo Uchida,Satoshi KUZUHARA. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Variable magnification optical system, optical device, and production method for variable magnification optical system

Номер патента: US09874730B2. Автор: Akihiko Obama,Tomoyuki Sashima. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-01-23.

Zooming optical system, optical apparatus and method for manufacturing zooming optical system

Номер патента: US09684154B2. Автор: Akihiko Obama. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-06-20.

Zoom optical system, optical apparatus and method for manufacturing the zoom optical system

Номер патента: US20240118525A1. Автор: Takahiro Ishikawa,Tomoyuki Sashima,Fumiaki OHTAKE. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-04-11.

Image pickup apparatus and optical apparatus using the same

Номер патента: US20180224639A1. Автор: Yoshihiro Uchida,Keisuke Takada. Владелец: Olympus Corp. Дата публикации: 2018-08-09.

Zoom optical system, optical apparatus and method for manufacturing the zoom optical system

Номер патента: US20230273415A1. Автор: Kosuke MACHIDA. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2023-08-31.

Zoom optical system, optical apparatus and method for manufacturing the zoom optical system

Номер патента: US20240248288A1. Автор: Takahiro Ishikawa,Tomoyuki Sashima,Fumiaki OHTAKE. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Variable magnification optical system, optical apparatus, and method for producing variable magnification optical system

Номер патента: US20210109331A1. Автор: Kosuke MACHIDA. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2021-04-15.

Projection optical system and projection exposure device which uses same

Номер патента: US6813088B2. Автор: Ryoko Otomo. Владелец: Fuji Photo Optical Co Ltd. Дата публикации: 2004-11-02.

Projection optical system with telocentric course of rays in spaces of objects and images

Номер патента: RU2686581C1. Автор: Анатолий Владимирович Шукалов,Александр Исаакович Эфрос,Петр Сергеевич Виноградов,Алексей Сергеевич Гаршин,Евгений Николаевич Шишов. Владелец: Акционерное общество "Опытно-конструкторское бюро "Электроавтоматика" имени П.А. Ефимова. Дата публикации: 2019-04-29.

Projection optical system

Номер патента: US20060176579A1. Автор: Tomiei Kuwa. Владелец: Konica Minolta Opto Inc. Дата публикации: 2006-08-10.

Projection optical system

Номер патента: US20020080498A1. Автор: Tomowaki Takahashi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-06-27.

Projection optical system

Номер патента: US7239452B2. Автор: Tomiei Kuwa. Владелец: Konica Minolta Opto Inc. Дата публикации: 2007-07-03.

Projection optical system

Номер патента: US8009365B2. Автор: Masayuki Imaoka. Владелец: Konica Minolta Opto Inc. Дата публикации: 2011-08-30.

Projection optics and method for manufacturing an optical structure

Номер патента: WO2024047066A1. Автор: Stephan Voltz,Antonio Jose de Matos Gomes. Владелец: Optasensor GmbH. Дата публикации: 2024-03-07.

Optical system, optical apparatus and method for manufacturing the optical system

Номер патента: US09671586B2. Автор: Keigo Koida. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Lens apparatus and camera system

Номер патента: US20200073094A1. Автор: Shinsuke Yoshida,Yuichi Kosaka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-03-05.

Variable magnification optical system, optical apparatus, imaging apparatus and method for manufacturing variable magnification optical system

Номер патента: US20190293914A1. Автор: Kosuke MACHIDA. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2019-09-26.

Scanning optical system, optical scanning apparatus and image forming apparatus

Номер патента: US20090009844A1. Автор: Shoji Kogo,Daisuke Tanahashi. Владелец: Konica Minolta Opto Inc. Дата публикации: 2009-01-08.

Image pickup apparatus and optical apparatus using the same

Номер патента: US10634883B2. Автор: Yoshihiro Uchida,Keisuke Takada. Владелец: Olympus Corp. Дата публикации: 2020-04-28.

Variable power optical system, optical apparatus, and variable power optical system manufacturing method

Номер патента: US20180143413A1. Автор: Hiroshi Yamamoto,Kensuke Uchida,Akihiko Obama,Taku Matsuo. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-05-24.

Image pickup apparatus and optical apparatus using the same

Номер патента: US20180231746A1. Автор: Yoshihiro Uchida,Keisuke Takada. Владелец: Olympus Corp. Дата публикации: 2018-08-16.

Three-dimensional modeling apparatus and three-dimensional modeling method

Номер патента: US20240227291A9. Автор: Daisuke HISHITANI,Hirofumi Mizuno. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Projection optical system and image projecting apparatus

Номер патента: US09625692B2. Автор: Kazuhiro Fujita,Tatsuya Takahashi,Issei Abe. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Optical article, exposure apparatus or optical system using it, and process for producing it

Номер патента: US20020006713A1. Автор: Tadahiro Ohmi,Nobuyoshi Tanaka,Kazuyuki Harada. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-17.

Laser processing apparatus and method for processing workpiece

Номер патента: US12076815B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Masashi SHIMBORI. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-09-03.

Head-mounted display apparatus and optical unit

Номер патента: US20240248307A1. Автор: Takashi Takeda. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Scanning reduced projection optical system and laser processing apparatus using the same

Номер патента: US20240246172A1. Автор: Hiroshi Yamaoka,Satoki Nakada,Taketo Usami. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Projection optical system and head-up display device and vehicle including projection optical system and head-up display device

Номер патента: US20240310627A1. Автор: Koji Hirata,Shigeki Hoshino,Masahiko Yatsu. Владелец: Hitachi Industry and Control Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Display apparatus and method using reflective elements and opacity mask

Номер патента: US20200233222A1. Автор: Ari Antti Peuhkurinen. Владелец: Varjo Technologies Oy. Дата публикации: 2020-07-23.

Single pattern shift projection optical system for 3d scanner

Номер патента: US20240344824A1. Автор: Eun Gil CHO. Владелец: Medit Corp. Дата публикации: 2024-10-17.

Color integrating optical device and display optical system

Номер патента: US20020063966A1. Автор: Kenji Konno. Владелец: Minolta Co Ltd. Дата публикации: 2002-05-30.

Projection optics for metal processing by means of laser radiation and containing its laser processing head

Номер патента: RU2711287C1. Автор: Давид БЛАСКЕС-САНЧЕС. Владелец: Прецитек Гмбх Унд Ко. Кг. Дата публикации: 2020-01-16.

In-line stitched image optical system architecture for glv laser line imagers

Номер патента: US20220011566A1. Автор: Patrick Y. Maeda. Владелец: Palo Alto Research Center Inc. Дата публикации: 2022-01-13.

Projection optical system and projection type displaying apparatus using the same

Номер патента: EP1139145A2. Автор: Toshihiro Sunaga. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2001-10-04.

Projection optical system and display apparatus having the same

Номер патента: US11209648B2. Автор: Akira Yamamoto,Keiichiro Ishihara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-12-28.

Projection optical system and object detection device

Номер патента: US09880264B2. Автор: Tadashi Nakamura. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Projection optical system

Номер патента: RU2338232C1. Автор: Алексей Владимирович Братищев,Ирина Владимировна Сергиевска,Ирина Владимировна СЕРГИЕВСКАЯ,Мари Валерьевна Потапова,Мария Валерьевна Потапова,Юнг Жун ПАК,Санг Хьюн СОН,Кирилл Сергеевич СОКОЛОВ,Санг Су ЛИ. Владелец: Корпорация "САМСУНГ ЭЛЕКТРОНИКС Ко., Лтд.". Дата публикации: 2008-11-10.

Optical system and image display device

Номер патента: EP4303642A1. Автор: Hiroaki Okayama,Kazuhiro Minami,Satoshi KUZUHARA. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-10.

Optical systems for reflective lcds

Номер патента: EP1350138A1. Автор: Simon Magarill,John D. Rudolph. Владелец: Corning Precision Lens Inc. Дата публикации: 2003-10-08.

Projecting optical unit and projecting type image display apparatus therewith

Номер патента: US20060227432A1. Автор: Tetsu Ohishi,Koji Hirata,Hiroki Yoshikawa,Naoyuki Ogura,Takanori Hisada. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-10-12.

Optical system and image display device

Номер патента: US20230408746A1. Автор: Hiroaki Okayama,Kazuhiro Minami,Satoshi KUZUHARA. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Three-dimensional modeling apparatus and three-dimensional modeling method

Номер патента: EP4360854A1. Автор: Daisuke HISHITANI,Hirofumi Mizuno. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-01.

Three-dimensional modeling apparatus and three-dimensional modeling method

Номер патента: US20240131788A1. Автор: Daisuke HISHITANI,Hirofumi Mizuno. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Projection optical system and head-up display device

Номер патента: US12055714B2. Автор: Koji Hirata,Shigeki Hoshino,Masahiko Yatsu. Владелец: Hitachi Industry and Control Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Head-up display and mobile body equipped with head-up display and projection optical system

Номер патента: US11789260B2. Автор: Hiroaki Okayama,Satoshi KUZUHARA. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Scanning-type reduction projection optical system and laser machining apparatus using same

Номер патента: EP4375002A1. Автор: Hiroshi Yamaoka,Satoki Nakada,Taketo Usami. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-29.

Light scanning optical system of an image output scanner using an electro mechanical light modulator

Номер патента: US4755013A. Автор: Michitaka Setani. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1988-07-05.

Light scanning optical system for an image output scanner using an electro-mechanical light modulator

Номер патента: US5150250A. Автор: Michitaka Setani. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1992-09-22.

Stereo projection optical system using LCD to separate left and right eye images

Номер патента: US8057042B2. Автор: Chia-Hung Kao,Chien-Wen Hsu. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2011-11-15.

Dynamic distortion correction apparatus and method

Номер патента: CA2093817C. Автор: David A. Ansley. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 1999-10-19.

Display device and method of adjusting optical system of display device

Номер патента: US11947124B2. Автор: Masafumi Sakaguchi,Masatoshi Yonekubo. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-04-02.

Projection optical system and display apparatus having the same

Номер патента: US20210033860A1. Автор: Akira Yamamoto,Keiichiro Ishihara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-02-04.

Projection optical system and head-up display device mounted on automobile

Номер патента: US20220203830A1. Автор: Zhiqiang Gao,Steve Yeung,Xiaofeng Tang,Weizhan Zhu,Mingnei Ding. Владелец: Iview Displays Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-30.

Projection optical system and see-through display device including the same

Номер патента: US20230062633A1. Автор: Hongseok Lee,Changhwan KIM,Bongsu SHIN,Jesung Koh,Doohoe Lee. Владелец: Ajou University Industry Academic Cooperation Foundation. Дата публикации: 2023-03-02.

Projection optical system and projector using the same

Номер патента: US20030151725A1. Автор: Kohtaro Hayashi,Tomokazu Taguchi,Tomokazu Masubuchi. Владелец: Minolta Co Ltd. Дата публикации: 2003-08-14.

Virtual image display apparatus comprising an optical unit having a projection optical system, a turning mirror, a transmission mirror, and a concave mirror

Номер патента: US11947115B2. Автор: Takashi Takeda,Takeshi Koshihara. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-04-02.

Projection optical system and head-up display device

Номер патента: US20230280590A1. Автор: Koji Hirata,Shigeki Hoshino,Masahiko Yatsu. Владелец: Hitachi Industry and Control Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Variable-length line projecting optics

Номер патента: US5684644A. Автор: Steven William Spears,William Craig Burke. Владелец: Emerging Technologies Inc. Дата публикации: 1997-11-04.

Optical illumination apparatus and method

Номер патента: RU2510060C2. Автор: ДЕЙК Эрик М. Х. П. ВАН,Сьюрд Сталлинга. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС ЭЛЕКТРОНИКС Н.В.. Дата публикации: 2014-03-20.

Method, system, apparatus, and computer program for 3D acquisition and caries detection

Номер патента: US09860520B2. Автор: Frank Thiel,Daniel Michaeli. Владелец: SIRONA DENTAL SYSTEMS GMBH. Дата публикации: 2018-01-02.

Head-up display apparatus and image display apparatus thereof

Номер патента: US20230384590A1. Автор: Koji Hirata,Toshinori Sugiyama,Masahiko Yatsu,Yasuhiko Kunii. Владелец: Maxell Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Optical system, optical apparatus and method for manufacturing optical system

Номер патента: EP2325682A3. Автор: Akira Yamagami,Toshinori Take. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-12-28.

Head-up display apparatus and image display apparatus thereof

Номер патента: US12055716B2. Автор: Koji Hirata,Toshinori Sugiyama,Masahiko Yatsu,Yasuhiko Kunii. Владелец: Maxell Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Ophthalmic surgical apparatus and attachment for ophthalmic surgery

Номер патента: US20180055352A1. Автор: MAKOTO Fujino,Hiroshi Akiyama,Takefumi HAYASHI,Masahiro Akiba,Michiko Nakanishi. Владелец: Topcon Corp. Дата публикации: 2018-03-01.

Zoom optical system, optical apparatus and imaging apparatus using the zoom optical system, and method for manufacturing the zoom optical system

Номер патента: US11754820B2. Автор: Kosuke MACHIDA. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2023-09-12.

Objective-optical-system positioning apparatus and examination apparatus

Номер патента: US8405903B2. Автор: Masahiro Oba,Tadashi Hirata. Владелец: Olympus Corp. Дата публикации: 2013-03-26.

Objective-optical-system positioning apparatus and examination apparatus

Номер патента: US20100309547A1. Автор: Masahiro Oba,Tadashi Hirata. Владелец: Olympus Corp. Дата публикации: 2010-12-09.

Magnification-variable optical system, optical apparatus, and method for manufacturing magnification-variable optical system

Номер патента: US20220137378A1. Автор: Fumiaki OHTAKE,Azuna NONAKA. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2022-05-05.

Magnification-variable optical system, optical apparatus, and method for manufacturing magnification-variable optical system

Номер патента: US20240255740A1. Автор: Fumiaki OHTAKE,Azuna NONAKA. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Zoom optical system, optical apparatus and imaging apparatus using the zoom optical system, and method for manufacturing the zoom optical system

Номер патента: US12092803B2. Автор: Kosuke MACHIDA. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Head-up display apparatus and image display apparatus thereof

Номер патента: US20240345393A1. Автор: Koji Hirata,Toshinori Sugiyama,Masahiko Yatsu,Yasuhiko Kunii. Владелец: Maxell Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Ophthalmic surgical apparatus and attachment for ophthalmic surgery

Номер патента: US09949635B2. Автор: MAKOTO Fujino,Hiroshi Akiyama,Takefumi HAYASHI,Masahiro Akiba,Michiko Nakanishi. Владелец: Topcon Corp. Дата публикации: 2018-04-24.

Individual mirror of a pupil facet mirror and pupil facet mirror for an illumination optical unit of a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024052170A1. Автор: Markus Hauf,Martin Endres,Stefan Lippoldt. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-03-14.

Lens apparatus and camera system

Номер патента: US20200073082A1. Автор: Hideki Sakai,Tadanori Okada,Shunji Iwamoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-03-05.

Lens apparatus and tv camera

Номер патента: US20120050887A1. Автор: Satoki Yokoyama. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-03-01.

Radiation-emitting apparatus and use of an apparatus of this kind

Номер патента: US20140126204A1. Автор: Peter Brick,Tobias Schmid. Владелец: OSRAM Opto Semiconductors GmbH. Дата публикации: 2014-05-08.

Optical system, image pickup apparatus, and optical device

Номер патента: US09897788B2. Автор: Yuichi Gyoda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Measuring apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US09797717B2. Автор: Masaki Nakajima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-10-24.

Focusing method, focusing apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09557523B2. Автор: Hiromi Suda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Display apparatus and illumination unit

Номер патента: US09494803B2. Автор: Shogo Shinkai,Akira Ebisui,Kentaro Okuyama,Harumi Sato. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Radiation-emitting apparatus and use of an apparatus of this kind

Номер патента: US09441813B2. Автор: Peter Brick,Tobias Schmid. Владелец: OSRAM Opto Semiconductors GmbH. Дата публикации: 2016-09-13.

Image-capturing optical system, image-capturing optical apparatus and digital device

Номер патента: US9709782B2. Автор: Keiko Yamada. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2017-07-18.

Image pickup apparatus and endoscope apparatus

Номер патента: US20180341100A1. Автор: Susumu Takahashi,Junko ARUGA. Владелец: Olympus Corp. Дата публикации: 2018-11-29.

Image display apparatus and image capturing apparatus

Номер патента: US20170023782A1. Автор: Ryoji Kondo. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-01-26.

Imaging apparatus and method for controlling the same

Номер патента: US20190191089A1. Автор: Masafumi Kimura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-06-20.

Variable magnification optical system, optical apparatus, imaging apparatus and method for manufacturing variable magnification optical system

Номер патента: US20180259753A1. Автор: Kosuke MACHIDA. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-09-13.

Optical system, optical apparatus, and method of manufacturing optical system

Номер патента: US20210231928A1. Автор: Tomoyuki Sashima,Saburo Masugi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2021-07-29.

Electronic apparatus, control method of electronic apparatus, and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US20230281768A1. Автор: Takashi Mizuno,Marina Miyaura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-09-07.

Apparatus and methods for mirror tunnel imaging device and for providing pseudobessel beams in a miniaturized optical system for imaging

Номер патента: US20180259317A1. Автор: Guillermo J. Tearney,Kengyeh K. Chu,Biwei YIN,Barry Vuong. Владелец: General Hospital Corp. Дата публикации: 2018-09-13.

Variable magnification optical system, optical apparatus, imaging apparatus and method for manufacturing variable magnification optical system

Номер патента: US10725272B2. Автор: Kosuke MACHIDA. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2020-07-28.

Focus optical system and optical disc master exposure apparatus

Номер патента: TW201001414A. Автор: Takeshi Ohmori,Keiji Fujita,Hiroaki ASHIWA,Takaaki Kassai,Kenji Maebara. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2010-01-01.

Objective optical system for optical information recording and reproducing apparatus, and optical information recording and reproducing apparatus

Номер патента: JP2013041659A. Автор: 智 井上,Satoshi Inoue,Shuichi Takeuchi,修一 竹内,直樹 山形,Naoki Yamagata. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2013-02-28.

Exposure apparatus and exposure method using the same

Номер патента: US09733523B2. Автор: Tae-Jin Kim,Min-Soo Kim,Yeon-Jae LEE,Hee-Chang YANG,Eun-Ho JUNG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Height detection apparatus and charged particle beam apparatus

Номер патента: US20190323835A1. Автор: Makoto Suzuki,Koichi Taniguchi,Yoshifumi Sekiguchi,Naoya Nakai. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-10-24.

Measurement and installation data indicating apparatus and measurement and installation data indicating method

Номер патента: US09776320B2. Автор: Nobuyuki Nishita. Владелец: Topcon Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Display apparatus and control method therefor

Номер патента: US20190096298A1. Автор: Yasuo Suda,Tomokazu Mori,Masanao Kurita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-03-28.

Projective optical metrology system

Номер патента: US20150308815A2. Автор: Fulvio Bresciani,Fabio Musso. Владелец: Thales Alenia Space Italia SpA. Дата публикации: 2015-10-29.

Apparatus and method for fluorescence imaging and tomography using spatially structured illumination

Номер патента: US09801548B2. Автор: Gilbert Feke,Laurie L. Voci. Владелец: Bruker Biospin Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Projector and projection method

Номер патента: US12003898B2. Автор: Chun-Chieh Wang,Fan-Chieh Chang. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2024-06-04.

Optical unit for a projective optical metrological system for determining quantities relative to the asset and/or position and communicating data

Номер патента: US11906308B2. Автор: Fulvio Bresciani,Ernesto Ciaramella,Mario Rannello,Giulio Cossu,Valter Basso. Владелец: Scuola Superiore di Studi Universitari e di Perfezionamento SantAnna. Дата публикации: 2024-02-20.

Optical Unit for a Projective Optical Metrological System for Determining Quantities Relative to the Asset and/or Position and Communicating Data

Номер патента: US20230288206A1. Автор: Fulvio Bresciani,Ernesto Ciaramella,Mario Rannello,Giulio Cossu,Valter Basso. Владелец: Scuola Superiore di Studi Universitari e di Perfezionamento SantAnna. Дата публикации: 2023-09-14.

Image display apparatus and image processing method

Номер патента: US8648882B2. Автор: Shinichi Tsukagoshi. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2014-02-11.

Image display apparatus and image processing method

Номер патента: US20110221783A1. Автор: Shinichi Tsukagoshi. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2011-09-15.

Image processing apparatus and image capturing apparatus

Номер патента: RU2761187C1. Автор: Митинори НАКАДЗИМА,Хидетака УЕМУРА. Владелец: Кэнон Кабусики Кайся. Дата публикации: 2021-12-06.

Surface inspection apparatus and method

Номер патента: US20010035951A1. Автор: Hisashi Isozaki,Hiroshi Yoshikawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-01.

Imaging system, movable apparatus, and storage medium

Номер патента: US20240217452A1. Автор: Makoto Takahashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-07-04.

Image processing method, image processing apparatus and image capturing apparatus

Номер патента: US20130215298A1. Автор: Takashi Kawabe,Shigeyuki Ueda. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2013-08-22.

Ophthalmologic apparatus and measurement method of eye

Номер патента: US20190380571A1. Автор: Kazuo Kitamura. Владелец: Topcon Corp. Дата публикации: 2019-12-19.

Optical pickup apparatus and signal recording and/or reproducing apparatus

Номер патента: US20040081062A1. Автор: Nobuhiko Ando,Naohiro Netsu. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2004-04-29.

Surface inspection apparatus and method thereof

Номер патента: US09551670B2. Автор: Hirofumi Tsuchiyama,Yoshikazu Tanabe,Kenji Watanabe,Ichiro Moriyama,Minori Noguchi,Yasuo Yatsugake,Ichiro Ishimaru,Yukio Kenbou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-01-24.

Apparatus and method for inspecting a surface of a sample

Номер патента: US09449789B2. Автор: Pieter Kruit. Владелец: Technische Universiteit Delft. Дата публикации: 2016-09-20.

Apparatus and method for positioning an iris for iris image capture

Номер патента: WO2014182407A1. Автор: Salil Prabhakar. Владелец: Delta ID Inc.. Дата публикации: 2014-11-13.

Light-receiving apparatus and electronic device

Номер патента: EP4231062A1. Автор: Tomohiko Baba,Shinichiro Noudo. Владелец: Sony Semiconductor Solutions Corp. Дата публикации: 2023-08-23.

Apparatus and method for sensing objects proximate to fluid flows

Номер патента: US20070188178A1. Автор: Jonathan Westhues,Darren Leigh,Paul Dietz. Владелец: Mitsubishi Electric Research Laboratories Inc. Дата публикации: 2007-08-16.

Optical observation apparatus and optical observation method

Номер патента: US9903812B2. Автор: Yutaka Miki. Владелец: Mitutoyo Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Electron beam exposure apparatus, electron beam correction method, electron beam exposure method, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: TW507271B. Автор: HIROSHI Yasuda,Shinichi Hamaguchi. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2002-10-21.

A charged particle beam exposure apparatus, and a charged particle beam exposure method, and a manufacturing method for the apparatus

Номер патента: KR100250801B1. Автор: 히로시 야스다,도모히코 아베,요시히사 오아에. Владелец: 아끼구사 나오유끼. Дата публикации: 2000-06-01.

Multi-column electron beam exposure apparatus and multi-column electron beam exposure method

Номер патента: JPWO2008120391A1. Автор: 洋 安田,章夫 山田,隆 木内,安田　洋,山田　章夫,光浩 中野. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2010-07-15.

Subjective optometry apparatus and storage medium

Номер патента: US20190269318A1. Автор: Michihiro Takii,Hirohisa Terabe. Владелец: Nidek Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-05.

Ophthalmic measurement apparatus and ophthalmic measurement program

Номер патента: US09480396B2. Автор: Michihiro Takii,Noriji Kawai. Владелец: Nidek Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Polarization optical system and projection-type liquid-crystal display device

Номер патента: US20090161032A1. Автор: Akihiro Yamada,Kenji Samejima,Akira Daijogo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-06-25.

Liquid crystal display element and projection type display device

Номер патента: US20050024578A1. Автор: Mieko Suzuki,Akiko Toriyama. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2005-02-03.

Single-Pass Imaging System Using Spatial Light Modulator Anamorphic Projection Optics

Номер патента: US20130050799A1. Автор: Patrick Y. Maeda,Douglas N. Curry,Timothy David Stowe. Владелец: Palo Alto Research Center Inc. Дата публикации: 2013-02-28.

Illumination device of a motor vehicle headlamp having a projection optics system guided along optical axis direction

Номер патента: US11732857B2. Автор: Stefan MITTERLEHNER,Günter Karlinger. Владелец: ZKW Group GmbH. Дата публикации: 2023-08-22.

Optical system for projection television

Номер патента: CA1163845A. Автор: William A. Rowe. Владелец: Zenith Radio Corp. Дата публикации: 1984-03-20.

Particle-beam exposure apparatus with overall-modulation of a patterned beam

Номер патента: WO2007112465A1. Автор: Elmar Platzgummer. Владелец: IMS Nanofabrication AG. Дата публикации: 2007-10-11.

Integrated optical system for dynamic diffuse and directional lighting

Номер патента: US20220003385A1. Автор: SOER Wouter,Johannes Willem Herman Sillevis Smitt. Владелец: LUMILEDS LLC. Дата публикации: 2022-01-06.

Integrated optical system for dynamic diffuse and directional lighting

Номер патента: US11946621B2. Автор: Wouter Soer,Johannes Willem Herman Sillevis Smitt. Владелец: LUMILEDS LLC. Дата публикации: 2024-04-02.

Projection type display apparatus and image display system

Номер патента: US20020126263A1. Автор: Takaya Konishi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-12.

Color combining optical system, image projection optical system, and projection type image display apparatus

Номер патента: US20020057499A1. Автор: Atsushi Okuyama,Saburo Sugawara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-05-16.

Headlight for a vehicle including a lighting device having a collimation optical system with diaphragm and projection optical system

Номер патента: US11815241B2. Автор: Bernd Fischer,Benjamin WILLEKE. Владелец: Hella GmbH and Co KGaA. Дата публикации: 2023-11-14.

Charged-particle-beam projection-exposure method exhibiting aberration reduction through multiple deflector use

Номер патента: US6027841A. Автор: Shohei Suzuki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-02-22.

Single-pass imaging system using spatial light modulator and anamorphic projection optics

Номер патента: EP2561993A3. Автор: Patrick Y. Maeda,Douglas N. Curry,Timothy D. Stowe. Владелец: Palo Alto Research Center Inc. Дата публикации: 2014-01-22.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US09859099B2. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Hideki Nasuno. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Processing apparatus and processing method

Номер патента: EP4400248A1. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-07-17.

Camera system, control method thereof, device manufacturing apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US7154537B2. Автор: Hiroshi Tanaka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-12-26.

Ophthalmologic apparatus and method for controlling the same

Номер патента: US20200214557A1. Автор: Tatsuo Yamaguchi,Ryoichi Hirose. Владелец: Topcon Corp. Дата публикации: 2020-07-09.

Image reading apparatus and image forming apparatus

Номер патента: US09706072B2. Автор: Takeshi Sasaki. Владелец: Canon Finetech Inc. Дата публикации: 2017-07-11.

Image pickup apparatus, stereoscopic lens apparatus, and control method

Номер патента: US20240214541A1. Автор: Hajime Inoue. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Image sensing apparatus, method of controlling image sensing apparatus and image recording apparatus, and method of designing optical system

Номер патента: US8035695B2. Автор: Hideo Kawahara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-10-11.

Image sensing apparatus, method of controlling image sensing apparatus and image recording apparatus, and method of designing optical system

Номер патента: US7535500B2. Автор: Hideo Kawahara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-05-19.

Imaging apparatus, imaging system, control method of imaging apparatus, and storage medium

Номер патента: US20170347012A1. Автор: Yutaka Suzuki,Kentaro Kogure. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-11-30.

Imaging apparatus, imaging system, control method of imaging apparatus, and storage medium

Номер патента: US20150138368A1. Автор: Yutaka Suzuki,Kentaro Kogure. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-05-21.

Enhancing digital images using secondary optical systems

Номер патента: US20090040323A1. Автор: Michael Gruber,Martin Ponticelli,Franz Leberl. Владелец: Microsoft Corp. Дата публикации: 2009-02-12.

Ophthalmic apparatus and method of controlling same

Номер патента: US20220322935A1. Автор: Masashi Nakajima,Hitoshi Shimizu,Masaya Suzuki. Владелец: Topcon Corp. Дата публикации: 2022-10-13.

Charged-particle beam exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20120126136A1. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-05-24.

Imaging apparatus, and a method of controlling imaging apparatus using an imaging surface correction map for performing corrections

Номер патента: US09854153B2. Автор: Takahiro Abe. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

Imaging apparatus, imaging system, control method of imaging apparatus, and storage medium

Номер патента: US09769369B2. Автор: Yutaka Suzuki,Kentaro Kogure. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-09-19.

Exposure apparatus and method of manufacturing display device using the same

Номер патента: US20230326784A1. Автор: Dongwon HAN,Seung-Wan Kim,Eunho JUNG,Jaecheol LEE. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20120002185A1. Автор: . Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL SYSTEM OF MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF CORRECTING WAVEFRONT DEFORMATION IN SAME

Номер патента: US20130016331A1. Автор: Loering Ulrich,Gruner Toralf,Walter Holger,Exler Matthias. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-01-17.

Illumination optical system for microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: JP5200182B2. Автор: コール アレクサンダー. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2013-05-15.

Illumination optical system for microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: JP5308638B2. Автор: コール アレクサンダー. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2013-10-09.

Adjusting method of pupil intensity distribution, illumination optical system and adjusting method thereof, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: JP5994970B2. Автор: 知行 松山,松山　知行,良太 松井,順司 池田. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-09-21.

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND EXPOSURE METHOD

Номер патента: US20120002186A1. Автор: Omura Yasuhiro,Okada Takaya,Nagasaka Hiroyuki. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20120002184A1. Автор: . Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-01-05.

Projection optical system

Номер патента: RU2313813C2. Автор: Михаил Сергеевич Левтонов. Владелец: САМСУНГ ЭЛЕКТРОНИКС КО., ЛТД.. Дата публикации: 2007-12-27.

Optical system for onboard projector indicator

Номер патента: RU2582210C1. Автор: Михаил Наумович Сокольский,Анатолий Александрович Строганов,Александр Михайлович Савицкий,Людмила Олеговна Краснова,Анатолий Владимирович Шукалов,Александр Исаакович Эфрос. Владелец: Открытое акционерное общество "ЛОМО". Дата публикации: 2016-04-20.

Method of measurement of optical system's coma coefficient

Номер патента: RU2292023C1. Автор: Виталий Семенович Титов,Максим Игоревич Труфанов,Александра Николаевна Стрелкова. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Курский государственный технический университет. Дата публикации: 2007-01-20.

LOCAL EXPOSURE APPARATUS, LOCAL EXPOSURE METHOD AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002183A1. Автор: Tanaka Shigeki,Matsumura Yuki,Ota Yoshiharu,MORIYAMA Shigeru. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

Projective optical system

Номер патента: RU2344452C2. Автор: Алексей Владимирович Братищев,Ирина Владимировна СЕРГИЕВСКАЯ. Владелец: Самсунг Электроникс Ко., Лтд. Дата публикации: 2009-01-20.

Projection optical system

Номер патента: RU2315344C1. Автор: Алексей Владимирович Братищев,Григорий Исаевич Грейсух,Сергей Алексеевич Степанов,Евгений Григорьевич Ежов. Владелец: САМСУНГ ЭЛЕКТРОНИКС КО., ЛТД.. Дата публикации: 2008-01-20.

Projection optic system

Номер патента: RU2339065C1. Автор: Алексей Владимирович Братищев,Ирина Владимировна Сергиевска,Ирина Владимировна СЕРГИЕВСКАЯ. Владелец: Самсунг Электроникс Ко., Лтд. Дата публикации: 2008-11-20.

Projection optical system for home video system

Номер патента: RU2262725C2. Автор: В.В. Поздняков,ков В.В. Поздн,А.Ф. Ширанков,А.М. Хорохоров,М.Е. Фролов,Юн Сеок-Ил,Хванг Гай-Хван. Владелец: Научно-учебный комплекс "Радиоэлектроники, лазерной и медицинской техники" Московского государственного технического университета им. Н.Э. Баумана. Дата публикации: 2005-10-20.

Lithographic Apparatus and Method

Номер патента: US20120002182A1. Автор: NIENHUYS Han-Kwang,HUIJBERTS Alexander Marinus Arnoldus,Jonkers Peter Gerardus. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2012-01-05.

System For Monitoring Foreign Particles, Process Processing Apparatus And Method Of Electronic Commerce

Номер патента: US20120002196A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Charged particle beam apparatus and sample processing method

Номер патента: US20120001086A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

COORDINATE INPUT APPARATUS, LIGHT RECEIVING APPARATUS OF THE COORDINATE INPUT APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME

Номер патента: US20120002217A1. Автор: Kobayashi Katsuyuki,Yoshimura Yuichiro. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

HOLOGRAM RECORDING MEDIUM AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, HOLOGRAM REPRODUCTION APPARATUS, AND HOLOGRAM REPRODUCTION METHOD

Номер патента: US20120002257A1. Автор: Shirakura Akira,Baba Shigeyuki,Arai Toshiyuki,Higashihara Teruaki. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL ELEMENT SWITCHING APPARATUS AND MICROSCOPE SYSTEM

Номер патента: US20120002275A1. Автор: Hayashi Kunihiko,Hirono Yu. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

VARIABLE DELAY CIRCUIT, RECORDING APPARATUS, AND DELAY AMOUNT CALIBRATION METHOD

Номер патента: US20120002528A1. Автор: . Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR EXPOSING A SUBSTRATE TO UV RADIATION USING A REFLECTOR HAVING BOTH ELLIPTICAL AND PARABOLIC REFLECTIVE SECTIONS

Номер патента: US20120003398A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

OPHTHALMOLOGIC APPARATUS AND OPHTHALMOLOGIC SYSTEM

Номер патента: US20120002166A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL TOMOGRAPHIC IMAGING APPARATUS AND CONTROL METHOD THEREFOR

Номер патента: US20120002214A1. Автор: Utsunomiya Norihiko,Miyata Kazuhide. Владелец: CANON LABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS AND LIGHT AMOUNT ADJUSTING METHOD

Номер патента: US20120002253A1. Автор: KOSEKI Naoya,HATANO Mitsuru,UENO Sueo,SHIRAISHI Hiroyuki,HASHIZUME Yusuke,NAGAMOCHI Katsuya,Shimokawa Koji. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002085A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

SOLID-STATE IMAGING APPARATUS AND IMAGING APPARATUS

Номер патента: US20120001057A1. Автор: Yamagata Yuuki,Koseki Ken,Kikuchi Masaru,Inada Yoshiaki,Inutsuka Junichi,Tajima Akari. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

MOTOR CONTROL APPARATUS, IMAGE FORMING APPARATUS AND MOTOR CONTROL METHOD

Номер патента: US20120001579A1. Автор: Mori Shinya. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120002071A1. Автор: Nishiyama Tomohiro. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.