Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Load lock chamber for large area substrate processing system

Load lock chamber for large area substrate processing system

Номер патента: TW200530105A
Опубликовано: 16-09-2005
Автор(ы): Shinichi Kurita, Wendell T Blonigan, Yoshiaki Tanase
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Load lock chamber for large area substrate processing system

Номер патента: EP1526565A3. Автор: Wendell T. Blonigan,Shinichi Kurita,Yoshiaki Tanase. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-07-06.

Load-lock unit and wafer transfer system

Номер патента: US5340261A. Автор: Teruo Asakawa,Hiroo Ono,Tetsu Oosawa,Kenji Nebuka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1994-08-23.

Load-lock unit and wafer transfer system

Номер патента: US5435683A. Автор: Teruo Asakawa,Hiroo Ono,Tetsu Oosawa,Kenji Nebuka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1995-07-25.

Enclosure for load lock interface

Номер патента: US5630690A. Автор: Philip M. Salzman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1997-05-20.

Wafer treatment system having load lock and buffer

Номер патента: EP1625609A2. Автор: Robert Mitchell,Allan Weed,Richard Gueler. Владелец: Axcelis Technologies Inc. Дата публикации: 2006-02-15.

Substrate processing apparatus with independently configurable integral load locks

Номер патента: EP1463677A1. Автор: David R. Beaulieu,Peter van der Meulen,Douglas R. Adams,Mitchell Drew. Владелец: Brooks Automation Inc. Дата публикации: 2004-10-06.

Robot for a substrate processing system

Номер патента: US09576833B2. Автор: Richard Blank,Matt Mclellan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-02-21.

Substrate processing system

Номер патента: US5745946A. Автор: David L. Thrasher,Lynn S. Ryle,Robert M. Ruppell,John S. Hearne,Wilbur C. Krussell,Gary D. Youre. Владелец: Ontrak Systems Inc. Дата публикации: 1998-05-05.

Substrate processing unit, substrate transfer method, substrate cleansing process unit, and substrate plating apparatus

Номер патента: EP1920458A1. Автор: Kenichi Suzuki,Masahiko Sekimoto,Kenichi Kobayashi,Toshio Yokoyama,Ryo Kato,Teruyuki Watanabe. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2008-05-14.

Tools and methods for mounting transport rails in a substrate processing system

Номер патента: US20090279990A1. Автор: Stuart Scollay. Владелец: Intevac Inc. Дата публикации: 2009-11-12.

Substrate cartridge, substrate processing apparatus, substrate processing system, control apparatus, and method of manufacturing display element

Номер патента: US8801307B2. Автор: Tohru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2014-08-12.

Fast swap dual substrate transport for load lock

Номер патента: US09859140B2. Автор: Mark A. Talmer. Владелец: Brooks Automation Inc. Дата публикации: 2018-01-02.

Dual robot processing system

Номер патента: WO2003052802A3. Автор: Moris Kori,Lawrence C Lei. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-12-11.

Dual load lock chamber

Номер патента: US20200350191A1. Автор: Michael R. Rice. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-11-05.

Dual load lock chamber

Номер патента: US20190355600A1. Автор: Michael R. Rice. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-11-21.

Substrate processing apparatus with vertically stacked load lock and substrate transport robot

Номер патента: US6318945B1. Автор: Christopher A. Hofmeister. Владелец: Brooks Automation Inc. Дата публикации: 2001-11-20.

High Throughput, Low Volume Clamshell Load Lock

Номер патента: US20140271048A1. Автор: William T. Weaver,Robert Brent Vopat,Jeffrey C. Blahnik. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2014-09-18.

Staged-vacuum wafer processing system and method

Номер патента: US5186718A. Автор: Sasson Somekh,Dan Maydan,Avi Tepman,Howard Grunes. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1993-02-16.

Load lock control

Номер патента: EP2011140A1. Автор: James Carroll,Lyudmila Stone,Dale Stone,Klaus Petry,Tariq Fasheh,Dave Weiderspahn. Владелец: Axcelis Technologies Inc. Дата публикации: 2009-01-07.

[cassette for a load-lock]

Номер патента: US20040226517A1. Автор: I-Tang Jiang,Yu-Ling Peng,Kuo-Shun Cheng. Владелец: AU OPTRONICS CORP. Дата публикации: 2004-11-18.

Cassette for a load-lock

Номер патента: US20060288936A1. Автор: I-Tang Jiang,Yu-Ling Peng,Kuo-Shun Cheng. Владелец: AU OPTRONICS CORP. Дата публикации: 2006-12-28.

Cassette for a load-lock

Номер патента: US7160417B2. Автор: I-Tang Jiang,Yu-Ling Peng,Kuo-Shun Cheng. Владелец: AU OPTRONICS CORP. Дата публикации: 2007-01-09.

Load arm for load lock

Номер патента: US5588789A. Автор: Richard S. Muka,Christopher A. Hofmeister. Владелец: Brooks Automation AG. Дата публикации: 1996-12-31.

Vacuum load lock apparatus

Номер патента: US4632624A. Автор: John Zajac,Ninko T. Mirkovich. Владелец: CollabRx Inc. Дата публикации: 1986-12-30.

Gas flow control in a substrate processing system

Номер патента: US6016611A. Автор: John M. White,Wendell T. Blonigan,Michael W. Richter. Владелец: Applied Komatsu Technology Inc. Дата публикации: 2000-01-25.

Acoustically-monitored semiconductor substrate processing systems and methods

Номер патента: US09429247B2. Автор: Michael Johnson,Joseph Yudovsky,Todd J. Egan,Kommisetti SUBRAHMANYAM. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-08-30.

Multi-position load lock chamber

Номер патента: US20020072241A1. Автор: Ivo Raaijmakers. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-06-13.

Multi-position load lock chamber

Номер патента: US20010026749A1. Автор: Ivo Raaijmakers. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-10-04.

Substrate processing apparatus and spray module of substrate processing apparatus

Номер патента: US20220392790A1. Автор: Jongchul Kim,InWoo BACK,YeongSeop BYEON,InCheol YEO. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-08.

Substrate processing apparatus and process control method thereof

Номер патента: US20230163003A1. Автор: Young Hwan YANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-25.

Substrate processing system

Номер патента: US20200257269A1. Автор: Masanori Nakayama,Tsukasa Kamakura. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-08-13.

Substrate processing in a process chamber for semiconductor manufacturing and apparatus management controller with error analysis

Номер патента: US11086304B2. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Hiroyuki Iwakura,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Takayuki KAWAGISHI,Kayoko Yashiki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2021-08-10.

Board processing apparatus, board processing method, and board processing system

Номер патента: US20160161941A1. Автор: Takashi Koshida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Substrate processing device, substrate processing method, and substrate processing system

Номер патента: US20160189991A1. Автор: Seiichiro Sano,Katsuaki Takagi,Satoshi Yamanaka,Yuzo Uchida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-30.

Substrate Processing System and Operation Inspecting Method

Номер патента: US20100223277A1. Автор: Mitsuhiro Matsuda,Yoshitaka Koyama,Hideto Yamaguchi,Yasuhiro Joho. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2010-09-02.

Substrate processing device, substrate processing method, and substrate processing system

Номер патента: US09673072B2. Автор: Seiichiro Sano,Katsuaki Takagi,Satoshi Yamanaka,Yuzo Uchida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Substrate processing system, substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240014055A1. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Kayoko Yashiki,Kyohei Kita. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-01-11.

Control apparatus, substrate processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US09772624B2. Автор: Takanori Saito,Yuichi Takenaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Electrochemical-mechanical thinning method and apparatus for large-diameter semiconductor wafers

Номер патента: US20240266178A1. Автор: Xu Yang,Zhuangde Jiang,Xiaozhe Yang. Владелец: Xian Jiaotong University. Дата публикации: 2024-08-08.

Substrate Processing System

Номер патента: US20100132611A1. Автор: Yoshitaka Koyama. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2010-06-03.

Conveyance method and processing system

Номер патента: US20230411194A1. Автор: Naoyuki Sato,Shigeru Kubota,Keisuke Hiraide,Tatsuya Mukoyama,Wataru Nakagomi,Shotaro MURAKAWA,Fumitaka SENTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09766617B2. Автор: Keiji Osada,Junichi Ogawa,Youichi Nakayama,Hiroaki DEWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing system

Номер патента: US20190025799A1. Автор: Masanori Nakayama,Tsukasa Kamakura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2019-01-24.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20230027653A1. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Kayoko Yashiki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-01-26.

Substrate processing system, substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and program

Номер патента: EP4307065A1. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Kayoko Yashiki,Kyohei Kita. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-01-17.

Substrate processing system and particle removal method

Номер патента: US12062557B2. Автор: Tatsuya Morioka,Daisuke Hara,Akihiro Matsui,Hideyuki Osada,Genichi Nanasaki,Hikaru Nihei. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Processing system

Номер патента: US12040202B2. Автор: Jun Hirose,Norihiko Amikura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Processing system

Номер патента: US20210343559A1. Автор: Jun Hirose,Norihiko Amikura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-11-04.

Calibration of an electronics processing system

Номер патента: US20230364794A1. Автор: Alexander Berger,Nicholas Michael Bergantz,Damon K. Cox. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-16.

Calibration of an electronics processing system

Номер патента: US11766782B2. Автор: Alexander Berger,Nicholas Michael Bergantz,Damon K. Cox. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-26.

Calibration of an electronics processing system

Номер патента: US12115683B2. Автор: Alexander Berger,Nicholas Michael Bergantz,Damon K. Cox. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-15.

Replacing end effectors in semiconductor processing systems

Номер патента: US12119256B2. Автор: Dongyang Chen. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-15.

Calibration of an aligner station of a processing system

Номер патента: WO2021034854A1. Автор: Andreas Schmid,Leon Volfovski,Paul Wirth,Nicholas Michael Bergantz,Damon Cox,Sanggyum Kim. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-02-25.

Load lock optimization method and system

Номер патента: WO2004025701A2. Автор: Morgan D. Evans. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2004-03-25.

Calibration of an aligner station of a processing system

Номер патента: US11823937B2. Автор: Andreas Schmid,Leon Volfovski,Paul Wirth,Nicholas Michael Bergantz,Damon Cox,Sanggyum Kim. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Load lock optimization method and system

Номер патента: WO2004025701A3. Автор: Morgan D Evans. Владелец: Morgan D Evans. Дата публикации: 2005-01-27.

Load lock optimization method and system

Номер патента: EP1540558A2. Автор: Morgan D. Evans. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2005-06-15.

Calibration of an electronics processing system

Номер патента: US11759954B2. Автор: Alexander Berger,Nicholas Michael Bergantz,Damon K. Cox. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-19.

Substrate processing system for processing substrates with an electronics module located behind a door in a front wall of the substrate processing system

Номер патента: US12051602B2. Автор: Jeroen de Jonge. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-07-30.

In-line machine vision system for part tracking of substrate processing system

Номер патента: US20240278991A1. Автор: Scott Baldwin,Deqi Wang,Hossein SADEGHI,Damon Tyrone Genetti. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-22.

Jigs and methods of teaching substrate handling in semiconductor processing systems using jigs

Номер патента: US20230100356A1. Автор: Dongyang Chen. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing system

Номер патента: US20200126831A1. Автор: Ting-Yu Wu,Chuan-Chang Feng,Mao-Lin Liu. Владелец: Scientech Corp. Дата публикации: 2020-04-23.

Jigs and methods of teaching substrate handling in semiconductor processing systems using jigs

Номер патента: US20230105844A1. Автор: Dongyang Chen. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-04-06.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US12128451B2. Автор: Junichi Ishii,Hiroaki Ishii,Kazuhiro Honsho. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Substrate processing system, aligning apparatus, and substrate shape monitoring method

Номер патента: US20230294932A1. Автор: Kento TOKAIRIN. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US11854840B2. Автор: Yuji Takimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Substrate processing system and substrate transfer method

Номер патента: US20230282503A1. Автор: Takehiro Shindo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US11742223B2. Автор: Yuji Kimura,Yoshihiro Kai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12074048B2. Автор: Yuji Kawaguchi,Hiroki Harada,Tokutarou Hayashi,Tatsuhiko Tsujihashi,Tsuyoshi OTSUKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Substrate processing apparatus, substrate transfer method and substrate transfer device

Номер патента: US09530676B2. Автор: Kenichi Suzuki,Hiroshi Sotozaki,Mitsuru Miyazaki,Toshio Yokoyama,Junji Kunisawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-12-27.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240017375A1. Автор: Takeshi Tamura,Tomohiro Kaneko,Munehisa Kodama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240213077A1. Автор: Woojin Chung,Kyungmo Kim,Jeongcheol LEE,Jungheum NAM,Myunggeun MIN. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: EP4404242A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake,Yuta Mitsuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-24.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4420831A1. Автор: Kenichi Kobayashi,Makoto Kashiwagi,Mao Fujisawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-28.

Load lock of process chamber for semiconductor manufacturing Vacuum device

Номер патента: KR980011732A. Автор: 김형관. Владелец: 김광호. Дата публикации: 1998-04-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180019145A1. Автор: Eiichi Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09799542B2. Автор: Eiichi Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Substrate processing apparatus, substrate checking method, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240321612A1. Автор: Takuya Saito,Shin Hiyama,Taiyo OKAZAKI,Shin TSUJIMURA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate transport method and substrate processing system

Номер патента: US20230230862A1. Автор: Kiyoshi Suzuki,Koichi Miyashita,Hiroshi Hirose,Ryota Goto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-07-20.

Load lock chamber and apparatus for treating substrate

Номер патента: US20240234184A9. Автор: Tae-Hoon Lee,Jong-Chan Lee,Hyo-Won PARK,Seok-June YUN. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Autoclean for load locks in substrate processing systems

Номер патента: US12094739B2. Автор: Travis R. Taylor,Adam Patrick BATEMAN. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

High-density substrate processing systems and methods

Номер патента: US12074042B2. Автор: Tuan A. Nguyen,Jason M. Schaller,Khokan Chandra Paul,Swaminathan T. Srinivasan,Charles T. Carlson,Steve Hongkham. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-27.

Process chambers for substrate vacuum processing tool

Номер патента: WO2007101207A3. Автор: John M Smith,James Carter Hall,Jeffrey G Ellison. Владелец: Anaconda Semi Lp. Дата публикации: 2008-01-10.

Wet processing system and system and method for manufacturing semiconductor structure

Номер патента: US20230386870A1. Автор: Ying-Chieh MENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Wafer processing system, wafer processing method, and ion implantation system

Номер патента: US8096744B2. Автор: Keiji Okada,Fumiaki Sato,Hiroaki Nakaoka. Владелец: SEN Corp. Дата публикации: 2012-01-17.

Modular multi-chamber processing tool having link chamber for ultra high vacuum processes

Номер патента: WO2023172283A1. Автор: Robert Irwin Decottignies,Marek W. Radko. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-09-14.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: US20110062113A1. Автор: Tsutomu Hiroki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-03-17.

Load lock chamber and apparatus for treating substrate

Номер патента: US20240136210A1. Автор: Tae-Hoon Lee,Jong-Chan Lee,Hyo-Won PARK,Seok-June YUN. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230386871A1. Автор: Naoki Hara,Shin Hiyama,Taiyo OKAZAKI. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Method and apparatus for handling substrates in a processing system having a buffer chamber

Номер патента: WO2018226366A1. Автор: James Hoffman,Atsushi Kitani,JaeYoung Kim,Young Taek Kwon. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-12-13.

Load lock device

Номер патента: EP4027371A1. Автор: Shinji Takagi,Jun Miura,Naoya Fukuda,Hidetoshi Shimokawa. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2022-07-13.

Load lock device

Номер патента: US20220139761A1. Автор: Shinji Takagi,Jun Miura,Naoya Fukuda,Hidetoshi Shimokawa. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2022-05-05.

Modular multi-chamber processing tool having link chamber for ultra high vaccum processes

Номер патента: US20230317478A1. Автор: Robert Irwin Decottignies,Marek W Radko. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-05.

Substrate processing system, vacuum substrate transfer module, and substrate transfer method

Номер патента: US11862506B2. Автор: Masatomo KITA,Norihiko Amikura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Semiconductor substrate processing apparatus

Номер патента: US20230230865A1. Автор: Kyusang Lee,Hyunjoo Jeon,Jinhyuk CHOI,Beomsoo HWANG,Kongwoo Lee,Myungki Song,Duckjin KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-20.

Processing system having a front opening unified pod (FOUP) load lock

Номер патента: US11923217B2. Автор: Jacob Newman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-05.

Spacer device for a heating system for heating large-area substrates, heating system, and heating method

Номер патента: US20240339354A1. Автор: Andreas Ludwig,Sergiy Borodin. Владелец: Singulus Technologies AG. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate processing system

Номер патента: WO2024151636A1. Автор: Jairo T. Moura,Robert T. Caveney. Владелец: Brooks Automation Us, Llc. Дата публикации: 2024-07-18.

Systems and methods for monitoring of a controlled environment in a substrate processing system

Номер патента: US20240304477A1. Автор: Bert Jongbloed,Gido Van Der Star. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate transfer system and load lock module

Номер патента: US11791180B2. Автор: Masahiro DOGOME,Masatomo KITA,Norihiko Amikura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20240253093A1. Автор: Koji Ando,Noritake SUMI,Tomohiro Motono. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing system

Номер патента: US20240258147A1. Автор: Shinichi Taniguchi,Akihiro Iwasaki,Tsuyoshi Tomita,Kenji Amahisa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing system

Номер патента: EP4407665A2. Автор: Shinichi Taniguchi,Akihiro Iwasaki,Tsuyoshi Tomita,Kenji Amahisa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.

Substrate processing system

Номер патента: EP4407665A3. Автор: Shinichi Taniguchi,Akihiro Iwasaki,Tsuyoshi Tomita,Kenji Amahisa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-06.

Distribution components for semiconductor processing systems

Номер патента: WO2022020194A1. Автор: Yang Guo,Swaminathan Srinivasan,Philip A. Kraus,Kallol Bera,Nitin Pathak,Anantha K. Subramani,Badri N. RAMAMURTHI,Xiaopu LI,Seyyed Abdolreza Fazeli. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-01-27.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US12091751B2. Автор: Satoshi Takano,Naofumi Ohashi,Tomihiro Amano. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus and methods

Номер патента: US09972511B2. Автор: Takashi KURATOMI,Brent Biggs. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing system for removing peripheral portion of substrate, substrate processing method and computer readable recording medium thereof

Номер патента: US11752576B2. Автор: Hayato TANOUE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-12.

Systems and methods for detecting the existence of one or more environmental conditions within a substrate processing system

Номер патента: WO2017132203A1. Автор: David Mordo,Fareen Adeni Khaja. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2017-08-03.

Substrate processing apparatus, method for manufacturing semiconductor device, method for processing substrates

Номер патента: US09748132B2. Автор: Takayuki Sato,Koichiro Harada,Tatsushi Ueda,Noriaki MICHITA. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-08-29.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and maintenance method

Номер патента: US12040166B2. Автор: Jun Hirose,Atsushi Sawachi,Takuya Nishijima,Ichiro SONE,Suguru Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and maintenance method

Номер патента: US20240339306A1. Автор: Jun Hirose,Atsushi Sawachi,Takuya Nishijima,Ichiro SONE,Suguru Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Apparatus for transferring substrate, substrate processing system and method of processing substrate

Номер патента: US20240120225A1. Автор: Akinori Shimamura,Dongwei Li,Hiromitsu Sakaue,Takehiro Shindo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Method for automatic measurement and for teaching-in of location positions of objects within a substrate processing system by means of sensor carriers and associated sensor carrier

Номер патента: EP2304769A1. Автор: Torsten Mueller,Andreas Hertgens,Pau Waltner. Владелец: Aes Motomation Gmbh. Дата публикации: 2011-04-06.

Method for automatic measurement and for teaching-in of location positions of objects within a substrate processing system by means of sensor carriers and associated sensor carrier

Номер патента: WO2010115632A1. Автор: Torsten Mueller,Andreas Hertgens,Pau Waltner. Владелец: Aes Motomation Gmbh. Дата публикации: 2010-10-14.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240355647A1. Автор: Takashi Uno,Naoyuki Okamura,Keisuke Sakaguchi,Katsufumi Matsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: EP4418307A1. Автор: Keisuke Sakaguchi,Hiroshi Marumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12057326B2. Автор: Hiroaki Inadomi,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240339339A1. Автор: Hiroaki Inadomi,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Reflective deposition rings and substrate processing chambers incorporating same

Номер патента: US09905443B2. Автор: Ashish Goel,Joung Joo Lee,Joseph M. Ranish,Xiaoxiong Yuan,Anantha K. Subramani. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-02-27.

Integrated hardware-software computer vision system for autonomous control and inspection of substrate processing systems

Номер патента: WO2021021501A1. Автор: Scott Baldwin,Hossein SADEGHI,Andrew D. Bailey Iii. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2021-02-04.

Substrate processing apparatus, method for manufacturing semiconductor device, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09966289B2. Автор: Osamu Morita,Takashi Nogami,Tomoshi Taniyama,Yasuaki Komae,Daigi KAMIMURA,Shigeru Odake. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-08.

Substrate processing system, method for controlling substrate processing system, and storage medium

Номер патента: US20150013722A1. Автор: Yoshifumi Amano,Yuki Ito,Eiichiro Okamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-01-15.

Substrate processing system, method for controlling substrate processing system, and storage medium

Номер патента: US9782807B2. Автор: Yoshifumi Amano,Yuki Ito,Eiichiro Okamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Ultra-large area scanning reactive ion etching machine and etching method thereof

Номер патента: US20220068617A1. Автор: Xiong Li,Ping Gao,Xiangang Luo,Zeyu ZHAO,Yanqin WANG,Xiaoliang Ma,Yinghui Guo,Mingbo PU. Владелец: Institute of Optics and Electronics of CAS. Дата публикации: 2022-03-03.

Ultra-large area scanning type reactive ion etching machine and etching method

Номер патента: EP3905310A1. Автор: Xiong Li,Ping Gao,Xiangang Luo,Zeyu ZHAO,Yanqin WANG,Xiaoliang Ma,Yinghui Guo,Mingbo PU. Владелец: Institute of Optics and Electronics of CAS. Дата публикации: 2021-11-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20070065760A1. Автор: Yoshitake Ito. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-03-22.

Substrate processing apparatus, semiconductor device manufacturing method, substrate processing method, and recording medium

Номер патента: US09543220B2. Автор: Takeo Sato. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-01-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09449857B2. Автор: Hiroaki Inadomi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Laser deposition apparatus for depositing a large area oxide thin film on a substrate

Номер патента: US5820682A. Автор: Gun Yong Sung,Jeong Dae Suh. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 1998-10-13.

Substrate processing system and substrate processing apparatus

Номер патента: US11823932B2. Автор: Kyoungho KIM,Eungjin KIM,Pyongil CHO,Hyeonjun JEON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-21.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20230282493A1. Автор: Yuji Kimura,Koji Tanaka,Shinichi Ikeda,Kazuaki Kitamura,Yukiyoshi Saito,Akihiro TERAMOTO,Masataka GOSHO,Keita Hirase,Shota TAKEI,Shunsuke KURIZAKI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Substrate processing system and method for supplying processing fluid

Номер патента: US20200098594A1. Автор: Satoshi Okamura,Hiroaki Inadomi,Yasuo Kiyohara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-03-26.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230101475A1. Автор: Hiroki Tajiri,Masayuki ORISAKA,Takashi Izuta. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20200243350A1. Автор: Hiroshi Abe,Manabu Okutani,Naohiko YOSHIHARA,Katsuei HIGASHI,Tsutomu Osuka. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234173A1. Автор: Hiroki Koyama. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate transferring unit, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20230062447A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park,Seungmin SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-02.

Substrate processing apparatus, method of processing substrate, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240249962A1. Автор: Naofumi Ohashi,Hideharu Itatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20190103291A1. Автор: Tooru Nakamura,Kouji Kimoto,Hiroaki Inadomi,Yoshihisa Aoyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-04-04.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12054828B2. Автор: Kohei Fukushima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing apparatus and apparatus cleaning method

Номер патента: US12087599B2. Автор: Osamu Kuroda,Hidemasa ARATAKE,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240274451A1. Автор: Masanobu Sato,Hiroshi Horiguchi,Saki Miyagawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230311170A1. Автор: Toru Hirata,Yoshinori Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12094694B2. Автор: Sumi Tanaka,Tamihiro Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09997382B2. Автор: Kenji Kobayashi,Kazuhide Saito,Kenji Izumoto,Akihisa Iwasaki,Takemitsu Miura. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09768042B2. Автор: Ayumi Higuchi,Asuka WAKITA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, fluid supplying method and storage medium

Номер патента: US09662685B2. Автор: Gentaro Goshi,Kazuyuki Mitsuoka,Takayuki Toshima,Takehiko Orii,Hiroki Ohno,Gen You. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Methods and apparatus for large diameter wafer handling

Номер патента: US09592930B2. Автор: Michael S. Adams,Barry Gregerson,Jason T. Steffens. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2017-03-14.

Substrate processing system carrier

Номер патента: US20240025670A1. Автор: Aaron Green,Andreas Schmid,Nicholas Michael Bergantz,Damon K. Cox. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-25.

Low temperature manifold assembly for substrate processing systems

Номер патента: US20230352276A1. Автор: Gabriel De Jesus SOTO. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-11-02.

Substrate processing system

Номер патента: US20160148827A1. Автор: Satoshi BIWA,Jiro Higashijima,Norihiro Ito,Terufumi Wakiyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-26.

Compliance components for semiconductor processing system

Номер патента: WO2021216453A1. Автор: Viren KALSEKAR. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-10-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234100A9. Автор: Je Ho Kim,Tae Suk Jung. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240128111A1. Автор: Tae Yong Kim,Byungin AN. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230085140A1. Автор: Naofumi Ohashi,Hideharu Itatani,Shun Matsui,Toshiro Koshimaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing apparatus, operating method thereof, and photo spinner equipment

Номер патента: US20240178011A1. Автор: Ho Jin Jang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing device and dielectric plate alignment method

Номер патента: EP4394850A1. Автор: Ju-Young Park,Kwang-Sung YOO. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-07-03.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and substrate

Номер патента: US20240162052A1. Автор: Nobuhiko MOURI,Takanori Obaru. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12051605B2. Автор: Yusuke Hashimoto,Hiroki Sakurai,Daisuke Goto,Takahiro Koga,Nobuhiro Ogata,Kanta Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240249956A1. Автор: Yohei Midorikawa,Ryo Kuwajima,Yohei NAKAGOMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230084826A1. Автор: Jung Hwan Lee,Young Jun Kim,Sung Ho ROH,Cheong Hwan Jeong,Tae Dong Kim. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate cleaning method, processing container cleaning method, and substrate processing device

Номер патента: US11504751B2. Автор: Kenji Sekiguchi,Shuuichi Nishikido,Kyoko Ikeda,Kazuya Dobashi,Tsunenaga Nakashima,Masato Nakajo,Takahiro YASUTAKE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-11-22.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230207376A1. Автор: Kiyoshi Mori,Haruhiko Furuya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing method, thermal processing apparatus, and semiconductor manufacturing equipment

Номер патента: US20240186161A1. Автор: Sung Kyu Park,Sung Yong Lee,Myung Hwan Oh. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230282505A1. Автор: Satoshi Takano,Naofumi Ohashi,Atsushi Moriya,Yukinori Aburatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-07.

Upper electrode unit and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240297023A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Seong Min Nam. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230241636A1. Автор: Yoko TAKAKITA. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20190057890A1. Автор: Yoshitomo Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-02-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240203702A1. Автор: Seungpil Chung,Sungik Park,Yongsu Jang,Jungyoon Yang,Inseong Lim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Upper electrode unit and substrate processing apparatus comprising same

Номер патента: EP4428897A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Seong Min Nam. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-09-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240299971A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing device

Номер патента: US20240312803A1. Автор: Shusaku Matsumoto,Koichiro Kawano,Shiguma KATO,Tomoya Iwasaki. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus and method thereof

Номер патента: US20240326406A1. Автор: Seong Soo JEONG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4447096A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Cooled pin lifter paddle for semiconductor substrate processing apparatus

Номер патента: US09859145B2. Автор: Andreas Fischer,Dean Larson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09859136B2. Автор: Yoshifumi Amano,Yoichi Tokunaga,Hiromitsu Namba,. Fitrianto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and recording medium

Номер патента: US09852933B2. Автор: Norihiro Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09852931B2. Автор: Masanobu Sato,Masahiro Miyagi,Hiroyuki Araki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09795999B2. Автор: Takashi Ootagaki,Konosuke Hayashi,Yosuke Himori. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Substrate processing device and substrate processing method for carrying out chemical treatment for substrate

Номер патента: US09786527B2. Автор: Nobuyuki Shibayama. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09687887B2. Автор: Atsuyasu Miura. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180185885A1. Автор: Akio Hashizume,Junichi Ishii,Takayuki Nishida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-05.

Substrate processing apparatus and maintenance method thereof

Номер патента: US09613837B2. Автор: Ken Horiuchi,Koji Ando,Shigeru Senzaki,Michishige Saito,Shingo Koiwa,Daiki Satoh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Method of processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US09530657B2. Автор: Masahiro Ogasawara,Rui Takahashi,Masafumi Urakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

High precision edge ring centering for substrate processing systems

Номер патента: US20230369025A1. Автор: Seetharaman Ramachandran,Hui Ling Han,Marc Estoque. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and substrate processing system

Номер патента: US20210187685A1. Автор: Itsuki Kobata,Atsuo Katagiri. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-06-24.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240234183A1. Автор: Naofumi Ohashi,Teruo Yoshino,Tadashi Takasaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing system with load-lock chamber

Номер патента: US6805748B1. Автор: Ryo Edo. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-10-19.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12080572B2. Автор: Masahiro DOGOME,Masatomo KITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing system having improved substrate transport system

Номер патента: US20090060689A1. Автор: G. X. Guo,K. A. Wang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-03-05.

Load lock arrangements, associated temperature control assemblies, and semiconductor processing systems including load lock arrangements and temperature control assemblies

Номер патента: US20240213058A1. Автор: Masaei Suwada,Taira Okabe. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-06-27.

Large area substrate processing system with between chamber platform

Номер патента: US20100158642A1. Автор: John A. Miller,Thomas L. Duer. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2010-06-24.

Substrate process apparatus

Номер патента: WO2020252476A3. Автор: Alexander Krupyshev,Robert May,Daniel Babbs,Leigh SHARROCK. Владелец: Brooks Automation, Inc.. Дата публикации: 2021-02-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US11967513B2. Автор: Naofumi Ohashi,Teruo Yoshino,Tadashi Takasaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-04-23.

System for fumigating a load lock of a substrate processing system

Номер патента: WO2024155465A1. Автор: Travis R. Taylor,Geoffrey Hohn,Thor Andreas RAABE,Lawrence Matthew Roberts. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus and a method for fabricating a semiconductor device by using same

Номер патента: US20020182870A1. Автор: Akihiro Sato,Tatsuhisa Matsunaga,Norio Akutsu. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2002-12-05.

Substrate processing system

Номер патента: US20200411341A1. Автор: George Xinsheng Guo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-12-31.

System and method of opening a load lock door valve at a desired pressure after venting

Номер патента: US09817407B2. Автор: Eric D. Wilson,Bradley M. Pomerleau. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2017-11-14.

High-throughput load lock chamber

Номер патента: WO2024028194A1. Автор: Shao-Wei Fu,Yi-Chen Lin,Dongchi YU,Jun-Li Lin. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-02-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240269862A1. Автор: Takayuki Hatanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Dynamic load lock with cellular structure for discrete substrates

Номер патента: US20130199891A1. Автор: Wolfgang Buschbeck,Andreas Lopp,Juergen Henrich,Susanne Schlaefer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-08-08.

Substrate Processing Apparatus and Device Manufacturing Method

Номер патента: US20090148604A1. Автор: Raimond Visser,Pieter Renaat Maria Hennus,Johannes Hendrikus Gertrudis Franssen,Erwin Theodorus Jacoba Verhagen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2009-06-11.

Systems and methods for controlling moisture in semiconductor processing systems

Номер патента: US20230197472A1. Автор: Mario Gonzalez,Mandar Deshpande,Joseph KRAUS. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-06-22.

Load lock with integrated features

Номер патента: WO2021194752A1. Автор: D. Jeffrey Lischer,Steven M. Anella,Jordan B. Tye,Michael Blanchard,Brant S. Binns. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-09-30.

Load lock with integrated features

Номер патента: WO2021194724A1. Автор: D. Jeffrey Lischer,Steven M. Anella,Jordan B. Tye,Michael Blanchard,Brant S. Binns. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-09-30.

Load lock arrangements, semiconductor processing systems having load lock arrangements, and methods of making load locks for semiconductor processing systems

Номер патента: US20240178021A1. Автор: Samer Banna,Mandar Deshpande,Senthil Sivaraman. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-05-30.

Model-based controlled load lock pumping scheme

Номер патента: WO2023076006A1. Автор: D. Jeffrey Lischer,Wayne Chen,Bon-Woong Koo,Frank Sinclair,Dawei Sun,Tseh-Jen Hsieh,Chi-Yang Cheng,Paul Joseph Murphy,Gregory Edward Stratoti,Guy Oteri. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-05-04.

High-throughput load lock chamber

Номер патента: WO2024132539A1. Автор: Shao-Wei Fu,Yi-Chen Lin,Dongchi YU,Jun-Li Lin,Huan-yu CHANG. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-06-27.

Volume filling cassette for load lock

Номер патента: US20240153733A1. Автор: Jason M. Schaller,Michael Mason Carrell,Victor Flores Iracheta. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230402303A1. Автор: Hiroaki Inadomi,Tsunenaga Nakashima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Wafer processing system including a robot

Номер патента: WO2003012830A1. Автор: Woo Sik Yoo,Hiromitsu Kuribayashi. Владелец: Wafermasters, Incorporated. Дата публикации: 2003-02-13.

Model-Based Controlled Load Lock Pumping Scheme

Номер патента: US20230138326A1. Автор: D. Jeffrey Lischer,Wayne Chen,Bon-Woong Koo,Frank Sinclair,Dawei Sun,Tseh-Jen Hsieh,Chi-Yang Cheng,Paul Joseph Murphy,Gregory Edward Stratoti,Guy Oteri. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-05-04.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240249964A1. Автор: Seiji Nakashima,Shinsuke TAKAKI,Akihiro TERAMOTO,Ryo SHOBU. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Vertical cassette elevator and load lock viewer

Номер патента: US6002516A. Автор: Jia-Rong Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 1999-12-14.

Load lock body portions, load lock apparatus, and methods for manufacturing the same

Номер патента: WO2020081600A1. Автор: Michael C. Kuchar,Richard Giljum,Travis Morey,Theodossios V. Costuros,Edward Ng,Pandu Maddherla,Ram Dayal MALVIYA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-04-23.

Substrate processing system

Номер патента: US20240355654A1. Автор: Jairo T. Moura,Robert T. Caveney. Владелец: Brooks Automation US LLC. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate processing system, substrate processing method, and control program

Номер патента: US12062559B2. Автор: Minoru Nagasawa,Kunio Takano,Toshiharu Hirata,Takafumi Matsuhashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Method, computer program product and apparatus for scheduling maintenance actions in a substrate processing system

Номер патента: US20050033463A1. Автор: Wim Tel,Harm Rossing,Suzan Auer-Jongepier. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2005-02-10.

Flexible temperature compensation systems and methods for substrate processing systems

Номер патента: US09864361B2. Автор: Andrew D. Bailey, III,Marcus Carbery. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Substrate processing system and substrate transfer control method

Номер патента: US09646864B2. Автор: Daisuke Morisawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Flow metrology calibration for improved processing chamber matching in substrate processing systems

Номер патента: US20240255341A1. Автор: Evangelos T. Spyropoulos,Piyush Agarwal. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Management device for substrate processing system and management method for substrate processing system

Номер патента: US20230205174A1. Автор: Man Gyu LEE. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Slide and pivot assemblies for process module bias assemblies of substrate processing systems

Номер патента: US20230154772A1. Автор: BIN Yuan,Michael C. Kellogg,David William Paquet,Dexter Yuk Hing CHONG. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-05-18.

Substrate processing system

Номер патента: US20240191351A1. Автор: Dieter Pierreux. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-06-13.

RF reference measuring circuit for a direct drive system supplying power to generate plasma in a substrate processing system

Номер патента: US12106947B2. Автор: Maolin Long. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Semiconductor processing system having multiple decoupled plasma sources

Номер патента: US09947557B2. Автор: Richard Gottscho,Harmeet Singh,Peter L. G. Ventzek,John Patrick Holland. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-04-17.

Textured silicon liners in substrate processing systems

Номер патента: US09799492B2. Автор: Julian Blake. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2017-10-24.

Continuous substrate processing system

Номер патента: US09748125B2. Автор: Nag B. Patibandla,Li-Qun Xia,Banqiu Wu,Toshiaki Fujita,Pravin K. Narwankar,Ralf Hofmann,Jeonghoon Oh,Srinivas Satya. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-29.

Textured silicon liners in substrate processing systems

Номер патента: US09437397B2. Автор: Julian Blake. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2016-09-06.

Organic solvent supplying apparatus, substrate processing method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240203726A1. Автор: Ki Bong Kim,Yong Hyun Choi,Myung Seok Cha,Ju Yeon SONG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing system and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230175124A1. Автор: Jiwon KWAK,Songyi Baek,Taemin Kim,Sejin KYUNG,Daewee KONG,Youngtack SIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-08.

Substrate processing system and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240112933A1. Автор: Bongcheol Kim,Jeonghee Choi,Hyungwan Do. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-04.

Prevention of contamination of substrates during pressure changes in processing systems

Номер патента: EP4388581A1. Автор: Ashley M. Okada,Dean C. Hruzek,Kenneth Le,Changgong WANG,Yuanhong Guo,Atilla KILICARSLAN,Raechel Chu-Hui Tan,Robert A. Medure,Sai Padhy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-26.

Chiller make-break connector for substrate processing systems

Номер патента: US12074039B2. Автор: Alexander Charles Marcacci. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Substrate processing system with vertical arrangement structure

Номер патента: US20230260806A1. Автор: Hyung Chul Kim,Dong Hwa Lee,You Sun JUNG. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Reaction chamber for processing semiconductor substrates with gas flow control capability

Номер патента: US20230411176A1. Автор: Arun THOTTAPPAYIL,Dongrak Jeong. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-12-21.

Substrate processing system including coil with RF powered faraday shield

Номер патента: US12087557B2. Автор: SHEN Peng,Anthony Nguyen,Dan Marohl,Tamarak Pandhumsoporn. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing system, substrate detecting apparatus, and substrate detecting method

Номер патента: US20120160040A1. Автор: Yuichi Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-06-28.

Substrate processing apparatus and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US09530677B2. Автор: Akinori Tanaka,Daisuke Hara,Takatomo Yamaguchi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-12-27.

Dew point sensing in semiconductor processing system load locks

Номер патента: US20230194392A1. Автор: Andrew Rosser,Frank A. Pugliese, JR.. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-06-22.

Plasma-enhanced anneal chamber for wafer outgassing

Номер патента: US20170294292A1. Автор: Lara Hawrylchak,Norman L. Tam,Matthew Spuller,Matthew D. Scotney-Castle,Kong Lung Samuel Chan,Dongming IU. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-12.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US12062563B2. Автор: Itsuki Kobata,Keita Yagi,Nobuyuki Takahashi,Yoichi Shiokawa,Toru Maruyama,Katsuhide Watanabe. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Support information display method, maintenance support method of substrate processing apparatus, support information display control apparatus, substrate processing system and recording medium

Номер патента: US09810905B2. Автор: Hiroshi Nakamura,Toru Yamauchi,Toshiaki Kodama,Sensho Kobayashi,Kazuya Uoyama,Gaku Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-07.

Substrate processing method, program, computer-readable storage medium, and substrate processing system

Номер патента: US09690185B2. Автор: Hidetami Yaegashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Substrate processing chamber, substrate processing system including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230043451A1. Автор: Yongmyung Jun,Seohyun Kim,Hyunjin Ko,Jae Seong RYU,Inkwang BAE,Seungbu BAEK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-09.

Substrate processing method, substrate processing system and computer-readable recording medium

Номер патента: US20240290607A1. Автор: Takashi Uno,Satoshi Okawa,Naoyuki Okamura,Katsufumi Matsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240331998A1. Автор: Susumu Hayakawa,Tomohiro Kaneko,Kazuya IKEUE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and method of detecting abnormality in transport container

Номер патента: US09773690B2. Автор: Katsuhiro Morikawa,Suguru Enokida,Ikuo Sunaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and memory medium

Номер патента: US09601394B2. Автор: Teruhiko Kodama,Masashi Enomoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Ambient laminar gas flow distribution in laser processing systems

Номер патента: US09557111B2. Автор: Stephen Moffatt,Aaron Muir Hunter. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Substrate processing method, computer-readable storage medium, and substrate processing system

Номер патента: US8308381B2. Автор: Kunie Ogata,Masahide Tadokoro. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-11-13.

Substrate processing apparatus and substrate processing system having the same

Номер патента: US20230416923A1. Автор: Seung Ho Lee,Kee Jun KIM. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Substrate processing system, substrate processing method, and control program

Номер патента: US20220148898A1. Автор: Minoru Nagasawa,Kunio Takano,Toshiharu Hirata,Takafumi Matsuhashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-12.

Substrate processing system, controller for substrate processing system and operation method of substrate processing system

Номер патента: US20220033989A1. Автор: Hideki Wakabayashi,Yosuke Nagasawa,Tensei SATO,Kazuma Ideguchi,Shugo Midorikawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2022-02-03.

Cleaning method for substrate processing system, storage medium, and substrate processing system

Номер патента: US20090229635A1. Автор: Hiroaki Mochizuki,Kiyohito Iijima,Masahiro Numakura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-09-17.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240201602A1. Автор: Cheng Cheng,HUI Wang,Jun Wang,Jun Wu,Mark Lee,Andrew Jung,Bruce SOHN,Yy KIM. Владелец: Cleanchip Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20120160805A1. Автор: Mitsuo Suzuki,Kiyoshi Ehara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2012-06-28.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium of performing liquid exchange processing according to liquid exchange condition

Номер патента: US11282719B2. Автор: Kouji Takuma,Go Ayabe,Jong Won Yun,Ryo Manabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-22.

Substrate processing method

Номер патента: SG177250A1. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii,Hideto Nagashima. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-02-28.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20150243536A1. Автор: Yoshifumi Okada. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US10186418B2. Автор: Yoshifumi Okada. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-22.

Substrate processing method

Номер патента: US20240234189A1. Автор: Tomohiro Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09703199B2. Автор: Takashi Taguchi,Toru Asano,Tsuyoshi Mitsuhashi,Yukio Toriyama. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-11.

Substrate processing system, substrate processing method and computer-readable recording medium

Номер патента: US11929268B2. Автор: Munehisa Kodama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-12.

Substrate processing system and substrate transfer apparatus and method

Номер патента: US20230282492A1. Автор: Toshiaki Toyomaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Substrate processing system, controller and method using test operation without substrate

Номер патента: US11661669B2. Автор: Hideki Wakabayashi,Yosuke Nagasawa,Tensei SATO,Kazuma Ideguchi,Shugo Midorikawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-05-30.

Substrate processing system and method of processing substrates

Номер патента: EP2893557A1. Автор: Erkan Koparal,Oliver Graw. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2015-07-15.

Substrate processing system

Номер патента: US20070026150A1. Автор: Takao Horiuchi,Hiroshi Hattori,Hiroaki Ogamino,Yasuhiro Niimura,Azumi Horiuchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-02-01.

Substrate processing device, substrate processing system, and data processing method

Номер патента: EP4325549A1. Автор: Takashi Ota,Takashi Ikeuchi,Tetsuya Hiraoka,Hideji NAOHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-21.

Substrate processing condition setting method, substrate processing method, substrate processing condition setting system, and substrate processing system

Номер патента: US20230268208A1. Автор: Kensuke Shinohara,Sei Negoro,Masahiro TOKUYAMA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Substrate processing system

Номер патента: US20210057243A1. Автор: Takashi Kumagai,Keisuke Yoshimura,Akira Kodashima,Suguru Motegi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-02-25.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and data processing method

Номер патента: US20240203765A1. Автор: Takashi Ota,Takashi Ikeuchi,Tetsuya Hiraoka,Hideji NAOHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12033872B2. Автор: Hiroshi Yoshida,Takashi Nagai,Koji Ogura,Takumi Honda,Jun Nonaka,Keita Hirase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Substrate transferring apparatus, and liquid processing apparatus and substrate processing equipment including same

Номер патента: US20240222174A1. Автор: Eun Jung Lee,Young Jin Jang,Gui Su PARK,Jun Hyun LIM,Hee Jun YOUN,Seul Gi CHOI. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12033864B2. Автор: Hiromi Miyashita,Rei Shoji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200105574A1. Автор: Satoshi Morita,Katsuhiro Morikawa,Masami Akimoto,Kouichi Mizunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and program

Номер патента: US9153430B2. Автор: Jie Wang,Takaaki Noda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2015-10-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200083064A1. Автор: Nobuhiko MOURI,Kento Kurusu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-03-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11482428B2. Автор: Nobuhiko MOURI,Kento Kurusu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-25.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240242985A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230253221A1. Автор: Kaoru Sato,Hiromi Nitadori,Kiyohiko Gokon,Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240254628A1. Автор: Manabu Honma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180197748A1. Автор: Kazuaki Nishimura,Koji Takeya,Jun Lin. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-07-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230257877A1. Автор: Yasushi Takeuchi,Manabu Honma,Junnosuke Taguchi,Ibuki HAYASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230253230A1. Автор: Kaoru Sato,Hiromi Nitadori,Kiyohiko Gokon,Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240282598A1. Автор: Hiroshi Marumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20110065288A1. Автор: Toru Harada,Masayoshi Minami. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-03-17.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12080526B2. Автор: Do Hyung Kim,Young Woon Kim,Woong Kyo Oh,Kwang Su YOO,Yun Gyu HA. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220152780A1. Автор: Junichi Kitano,Yuichi Douki,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-19.

Substrate processing method

Номер патента: US20110200949A1. Автор: Hiroshi Nakamura,Tadatoshi Tomita,Takafumi Niwa,Yuhei Kuwahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-08-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12087598B2. Автор: Takashi Tsukamoto,Akinori Tanaka,Sadayoshi Horii,Daisuke Hara,Masahisa OKUNO,Toru Kakuda,Hideto TATENO,Takuya Joda. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240321650A1. Автор: Yuji Otsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Internal pressure control apparatus and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240304427A1. Автор: Tae-hyun Kim,Sang Ki Nam,Sung Ho Jang,Seul Gi Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240304452A1. Автор: Hiroshi Marumoto,Tsunemoto OGATA,Suguen Lee. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12091753B2. Автор: Manabu Honma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240301555A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing method

Номер патента: US8367308B2. Автор: Hiroshi Nakamura,Tadatoshi Tomita,Takafumi Niwa,Yuhei Kuwahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-02-05.

Substrate processing apparatus including heat-shield plate

Номер патента: US09953850B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang,Sung-Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Substrate processing apparatus, monitoring device of substrate processing apparatus, and monitoring method of substrate processing apparatus

Номер патента: US09927373B2. Автор: Motoi Okada,Shigeyuki IIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Compact substrate processing tool with multi-station processing and pre-processing and/or post-processing stations

Номер патента: US09916995B2. Автор: Karl Leeser. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Substrate processing apparatus including exhaust ports and substrate processing method

Номер патента: US09875895B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang,Sung-Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-23.

Coating system and method for coating interior fluid wetted surfaces of a component of a semiconductor substrate processing apparatus

Номер патента: US09873940B2. Автор: Tom Stevenson,LIN Xu,Hong Shih,John Daugherty,John Michael Kerns,Robert Griffith O'Neill,Nash Anderson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-01-23.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and computer-readable medium storing program

Номер патента: US09859109B2. Автор: Hideaki Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium recording substrate processing program

Номер патента: US09824861B2. Автор: Junya Sato,Yoshikazu Ishikawa,Toshihiko Hamada,Toshiyuki Kobayashi,Masahiro Numakura,Shouichi Otake. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-21.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and computer-readable storage medium recording therein substrate processing program

Номер патента: US09805957B2. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yuki Yoshida,Satoru Tanaka,Kazuyoshi Shinohara,Yosuke Kawabuchi,Kotaro Oishi,Hisashi Kawano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09640382B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi,Toru Endo,Hirofumi MASUHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-02.

Batch-type vertical substrate processing apparatus and substrate holder

Номер патента: US09613838B2. Автор: Mitsuhiro Okada,Kazuhide Hasebe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US09601357B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Mitsukazu Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Substrate processing apparatus including auxiliary gas supply port

Номер патента: US09593415B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang,Sung-Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Textured silicon liners in substrate processing systems

Номер патента: WO2014210141A1. Автор: Julian G. Blake. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2014-12-31.

Flow metrology calibration for improved processing chamber matching in substrate processing systems

Номер патента: US11959793B2. Автор: Evangelos T. Spyropoulos,Piyush Agarwal. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-04-16.

Semiconductor Processing System Having Multiple Decoupled Plasma Sources

Номер патента: US20120289054A1. Автор: Richard Gottscho,Harmeet Singh,Peter L. G. Ventzek,John Patrick Holland. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2012-11-15.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20220139699A1. Автор: Junichi Ishii,Hiroaki Ishii,Takayuki Nishida,Ryo Muramoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

Purging toxic and corrosive material from substrate processing chambers

Номер патента: WO2024081135A1. Автор: Eunsuk Ko,Michael Rumer,Jonathan PYLE,Shawn TOKAIRIN,Ravi Parmar,Soonton NUISUD,Raymond JONATHANS,Raees Amer DEEN,Sai RACHAKONDA,Nishant CHOUHAN,Jun-Hwa PARK,Ashwin Agathya Boochakravarthy. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-04-18.

Substrate processing system

Номер патента: US20220148858A1. Автор: Daisuke Hayashi,Norihiko Amikura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-12.

Substrate processing system and method of determining flow rate of gas

Номер патента: US20190301912A1. Автор: Kazuyuki Miura,Hiroshi Yazaki,Yasuhiro Shoji,Norihiko Amikura,Risako Miyoshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-10-03.

Semiconductor Processing System Having Multiple Decoupled Plasma Sources

Номер патента: US20150044878A1. Автор: Richard Gottscho,Harmeet Singh,John Patrick Holland,Peter L.G. Ventzek. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2015-02-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20210242058A1. Автор: Noritake SUMI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-05.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20170178945A1. Автор: Won-Guk SEO,Yong-Won Choi,Sang-jin Lee,Seok Heo,Yong-Bum JUNG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-22.

Substrate processing system and method of processing substrate

Номер патента: US20230034399A1. Автор: Risako MATSUDA,Keita SHOUJI,Kazuaki TAKAAI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-02-02.

Delivery of high concentrations of molecular hydrogen and other gases to substrate processing systems

Номер патента: WO2022266159A1. Автор: Christopher J. Pena,Anthony John Ricci,Ramon Liwanag BUAN,Wayne Edward RICHTER,Marissa Elena Ortiz AMAYA. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2022-12-22.

Substrate processing system, control device, and substrate transfer processing method

Номер патента: US20240213064A1. Автор: Minoru Nagasawa,Toshiharu Hirata,Takafumi Matsuhashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200411336A1. Автор: Masanobu Sato,Masayuki ORISAKA,Noritake SUMI,Daiki UEHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-31.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US10867817B2. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230307254A1. Автор: Yuta Segawa,Chiaki MORIYA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US10186422B2. Автор: Keiji Osada,Daisuke Morisawa,Naohide Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-01-22.

Processing liquid ejection nozzle, nozzle arm, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US11776824B2. Автор: Yoshifumi Amano,Kazuhiro Aiura,Tatsuhiro Ueki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US9337070B2. Автор: Hideaki Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-10.

Substrate processing tube, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the apparatus

Номер патента: US20240011154A1. Автор: Jaehyung Lee,Hyunju Lee,Hyouncheol Kim,Byunghwan Kong,ByeongHoon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-11.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20180218929A1. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-08-02.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20200168487A1. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-28.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US10615062B2. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-07.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20130084709A1. Автор: Masahiro Miyagi,Kazunori Fujikawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-04-04.

Substrate processing device, substrate processing method, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20220406626A1. Автор: Hiroshi Fujita,Tomohiko Sugita,Tatsuhiko Koide. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-12-22.

Substrate processing baffle, substrate processing apparatus including the same, and processing apparatus fabrication method

Номер патента: US20240175629A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing method and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20060289431A1. Автор: Shinichi Ito,Tsuyoshi Shibata,Kei Hayasaki,Koutarou Sho. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-12-28.

Substrate processing apparatus and method of cleaning substrate processing apparatus

Номер патента: US12046485B2. Автор: Shusei TAKEBAYASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20090192652A1. Автор: Tomoyuki Yamada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2009-07-30.

Substrate processing apparatus and method of driving relay member

Номер патента: US20220037125A1. Автор: Shin Matsuura,Nobutaka Sasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-02-03.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US11499224B2. Автор: Tetsuaki Inada,Hideto TATENO. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-11-15.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20190206695A1. Автор: Kazuya Koyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-07-04.

Substrate processing baffle, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240280906A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing apparatus and method of processing a substrate and of manufacturing a processed workpiece

Номер патента: WO2019105944A8. Автор: Hartmut Rohrmann,Hubert Breuss,Heinz Felzer,Dominik Jaeger. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2020-05-22.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: US20220068642A1. Автор: Yoshihisa Matsubara,Daisuke Suzuki,Koji Kagawa,Kenji Sekiguchi,Yoshihiro Takezawa,Syuhei YONEZAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: EP1801860A1. Автор: Takehiko c/o Tokyo Electron AT Limited ORII,Kenji c/o Tokyo Electron AT Limited SEKIGUCHI,Noritaka c/o Tokyo Electron Kyushu Ltd. UCHIDA,Satoru c/o Tokyo Electron Kyushu Limited TANAKA,Hiroki c/o Tokyo Electron AT Limited OHNO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-06-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240266144A1. Автор: Kyung-Sun Kim,Jaewon Jeong,Naohiko Okunishi,SeungBo SHIM,Kyeongtea BANG,Kihwan Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-08.

Substrate processing method

Номер патента: US20240250064A1. Автор: Yoshihisa Matsubara,Yoshihiro Tsutsumi,Yohei Yamashita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus, mixing method, and substrate processing method

Номер патента: US12068175B2. Автор: Hiroshi Yoshida,Yoshinori Nishiwaki,Takao Inada,Jun Nonaka,Kouji Ogura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate processing device, manufacturing method for semiconductor device, and reaction tube

Номер патента: US12062546B2. Автор: Tomoshi Taniyama,Takayuki Nakada,Hidenari YOSHIDA,Shigeru Odake. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US09978619B2. Автор: Naoki Tajima,Koji Motoi,Terutaka YAMAOKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09972515B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09970112B2. Автор: Kenichi Suzaki,Yasunobu Koshi,Akihito Yoshino. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09933702B2. Автор: Jiro Higashijima,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-03.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US09881784B2. Автор: Kazuyuki Mitsuoka,Takayuki Toshima,Takehiko Orii,Hiroki Ohno,Keiji Tanouchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09875920B1. Автор: Yasuhiro Mizuguchi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-01-23.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09818630B2. Автор: Akira Takahashi,Kazuyuki Toyoda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing apparatus, method for manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US09816182B2. Автор: HIROSHI Ashihara,Yuichi Wada,Iwao Nakamura,Manabu Izumi,Hideto TATENO,Keishin Yamazaki,Takurou USHIDA. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09721815B2. Автор: Hiroaki Takahashi,Kentaro Tokuri. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Substrate processing apparatus, method of operating substrate processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US09696262B2. Автор: Katsuhiro Morikawa,Ikuo Sunaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, and computer-readable storage medium stored with substrate processing program

Номер патента: US09627192B2. Автор: Naoyuki Okamura,Kazuki Kosai,Fumihiro Kamimura,Kazuhiro Teraoka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09576808B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi,Toru Endo,Hirofumi MASUHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09555437B2. Автор: Hitoshi Nakai,Yasuhiko Ohashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Substrate processing apparatus, method of processing substrate, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09548229B2. Автор: Masamichi Yachi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-01-17.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09502239B2. Автор: Masahisa OKUNO,Hideto TATENO,Takuya Joda,Masamichi Kurokawa,Tooru KAKUDA. Владелец: AZ Electronic Materials Luxembourg SARL. Дата публикации: 2016-11-22.

System for monitoring failure of substrate processing apparatus, and method for monitoring failure of substrate processing apparatus

Номер патента: US09412256B2. Автор: Ichiro NAMIOKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US09396978B2. Автор: Takeshi Matsumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-07-19.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09373528B2. Автор: Mitsunori Komatsu,Toru Maruyama. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-06-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09330950B2. Автор: Shinji Wakabayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-03.

Diagnostic and control systems and methods for substrate processing systems using DC self-bias voltage

Номер патента: US9404183B2. Автор: Douglas Keil,Edward Augustyniak. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2016-08-02.

Method of severing smaller area semiconductor devices from a large area of coated semiconductor

Номер патента: CA1244558A. Автор: Prem Nath,Avtar Singh. Владелец: Energy Conversion Devices Inc. Дата публикации: 1988-11-08.

Substrate processing system

Номер патента: US20060185793A1. Автор: Toshihiko Kikuchi,Yoshihide Sakamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-08-24.

Gas cooling cover for an exhaust line of a substrate processing system

Номер патента: WO2024054344A1. Автор: Sean M. Donnelly,Andrew BORTH. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-03-14.

Substrate processing system and substrate transfer method

Номер патента: US20180233392A1. Автор: Takahiro Abe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-08-16.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, substrate processing system and recording medium

Номер патента: US9514951B2. Автор: Keisuke Yoshida,Masatoshi Kaneda,Yuzo Ohishi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-06.

Load lock device

Номер патента: EP4027372A1. Автор: Satoshi Nomura,Shuji Kumagai,Shinji Takagi,Jun Miura,Satoshi Negishi,Naoya Fukuda,Tetsuro Toda,Hidetoshi Shimokawa,Junya Soeda. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2022-07-13.

Load lock device

Номер патента: US20220139729A1. Автор: Satoshi Nomura,Shuji Kumagai,Shinji Takagi,Jun Miura,Satoshi Negishi,Naoya Fukuda,Tetsuro Toda,Hidetoshi Shimokawa,Junya Soeda. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2022-05-05.

Electrostatic discharge protection network for large area transducer arrays

Номер патента: CA1310060C. Автор: Hsing Chien Tuan. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 1992-11-10.

Manufacturing methods for large area silicon carbide devices

Номер патента: EP1428268B1. Автор: John W. Palmour,Sei-Hyung Ryu,Anant Agarwal. Владелец: Cree Inc. Дата публикации: 2010-02-10.

Substrate processing system, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20240355644A1. Автор: Naoki Shibata,Shinsuke TAKAKI,Yoji SAKATA,Tomoya ONITSUKA,Hiroki Tadatomo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Defect control and stability of dc bias in rf plasma-based substrate processing systems using molecular reactive purge gas

Номер патента: US20180347046A1. Автор: Arul Dhas,Christopher Ramsayer,Kareem Boumatar. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-12-06.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, electrical power supply system, and electrical power supply method

Номер патента: US20240297054A1. Автор: Naoki Fujiwara,Naoki Matsumoto,Naoki Mihara,Koichi Nagami,Shinya Ishikawa,Shinya Tamonoki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Processing system, processing method, measurement apparatus, substrate processing apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US12140878B2. Автор: Shinichi Egashira. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-11-12.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20050099629A1. Автор: Keiji Emoto,Kotaro Akutsu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-05-12.

Substrate processing method including reprocessing rejected wafers

Номер патента: US09847263B2. Автор: Tsuneo Torikoshi,Hirofumi OTAKI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-12-19.

Undercoating coverage and resistance control for escs of substrate processing systems

Номер патента: WO2023146648A1. Автор: Ming Li,Niraj Rana,Pengyi Zhang,Feng Bi,Chunhai Ji,Tu Hong. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing apparatus, model data generation apparatus, substrate processing method, and model data generation method

Номер патента: US20240194507A1. Автор: Kiyoshi Mori,Tsuyoshi Moriya,Takayuki Yamagishi,Haruhiko Furuya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230102650A1. Автор: Sungjoo An,Janghee Lee,Geuno JEONG,Seran OH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240274450A1. Автор: Masanobu Sato,Hiroshi Horiguchi,Saki Miyagawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Ý100¨or ý110¨aligned, semiconductor-based, large-area, flexible, electronic devices

Номер патента: EP2250664A1. Автор: Amit Goyal. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-11-17.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09816183B2. Автор: HIROSHI Ashihara,Motoshi Sawada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing method

Номер патента: US09477162B2. Автор: Tetsuya Hamada,Shuichi Yasuda,Tadashi Miyagi,Koji Kaneyama,Kazuhito Shigemori,Masashi Kanaoka. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-25.

Substrate processing system and maintenance method

Номер патента: US20240105478A1. Автор: Takashi Dokan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate processing system and condition monitoring method

Номер патента: US20240087936A1. Автор: Toshiaki Kodama,Takeshi NIIDOME. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Information processing method, information processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US20240202606A1. Автор: Yuki Kataoka,Yukiya SAITOU. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing apparatus, alignment device, substrate processing method and alignment method

Номер патента: US20190049865A1. Автор: Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-14.

Substrate processing module and method of moving a workpiece

Номер патента: US20240258136A1. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Srinivasa Rao Yedla. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing module and method of moving a workpiece

Номер патента: US12080571B2. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Srinivasa Rao Yedla. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Control method of substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240153748A1. Автор: Morihito Inagaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing apparatus, semiconductor device manufacturing method, and substrate processing method

Номер патента: US20240363309A1. Автор: Naofumi Ohashi,Tsuyoshi Takeda,Teruo Yoshino. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09964358B2. Автор: Takashi Miyamoto,Osamu Yamazaki,Konosuke Hayashi,Jun Matsushita. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Gas injection apparatus and substrate processing apparatus using same

Номер патента: US09732424B2. Автор: Jung-Hwan Lee,Woo-young Park,Tae-Ho Hahm. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Substrate processing apparatus, method for manufacturing semiconductor device and computer-readable recording medium

Номер патента: US09523150B2. Автор: Hideharu Itatani. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-12-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09490151B2. Автор: Hiroyuki Takahashi,Satoshi TODA,Yuji Asakawa,Yohei Midorikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

Moveable edge rings for plasma processing systems

Номер патента: US20230369026A1. Автор: Darrell EHRLICH,Christopher Kimball,Yuma Ohkura. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Forming multilayer ceramic substrates from large area green sheets

Номер патента: US4539058A. Автор: Allan C. Burgess,Robert A. Magee,George E. Melvin. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1985-09-03.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US12045037B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Yamamoto,Shinji Shimizu,Hiroshi Horiguchi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing system, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230099451A1. Автор: Osamu Ueda,Kazuhide Asai,Norihito SHINOZAWA,Takanori KYOGOKU. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-30.

Group management apparatus, substrate processing system and method of managing files of substrate processing apparatus

Номер патента: US09400794B2. Автор: Osamu Ueda,Hiroyuki Iwakura,Kazuhide Asai. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-07-26.

Substrate processing system, substrate processing method, and map creating device

Номер патента: US20230253224A1. Автор: Takeshi Akimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US11822318B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Yamamoto,Shinji Shimizu,Hiroshi Horiguchi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US20230418267A1. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Yamamoto,Shinji Shimizu,Hiroshi Horiguchi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Substrate processing device and determination method

Номер патента: US11461136B2. Автор: Ken Watanabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-04.

Novel, semiconductor-based, large-area, flexible, electronic devices

Номер патента: WO2008112115B1. Автор: Amit Goyal. Владелец: Amit Goyal. Дата публикации: 2008-12-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180305816A1. Автор: Akira Takahashi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-10-25.

Substrate processing system and group management device

Номер патента: US20230101147A1. Автор: Ryuichi Kimura,Hiroakira MATSUI,Naruhisa MIYAZAKI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Methods and apparatus for treating exhaust gas in a processing system

Номер патента: US09597634B2. Автор: Daniel O. Clark,Colin John Dickinson,Mehran Moalem. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-03-21.

Methods for high-rate sputtering of a compound semiconductor on large area substrates

Номер патента: AU2011201682A1. Автор: Robert Dwayne Gossman,Russell Weldon Black,Sean Timothy Halloran. Владелец: Primestar Solar Inc. Дата публикации: 2011-11-10.

Full-laser scribing method for large-area copper indium gallium selenide thin-film solar cell module

Номер патента: US20180114876A1. Автор: Ning Zhang,Xinping YU,Wanlei Dai. Владелец: Beijing Sifang Crenergey Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-26.

Substrate processing system and its control method

Номер патента: US20240055283A1. Автор: Kenji Ikeda,Tasuku Suzuki,Nobuyuki Kawabata,Jun Kitagawa,Masato Anzai,Taichi YOSHIOKA. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-02-15.

Schedule creation method, schedule creating device, substrate processing apparatus, substrate processing system, and storage medium

Номер патента: US20230041766A1. Автор: Jun Kawai,Takashi Kasahara,Keisuke Inugai. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-09.

Substrate processing system, method of managing the same and method of manufacturing semiconductor device with the same

Номер патента: US9859175B2. Автор: Bum-soo Kim,Masayuki Tomoyasu,Kiwook Song,Kye Hyun Baek,Eunwoo LEE,Jong Seo Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-02.

Large area photovoltaic cell and method for producing same

Номер патента: US4514579A. Автор: Joseph J. Hanak. Владелец: Energy Conversion Devices Inc. Дата публикации: 1985-04-30.

Large area photovoltaic cell and method for producing same

Номер патента: CA1219941A. Автор: Joseph J. Hanak. Владелец: Energy Conversion Devices Inc. Дата публикации: 1987-03-31.

Substrate processing system, method of controlling substrate processing system, computer-readable storage medium, and method of manufacturing article

Номер патента: US20190371637A1. Автор: Kenji Yamamoto,Mitsuhiro Masuda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-12-05.

Method for manufacturing polycrystalline silicon thin-film solar cells by means method for crystallizing large-area amorphous silicon thin film using linear electron beam

Номер патента: US09680047B2. Автор: Sun Hwa Lee,Ho Sung Kim,Sang Ryu,Chae Hwan Jeong,Seong Jae Boo. Владелец: Korea Institute of Industrial Technology KITECH. Дата публикации: 2017-06-13.

Electrically connected and electrically interconnected large area photovoltaic cells and method of producing said cells

Номер патента: CA1192292A. Автор: Prem Nath,Masatsugu Izu,Arthur Holland. Владелец: Energy Conversion Devices Inc. Дата публикации: 1985-08-20.

Large area thin film capacitors on metal foils and methods of manufacturing same

Номер патента: WO2009117544A1. Автор: Seigi Suh,William J. Borland,Esther Kim,Cengiz Ahmet Palanduz. Владелец: E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Дата публикации: 2009-09-24.

Large area thin film capacitors on metal foils and methods of manufacturing same

Номер патента: EP2258151A1. Автор: Seigi Suh,William J. Borland,Esther Kim,Cengiz Ahmet Palanduz. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2010-12-08.

Substrate processing apparatus, program, storage medium and conditioning necessity determining method

Номер патента: US20090143890A1. Автор: Daisuke Morisawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-06-04.

Substrate processing apparatus, program, storage medium and conditioning necessity determining method

Номер патента: US8255072B2. Автор: Daisuke Morisawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-08-28.

Substrate processing system and method for monitoring process data

Номер патента: US20210011468A1. Автор: Takehiro Kinoshita,Tomonori Yamashita,Noriaki Koyama,Eiji Kikama,Nobutoshi Terasawa,Fumiaki NAGAI,Takazumi Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-01-14.

Recipe creation method or apparatus utilizing a series of steps according to a target recipe file for semiconductor manufacturing or substrating processing

Номер патента: US12066815B2. Автор: Takatoshi Seki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

Batch processing load lock chamber

Номер патента: WO2018175104A1. Автор: Ernesto J. ULLOA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-09-27.

Substrate processing system, liquid amount measuring method, and computer-readable recording medium

Номер патента: US20220171294A1. Автор: Shinichi Hatakeyama,Akihiro TERAMOTO,Yuichiro KUNUGIMOTO,Yuta Nishiyama,Shota Ueyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-06-02.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240242975A1. Автор: Kotaro Tsurusaki,Yoshihiro Kai,Keiji Onzuka,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Liquid chemical supplying system, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US20160368030A1. Автор: Sang Won Bae,Hyosan Lee,Seokhoon Kim,Kuntack Lee,Kyoung Hwan Kim,Jung-min Oh,Ingi KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-12-22.

Large area nanopatterning method and apparatus

Номер патента: CA2709718A1. Автор: Boris Kobrin,Igor Landau,Boris Volf. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-07-30.

Vacuum molding apparatus, substrate processing system having the same and substrate processing method using the same

Номер патента: US20150056754A1. Автор: Seock Hyun Park. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-26.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240307821A1. Автор: Koji Kagawa,Mitsunori Nakamori,Yosuke Hachiya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Megasonic processing system with gasified fluid

Номер патента: WO2006028983A3. Автор: YI WU,Ismail Kashkoush,Tom Nicolosi. Владелец: Tom Nicolosi. Дата публикации: 2007-05-10.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US12051571B2. Автор: Tatsuya Yamaguchi,Syuji Nozawa,Kazuya Ichiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Method and single wafer processing system for processing of semiconductor wafers

Номер патента: US12103052B2. Автор: Shan Hu,Ronald Nasman,Peter D'ELIA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240307925A1. Автор: Osamu Miyahara,Yoshitomo Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Method and device for application of nano-pattern on large area

Номер патента: RU2488188C2. Автор: Борис КОБРИН,Игорь ЛАНДАУ,Борис ВОЛЬФ. Владелец: Ролит, Инк.. Дата публикации: 2013-07-20.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20210242084A1. Автор: Yoshihiro Kawaguchi,Hirotoshi Mori,Kazuya HISANO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-08-05.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US11978644B2. Автор: Kotaro Tsurusaki,Yoshihiro Kai,Keiji Onzuka,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-07.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20210111038A1. Автор: Kotaro Tsurusaki,Yoshihiro Kai,Keiji Onzuka,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-04-15.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20220392779A1. Автор: Kotaro Tsurusaki,Yoshihiro Kai,Keiji Onzuka,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240189856A1. Автор: Koichi Matsunaga,Teruhiko Kodama,Hideaki Iwasaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210159095A1. Автор: Masami Yamashita,Gentaro Goshi,Toru Ihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20200144052A1. Автор: Gentaro Goshi,Keisuke Egashira. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-07.

Substrate processing device, polishing device, and substrate processing method

Номер патента: US20240139782A1. Автор: Kohei Sato,Hiroki Takahashi,Koichi Fukaya,Daichi Kondo. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Systems and methods for eliminating flourine residue in a substrate processing chamber using a plasma-based process

Номер патента: US09601319B1. Автор: Joydeep Guha,Andrew Stratton Bravo,Amit Pharkya. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Information processing system, information processing method, program, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220093409A1. Автор: Osamu Nabeya,Makoto Fukushima,Keisuke Namiki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2022-03-24.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240194497A1. Автор: Takao Matsumoto,Hajime NISHIDE,Kwichang KANG. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium

Номер патента: US20190139791A1. Автор: Hiromi Kiyose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-05-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12027393B2. Автор: Takuya Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210335636A1. Автор: Takuya Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-10-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220134375A1. Автор: Tomohiro Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230207339A1. Автор: Kohei Sato,Hiroki Takahashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Methods for forming large area diamond substrates

Номер патента: EP3794631A1. Автор: Timothy A. Grotjohn,Aaron Hardy,Ramon DIAZ. Владелец: Fraunhofer USA Inc. Дата публикации: 2021-03-24.

Methods for forming large area diamond substrates

Номер патента: WO2019222458A1. Автор: Timothy A. Grotjohn,Aaron Hardy,Ramon DIAZ. Владелец: Fraunhofer Usa. Дата публикации: 2019-11-21.

Processing system and methods for forming void-free and seam-free tungsten features

Номер патента: US20240209500A1. Автор: Kai Wu,Kazuya DAITO,Harpreet Singh,Michael C. Kutney,Peiqi Wang,Wei Min Chan,Xi CEN,Mingrui ZHAO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Processing system and methods to co-strike plasma to enhance tungsten growth incubation delay

Номер патента: US20240274407A1. Автор: Kelvin Chan,Kai Wu,David Peterson,Peiqi Wang,Mingrui ZHAO,Ping-Hwa HSIEH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Processing system and methods to co-strike plasma to enhance tungsten growth incubation delay

Номер патента: WO2024172880A1. Автор: Kelvin Chan,Kai Wu,David Peterson,Peiqi Wang,Mingrui ZHAO,Ping-Hwa HSIEH. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-22.

Large area group iii nitride crystals and substrates, methods of making, and methods of use

Номер патента: US20230340695A1. Автор: Mark P. D'Evelyn,Dirk Ehrentraut,Drew W. CARDWELL. Владелец: SLT Technologies Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using rf plasma cycling and purging

Номер патента: US20170011893A1. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-01-12.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using RF plasma cycling and purging

Номер патента: US09899195B2. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using RF plasma cycling and purging

Номер патента: US09478408B2. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Methods for removing contamination from surfaces in substrate processing systems

Номер патента: US09805914B2. Автор: Chun Yan,Xinyu Bao,Adam Lane,Zhenwen Ding,Teng-Fang Kuo,Jim Zhongyi He. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Method and apparatus for silicone oxide deposition on large area substrates

Номер патента: EP1644972A2. Автор: Wendell T. Blonigan,Quanyuan Shang,Sanjay D. Yadav. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2006-04-12.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, method of loading substrate and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US11854850B2. Автор: Yukinao Kaga,Ryosuke Yoshida. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-12-26.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and method of processing substrate

Номер патента: US09695511B2. Автор: Hitoshi Murata,Masaaki Ueno,Tetsuya Kosugi,Masashi Sugishita. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-07-04.

Substrate processing apparatus and semiconductor device producing method

Номер патента: US20110212626A1. Автор: Masanori Sakai,Tomohiro Yoshimura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-09-01.

Substrate processing apparatus and semiconductor device producing method

Номер патента: US8901011B2. Автор: Masanori Sakai,Tomohiro Yoshimura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2014-12-02.

Substrate Processing Apparatus and Semiconductor Device Producing Method

Номер патента: US20080153309A1. Автор: Masanori Sakai,Tomohiro Yoshimura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2008-06-26.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US09953840B2. Автор: Mitsunori Nakamori,Hiromi Kiyose,Kazuyuki Mitsuoka,Hiroshi Marumoto,Hisashi Kawano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US09431220B1. Автор: Naofumi Ohashi,Atsuhiko Suda,Kazuyuki Toyoda,Masanori Nakayama,Shun Matsui. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-08-30.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240282578A1. Автор: Takayuki Katsunuma,Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Toru Hisamatsu,Shinya Ishikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing method, substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20240288775A1. Автор: Soichiro Okada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Processing system and method for providing a heated etching solution

Номер патента: US09911631B2. Автор: William P Inhofer,Kevin L Siefering. Владелец: TEL FSI Inc. Дата публикации: 2018-03-06.

Processing gas diffusing and supplying unit and substrate processing apparatus

Номер патента: US09484213B2. Автор: Toshifumi Ishida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Adaptable processing element for a processing system and a method of making the same

Номер патента: WO2004108982A3. Автор: John Lawson,Michael Landis,Rodger Eckerson. Владелец: Rodger Eckerson. Дата публикации: 2005-09-29.

Mono-energetic neutral beam activated chemical processing system and method of using

Номер патента: US09520275B2. Автор: Lee Chen. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-13.

Packaging Structure for Large-Size Chips Adapted to Small-Size Packages and Processing Method Thereof

Номер патента: US20240363562A1. Автор: Dongdong Shao. Владелец: Shenzhen Siptory Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Processing system and method for providing a heated etching solution

Номер патента: US09831107B2. Автор: David DeKraker,William P Inhofer,Kevin L Siefering. Владелец: TEL FSI Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Substrate Processing Apparatus and Method of Manufacturing Semiconductor Device

Номер патента: US20240096597A1. Автор: Takeshi Yasui,Koichiro Harada,Katsunori Funaki,Yasutoshi Tsubota. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220285166A1. Автор: Takumi Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Substrate processing method

Номер патента: US20110237083A1. Автор: Akira Nakagawa,Yoshinobu Hayakawa,Yusuke Okazaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-09-29.

Substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230091850A1. Автор: Yuji Takebayashi,Shota Tanaka,Yusaku OKAJIMA,Hiroki HATTA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180033618A1. Автор: Kazuo Yabe,Jun Ogawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240014011A1. Автор: Hyun Kim,Kang Hee KIM,Yong Taek Eom. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Precoat method for substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240191349A1. Автор: Atsushi Tanaka,Taichi Monden. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20200168434A1. Автор: Masanori Nakayama,Teruo Yoshino,Koichiro Harada,Hiroto Igawa,Masaki Murobayashi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-05-28.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220251709A1. Автор: Takafumi Niwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-11.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240290609A1. Автор: Tadahiro Ishizaka,Takashi Sakuma,Yoshiyuki Hanada,Kunihiro Tada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4231785A1. Автор: Kiyoshi Maeda,Yasuhiko Saito,Atsutoshi Inokuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

Substrate processing tool with integrated metrology and method of using

Номер патента: US20190295870A1. Автор: Robert Clark,Kandabara Tapily. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-09-26.

Prediction method and apparatus for substrate processing apparatus

Номер патента: US20070215574A1. Автор: Hideki Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-09-20.

Large-area iii-v semiconductor layer transferring method

Номер патента: US20240213085A1. Автор: Ho Sung Kim,Daemyeong GEUM. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus including processing unit

Номер патента: US09869019B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09865454B2. Автор: Hitoshi Kato,Jun Sato,Masato Yonezawa,Hiroyuki Kikuchi,Shigehiro Miura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09818600B2. Автор: Takayuki Sato. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing method and control apparatus

Номер патента: US09798317B2. Автор: Katsuhiko Komori,Yuichi Takenaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Large-area, laterally-grown epitaxial semiconductor layers

Номер патента: US09711352B2. Автор: Jung Han,Jie Song,Danti Chen. Владелец: YALE UNIVERSITY. Дата публикации: 2017-07-18.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and semiconductor device

Номер патента: US09496134B2. Автор: Shinya Sasaki,Yuji Takebayashi,Shintaro Kogura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-11-15.

Large area contacts for small transistors

Номер патента: US09466722B2. Автор: Qing Liu,Xiuyu Cai,Ruilong Xie,Chun-Chen Yeh. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2016-10-11.

Substrate processing system, control device, and substrate processing method

Номер патента: US20180254222A1. Автор: Masami Oikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-09-06.

Continuous plasma and rf bias to regulate damage in a substrate processing system

Номер патента: WO2013151971A1. Автор: Huatan Qiu,Liqi Wu,Yung Yi Lee. Владелец: NOVELLUS SYSTEMS, INC.. Дата публикации: 2013-10-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234170A9. Автор: Kenji Fukushima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210366721A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Masaru Izawa,Nobuya MIYOSHI,Kazunori Shinoda,Yutaka Kouzuma. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-11-25.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220384151A1. Автор: Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Method of cleaning semiconductor substrate, and method of manufacturing semiconductor device and semiconductor substrate processing apparatus for use in the same

Номер патента: US20060046500A1. Автор: MAKOTO Miyamoto. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2006-03-02.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12065746B2. Автор: Masaki Inaba,Yasutoshi Okuno,Akihisa Iwasaki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220189779A1. Автор: Tsuyoshi Takahashi,Yu Nunoshige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-06-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20130340796A1. Автор: Itaru Kanno,Norihiro Ito,Yosuke Hachiya,Kotaro Ooishi,Hisashi Kawano,Jun Nogami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-12-26.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230057538A1. Автор: Chul-Joo Hwang,Duck Ho Kim,Il Hyong CHO. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-23.

Method of performing maintenance on substrate processing apparatus, and the substrate processing apparatus

Номер патента: US20240339307A1. Автор: Takahiro Murakami,Takayuki Suzuki,Yuya MINOURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US12106941B2. Автор: Chul-Joo Hwang. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: EP4428898A2. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Electromagnetic dipole for plasma density tuning in a substrate processing chamber

Номер патента: US09779953B2. Автор: Joseph F. Aubuchon,Tza-Jing Gung,Samer Banna. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Method for processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US09768012B2. Автор: Masanori Sakai,Tsutomu Kato,Yuji Takebayashi,Hirohisa Yamazaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09659767B2. Автор: HIROSHI Ashihara,Atsushi Sano,Hidehiro Yanai,Tadashi Takasaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-05-23.

Method of manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US09472398B2. Автор: Tatsuyuki Saito,Masanori Sakai,Yukinao Kaga,Takashi Yokogawa. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-10-18.

Substrate processing system with tandem source activation for cvd

Номер патента: US20200199747A1. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie,Karl Frederick Leeser. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2020-06-25.

Substrate processing apparatus, linked processing system, and substrate processing method

Номер патента: US11784057B2. Автор: Jong Won Yun. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-10.

Discharge method, discharge system and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20230052781A1. Автор: Daesoo Kim,Jimin CHOI. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-16.

Glass composition co-fireable with titania for sealing large-area dye-sensitized solar cell

Номер патента: US20190352219A1. Автор: Han Sol Lee,Woon Jin Chung,Jae Hyoung Park,Jae Kwun Hwang. Владелец: Orion Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-21.

Substrate Processing System with a Damage Preventing Function

Номер патента: US20150129420A1. Автор: Sang Hyun Park,Dong Hyun Lee,Sung Jin Park,Kwang Jin Jeon,Jin Haon Kwon,Hyun Pil Oh. Владелец: SNU PRECISION CO LTD. Дата публикации: 2015-05-14.

Method and apparatus for load-locked printing

Номер патента: US11926902B2. Автор: Conor F. Madigan,Eliyahu Vronsky,Sass Somekh. Владелец: Kateeva Inc. Дата публикации: 2024-03-12.

Method and apparatus for load-locked printing

Номер патента: US11802331B2. Автор: Conor F. Madigan,Eliyahu Vronsky,Sass Somekh. Владелец: Kateeva Inc. Дата публикации: 2023-10-31.

Method and apparatus for load-locked printing

Номер патента: US20240167143A1. Автор: Conor F. Madigan,Eliyahu Vronsky,Sass Somekh. Владелец: Kateeva Inc. Дата публикации: 2024-05-23.

Substrate processing system printed-circuit control board assembly with one or more heater layers

Номер патента: US20190166700A1. Автор: Eric Pape,Fred Dennis Egley,Changyou Jing. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2019-05-30.

Substrate processing system printed-circuit control board assembly with one or more heater layers

Номер патента: WO2019108365A1. Автор: Eric Pape,Changyou Jing,Fred Egley. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2019-06-06.

Part for substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20210178523A1. Автор: Michishige Saito,Sho Yamahira. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-06-17.

Anode electrode structure, lithium-ion battery, method of making an anode electrode structure, method of making a lithium-ion battery, and substrate processing system for producing an anode electrode structure

Номер патента: WO2022039964A8. Автор: Roland Trassl. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-09-01.

Anode electrode structure, lithium-ion battery, method of making an anode electrode structure, method of making a lith him -i on battery, and substrate processing system for producing an anode electrode structure

Номер патента: WO2022039964A1. Автор: Roland Trassl. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-02-24.

Method of preparing large-area, three-dimensional graphene transparent electrode using electrospray process and large-area, three-dimensional graphene transparent electrode prepared therefrom

Номер патента: US09697931B2. Автор: Hoon Huh,Suk Hoon Choi,Ji Young Hwang,Tae Il Kim,Hui Jin Kim,Woo Sik Kim,Jee Young Jang,Eun Sung YOO. Владелец: Korea Institute of Industrial Technology KITECH. Дата публикации: 2017-07-04.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20230321696A1. Автор: Kohei Sato,Hiroki Takahashi,Ban ITO,Seungho Yun. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-10-12.

Large-area nanopatterning apparatus and method

Номер патента: US09563119B2. Автор: Hongbo Lan. Владелец: QINGDAO BONA OPTOELECTRONICS EQUIPMENT Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-07.

Preparation method for lithium-sulfur battery based on large-area thick- film controllable textured photonic crystal

Номер патента: US20220336789A1. Автор: Yifan Wang,Xiaobin Hu,Shengxuan LIN,Zihe CAI,JIajia XIAO,Yuhang Chen. Владелец: Shanghai Jiaotong University. Дата публикации: 2022-10-20.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20150059645A1. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Toru Endo. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-05.

Substrate processing module and laser beam providing method

Номер патента: US20240006167A1. Автор: Yunsang Kim,Kwang Ryul Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US8883030B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Toru Endo. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20100285225A1. Автор: Shuichi Yasuda,Tadashi Miyagi,Koji Kaneyama,Kazuhito Shigemori,Masashi Kanaoka. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2010-11-11.

chromium bromine flow battery for large scale energy storage

Номер патента: US20240282996A1. Автор: Yun Jiang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing method, recording medium, and substrate processing apparatus

Номер патента: US12083553B2. Автор: Yusuke MIYAKUBO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240361072A1. Автор: Kazuhiro Shoji,Tomohiro Uemura,Shuhei NEMOTO,Ryotaro SHINOHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09713822B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Toru Endo. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-25.

Infrared transmission large-area shutter

Номер патента: US09429775B2. Автор: Sang-Hun Lee,Jong-oh Kwon,Yong-hwa Park,Chang-Young Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-08-30.

Multi-chamber substrate processing platform

Номер патента: US11860528B2. Автор: Sanjay Bhat,Ribhu GAUTAM,Vibhu Jindal,Vinodh RAMACHANDRAN,Praveen Kumar Choragudi,Arun Rengaraj. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-02.

Protection System for Switches in Direct Drive Circuits of Substrate Processing Systems

Номер патента: US20230245873A1. Автор: Maolin Long,Michael John Martin,Alexander Miller PATERSON,Yuhou WANG. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-08-03.

Multi-chamber substrate processing platform

Номер патента: WO2022140147A1. Автор: Sanjay Bhat,Ribhu GAUTAM,Vibhu Jindal,Vinodh RAMACHANDRAN,Praveen Kumar Choragudi,Arun Rengaraj. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-06-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20140363587A1. Автор: Jeung Hoon Han,Song Whe Huh. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-11.

Substrate processing apparatus for supplying gas of water repellent agent and substrate processing method

Номер патента: US12042815B2. Автор: Koji Tanaka,Koji Yamashita,Yusuke Yamamoto,Kotaro Tsurusaki,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11587805B2. Автор: Masanobu Watanabe,Katsunori Ichino,Tomoki Okazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-02-21.

Substrate processing apparatus, control method, and computer-readable storage medium

Номер патента: US12094737B2. Автор: Atsushi Yamamoto,Kenji Adachi,Masato Imamura,Tomohiko Muta,Masayuki Kajiwara,Katsunori Ichino,Takeaki Sakamoto,Daisuke Ishimaru,Takuya Tajiri,Tetsuro Iriyama,Hiroki Okaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09960073B2. Автор: Jeung Hoon Han,Song Whe Huh. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Substrate processing device and method for manufacturing same

Номер патента: US20240136162A1. Автор: Young Gon Kim,Dongwook Kim,Jong Woo Lim,Nam Hui LEE,Min Choul HYUN,Jewook KIM. Владелец: Electro Static Technology Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Substrate processing device and method for manufacturing same

Номер патента: US20240234109A9. Автор: Young Gon Kim,Dongwook Kim,Jong Woo Lim,Nam Hui LEE,Min Choul HYUN,Jewook KIM. Владелец: Electro Static Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Autoconfiguration of hardware components of various modules of a substrate processing tool

Номер патента: WO2021141665A1. Автор: Bridget Hill,Scott Baldwin,Raymond Chau,Rainer UNTERGUGGENBERGER,Thomas A. STUBBLEBINE. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2021-07-15.

Autoconfiguration of hardware components of various modules of a substrate processing tool

Номер патента: US12073224B2. Автор: Bridget Hill,Scott Baldwin,Raymond Chau,Rainer UNTERGUGGENBERGER,Thomas A. STUBBLEBINE. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Progressive heating of components of substrate processing systems using TCR element-based heaters

Номер патента: US12062554B2. Автор: Easwar Srinivasan,Ramesh Chandrasekharan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate processing apparatus

Номер патента: KR970067539A. Автор: 미츠히로 히라노. Владелец: 고쿠사이덴키 가부시키가이샤. Дата публикации: 1997-10-13.

Narrow bezel large area organic light emitting diode display

Номер патента: US09735388B2. Автор: Jungchul Kim. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

LED display modules for large-format LED displays

Номер патента: US09703519B2. Автор: Robbie Thielemans,Jeremy Hochman. Владелец: Revolution Display LLC. Дата публикации: 2017-07-11.

OLED display modules for large-format OLED displays

Номер патента: US09524666B2. Автор: Robbie Thielemans,Jeremy Hochman. Владелец: Revolution Display LLC. Дата публикации: 2016-12-20.

Method of manufacturing a large area active matrix array

Номер патента: US5315101A. Автор: John R. Hughes,Martin J. Powell. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1994-05-24.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20180019441A1. Автор: Beom Jun KIM,Il Ho Noh,Seung Duk Bang,Soo Ho Oh,Sin Pyoung Kim. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-18.

Substrate processing system, substrate processing method, and controller

Номер патента: US11823877B2. Автор: Satoshi Gomi,Koichi Miyashita,Makoto Horikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

SiPM with cells of different sizes including at least one large-area cell is substantially centered along a substrate with respect to the optical axis of an aperture array

Номер патента: US11874402B2. Автор: Caner Onal,Nirav Dharia. Владелец: Waymo LLC. Дата публикации: 2024-01-16.

Autoconfiguration of hardware components of various modules of a substrate processing tool

Номер патента: US20230030233A1. Автор: Bridget Hill,Scott Baldwin,Raymond Chau,Rainer UNTERGUGGENBERGER,Thomas A. STUBBLEBINE. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-02-02.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240224238A1. Автор: Tomoshi Taniyama,Takayuki Nakada,Kenji Shirako,Daigi KAMIMURA,Hironori Shimada,Akira Horii,Norihiro YAMASHIMA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Substrate processing apparatus and fluid heating device

Номер патента: US20240234172A9. Автор: Takahiro Hayashida,Shigeru Moriyama,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and fluid heating device

Номер патента: US20240136206A1. Автор: Takahiro Hayashida,Shigeru Moriyama,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240243019A1. Автор: Masanori Nakayama,Hiroki Kishimoto,Hiroto Igawa,Yuki Yamakado,Yuichiro Takeshima,Yasutoshi Tsubota. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Dynamic temperature control of substrate support in substrate processing system

Номер патента: US11908715B2. Автор: Ramesh Chandrasekharan,Sairam Sundaram,Aaron Durbin. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-02-20.

Progressive heating of components of substrate processing systems using tcr element-based heaters

Номер патента: US20200051834A1. Автор: Easwar Srinivasan,Ramesh Chandrasekharan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2020-02-13.

Progressive heating of components of substrate processing systems using tcr element-based heaters

Номер патента: WO2020033305A1. Автор: Easwar Srinivasan,Ramesh Chandrasekharan. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2020-02-13.

Substrate processing apparatus, substrate processing module, and semiconductor device fabrication method

Номер патента: US20210148760A1. Автор: Jongwoo SUN,Hyung Joo Lee,Kyeonghun KIM,Jeongil MUN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-05-20.

Semiconductor substrate processing apparatus and the method thereof

Номер патента: US20230203654A1. Автор: Todd Dunn,Taku Omori,Cheuk Li,Aadil Vora,Paridhi GUPTA. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180164702A1. Автор: Naofumi Ohashi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-06-14.

Substrate processing apparatus equipped with substrate scanner

Номер патента: US20210280444A1. Автор: Hsin-Hsu Lin,Ming-Tso Chen,Kao-Hua Wu,Ming-Che Lai,Hua-Wei Peng,Chia-He Cheng,Chao-Chi Lu,Kuo-Tsai Lo,Huan-Hsin Yeh. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2021-09-09.

Machine learning platform for substrate processing

Номер патента: EP4405766A1. Автор: David Everton Norman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-31.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20220415643A1. Автор: Anton Koriakin,Kuntack Lee,Hae-Won Choi,Jihoon Jeong,Young-Hoo Kim,Seohyun Kim,Keonyoung KIM,Sukhoon KIM,Sangjine Park PARK. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-29.

Atomic layer etch and deposition processing systems including a lens circuit with a tele-centric lens, an optical beam folding assembly, or a polygon scanner

Номер патента: WO2019217180A1. Автор: He Zhang,Alan M. Schoepp,Yunsang S. Kim,Keith Wells,Dong Woo Paeng. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2019-11-14.

Large area deposition and doping of graphene, and products including same

Номер патента: RU2567949C2. Автор: Виджайен С. ВЕЕРАСАМИ. Владелец: Гардиан Индастриз Корп.. Дата публикации: 2015-11-10.

Electrical break for substrate processing systems

Номер патента: US20240339302A1. Автор: Andrew Nguyen,Tom K. Cho,Yogananda SARODE VISHWANATH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-10.

Method of cleaning substrate processing apparatus

Номер патента: US09925571B2. Автор: Akihiro Kikuchi,Mitsuhiro Tomura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Active dew point sensing and load lock venting to prevent condensation of workpieces

Номер патента: WO2011149542A1. Автор: William Lee. Владелец: Axcelis Technologies Inc.. Дата публикации: 2011-12-01.

Magnetron sputtering system for large-area substrates having removable anodes

Номер патента: US20070084720A1. Автор: John White,Akihiro Hosokawa,Makoto Inagawa,Hienminh Le. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-04-19.

Load lock chamber assemblies for sample analysis systems and related mass spectrometer systems and methods

Номер патента: AU2023274134A1. Автор: Talmer Mark,Collins Scott,Bullock Jared. Владелец: Biomerieux Inc. Дата публикации: 2023-12-21.

Load lock chamber assemblies for sample analysis systems and related mass spectrometer systems and methods

Номер патента: AU2019220557B2. Автор: Scott Collins,Mark Talmer,Jared BULLOCK. Владелец: Biomerieux Inc. Дата публикации: 2023-09-07.

Large area microwave plasma cvd apparatus and corresponding method for providing such deposition

Номер патента: EP3791421A1. Автор: Justas ZALIECKAS. Владелец: VESTLANDETS INNOVASJONSSELSKAP AS. Дата публикации: 2021-03-17.

Large area microwave plasma cvd apparatus and corresponding method for providing such deposition

Номер патента: WO2019216772A1. Автор: Justas ZALIECKAS. Владелец: Bergen Teknologioverforing AS. Дата публикации: 2019-11-14.

Voltage non-uniformity compensation method for high frequency plasma reactor for the treatment of rectangular large area substrates

Номер патента: WO2005024891A3. Автор: Jacques Schmitt,Michael Irzyk,Mustapha Elyaakoubi,Laurent Sansonnens. Владелец: Laurent Sansonnens. Дата публикации: 2005-06-09.

Apparatus for large area plasma processing

Номер патента: CA2752183C. Автор: Philippe Guittienne. Владелец: Helyssen Sarl. Дата публикации: 2018-12-11.

Pulsed voltage boost for substrate processing

Номер патента: US11776788B2. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Substrate processing system including rf matching circuit for multi-frequency, multi-level, multi-state pulsing

Номер патента: US20240355588A1. Автор: Seyed Jafar Jafarian-Tehrani. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-24.

Automated single slice cassette load lock plasma reactor

Номер патента: US4659413A. Автор: John E. Spencer,Cecil J. Davis,Rhett B. Jucha,Randall E. Johnson,Frederick W. Brown,Stanford P. Kohan. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1987-04-21.

Liner assemblies for substrate processing systems

Номер патента: US12071686B2. Автор: Shawn George Thomas,Arash Abedijaberi. Владелец: GlobalWafers Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Temperature measuring method, substrate processing system and component to be provided in substrate processing apparatus of the substrate processing system

Номер патента: US09952032B2. Автор: Chishio Koshimizu,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using same

Номер патента: US09564287B2. Автор: Jun Abe,Takeshi Ohse,Norikazu Yamada,Shinji Himori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-07.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and abnormality detection method

Номер патента: US12087562B2. Автор: Katsuhito Hirose,Kazushi HIKAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing system including dual ion filter for downstream plasma

Номер патента: US20240266147A1. Автор: Mark Kawaguchi,Stephen Whitten,Dan Zhang,Himanshu CHOKSHI,Shih-Chung Kon,Gnanamani Amburose,Chih-Hsun Hsu,Andrew Stratton Bravo,Serge Kosche. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-08.

Use of an asymmetric waveform to control ion bombardment during substrate processing

Номер патента: WO1999028524A1. Автор: Sebastien Raoux,Mandar Mudholkar. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 1999-06-10.

Low inductance large area coil for an inductively coupled plasma source

Номер патента: AU6289296A. Автор: Duane Charles Gates. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 1997-02-05.

Large area illumination and projection apparatus

Номер патента: US09459519B1. Автор: Binith Shah, Jr.. Владелец: Vylite LLC. Дата публикации: 2016-10-04.

Method for manufacture of bearing ring for large-size rolling bearing

Номер патента: RU2353668C1. Автор: Йорг РОЛЛЬМАНН,Вильфрид ШПИНТИГ,Бернд ШТАКЕМАЙЕР,Кристиан БЕРГГРЕН. Владелец: Эфд Индукцион Гмбх. Дата публикации: 2009-04-27.

Table for use in plasma processing system and plasma processing system

Номер патента: US20080038162A1. Автор: Akira Koshiishi,Shinji Himori,Shoichiro Matsuyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-02-14.

Double current circuit for large rated currents

Номер патента: RU2557011C1. Автор: Ульф ОКЕССОН. Владелец: АББ ТЕКНОЛОДЖИ АГ. Дата публикации: 2015-07-20.

Plasma shutter and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240096606A1. Автор: Hyungsik KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Active optical device component with large area bragg grating

Номер патента: WO2011160234A3. Автор: Serge Doucet,Bertrand Morasse,Marc-André LAPOINTE. Владелец: CORACTIVE HIGH-TECH INC.. Дата публикации: 2012-02-16.

Method and system for large silicon photonic interposers by stitching

Номер патента: US20210175979A1. Автор: Peter De Dobbelaere,Attila Mekis,Gianlorenzo Masini. Владелец: Luxtera LLC. Дата публикации: 2021-06-10.

Substrate processing apparatus and method for processing substrate

Номер патента: US20230245858A1. Автор: Hitoshi Kato,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Large area laser

Номер патента: EP1217700A3. Автор: John Tulip. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-12-11.

Substrate processing method

Номер патента: US20230235457A1. Автор: Ji Hyun Cho,Hong Min Yoon,Jae Sung Roh,Chul Joo Hwang,Cheong SON,Se Whan JIN,Hong Soo YOON,Youn Joo JANG. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-27.

Large area laser

Номер патента: US20040013150A1. Автор: John Tulip. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-01-22.

High efficiency resonator coils for large gap wireless power transfer systems

Номер патента: US12088115B2. Автор: Paul Wiener,Tiefeng Shi. Владелец: GaN Systems Inc. Дата публикации: 2024-09-10.

Large area, surface discharge pumped, vacuum ultraviolet light source

Номер патента: WO1996037766A1. Автор: Robert C. Sze,Gerard P. Quigley. Владелец: The Regents of the University of California. Дата публикации: 1996-11-28.

Processing system with dual ion sources

Номер патента: WO1999059384A1. Автор: James H. Rogers,Terry Bluck,Sean P. Mcginnis. Владелец: INTEVAC, INC.. Дата публикации: 1999-11-18.

Substrate Processing Apparatus and Substrate Processing Method

Номер патента: US20180037995A1. Автор: Takayuki Karakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230085592A1. Автор: Jong Sik Kim,Ji Hun Lee. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240282557A1. Автор: Jinuk Park,Euijin Park,Dongyup Choo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Ignition control method, film formation method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240312763A1. Автор: Takeshi Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus having ground electrode

Номер патента: US09970111B2. Автор: Kohei Fukushima,Takeshi Ando,Koichi Shimada,Hiroyuki Matsuura,Yutaka Motoyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09455125B2. Автор: Makoto Kobayashi,Jun Tamura,Tetsuji Sato,Akihiro Yoshimura,Hiroshi Tsujimoto,Nobuhiro Wada,Masato Horiguchi,Mamoru NAOI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-27.

Liner assemblies for substrate processing systems

Номер патента: US10344380B2. Автор: Shawn George Thomas,Arash Abedijaberi. Владелец: GlobalWafers Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-09.

Liquid cooling plate for cooling of dielectric window of a substrate processing system

Номер патента: WO2023239531A1. Автор: Hanry ISSAVI,Allan Ronne,Jerrell K. ANTOLIK. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-12-14.

Solenoid bank with standby solenoid valves for controlling pneumatic valves of a substrate processing system

Номер патента: US20230274915A1. Автор: Swajeeth Pilot PANCHANGAM,Vinayakaraddy GULABAL,Yeshwanth SAGHI,Keerthi GOWDARU. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-08-31.

Vehicle-mounted photovoltaic power generation device for large vehicles

Номер патента: US20230268868A1. Автор: Jie Li. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-08-24.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4104941A1. Автор: Hiroyoshi Mori. Владелец: M Dia & Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20220063139A1. Автор: Hiroyoshi Mori. Владелец: M Dia and Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US11986978B2. Автор: Hiroyoshi Mori. Владелец: M Dia and Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-21.

Advance metering infrastructure system for large scale iot networks data collection by streaming

Номер патента: AU2020101173A4. Автор: Mohamed Abbas,Suresh Kallam,Rizwan Patan,Ramesh Sekaran,Mohamed Yasin Noor Mohamed. Владелец: Mohamed Mohamed Yasin Noor Dr. Дата публикации: 2020-08-06.

Method for calculating spatial non-stationary wireless channel capacity for large-scale antenna array communications

Номер патента: US20240340098A1. Автор: Yi Zheng,Yue Yang,Jie Huang,Chengxiang WANG. Владелец: Milwaukee Electric Tool Corp. Дата публикации: 2024-10-10.

Large-area perovskite layer and preparation method therefor

Номер патента: EP4412435A1. Автор: Yao Wang,Yang Zou,Yifeng Chen,Rui XIA,Xueling Zhang,Daming Chen,Yiqi CHEN,Chengfa Liu. Владелец: Trina Solar Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-07.

Ring cutting tool for large cables

Номер патента: US20240291254A1. Автор: Xu Hui,Yang Bai,Yang Liu,WEI Liu,Zhihong Li,Bin He,Le Zhang,Desheng Li,Zhiqiang Xu,Xiaolong Du,Zongbo Liu,Tiemiao LIU,Baolong LI,Hailing YIN. Владелец: North Weijiamao Power And Coal Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Systems and methods of capture of large-area images by parts including cascade cameras and/or calibration attributes

Номер патента: RU2562707C2. Автор: Стюарт Уилльям НИКСОН. Владелец: ниармэп острэйлиа пти лтд. Дата публикации: 2015-09-10.

Large area surveillance method and surveillance robot based on weighted double deep q-learning

Номер патента: US20210205985A1. Автор: HUI Wang,Zongzhang ZHANG,Zhiyuan PAN. Владелец: SUZHOU UNIVERSITY. Дата публикации: 2021-07-08.

Large-area monitoring using infrared imaging system

Номер патента: US09544511B2. Автор: Sergio A. Bermudez Rodriguez,Hendrik F. Hamann,Levente I. Klein. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Large-area monitoring using infrared imaging system

Номер патента: US09508115B2. Автор: Sergio A. Bermudez Rodriguez,Hendrik F. Hamann,Levente I. Klein. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Device and method for large scale harvesting of solar energy through hydrogen production

Номер патента: US12116679B2. Автор: Vivek Pathak. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-10-15.

Flat hook with spring loaded lock-pin

Номер патента: US5636889A. Автор: Tom Bennett, Jr.. Владелец: James B Bonham Corp. Дата публикации: 1997-06-10.

Optically functional multilayer structure suitable for large area illumination and related method of manufacture

Номер патента: WO2024009000A1. Автор: Pasi Korhonen,Antti Keranen,Mikko Heikkinen,Hasse Sinivaara,Jarmo Sääski,Vinski Bräysy,Tapio Rautio,Tomi Simula,Janne ASIKKALA,Paavo NISKALA,Mikko SIPPARI,Outi Rusanen,Ville Wallenius,Samuli YRJANA,Pälvi Apilo,Taneli Salmi,Tero HEIKKINEN,Heikki Tuovinen,Suvi Kela,Johanna Juvani,Tero Rajaniemi,Simo Koivikko,Juha-Matti Hintikka,Olimpia Migliore,Juha Sepponen. Владелец: TactoTek Oy. Дата публикации: 2024-01-11.

Optimization program and substrate process system

Номер патента: US09804592B2. Автор: Kazuya Fukao. Владелец: Fuji Machine Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Method and apparatus for large area flicker reduction of video pictures

Номер патента: EP1679680A1. Автор: Carlos c/o Thomson Correa,Rainer c/o Thomson Zwing,Cédric c/o Thomson Thebault. Владелец: Deutsche Thomson Brandt GmbH. Дата публикации: 2006-07-12.

Heating element for a substrate processing system.

Номер патента: NL2033372B1. Автор: Van Rijn Richard,Joseph Wehenkel Dominique. Владелец: Applied Nanolayers B V. Дата публикации: 2024-05-08.

Methods and apparatus for signaling intra prediction for large blocks for video encoders and decoders

Номер патента: US12120307B2. Автор: QIAN Xu,PENG Yin,Joel Sole Rojals,Xiaoan Lu,Yunfei Zheng,Adeel Abbas. Владелец: InterDigital VC Holdings Inc. Дата публикации: 2024-10-15.

Substrate processing system, storage medium and method of registering new device

Номер патента: US09778941B2. Автор: Taku Omori. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2017-10-03.

Composition processing system, composition processing device, and composition processing method

Номер патента: EP3852356A1. Автор: Shuhei Horita,Kazuma Matsumoto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-07-21.

Composition processing system, composition processing apparatus, and composition processing method

Номер патента: US20210183012A1. Автор: Shuhei Horita,Kazuma Matsumoto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-06-17.

System and Method for Motion Estimation for Large-Size Block

Номер патента: US20140092974A1. Автор: FENG Zhou. Владелец: FutureWei Technologies Inc. Дата публикации: 2014-04-03.

Dynamic coordination and control of network connected devices for large-scale network site testing and associated architectures

Номер патента: USRE42153E1. Автор: Edward A. Hubbard,Krishnamurthy Venkatramani,David P. Anderson,Ashok K. Adiga,Greg D. Hewgill,Jeff A. Lawson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-02-15.

Substrate processing system and method of installing plc software

Номер патента: US20160335065A1. Автор: Taku Omori. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2016-11-17.

Substrate processing system and method of installing PLC software

Номер патента: US09747092B2. Автор: Taku Omori. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2017-08-29.

Methods and device for large-scale propagation of electronic access clients

Номер патента: RU2595904C2. Автор: Ли ЛИ,Сянин ЯН,Кевин МАКЛАФЛИН,Дэвид ХАГГЕРТИ,Джерролд ХОК,Бен ДЗУАНГ,Арун МАТИАС,Авинаш НАРАСИМХАН,Крис ШАРП,Юсуф ВАИД. Владелец: ЭППЛ ИНК.. Дата публикации: 2016-08-27.

System and method for large-scale radio frequency signal collection and processing

Номер патента: US20240031846A1. Автор: Brian Thomas Mengwasser,Jennifer L. Alvarez,Augustus S. Moore. Владелец: Aurora Insight Inc. Дата публикации: 2024-01-25.

System and method for large-scale radio frequency signal collection and processing

Номер патента: US11825324B2. Автор: Brian Thomas Mengwasser,Jennifer L. Alvarez,Augustus S. Moore. Владелец: Aurora Insight Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Cutting apparatus for large plates

Номер патента: US3815884A. Автор: K Sekine,M Mimura,Y Oniki. Владелец: Nippon Kokan Ltd. Дата публикации: 1974-06-11.

Methods and apparatus for signaling intra prediction for large blocks for video encoders and decoders

Номер патента: US11936876B2. Автор: QIAN Xu,PENG Yin,Joel Sole Rojals,Xiaoan Lu,Yunfei Zheng,Adeel Abbas. Владелец: InterDigital VC Holdings Inc. Дата публикации: 2024-03-19.

Methods and apparatus for signaling intra prediction for large blocks for video encoders and decoders

Номер патента: US20230379474A1. Автор: QIAN Xu,PENG Yin,Joel Sole Rojals,Xiaoan Lu,Yunfei Zheng,Adeel Abbas. Владелец: InterDigital VC Holdings Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Privacy Computing-Enabled Migration Method For Large-Scale Persistent Data Across Platforms

Номер патента: US20240106806A1. Автор: Lei Zhang. Владелец: Nanhu Laboratory. Дата публикации: 2024-03-28.

Privacy computing-enabled migration method for large-scale persistent data across platforms

Номер патента: NL2035202A. Автор: ZHANG LEI. Владелец: Nanhu Laboratory. Дата публикации: 2023-10-12.

Privacy computing-enabled migration method for large-scale persistent data across platforms

Номер патента: US12021849B2. Автор: Lei Zhang. Владелец: Nanhu Laboratory. Дата публикации: 2024-06-25.

Methods and apparatus for large scale distribution of electronic access clients

Номер патента: US09843585B2. Автор: Li Li,Xiangying Yang,Christopher Sharp,Kevin McLaughlin,Ben-Heng Juang,Arun G. Mathias,Jerrold Von Hauck,Yousuf H. VAID,David T. Haggerty,Avinash NARASIMHAN. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2017-12-12.

Light source based on large-area light-emitting diodes

Номер патента: RU2449423C2. Автор: Дирк ХЕНТЕ,Марк ПАРАФИА. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС ЭЛЕКТРОНИКС Н.В.. Дата публикации: 2012-04-27.

Lock chamber for discharging dust

Номер патента: US4076044A. Автор: Josef Franz Schindling. Владелец: Metallgesellschaft AG. Дата публикации: 1978-02-28.

Systems and methods for high-speed radiography with high resolution imaging of large-area fields

Номер патента: US09635748B2. Автор: Timothy R. Fox. Владелец: Varex Imaging Corp. Дата публикации: 2017-04-25.

Method and system for implementing a large area continuous coverage of programs in digital audio broadcasting

Номер патента: US09887788B2. Автор: Min Wu,Yi Guan,Lian Wang,Xiaowei Cao,Xinhong Xu,Xiaoning Feng,Hongqi Jiang,Xiaoge Huang. Владелец: Beijing Cri-Tech Radio And Television Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and computer-readable storage medium storing substrate processing program

Номер патента: US09675992B2. Автор: Satoshi Kaneko,Yoshihiro Kawaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-13.

Substrate processing system for processing of a plurality of substrates and method of processing a substrate in an in-line substrate processing system

Номер патента: WO2024003603A1. Автор: Dieter Haas,Henning AUST,Takashi Anjiki,Jörg SCHULER,Jürgen Henrich,Sebastian Gunther ZANG. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-01-04.

Hardware acceleration for large volumes of channels

Номер патента: WO2006015181A3. Автор: James Blaisdell,Adrian Turner. Владелец: Adrian Turner. Дата публикации: 2006-09-21.

Channel measurement method for large-scale antennas, and user terminal

Номер патента: US09954695B2. Автор: Lei Wang. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Three-dimensional display method for large field of view and small viewing-zone interval

Номер патента: US20220174263A1. Автор: Dongdong TENG,Lilin LIU. Владелец: Sun Yat Sen University. Дата публикации: 2022-06-02.

Integrated bidirectional transistor switch for large signal voltages

Номер патента: WO1998039841A3. Автор: Jacobus Govert Sneep. Владелец: Philips Norden Ab. Дата публикации: 1998-12-03.

System and method for efficient and secure private similarity detection for large private document repositories

Номер патента: US11775479B2. Автор: Samuel Wood,Hossein KAKAVAND. Владелец: Luther Systems Us Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Heating element for a substrate processing system

Номер патента: WO2024085761A1. Автор: Richard Van Rijn,Dominique Joseph WEHENKEL. Владелец: Applied Nanolayers B.V.. Дата публикации: 2024-04-25.

System and method to exchange data between first data processing system and second data processing system via at least partially public communication network

Номер патента: RU2480924C2. Автор: Маринус Адрианус Хендрикус КЛОНЕН,ДЕН ХУК Ролф Мартейн ВАН,Геррит Гейсберт ЭРМСТРАНГ,ДЕ ВАТЕР Годефридус Йоханнес ВАН,Хюбертус Франсискус Мария ХЕРМЕС. Владелец: Спектатор Интеллекчуал Пропертиз Б.В.. Дата публикации: 2013-04-27.

Data processing system and method for detecting jam in data processing system

Номер патента: RU2718215C2. Автор: Алексей Алексеевич Станкевичус,Сергей Владимирович Трифонов. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Яндекс". Дата публикации: 2020-03-31.

Method and device for provision of protection in data processing system

Номер патента: RU2333608C2. Автор: Николай К.Н. ЛЕУНГ,Филип ХОКЕС,Грегори Г. РОУЗ. Владелец: Квэлкомм Инкорпорейтед. Дата публикации: 2008-09-10.

A process for the separation of large area semi-conductor plates into small area plates, and apparatus connected therewith

Номер патента: GB1015680A. Автор: . Владелец: Siemens Schuckertwerke AG. Дата публикации: 1966-01-05.

Data management and processing system for large enterprise model and method therefor

Номер патента: WO2006083509A2. Автор: Michael Davis,Robert Pierce. Владелец: Khimetrics, Inc.. Дата публикации: 2006-08-10.

Data management and processing system for large enterprise model and method therefor

Номер патента: WO2006083509A3. Автор: Michael Davis,Robert Pierce. Владелец: Khimetrics Inc. Дата публикации: 2007-11-01.

Data management and processing system for large enterprise model and method therefor

Номер патента: EP1849098A2. Автор: Michael Davis,Robert Pierce. Владелец: Khimetrics Inc. Дата публикации: 2007-10-31.

Front loading lock assembly

Номер патента: MY137699A. Автор: Oscar Romero,Steven Armstrong,Gerald B Chong. Владелец: NEWFREY LLC. Дата публикации: 2009-02-27.

EXHAUST VALVE FOR LARGE-SIZE TWO-STROKE DIESEL ENGINE, METHOD OF DECREASING NOx CONTENT IN SAID ENGINE AND SAID ENGINE

Номер патента: RU2458229C1. Автор: Мадс Лютье КРИСТЕНСЕН. Владелец: Ман Дизель Энд Турбо, Филиал Аф Ман Дизель Энд Турбо Се, Тискланд. Дата публикации: 2012-08-10.

Lighting device for large electric appliances

Номер патента: RU2539922C1. Автор: Маттиас ВИДЕНМАНН,Александер ХАЙНРИХ. Владелец: Бсх Бош Унд Сименс Хаусгерете Гмбх. Дата публикации: 2015-01-27.

Thermoplastic composition and use for large parison blow molding applications

Номер патента: EP2242801A1. Автор: James D. Oelberg,James T. Seliskar,Robert J. Donald,Mary Ann Jones,Stephane C. Costeux,Marisa L. Calhoun. Владелец: Styron LLC. Дата публикации: 2010-10-27.

System and method for large-area pulsed laser melting of metallic powder in a laser powder bed fusion application

Номер патента: WO2022115183A1. Автор: Andrew James Bayramian,James A. DEMUTH,Ning Duanmu,Yiyu SHEN,Saad A. Khairallah,John Roehling. Владелец: Seurat Technologies, Inc.. Дата публикации: 2022-06-02.

System and method for large-area pulsed laser melting of metallic powder in a laser powder bed fusion application

Номер патента: EP4251351A1. Автор: Andrew James Bayramian,James A. DEMUTH,Ning Duanmu,Yiyu SHEN,Saad A. Khairallah,John Roehling. Владелец: Seurat Technologies Inc. Дата публикации: 2023-10-04.

Inlet bulkheads for large diameter aircraft engines

Номер патента: AU2020204020A1. Автор: Janaka Wijesinghe,Andrew G. Rocha,Eric J. Zimney. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2021-02-18.

Adjustable aligning device for large composite moulds

Номер патента: WO2010103492A1. Автор: Gabriel Mironov. Владелец: Suzhou Red Maple Wind Blade Mould Co., Ltd. Дата публикации: 2010-09-16.

Adjustable aligning device for large composite moulds

Номер патента: EP2406049A1. Автор: Gabriel Mironov. Владелец: Suzhou Red Maple Wind Blade Mould Co Ltd. Дата публикации: 2012-01-18.

Inlet bulkheads for large diameter aircraft engines

Номер патента: CA3083325A1. Автор: Janaka Wijesinghe,Andrew G. Rocha,Eric J. Zimney. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2021-01-29.

Inlet bulkheads for large diameter aircraft engines

Номер патента: EP3771645A1. Автор: Janaka Wijesinghe,Andrew G. Rocha,Eric J. Zimney. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2021-02-03.

Micro-casting and Rolling Additive Manufacture for Large Special-shaped Pipes

Номер патента: US20210197458A1. Автор: Dong Wang,Jianfeng Song,Xuan HE,Yubo Wang,Yinggang SHI. Владелец: YANSHAN UNIVERSITY. Дата публикации: 2021-07-01.

Live fish processing system and associated methods

Номер патента: RU2745559C1. Автор: Йорн Столе ПЕТТЕРСЕН,Реми Кристиан УДОЙ,Йохан Одд МУФЛАГ,Стеффэн ЛАНСЕТ. Владелец: Фармак Ас. Дата публикации: 2021-03-29.

Exhaust gas processing system

Номер патента: RU2741771C2. Автор: Джон К. ХОЧМУТ,Вэньмэй СЮЙ,Сяофань ЯН,Мэттью Дж. ШЛАДТ,Юцинь ЛИ. Владелец: Басф Корпорейшн. Дата публикации: 2021-01-28.

Furnace for large biomass bale combustion with mechanised fuel feeding and cigarette principle of combustion

Номер патента: RS51771B. Автор: Dragoljub dr. DAKIĆ,Rastko mr. MLADENOVIĆ,Branislav dr. REPIĆ,Aleksandar ERIĆ,Srđan dr. BELOŠEVIĆ,Milijana Paprika,Mirko Dr. Komatina. Владелец: Mirko Dr. Komatina. Дата публикации: 2011-12-31.

Synchronized Parallel Tile Computation for Large Area Lithography Simulation

Номер патента: US20200293023A1. Автор: Danping Peng,Junjiang Lei,Daniel Beylkin,Kenneth Lik Kin Ho,Sagar Trivedi,Fangbo Xu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-09-17.

Synchronized Parallel Tile Computation for Large Area Lithography Simulation

Номер патента: US20220291659A1. Автор: Danping Peng,Junjiang Lei,Daniel Beylkin,Kenneth Lik Kin Ho,Sagar Trivedi,Fangbo Xu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-09-15.

Load balancing for large databases in working memory

Номер патента: RU2675054C2. Автор: Антониос ИЛИОПУЛОС,Шай ГОЙКХМАН,Елизер ЛЕВИ. Владелец: Хуавэй Текнолоджиз Ко., Лтд.. Дата публикации: 2018-12-14.

Personal medical record system and method related to noncontact screening treatment for large-scale infectious disease

Номер патента: EP4213160A1. Автор: Yong Nam PARK. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-07-19.

Ship lock chamber

Номер патента: RU2618138C1. Автор: Григорий Викторович Мельник. Владелец: Григорий Викторович Мельник. Дата публикации: 2017-05-02.

Method for large-scale production of viral antigen

Номер патента: RU2314344C2. Автор: Манфред Райтер,Вольфганг Мундт. Владелец: Бакстер Хелткэр С.А.. Дата публикации: 2008-01-10.

Mass-flow throttle for large natural gas engines

Номер патента: US11578670B2. Автор: Kennon Guglielmo,Justin H Sanders,Michael T. Hambidge,Timothy J. Westerdale. Владелец: Econtrols LLC. Дата публикации: 2023-02-14.

Mass-flow throttle for large natural gas engines

Номер патента: US11788478B2. Автор: Kennon Guglielmo,Justin H. Sanders,Michael T. Hambidge,Timothy J. Westerdale. Владелец: Econtrols LLC. Дата публикации: 2023-10-17.

Turbine plant for large-scale production of hydrogen

Номер патента: RU2331789C2. Автор: Бертрам МЮЛЛЕР,Марко МАЙВАЛЬД. Владелец: Фойт Сименс Хайдро Пауэр Дженерейшн, Инк.. Дата публикации: 2008-08-20.

Intelligent and amount-variable fertilizing apparatus for large-particle fertilizers

Номер патента: LU103059B1. Автор: Jie Li. Владелец: The Inst Of Applied Ecology Chinese Academy Of Sciences. Дата публикации: 2023-07-13.

Safety measuring device and safety evaluation method for large-diameter pipeline

Номер патента: US20240068801A1. Автор: Lei Zhang,Jun Lu,Xiangqian Fan. Владелец: Nanjing Hydraulic Research Institute of National Energy Administration Ministry of Transport Ministry of Water Resources. Дата публикации: 2024-02-29.

Large-area radioactive surface contamination measurement device using plurality of detectors

Номер патента: EP4089445A1. Автор: Hyeongjin Kim,Moon Hyung Cho,Yu Ho Weon. Владелец: Korea Hydro and Nuclear Power Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-16.

Method for large-scale production of all-female triploid rainbow trout (oncorhynchus mykiss)

Номер патента: NL2034188B1. Автор: Gu Wei,HUANG Tianqing,LIU Enhui,WANG Bingqian,Wang Gaochao,Xu Gefeng,Pan Yucai. Владелец: Heilongjiang River Fishery Res Institute Of Chinese Academy Of Fishery Sciences. Дата публикации: 2023-05-25.

Method for large-scale production of all-female triploid rainbow trout (oncorhynchus mykiss)

Номер патента: NL2034188A. Автор: Gu Wei,HUANG Tianqing,LIU Enhui,WANG Bingqian,Wang Gaochao,Xu Gefeng,Pan Yucai. Владелец: Heilongjiang River Fishery Res Institute Of Chinese Academy Of Fishery Sciences. Дата публикации: 2023-05-19.

Adjustment apparatus for adjusting processing units provided in a substrate processing apparatus, and a substrate processing apparatus having such an adjustment apparatus

Номер патента: US09915938B2. Автор: Koichi Takeda,Takamasa Nakamura. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Tilt-up and telescopic support tower for large structures

Номер патента: CA2436627C. Автор: Allan P. Henderson,Robert E. Godfrey,Svi Gershony,Vaughn Johnson. Владелец: Z-TEK LLC. Дата публикации: 2010-08-17.

Intelligent and anti-blocking fertilizing apparatus for large-particle fertilizers

Номер патента: NL2033983B1. Автор: Li Jie,Wang Wei,WANG Wenyu,Shi Yuanliang,Li Yaqun,Lu Zongyun. Владелец: Shenyang Inst Of Applied Ecology Chinese Academy Of Sciences. Дата публикации: 2023-09-11.

Process and device for large-scale production of graphene

Номер патента: US20230102041A1. Автор: Fan Huang,Jon Are Beukes. Владелец: CealTech AS. Дата публикации: 2023-03-30.

Personal medical record system and method related to noncontact screening treatment for large-scale infectious disease

Номер патента: US20230352190A1. Автор: Yong Nam PARK. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-11-02.

Method and apparatus for resolving conflicts in a substrate processing system

Номер патента: US20030154001A1. Автор: Hilario Oh. Владелец: ASML US Inc. Дата публикации: 2003-08-14.

Irradiated target processing system

Номер патента: RU2690671C2. Автор: Томас Фабиан РИХТЕР,Александер ЗИКОРА,Вильфрид КАННВИШЕР,Лейла ДЖАФАР. Владелец: Фраматом Гмбх. Дата публикации: 2019-06-05.

Slit nozzle for large-area printing

Номер патента: EP4389399A1. Автор: In Ho Kim,In Gyu Lee. Владелец: T&R Biofab Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-26.

Load-lock gauge

Номер патента: US12055452B2. Автор: Gerardo A. Brucker. Владелец: MKS Instruments Inc. Дата публикации: 2024-08-06.

Halfway cutter changing method for large-area microstructure cutting based on in-situation film thickness measurement

Номер патента: US20200023441A1. Автор: Li Jiao,Jia Zhou,Zhiqiang Liang,Zhibing Liu,Lijing Xie,Xibin Wang,Tianfeng ZHOU,Benshuai RUAN,Longlong TANG,Pei YA N. Владелец: Beijing Institute of Technology BIT. Дата публикации: 2020-01-23.

Loading lock arrangement

Номер патента: WO2020201054A1. Автор: Moshe Aknin,Max OBERLANDER. Владелец: BigRep GmbH. Дата публикации: 2020-10-08.

Load-lock gauge

Номер патента: US11802806B2. Автор: Gerardo A. Brucker. Владелец: MKS Instruments Inc. Дата публикации: 2023-10-31.

Load-Lock Gauge

Номер патента: US20240019332A1. Автор: Gerardo A. Brucker. Владелец: MKS Instruments Inc. Дата публикации: 2024-01-18.

Load-lock gauge

Номер патента: EP4281739A1. Автор: Gerardo A. Brucker. Владелец: MKS Instruments Inc. Дата публикации: 2023-11-29.

Device and method for laser processing of large-area substrates using at least two bridges

Номер патента: US09656346B2. Автор: Li-Ya Yeh. Владелец: Saint Gobain Glass France SAS. Дата публикации: 2017-05-23.

一种典型load lock焊接腔体加工工艺

Номер патента: CN109623263. Автор: 李婷,赵强. Владелец: Shenyang Fortune Precision Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2019-04-16.

Parts depository, particularly for large-area workpieces in a transfer press handling large workpieces

Номер патента: US4503766A. Автор: Harald Hacker,Hans Engelhardt,Ulrich Amann,Karl Geisinger. Владелец: Maschinenfabrik Mueller Weingarten AG. Дата публикации: 1985-03-12.

Gas recycling systems, substrate processing systems, and related apparatus and methods for semiconductor manufacturing

Номер патента: US20240175126A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Mukhles SOWWAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-30.

Gas recycling systems, substrate processing systems, and related apparatus and methods for semiconductor manufacturing

Номер патента: WO2024118117A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Mukhles SOWWAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-06-06.

Process for large-scale ammonothermal manufacturing of gallium nitride boules

Номер патента: US8979999B2. Автор: Mark P. D'Evelyn. Владелец: Soraa Inc. Дата публикации: 2015-03-17.

Load-locking joint, particularly for surgery microscopes and suspension mount constructed for the same

Номер патента: US4834519A. Автор: Lorenz Twisselmann. Владелец: J D MOLLER OPTISCHE WERKE ROSENGARTEN 10 D-2000 WEDEL/GERMANY GmbH. Дата публикации: 1989-05-30.

Low-temperature storage device with rotating lock chamber

Номер патента: US09709314B2. Автор: Cosmas G. Malin. Владелец: LICONIC AG. Дата публикации: 2017-07-18.

METHOD FOR UNIFORM, LARGE AREA FLOOD EXPOSURE WITH LEOs

Номер патента: US20140345151A1. Автор: Aaron D. Martinez. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-11-27.

Load Lock System And Method For Manufacturing Metal Alloys And Metal Powder

Номер патента: US20230235959A1. Автор: Matthew Charles,Christopher Paul Eonta,Paul Meese,Jonathan Nuttall. Владелец: Molyworks Materials Corp. Дата публикации: 2023-07-27.

Environment-friendly cleaning system for large-scale vehicle equipment in tunnel construction

Номер патента: LU102776B1. Автор: Xin Zhang,Xiangping Zhang,Daqi Hu,Guiyun Li. Владелец: China Railway 18 Bureau Group Co Ltd. Дата публикации: 2021-10-25.

Light-transmitting imprinting mold and method for manufacturing large-area mold

Номер патента: EP2950330A1. Автор: Yukihiro Miyazawa. Владелец: Soken Kagaku KK. Дата публикации: 2015-12-02.

Methods for large-scale optical manufacturing

Номер патента: EP4363153A1. Автор: Go Ichinose,Daniel Gene Smith,Kaneyuki NAITO,Alton Hugh Phillips,Michael Birk BINNARD,Heather Lynn DURKO. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-05-08.

Exchangeable rail system for large turret bearing

Номер патента: EP3541698A1. Автор: Sigmund Askestad. Владелец: APL TECHNOLOGY AS. Дата публикации: 2019-09-25.

Exchangeable rail system for large turret bearing

Номер патента: AU2017361718B2. Автор: Sigmund Askestad. Владелец: APL Norway AS. Дата публикации: 2023-06-22.

Exchangeable rail system for large turret bearing

Номер патента: WO2018093269A1. Автор: Sigmund Askestad. Владелец: APL TECHNOLOGY AS. Дата публикации: 2018-05-24.

Reactor for large-scale synthesis of ethylene glycol

Номер патента: RU2719441C1. Автор: Цзянь ХУАН. Владелец: Пуцзин Кемикал Индастри Ко., Лтд. Дата публикации: 2020-04-17.

Method of generation of image of defects of semiconductor plates of large area and device for its implementation

Номер патента: RU2013820C1. Автор: А.В. Соколов,В.А. Денисюк. Владелец: Денисюк Владимир Антонович. Дата публикации: 1994-05-30.

Substrate processing method and substrate processing system using the same

Номер патента: US20240239099A1. Автор: Sujin Kim,Junho Kim,Hyunmin Lee,Solmin PARK. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Exchangeable rail system for large turret bearing

Номер патента: US20190359292A1. Автор: Sigmund Askestad. Владелец: APL TECHNOLOGY AS. Дата публикации: 2019-11-28.

Elbow for a tube bundle heat exchanger for large product pressures, method for producing a tube bundle heat exchanger comprising such an elbow, and use of a tube bundle heat exchanger for large product pressures with such an elbow in a spray drying system

Номер патента: NZ729403A. Автор: Uwe Schwenzow,Markus Grimm,Ulrich Rolle,Dietrich Zimmermann,Brigitte Schlag,Matthias Terlinde,Wolfgang Jaeckering. Владелец: GEA TDS GMBH. Дата публикации: 2018-02-23.

Wide right-turn signals for large vehicles

Номер патента: US20040257823A1. Автор: Youngill Chio. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-12-23.

Gripper structure for large-sized tong

Номер патента: US20230249949A1. Автор: Young Suk Nam. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-08-10.

Robust cluster formation control method for large-scale multi-rotor uav

Номер патента: LU505437B1. Автор: Wei Wang,Kexin Liu,Jinhu Lyu,Haibo Gu,Deyuan Liu. Владелец: Acad Of Mathematics And Systems Science Chinese Acad Of Sciences. Дата публикации: 2024-05-06.

Trawl ship with air-lock chamber

Номер патента: RU2278057C2. Автор: Роар ПЕДЕРСЕН,Ховард РЕСВИК,Биргер ЭНЕРЕУГ,Снорре АНГЕЛЛ,Оддмар САУРЕ,Свейн Хельге ГЬОСУНД. Владелец: Роллс Ройс Марине Ас. Дата публикации: 2006-06-20.

Vital processing system adapted for the continuous verification of vital outputs from a railway signaling and control system

Номер патента: CA1279384C. Автор: David B. Rutherford, Jr.. Владелец: General Signal Corp. Дата публикации: 1991-01-22.

Fluid Separation Chambers For Fluid Processing Systems

Номер патента: US20160184835A1. Автор: Kyungyoon Min,Gregory G. Pieper,Brian C. Case,Steven R. Katz,Salvatore Manzella. Владелец: Fenwal Inc. Дата публикации: 2016-06-30.

Fluid Separation Chambers For Fluid Processing Systems

Номер патента: US20200188937A1. Автор: Kyungyoon Min,Gregory G. Pieper,Brian C. Case,Salvatore Manzella, Jr.,Steven R. Katz. Владелец: Fenwal Inc. Дата публикации: 2020-06-18.

Fluid Separation Chambers For Fluid Processing Systems

Номер патента: US20130196840A1. Автор: Kyungyoon Min,Gregory G. Pieper,Brian C. Case,Salvatore Manzella, Jr.,Steven R. Katz. Владелец: Fenwal Inc. Дата публикации: 2013-08-01.

Fluid Separation Chambers For Fluid Processing Systems

Номер патента: US20180221891A1. Автор: Kyungyoon Min,Gregory G. Pieper,Brian C. Case,Salvatore Manzella, Jr.,Steven R. Katz. Владелец: Fenwal Inc. Дата публикации: 2018-08-09.

Loading and unloading device for large containers

Номер патента: RU2763203C1. Автор: Тарас Витальевич Володин. Владелец: Соснина Софья Олеговна. Дата публикации: 2021-12-28.

High-speed platform car for large-capacity containers

Номер патента: RU2770231C1. Автор: Валерий Михайлович Бубнов,Николай Борисович Манкевич,Максим Александрович Кимасов,Николай Иванович Щеклеин,Александр Николаевич Назаренко. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "КСТ-Инжиниринг" (ООО "КСТ-Инжиниринг"). Дата публикации: 2022-04-14.

Lock chamber and hydraulic conveying system

Номер патента: GB2061393A. Автор: . Владелец: Metallgesellschaft AG. Дата публикации: 1981-05-13.

Crushing system for large-size natural gas hydrate rock samples

Номер патента: US20200290052A1. Автор: NA Wei,Haitao Li,Shouwei ZHOU,Jinzhou Zhao,Chunquan LIU,Kaisong WU,Liehui ZHANG,Wantong SUN. Владелец: SOUTHWEST PETROLEUM UNIVERSITY. Дата публикации: 2020-09-17.

Apparatus for Large Scale Additive Manufacturing, and A Material for Manufacturing

Номер патента: US20240157635A1. Автор: Javier Gomez Fernandez,Stylianos Dritsas. Владелец: SINGAPORE UNIVERSITY OF TECHNOLOGY AND DESIGN. Дата публикации: 2024-05-16.

Skew Rolling Assembly and Method Suitable for Large-Size Superalloy Bars

Номер патента: US20240189879A1. Автор: Dong Liu,Jianguo Wang,Zhe Zhang. Владелец: Anhui Hangon Precise Rolling Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Exchangeable rail system for large turret bearing

Номер патента: US10759501B2. Автор: Sigmund Askestad. Владелец: APL TECHNOLOGY AS. Дата публикации: 2020-09-01.

Fluid separation chambers for fluid processing systems

Номер патента: US09968946B2. Автор: Kyungyoon Min,Gregory G. Pieper,Brian C. Case,Salvatore Manzella, Jr.,Steven R. Katz. Владелец: Fenwal Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Platform container for large column-shaped cargo transportation

Номер патента: RU2363637C2. Автор: Хэцин КУН,Гу ЯО,Жэньбинь И. Владелец: Чайна Интернэшнл Марин Контейнерз (Груп) Ко., Лтд.. Дата публикации: 2009-08-10.

Trawling vessel with a lock chamber

Номер патента: US7165502B2. Автор: Roar Pedersen,Håvard Røsvik,Birger Enerhaug,Snorre Angell,Oddmar Saure,Svein Helge Gjøsund. Владелец: Fiskerstrand Verft AS. Дата публикации: 2007-01-23.

Method for large-sized turbine blades casting

Номер патента: RU2630104C1. Автор: Эдуард Лейбович Кац,Владимир Платонович Лубенец,Евгений Игоревич Яковлев,Артур Иванович Берестевич,Сергей Борисович Жабрев,Александр Алексеевич Соболев. Владелец: Акционерное общество "Научно-производственное объединение "Центральный научно-исследовательский институт технологии машиностроения" АО "НПО "ЦНИИТМАШ". Дата публикации: 2017-09-05.

Unitary cab air cooling system for large off road vehicles

Номер патента: CA1055251A. Автор: Joseph L. Czyl. Владелец: Vapor Canada Inc. Дата публикации: 1979-05-29.

Apparatus for large scale additive manufacturing, and a material for manufacturing

Номер патента: US11820077B2. Автор: Javier Gomez Fernandez,Stylianos Dritsas. Владелец: SINGAPORE UNIVERSITY OF TECHNOLOGY AND DESIGN. Дата публикации: 2023-11-21.

Ethercat liquid flow controller communication for substrate processing systems

Номер патента: WO2021262947A1. Автор: Ricardo Martinez,William Wadsworth,Jagan Rangarajan,Dmitry Sklyar,Hung Xuan Hoang,Farooq Aleem,Brett Hoogensen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-12-30.

Method for Preparing Large-area Structural Chromogenic Pattern by Ink-jet Printing and Anti-counterfeiting Method Based on Structural Color Change

Номер патента: US20200010703A1. Автор: Baoqi LIU,Jie Chang,Suli Wu,Shufen Zhang. Владелец: Dalian University of Technology. Дата публикации: 2020-01-09.

Method for recycling substrate process components

Номер патента: WO2018182886A1. Автор: Brian T. West. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-10-04.

Hot-spinning Formation Method for Large-diameter Titanium Alloy Cylindrical Parts

Номер патента: US20230166312A1. Автор: BO Yang,Le Zhang,Dong Miao,Qing FENG,Yaohui Li,Xiuling HE,Chu SHEN. Владелец: Xi'an Taijin New Energy & Materials Sci Tech Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Two-dimensional material nanosheets with large area and controllable thickness and general preparation method therefor

Номер патента: US11572279B2. Автор: Ying Su,Xinyue ZHANG,Meng Lian,Tun CAO,Jingyuan JIA. Владелец: Dalian University of Technology. Дата публикации: 2023-02-07.

Large-area carbon nanomesh from polymer and method of preparing the same

Номер патента: US20140227162A1. Автор: Sung Ho Lee,Tae-Wook Kim,Han-ik Joh,Su Young SON. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2014-08-14.

Process and production system for large scale solid-state fermentation

Номер патента: EP4041859A2. Автор: Silas Granato VILLAS BOAS,Ninna Granucci. Владелец: Green Spot Technologies. Дата публикации: 2022-08-17.

Process and production system for large-scale solid-state fermentation

Номер патента: CA3153994A1. Автор: Silas Granato VILLAS BOAS,Ninna Granucci. Владелец: Green Spot Technologies. Дата публикации: 2021-04-15.

Process and production system for large scale solid-state fermentation

Номер патента: AU2020364946A1. Автор: Silas Granato VILLAS BOAS,Ninna Granucci. Владелец: Green Spot Tech. Дата публикации: 2022-05-19.

Process and production system for large scale solid-state fermentation

Номер патента: US20240052282A1. Автор: Silas Granato VILLAS BOAS,Ninna Granucci. Владелец: Green Spot Technologies. Дата публикации: 2024-02-15.

Process and production system for large scale solid-state fermentation

Номер патента: WO2021069538A2. Автор: Silas Granato VILLAS BOAS,Ninna Granucci. Владелец: Green Spot Technologies. Дата публикации: 2021-04-15.

Method for recycling substrate process components

Номер патента: US20180281027A1. Автор: Brian T. West. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-10-04.

Mirror milling machining equipment and method for large-scale rotary spherical thin-walled parts

Номер патента: US20240253134A1. Автор: Xinjun Liu,Jie Wen,Fugui XIE,Zenghui XIE. Владелец: TSINGHUA UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-08-01.

Method for large-scale preparation of purified preparation of recombinant lentiviral vector at gmp grade

Номер патента: US20210009966A1. Автор: Yi Hong,LI ZHANG,Fei Wang,Haojie Zhang,Ting YAN,Jiangguo YING,Luyi ZHANG,Dijun ZHAO. Владелец: Shanghai Cellular Biopharmaceutical Group Ltd. Дата публикации: 2021-01-14.

Modular heating system for large vehicles

Номер патента: EP1697152A1. Автор: Tomas Karlsson,Peter Hesoun. Владелец: UWE-VERKEN AB. Дата публикации: 2006-09-06.

Method for large-scale preparation of purified preparation of recombinant lentiviral vector at gmp grade

Номер патента: US20240309337A1. Автор: Yi Hong,LI ZHANG,Fei Wang,Haojie Zhang,Ting YAN,Jiangguo YING,Luyi ZHANG,Dijun ZHAO. Владелец: Abelzeta Inc. Дата публикации: 2024-09-19.

Modular heating system for large vehicles

Номер патента: CA2546795A1. Автор: Tomas Karlsson,Peter Hesoun. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-06-16.

UAVs for tracking the growth of large-area wildland fires

Номер патента: US09977963B1. Автор: Francis E. Fendell. Владелец: Northrop Grumman Systems Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Hay feeder for large square bales

Номер патента: US09567169B2. Автор: Nicholas K. CAMILLETTI,Giacomo D. CAMILLETTI. Владелец: Hay-Den Feeder LLC. Дата публикации: 2017-02-14.

Large-area carbon nanomesh from polymer and method of preparing the same

Номер патента: US09409781B2. Автор: Sung Ho Lee,Tae-Wook Kim,Han-ik Joh,Su Young SON. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2016-08-09.

Lifting device for large panels

Номер патента: CA1070358A. Автор: W. Donald Paton,Thomas W. Steenson. Владелец: Butler Manufacturing Co. Дата публикации: 1980-01-22.

Automatic Welding System and Method for Large Structural Parts Based on Hybrid Robots and 3D Vision

Номер патента: US20230390853A1. Автор: LEI Peng,Tao Yang,FANG Wang,Li Ma,Junwei Jiang,Huanhuan LI,Qingfeng Liu,NiNi ZHANG. Владелец: Xi'an Chishine Optoelectronics Technology Co ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Microfluidic platforms for large scale nanoparticle formulations

Номер патента: US20240050908A1. Автор: Michael J. Mitchell,David Aaron Issadore,Sagar Prasad Yadavali,Sarah J. SHEPHERD. Владелец: University of Pennsylvania Penn. Дата публикации: 2024-02-15.

Systems and methods for performing optically calibrated large-area microstereolithography

Номер патента: EP4330016A1. Автор: Matthew Kenneth Gelber,Jordan Miller. Владелец: 3D Systems Inc. Дата публикации: 2024-03-06.

Sealed single -dose package for large product sizes

Номер патента: WO2023248102A1. Автор: Andrea Taglini,Tomas DI GIROLAMO. Владелец: Easysnap Technology S.r.l.. Дата публикации: 2023-12-28.

Substrate processing apparatus control system and substrate processing apparatus control method

Номер патента: US20240149599A1. Автор: Beomjeong OH,Jong Nam NA. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Large area imprinting device

Номер патента: US4121520A. Автор: James L. Shenoha. Владелец: Norwood Marking and Equipment Co Inc. Дата публикации: 1978-10-24.

Sample related system that includes a load lock

Номер патента: US20240310205A1. Автор: Oren Wass. Владелец: Applied Materials Israel Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Extreme ultraviolet (euv) mask inspection system, a load-lock chamber included therein, and a method for inspecting an euv mask using the euv mask inspection system

Номер патента: US20220283519A1. Автор: Sungho Kang,Jihoon Na,Jaewhan Sung,Hak-Seok Lee,Hyunjune Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-09-08.

Spring-loaded locking bolt

Номер патента: US12044262B2. Автор: Martin Baeuerle. Владелец: Otto Ganter GmbH and Co KG Normteilefabrik. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate handling and processing system for flat panel displays

Номер патента: US5738767A. Автор: George L. Coad,Eric C. Lawson,John Lester Hughes. Владелец: Intevac Inc. Дата публикации: 1998-04-14.

Large area group III nitride crystals and substrates, methods of making, and methods of use

Номер патента: US12091771B2. Автор: Mark P. D'Evelyn,Drew W. CARDWELL. Владелец: SLT Technologies Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Interferometric lithography grating-mask-based wafer-scale large-area nanopatterning

Номер патента: US12092959B1. Автор: Alexander Neumann,Steven R. J. Brueck,Vineeth Sasidharan. Владелец: UNM Rainforest Innovations. Дата публикации: 2024-09-17.

Dissolution-method sampling device for large-area surface

Номер патента: NL2031895A. Автор: Chen Qing,Zhang Bin,Feng Xing,WU WANQING,Zheng Qinggong,Guo Yafei. Владелец: Univ Dalian Maritime. Дата публикации: 2022-07-05.

Dissolution-method sampling device for large-area surface

Номер патента: NL2031895B1. Автор: Chen Qing,Zhang Bin,Feng Xing,WU WANQING,Zheng Qinggong,Guo Yafei. Владелец: Univ Dalian Maritime. Дата публикации: 2023-09-27.

Operator-controlled scanning laser procedure designed for large-area epithelium removal

Номер патента: US09814621B2. Автор: Jonathan Wong,Leander Zickler,Mark E. Arnoldussen,Benjamin A. Logan. Владелец: AMO DEVELOPMENT LLC. Дата публикации: 2017-11-14.

Large area nanopatterning method and apparatus

Номер патента: US09645504B2. Автор: Boris Kobrin. Владелец: Metamaterial Technologies USA Inc. Дата публикации: 2017-05-09.

System and method for large-scale data processing using an application-independent framework

Номер патента: US09612883B2. Автор: Sanjay Ghemawat,Jeffrey Dean. Владелец: Google LLC. Дата публикации: 2017-04-04.

Spring loaded locking system for box spring assemblies

Номер патента: CA2041943C. Автор: Upton Ralph Dabney. Владелец: Hoover Group Inc. Дата публикации: 1995-03-21.

Gun muffler and noise abatement system for large caliber gun

Номер патента: US20030188630A1. Автор: Raymond Kazyaka. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-09.

Gun muffler system for large caliber gun

Номер патента: WO2003085351A2. Автор: Raymond P. Kazyaka,Raymond J. Kazyaka. Владелец: Wright-Malta Corporation. Дата публикации: 2003-10-16.

Methods, systems, and apparatus for conducting a calibration operation for a plurality of mass flow controllers (mfcs) of a substrate processing system

Номер патента: US20230366715A1. Автор: Zhiyuan Ye,Ala Moradian,Errol Antonio C. Sanchez,Patricia M. Liu,Zuoming Zhu,Bindusagar MARATH SANKARATHODI,Jyothi RAJEEVAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-16.

Method for performing preventative maintenance in a substrate processing system

Номер патента: WO2011112968A1. Автор: Robert D. Clark,Cory Wajda,Steven P. CONSIGLIO. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2011-09-15.

Methods, systems, and apparatus for conducting a calibration operation for a plurality of mass flow controllers (mfcs) of a substrate processing system

Номер патента: WO2022220900A1. Автор: Zhiyuan Ye,Ala Moradian,Errol Antonio C. Sanchez,Patricia M. Liu,Zuoming Zhu,Bindusagar MARATH SANKARATHODI,Jyothi RAJEEVAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-10-20.

Operator-controlled scanning laser procedure designed for large-area epithelium removal

Номер патента: CA2668948C. Автор: Jonathan Wong,Mark E. Arnoldussen,Benjamin A. Logan. Владелец: AMO Manufacturing USA LLC. Дата публикации: 2014-08-26.

Fire extinguishing apparatus for large oil storage reservoirs

Номер патента: US4194572A. Автор: Jean P. Thery,Claude M. Alban,Albert P. Jordi. Владелец: Compagnie Francaise des Petroles SA. Дата публикации: 1980-03-25.

Fastening System for Large-Area Metal Roof Coverings or Wall Claddings

Номер патента: US20210207379A1. Автор: Grant Craft. Владелец: Craft Holdings Ltd. Дата публикации: 2021-07-08.

Guardbands in substrate processing systems

Номер патента: US20230376020A1. Автор: Fei Li,James Robert Moyne,Jimmy Iskandar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Guardbands in substrate processing systems

Номер патента: US20230376374A1. Автор: Fei Li,James Robert Moyne,Jimmy Iskandar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Substrate processing system, substrate processing apparatus and method for accumulating data for substrate processing apparatus

Номер патента: US09720407B2. Автор: Yoshitaka Koyama,Hiroyuki Iwakura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-08-01.

Method for large-volume selective acid treatment of bottomhole formation zone in carbonate reservoirs

Номер патента: RU2750776C1. Автор: Фанзат Завдатович Исмагилов,Булат Галиевич Ганиев,Руслан Фаргатович Хусаинов,Эдуард Марсович Абусалимов,Азат Абузарович Лутфуллин,Ильдар Сиринович Каримов,Ильшат Маратович Насибулин,Михаил Александрович Петров,Наталья Анатольевна Хасанова. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью Сервисная Компания "Карат". Дата публикации: 2021-07-02.

Method for large-volume selective acid treatment of bottomhole formation zone in carbonate reservoirs

Номер патента: RU2750171C1. Автор: Ильшат Маратович Насибулин,Михаил Александрович Петров,Наталья Анатольевна Хасанова. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью Сервисная Компания "Карат". Дата публикации: 2021-06-22.

Cooling flow in substrate processing according to predicted cooling parameters

Номер патента: WO2024147966A1. Автор: Umesh Kelkar,Ala Moradian,Karthik Ramanathan,Orlando Trejo,Elizabeth Kathryn Neville. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-07-11.

Cooling flow in substrate processing according to predicted cooling parameters

Номер патента: US20240230189A1. Автор: Umesh Kelkar,Ala Moradian,Karthik Ramanathan,Orlando Trejo,Elizabeth Kathryn Neville. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Method for large-scale engineering geological remote sensing interpretation based on frame-format digital imaging

Номер патента: LU506312B1. Автор: YI LUO,Bin Zhou,Zihan ZHU. Владелец: Univ Southwest Petroleum. Дата публикации: 2024-08-05.

Using hybrid signal for large input object rejection

Номер патента: US09952709B2. Автор: Sanjay Mani,Yi Ling,Nickolas FOTOPOULOS. Владелец: Synaptics Inc. Дата публикации: 2018-04-24.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US09606454B2. Автор: Takashi Taguchi,Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-28.

Lightpipe for high temperature substrate processing

Номер патента: US20240142310A1. Автор: Ji-Dih Hu. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Lightpipe for high temperature substrate processing

Номер патента: WO2024091827A3. Автор: Ji-Dih Hu. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2024-07-04.

Lightpipe for high temperature substrate processing

Номер патента: WO2024091827A2. Автор: Ji-Dih Hu. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2024-05-02.

Film chamber with measuring volume for large leak detection

Номер патента: RU2699927C2. Автор: Зильвио ДЕККЕР,Рольфф НОРБЕРТ. Владелец: Инфикон Гмбх. Дата публикации: 2019-09-11.

Powder/water mixture, cleaning agent (versions), component set for large intestine depletion (versions), polyethylene glycol as large intestine depletion agent (versions) and method of large intestine depletion (versions)

Номер патента: RU2353412C2. Автор: Норман БАРРАС,Иэн Дэвид КОКС. Владелец: Норджин Юроп БВ. Дата публикации: 2009-04-27.

Method to prepare coffee extract for large cup from capsule with reduced time of outflow

Номер патента: RU2430670C2. Автор: Пауль АЙХЛЕР,Петер КОХ,Сильвия ОРЕССЕР,Эрнест РЭТЦ. Владелец: НЕСТЕК С.А.. Дата публикации: 2011-10-10.

Piston for large-capacity engine and method of making wear protective layer of such piston (versions)

Номер патента: RU2310089C2. Автор: Лех МОЧУЛЬСКИ,Майкл Айс БЕНЗОН,Джеспер Вайджло КАРСТЕНСЕН,Стин Крог ЙЕНСЕН. Владелец: Ман Б Энд В Диесель А/С. Дата публикации: 2007-11-10.

Genome-modified bacterial strains for large scale bioprocesses

Номер патента: EP4237540A1. Автор: Ajikumar Parayil Kumaran,Martin Ziegler,Michael Löffler,Ralf Takors,Christine Nicole S. SANTOS,Joana SIEMEN. Владелец: Manus Bio Inc. Дата публикации: 2023-09-06.

Method and system for large volume data processing

Номер патента: EP2283428A1. Автор: Yipeng Tang,Wenqi Hong. Владелец: Alibaba Group Holding Ltd. Дата публикации: 2011-02-16.

Method and system for large volume data processing

Номер патента: WO2009140590A1. Автор: Yipeng Tang,Wenqi Hong. Владелец: ALIBABA GROUP HOLDING LIMITED. Дата публикации: 2009-11-19.

Schedule creation program generating method, schedule creation program generating apparatus, schedule creating apparatus, recording medium, substrate processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US20240329624A1. Автор: Jun Kawai,Takashi Kasahara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Low-temperature mixed refrigerant for large-scale pre-cooling of hydrogen

Номер патента: RU2753342C2. Автор: Умберто КАРДЕЛЛА,Луц ДЕКЕР,Геральд КЛАЙН. Владелец: Линде Акциенгезельшафт. Дата публикации: 2021-08-13.

Device for monitoring deformations of structures and facilities of large area

Номер патента: RU2658110C1. Автор: Валерий Викторович Коротаев,Александр Сергеевич Васильев,Олег Юрьевич Лашманов,Анна Владимировна Трушкина,Алексей Муратович Алеев. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики" (Университет ИТМО). Дата публикации: 2018-06-19.

Method of fixing evidence from the scene of a large area in areas of armed conflicts and a hardware-software system for its implementation

Номер патента: RU2707247C1. Автор: Борис Николаевич Сидоров,Артём Юрьевич Сергеев,Максим Сергеевич Кузнецов,Владислав Максимович Мельников. Владелец: Федеральное государственное казенное военное образовательное учреждение высшего образования "Военный университет" Министерства обороны Российской Федерации. Дата публикации: 2019-11-25.

Ganoderma lucidum strain suitable for large-scale liquid fermentation culture and method of using the strain

Номер патента: US20180199533A1. Автор: Meng Zhou,Yingkui ZHOU,Nuo ZHOU. Владелец: Yunnan Mingshida-Science-Tech Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-19.

Active control method and device for large deformation of deep thin-bedded surrounding rock

Номер патента: US20240141786A1. Автор: Hua Zhou,Zhaofeng Wang,Xufeng LIU,Hailong Huang,Fugang ZHAO,Yangyi Zhou,Longhai Xi,Pengzhi Pan,Yelin Feng,Xuanjiao Zhen. Владелец: Huaneng Lancang River Hydropower Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Large-area display device and large-area display device driving system

Номер патента: US12027115B2. Автор: Jongjin Park,Jungwon RYU,Hankyeol LEE,ByeongHyeon NA. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Digital forensic apparatus for searching recovery target area for large-capacity video evidence using time map and method of operating the same

Номер патента: US20230343096A1. Автор: Hyun Soo Kim,Jae Min Jang,Chang Ha Lee,Kyung Su Lee. Владелец: Gmdsoft Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

Method and device for measuring the thickness of thin layers over large-area surfaces to be measured

Номер патента: US20110271750A1. Автор: HELMUT Fischer. Владелец: Helmut Fischer GmbH and Co. Дата публикации: 2011-11-10.

Compositions and methods for large-scale in vivo genetic screening

Номер патента: US20240287609A1. Автор: Randall T. Peterson,Saba PARVEZ,Jing-Ruey Joanna Yeh. Владелец: University of Utah Research Foundation UURF. Дата публикации: 2024-08-29.

Device and method for large-scale flow solidification treatment of dredged sediment in pipeline without yard

Номер патента: US20240067552A1. Автор: Shuo Wang,Guojun Cai,Yinghao Huang,Chan Dong. Владелец: Anhui Jianzhu University. Дата публикации: 2024-02-29.

Decoupling mechanism and testing apparatus for large-displacement vibration tests

Номер патента: US20240328893A1. Автор: Bin Zhao,Jiangfeng Zhu,Yugang WU. Владелец: Suzhou Sushi Testing Group Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Biomanufacturing suite and methods for large-scale production of cells, viruses, and biomolecules

Номер патента: US09902928B2. Автор: Mark Hirschel,Robert J. Wojciechowski,Kim ARNESON. Владелец: Biovest International Inc. Дата публикации: 2018-02-27.

High precision set expansion for large concepts

Номер патента: US09547718B2. Автор: Arvind Arasu,Zhimin Chen,Vivek Narasayya,Jiewen Huang. Владелец: Microsoft Technology Licensing LLC. Дата публикации: 2017-01-17.

Device for large volume vessels tightness control

Номер патента: RU2717700C1. Автор: Сергей Фёдорович Долбищев,Андрей Михайлович Смирнов,Виталий Валерьевич Герасименко,Сергей Николаевич Крючков. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" (Госкорпорация "Росатом"). Дата публикации: 2020-03-25.

Method for large-scale synthesis of potassium salt of 2-[2-(2-oxo-4-phenylpyrrolidin-1-yl)acetamido]ethane sulphonic acid

Номер патента: RU2711655C1. Автор: Иван Александрович Болдырев,Дмитрий Викторович Тарасенко,Евгения Петровна Крамарова,Юрий Иванович Бауков,Вадим Витальевич Негребецкий,Татьяна Анатольевна Шмиголь,Анастасия Дмитриевна Шагина. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Российский национальный исследовательский медицинский университет имени Н.И. Пирогова" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2020-01-20.

Lock chamber for the passage of packets or objects between a room reserved for the public and a premises which is isolated and protected from the public

Номер патента: US4299175A. Автор: Claude P. Bourlier,Louis E. Sallot. Владелец: Individual. Дата публикации: 1981-11-10.

Large area storage display

Номер патента: US20040085343A1. Автор: Ping Mei,Warren Jackson. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2004-05-06.

Method and apparatus for switching large-area electrochromic devices

Номер патента: RU2492516C2. Автор: Джереми МАТТЬЮЗ. Владелец: Эконтрол-Глас Гмбх Унд Ко. Кг. Дата публикации: 2013-09-10.

Collector of milking machine with locking chambers

Номер патента: RU2465768C2. Автор: Маркус АУБУРГЕР. Владелец: Геа Фарм Текнолоджиз Гмбх. Дата публикации: 2012-11-10.

Disinfection lock chamber

Номер патента: RU210528U1. Автор: Дмитрий Владимирович Гвозденко,Игорь Владимирович Гомулин,Вячеслав Васильевич Денисенко,Иван Павлович Летаев. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Ростовский-на-Дону научно-исследовательский институт радиосвязи" (ФГУП "РНИИРС"). Дата публикации: 2022-04-19.

Flat led illuminator with a large area of the light-emitting surface

Номер патента: RU2761176C1. Автор: Юрий Борисович Соколов. Владелец: Юрий Борисович Соколов. Дата публикации: 2021-12-06.

Control scheme for large circulating fluid bed steam generators (CFB)

Номер патента: US5784975A. Автор: Michael C. Tanca. Владелец: Combustion Engineering Inc. Дата публикации: 1998-07-28.

Wrapping material supply arrangement for large round baler

Номер патента: US5692365A. Автор: Bernard Meyer,Juergen Moehrer. Владелец: Deere and Co. Дата публикации: 1997-12-02.

Processing system containing a hot filament hydrogen radical source for integrated substrate processing

Номер патента: WO2008042691A3. Автор: Tsukasa Matsuda,Isamu Sakuragi. Владелец: Isamu Sakuragi. Дата публикации: 2008-05-22.

Flat bottom mining preparation system for large diameter deep hole stope of inclined thick and large ore body

Номер патента: AU2021101511A4. Автор: Li Cheng,Yong Liu,Yumin Chen,Bing Dai,Jianbo Wang,Dianfei Pei,Huaide Peng. Владелец: Deep Well Mining Laboratory Branch Office Of Shandong Gold Mining Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Improving chemistry utilization by increasing pressure during substrate processing

Номер патента: WO2024076576A1. Автор: Gopinath Bhimarasetti,Nathaniel Elba RICHEY. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-04-11.

Method for large-scale synthesis of long-chain rna and method for site-specific modification of long-chain rna

Номер патента: US20220372538A1. Автор: Yong Hu,Miaomiao ZHANG. Владелец: Shenzhen Rhegen Biotechnology Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-24.

Method for large-scale synthesis of long-chain rna and method for site-specific modification thereof

Номер патента: EP4095253A1. Автор: Yong Hu,Miaomiao ZHANG. Владелец: Shenzhen Rhegen Biotechnology Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-30.

Gun muffler system for large caliber gun

Номер патента: WO2003085351A3. Автор: Raymond P Kazyaka,Raymond J Kazyaka. Владелец: Wright Malta Corp. Дата публикации: 2004-02-19.

Color-calibrated large-area display system and projector for use therein

Номер патента: WO2002009070A2. Автор: Yitzhak Weissman,Meir Aloni. Владелец: Comview Display Solutions Ltd.. Дата публикации: 2002-01-31.

Water retaining and flushing stoplog gate for lock chamber water-drained overhauling, and drainage method

Номер патента: GB2606641A. Автор: Zhang Li,Zhou Rong,Yang Liying,Li XiaoHong,Pan Zhongqi,Hao Xiangru,Jin Zekang. Владелец: Beijingshi Liangshuihe Manangment Office. Дата публикации: 2022-11-16.

Information processing device, substrate processing device, and information processing method

Номер патента: US20240302817A1. Автор: Takamasa Nakamura,Hirofumi OTAKI,Sho ICHINOSE. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-09-12.

Device for large mucosal ablation

Номер патента: RU2724014C1. Автор: Клаус Фишер,Маркус ЭНДЕРЛЕ,Томас ШТЕБЛЕР. Владелец: Эрбе Электромедицин Гмбх. Дата публикации: 2020-06-18.

Supporting spacer of large area

Номер патента: RU2118433C1. Автор: Естерле Хельмут,Баумгартнер Штефан. Владелец: Сфс Индустри Холдинг Аг. Дата публикации: 1998-08-27.

Method for large-scale production of proteoglycan

Номер патента: RU2592850C2. Автор: Йодзи КАТО. Владелец: Хиросаки Юниверсити. Дата публикации: 2016-07-27.

Task scheduling mechanism for large data processing systems

Номер патента: CA1299758C. Автор: Andrew Thomas Jennings,John Allen Keller. Владелец: Unisys Corp. Дата публикации: 1992-04-28.

Methods, systems, and apparatus for conducting a calibration operation for a plurality of mass flow controllers (mfcs) of a substrate processing system

Номер патента: EP4324023A1. Автор: Zhiyuan Ye,Ala Moradian,Errol Antonio C. Sanchez,Patricia M. Liu,Zuoming Zhu,Bindusagar MARATH SANKARATHODI,Jyothi RAJEEVAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-21.

A slit valve assembly for use in a vacuum chamber, for example in a vacuum chamber of a substrate processing system

Номер патента: WO2024083493A1. Автор: Tjarko Adriaan Rudolf Van Empel,Sjoerd Frans DE VRIES,Wilhelmus Peter Johannes Classens,Ricardo Manuel Dias Romão DOS SANTOS,Dmitriy Anatoljevitsj SHESTAKOV. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-04-25.

Genome-modified bacterial strains for large scale bioprocesses

Номер патента: US20230399672A1. Автор: Ajikumar Parayil Kumaran,Martin Ziegler,Michael Löffler,Ralf Takors,Christine Nicole S. SANTOS,Joana SIEMEN. Владелец: Manus Bio Inc. Дата публикации: 2023-12-14.

Vapor supply for substrate processing systems

Номер патента: WO2024118124A1. Автор: Ashwin Kumar,Kevin Gerber,Jorge Reyes,Rigel Martin BRUENING,Curtis W. BAILEY,Jiuyuan Nie,Avinash JAISWAL,Mohammadreza BABAEI,Kyle Starr ODUM. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-06-06.

Interferometry system and methods for substrate processing

Номер патента: WO2020009732A1. Автор: Benjamin M. Johnston,Jae Myung YOO,Cheuk Ming LEE,Thang Duc NGUYEN,David Michael CORRIVEAU,Glen Alan GOMES. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-01-09.

Methods for large-scale spheroids and extracellular vesicles production

Номер патента: WO2024112636A1. Автор: David Henry,Samantha Sophie Catherine Haller. Владелец: CORNING INCORPORATED. Дата публикации: 2024-05-30.

Device for fixing a ring, in particular a ring for large-diameter bearings, during the hardening of the ring, method for fixing a ring for hardening the ring

Номер патента: EP3839082A1. Автор: Pavel Roman,Vendelin FUJACEK,Anton KRIZAN. Владелец: ThyssenKrupp Rothe Erde Slovakia AS. Дата публикации: 2021-06-23.

Methods for large-scale production of magnetosomes

Номер патента: WO2024095237A1. Автор: AHARON Eyal,John Randall Phillips,Bryan P. Tracy,Hadar GILARY,Biniam MARU,Carrissa WIEDEL. Владелец: Superbrewed Food Inc.. Дата публикации: 2024-05-10.

Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20240219837A1. Автор: Ki Won Han,Jun Ho Seo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Optimization method for large-scale cloud service processes

Номер патента: US20230316187A1. Автор: Helan LIANG. Владелец: SUZHOU UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-10-05.

Electrolyte supply structure for providing uniform fluid flow for large alkaline hydrogen electrolyzers

Номер патента: US20240150917A1. Автор: Haiming Li. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-05-09.

Method and system for large scale categorization of website cookies

Номер патента: US20230134223A1. Автор: Xiaolin Wang,Michael RINEHART,Michael Busha. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-05-04.

Systems and methods for generating floorplans from large area scanning

Номер патента: US20240127427A1. Автор: Erkang Wei,James Nathan Swidersky,Claudio Sa. Владелец: Mappedin Inc. Дата публикации: 2024-04-18.

Substrate processing device and method for measuring process gas temperature and concentration

Номер патента: US20240241042A1. Автор: Yuji Obata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Systems and processes for creating software bill of materials for large distributed builds

Номер патента: WO2023224718A1. Автор: Ian James MCCARTY,Sencer Nuri Yeralan,Frank Joseph BUSSELL,Henry James LYONS,Nicholas Allan SCHWERZLER,Dale Russel ROLF,Minh Trong TRAN,David John JANSON,Thomas George YARYAN. Владелец: Microsoft Technology Licensing, LLC. Дата публикации: 2023-11-23.

Scalable Attributed Graph Embedding for Large-Scale Graph Analytics

Номер патента: US20210357681A1. Автор: Lingfei Wu. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2021-11-18.

Light pipe microscope for large-scale dynamic imaging

Номер патента: US20240069321A1. Автор: Meng Cui. Владелец: PURDUE RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2024-02-29.

Method and apparatus for photographing "small" x-ray scintillation images at the same("full") camera resolution normally available for "large" scintillation images

Номер патента: US20100072378A1. Автор: James Edward Cannon. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-03-25.

Pointing and interaction control devices for large scale tabletop models

Номер патента: US20210042008A1. Автор: ABHISHEK Sharma,John Vincent,Yifan Chen,Prashant Rao,James Mcbride,Shan Chy Chueh. Владелец: FORD GLOBAL TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2021-02-11.

Indiagnostics framework for large scale hierarchical time-series forecasting models

Номер патента: WO2021021271A1. Автор: Colin R. Dillard,Sambarta Dasgupta,Shashank Shashikant Rao,Sean ROWAN. Владелец: INTUIT INC.. Дата публикации: 2021-02-04.

Large Area Light Source

Номер патента: US20130141941A1. Автор: Hirokazu Matsui. Владелец: MEITAKU INDUSTRY Co Ltd. Дата публикации: 2013-06-06.

Scalable driving architecture for large size displays

Номер патента: US20190287480A1. Автор: Amir Amirkhany. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-19.

Large-area mask and exposure system having the same

Номер патента: US20050073664A1. Автор: Yong-Seok Park,Han-Beom Jo. Владелец: Display Manufacturing Services Co Ltd. Дата публикации: 2005-04-07.

A purification process for large scale production of gc-globulin, product obtained thereby and their use in medicine

Номер патента: EP1419177A2. Автор: Inga Laursen,Gunnar Houen,Charlotte Svaerke Jorgensen. Владелец: Statens Serum Institut SSI. Дата публикации: 2004-05-19.

Powered support frame for large seam thicknesses with controlled gap sealing plates

Номер патента: US6481933B1. Автор: Michael Dettmers,Ulrich Hilker. Владелец: DBT Deustche Bergbau Technik GmbH. Дата публикации: 2002-11-19.

Distributed and fast data storage layer for large scale web data services

Номер патента: EP3080953A1. Автор: AMIT Aggarwal,Ashutosh Garg,Gurashish Singh Brar,Prateek Gupta,Praveen K. Patnala,Kannan Nitin Sharma,Manojit Sarkar,Shao-Chuan Wang. Владелец: BloomReach Inc. Дата публикации: 2016-10-19.

Distributed and fast data storage layer for large scale web data services

Номер патента: WO2015089463A1. Автор: AMIT Aggarwal,Ashutosh Garg,Gurashish Singh Brar,Prateek Gupta,Praveen K. Patnala,Kannan Nitin Sharma,Manojit Sarkar,Shao-Chuan Wang. Владелец: BloomReach Inc.. Дата публикации: 2015-06-18.

Systems and methods for beam shaping for large aspect ratio with a single cylindrical lens

Номер патента: US20240282475A1. Автор: Joachim Welte. Владелец: Ionq Inc. Дата публикации: 2024-08-22.

Storage and loading system for large caliber ammunition

Номер патента: US20240302120A1. Автор: Dino Yu. Владелец: Meggitt Defense Systems Inc. Дата публикации: 2024-09-12.

Adverse or malicious input mitigation for large language models

Номер патента: WO2024186591A1. Автор: Matthew Jonathan Gardner. Владелец: Microsoft Technology Licensing, LLC. Дата публикации: 2024-09-12.

Adverse or malicious input mitigation for large language models

Номер патента: US20240296219A1. Автор: Matthew Jonathan Gardner. Владелец: Microsoft Technology Licensing LLC. Дата публикации: 2024-09-05.

Valve for large scale irrigation

Номер патента: AU2018271132B2. Автор: Peter Anthony Cocciardi. Владелец: Country Cocky Pty Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Storage and loading system for large caliber ammunition

Номер патента: WO2024191638A2. Автор: Dino Yu. Владелец: Meggitt Defense Systems, Inc.. Дата публикации: 2024-09-19.

System and method for scanning opaque large areas

Номер патента: WO2011058549A1. Автор: Amos Golan,Yuval Ovadia. Владелец: Silver Shadow Ltd.. Дата публикации: 2011-05-19.

Storage and loading system for large caliber ammunition

Номер патента: WO2024191638A3. Автор: Dino Yu. Владелец: Meggitt Defense Systems, Inc.. Дата публикации: 2024-10-24.

System and method for large scale data extraction and processing

Номер патента: US20240338759A1. Автор: Robert J. Bauer,Bryan James SMITH,Meng Gu,Venkatrao Meenavalli,Stephen I. Early,Harmeet Khanna Kalra,Swapna Kandra,Hyun Mo KOO,Kiran Kumar Mothi. Владелец: Bank of America Corp. Дата публикации: 2024-10-10.

Device to create a hermetic seal for large openings in equipment

Номер патента: US09976651B2. Автор: Klaus Stanke,Jörg ZIELKE,Paul B. Kroehl. Владелец: ANDRITZ TECHNOLOGY AND ASSET MANAGEMENT GMBH. Дата публикации: 2018-05-22.

Method for efficiently treating spontaneous ignition of remaining coal in large area goaf of shallow-buried coal bed

Номер патента: US09869178B2. Автор: Yi Lu,Botao Qin,Xiaoxing Zhong,Xiaowen Qin. Владелец: China University of Mining and Technology CUMT. Дата публикации: 2018-01-16.

Apparatus and method for large vocabulary continuous speech recognition

Номер патента: US09805716B2. Автор: Hoon Chung,Yun Keun Lee,Jeon Gue Park,Byung Ok KANG,Sung Joo Lee. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2017-10-31.

Process for large scale production of N-[4-(1-cyclobutyl piperidin-4-yloxy) phenyl]-2-(morpholin-4-yl) acetamide dihydrochloride

Номер патента: US09802896B2. Автор: VENKATESWARLU Jasti,Ramakrishna Nirogi,Anil Karbhari Shinde,Ramasastri Kambhampati. Владелец: SUVEN LIFE SCIENCES LTD. Дата публикации: 2017-10-31.

Flowmeter design for large diameter pipes

Номер патента: US09726530B2. Автор: Jesse Yoder. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-08-08.

Virtualization method for large-scale distributed heterogeneous data

Номер патента: US09715536B2. Автор: Yi Xie,Qiang YUE,Tongkai JI,Xiangtao Liu. Владелец: Institute of Computing Technology of CAS. Дата публикации: 2017-07-25.

Large area light source

Номер патента: US09625645B2. Автор: Hirokazu Matsui. Владелец: MEITAKU INDUSTRY Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Substrate processing apparatus, simulation apparatus, storage medium and simulation method

Номер патента: US09558304B2. Автор: Satoko Yamamoto,Kimitoshi MIURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Irrigation mat for water distribution over large area

Номер патента: RU2465767C2. Автор: Райнхард ХЕЛЬБИГ,Рольф АРНОЛЬД,Дитмар Конрад ХАУБ,Томас РЕСС. Владелец: Игг-Интернационале Геотекстиль Гезелльшафт Мбх. Дата публикации: 2012-11-10.

Task scheduling mechanism for large data processing systems

Номер патента: CA1306308C. Автор: Andrew Thomas Jennings,John Allen Keller. Владелец: Unisys Corp. Дата публикации: 1992-08-11.

Process for large-scale preparation of 2',3'-didehydro-2',3'-dideoxynucleosides

Номер патента: CA2135853A1. Автор: Paul M. Skonezny,Emerich Eisenreich,Derron R. Stark,Brenda T. Boyhan,Stephen R. Baker. Владелец: Individual. Дата публикации: 1995-05-16.

Process for large-scale synthesis of 2', 3'-didehydro-3'-deoxythymidine (d4t) involving the isolation of a d4t n-methylpyrrolidinone solvate and the intermediate d4t nmpo solvate therefor

Номер патента: IL111570A. Автор: . Владелец: Bristol Myers Squibb Co. Дата публикации: 2001-07-24.

Self-service sales system for large containers

Номер патента: CA2000768C. Автор: John B. Reilley,Martin D. Macdowell. Владелец: Ralston Purina Co. Дата публикации: 2000-04-11.

Propellant composition without activated copper chromite having a high burn rate and its use thereof in pyrogen igniters for large rocket motors

Номер патента: WO2023214428A1. Автор: Isaac Kingstone Lesley JABEZ,Urmila DAS,Sudarshan NAKKA,Ramaguru Gurusamy,Rama Manohara Babu MULAKALURI. Владелец: Chairman, Defence Research & Development Organisation (DRDO). Дата публикации: 2023-11-09.

A method for large-scale preparation of high-purity exosomes

Номер патента: WO2023142219A1. Автор: Xudong Wang,Xian Zhao,Wenlin AN,Jiuheng SHEN,Youxiu ZHONG. Владелец: National Vaccine & Serum Institute. Дата публикации: 2023-08-03.

Compositions and methods for large-scale in vivo genetic screening

Номер патента: EP4352251A2. Автор: Randall T. Peterson,Saba PARVEZ,Jing-Ruey Joanna Yeh. Владелец: University of Utah Research Foundation UURF. Дата публикации: 2024-04-17.

Compositions and methods for large-scale in vivo genetic screening

Номер патента: CA3222127A1. Автор: Randall T. Peterson,Saba PARVEZ,Jing-Ruey Joanna Yeh. Владелец: University of Utah Research Foundation UURF. Дата публикации: 2022-12-15.

Methods for large tissue labeling, clearing and imaging using antibodies

Номер патента: WO2024068987A1. Автор: Jie Luo,Ali ERTÜRK,Hongcheng MAI. Владелец: Deep Piction GmbH. Дата публикации: 2024-04-04.

A dual dfa decomposition for large scale regular expression matching

Номер патента: EP2561453A1. Автор: Fabrizio Petrini,Davide Pasetto,Virat Agarwal. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2013-02-27.

Method for large scale production of antibodies using a cell-free protein synthesis system

Номер патента: EP4211156A1. Автор: Gang Yin. Владелец: Sutro Biopharma Inc. Дата публикации: 2023-07-19.

Self-sustaining modularized device for construction of covering structures for large spans

Номер патента: WO1999020860A1. Автор: Reginaldo Guedes Marinho. Владелец: Reginaldo Guedes Marinho. Дата публикации: 1999-04-29.

Ganoderma lucidum strain suitable for large-scale liquid fermentation culture, method of mutation breeding the same, and use of the strain

Номер патента: US20160270359A1. Автор: Meng Zhou,Yingkui ZHOU,Nuo ZHOU. Владелец: Yunnan Mingshida-Science-Tech Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-22.

Compositions and methods for large-scale in vivo genetic screening

Номер патента: WO2022261232A3. Автор: Randall T. Peterson,Saba PARVEZ. Владелец: UNIVERSITY OF UTAH RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2023-01-19.

Dosing system for lubricating oil for large diesel engines and method for dosing cylinder lubricating oil to large diesel engine cylinders

Номер патента: EP2545257A1. Автор: Peer Bak. Владелец: Hans Jensen Lubricators AS. Дата публикации: 2013-01-16.

Self-sustaining modularized device for construction of covering structures for large spans

Номер патента: EP1070184A1. Автор: Reginaldo Guedes Marinho. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-01-24.

Vacuum electric arc furnace with lock chamber

Номер патента: US3912848A. Автор: Rudolf Randa. Владелец: Leybold Heraeus GmbH. Дата публикации: 1975-10-14.

A device for large food preparation vessel

Номер патента: WO1988009144A1. Автор: Goran Persson. Владелец: PERSSON GOERAN MASKIN AB. Дата публикации: 1988-12-01.

Gas inlet tube assembly for an improved gas mixture in a substrate processing apparatus

Номер патента: US20240124981A1. Автор: DongRak Jung,Jongsu Kim,Arun THOTTAPPAYIL. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-04-18.

Fluid commingling chamber for nitrogen processing unit

Номер патента: US5636519A. Автор: Paul W. Heilman. Владелец: Halliburton Co. Дата публикации: 1997-06-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09869022B2. Автор: Motoshi Sawada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-01-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09732421B2. Автор: Tsukasa Kamakura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-08-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240376603A1. Автор: Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-14.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09587314B2. Автор: Taketoshi Sato,Hiroaki Hiramatsu,Yukitomo Hirochi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-03-07.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09487863B2. Автор: Kazuyuki Toyoda,Kazuhiro Morimitsu,Shun Matsui. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-11-08.

Data processing system and method

Номер патента: RU2701710C1. Автор: Ричард Чарльз КОЛЛИНЗ,Диана КОКС,Ллойд ХАЗБАНДЗ,Дэвид ДЖЭКСОН,Питер Филип Лондсдэйл НЭНСОН,Джордж А. АЛЛЕН. Владелец: Сименс Продакт Лайфсайкл Менеджмент Софтвэар Инк.. Дата публикации: 2019-09-30.

Detecting the state of objects using an image processing system, a corresponding method and a persistent machine-readable medium

Номер патента: RU2694016C1. Автор: Вадим ПЕСТУН,Ольга ЕРЕМИНА,Екатерина ТЮЛЯЕВА,Алексей ЛЕВАШОВ,Олсай ГУЛДОГАН,Яни РОТОЛА-ПУККИЛА,Теему Калеви РОССИ. Владелец: Эксенчер Глобал Сервисез Лимитед. Дата публикации: 2019-07-08.

Guardbands in substrate processing systems

Номер патента: US20230376373A1. Автор: Fei Li,James Robert Moyne,Jimmy Iskandar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Large area detector of nuclear particles and ionizing radiation with its support, method of production and system comprising large area detector

Номер патента: WO2022211744A1. Автор: Bohumir ZATKO,Frantisek Dubecky. Владелец: Elektrotechnicky Ustav Sav. Дата публикации: 2022-10-06.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE TRANSFER METHOD ADOPTED IN SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120004753A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

REACTIVE SPUTTERING ZINC OXIDE TRANSPARENT CONDUCTIVE OXIDES ONTO LARGE AREA SUBSTRATES

Номер патента: US20120000773A1. Автор: HOSOKAWA AKIHIRO,Stimson Bradley O.,Inagawa Makoto,Ye Yan,Kadam Ankur,Li Yanping,Lau Allen Ka-Ling. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Biological Clean Fuel Processing Systems and Methods

Номер патента: US20120003705A1. Автор: MORRIS Jeffrey M.,Jin Song,Fallgren Paul,Bland Alan E.,Newcomer Jesse D.,Colberg Patricia,Richards Patick. Владелец: The University of Wyoming Research Corporation d/b/a Western Research Institute. Дата публикации: 2012-01-05.

Large Area Nitride Crystal and Method for Making It

Номер патента: US20120000415A1. Автор: Speck James S.,"DEvelyn Mark P.". Владелец: Soraa, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR THERMAL BASED SUBSTRATE PROCESSING WITH VARIABLE TEMPERATURE CAPABILITY

Номер патента: US20120003388A1. Автор: Wu Kai,YUAN XIAOXIONG,TZU GWO-CHUAN,KHANDELWAL AMIT,WANG BENJAMIN CHENG,GELATOS AVGERINOS V.,KARAZIM MICHAEL P.,LIN JING,CUVALCI OLKAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE STAGE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120000612A1. Автор: Muraki Yusuke,ODAGIRI Masaya,FUJIHARA Jin. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120001937A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

Method to monitor positioning of folds of lock chamber double-leaf gate and device for its realisation

Номер патента: RU2459033C1. Автор: Вячеслав Борисович Самойлов. Владелец: Вячеслав Борисович Самойлов. Дата публикации: 2012-08-20.

SUBSTRATE PROCESSING INCLUDING A MASKING LAYER

Номер патента: US20120001320A1. Автор: Kumar Nitin,Duong Anh,Lang Chi-I,Chiang Tony P.,BOUSSIE Thomas R.,Malhotra Sandra G.,Fresco Zachary,Tong Jinhong. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MASS FLOW CONTROLLER, MASS FLOW CONTROLLER SYSTEM, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, AND GAS FLOW RATE ADJUSTING METHOD

Номер патента: US20120000542A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120000886A1. Автор: NISHINO Masaru,HONDA Masanobu,Kubota Kazuhiro,Ooya Yoshinobu. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

Cross arm, cross arm bearing beam equalising mechanism, cross arm bearing beam rigging; rigging load locking device, cross arm bearing beam support fixture, method of equilibrium adjustment of cross arm on support fixtures and method of cross beam transfer

Номер патента: RU2376237C1. Автор: Александр Иванович Ермолаев,Алексей Васильевич Боев,Алексей Григорьевич Гончар. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Конструкторское бюро транспортного машиностроения" (КБТМ). Дата публикации: 2009-12-20.

Chamber cleaning for substrate processing systems

Номер патента: WO2024196580A1. Автор: Hu Kang,Ming Li,Dong Wang,Xin Meng,Defu LIANG,Rohit ODE,Huifeng Zheng,Joseph Lindsey Womack. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-09-26.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120000629A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

Dry full ration fodder for large breed dogs balanced in terms of amino acid composition with proved bio-functional properties (versions)

Номер патента: RU2537555C2. Автор: Георгий Юрьевич Лаптев,Илья Николаевич Никонов,Ольга Владимировна Королева,Владимир Олегович Попов,Илья Владимирович Николаев,Ксения Валерьевна Лисицкая,Анна Алексеевна Торкова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт биохимии им. А.Н. Баха Российской академии наук. Дата публикации: 2015-01-10.

Transport system for large-size and large-weight object and method of its motion in crosswise direction

Номер патента: RU2385239C1. Автор: Евгений Юрьевич Сундуков. Владелец: Институт биологии Коми научного центра Уральского отделения Российской академии наук. Дата публикации: 2010-03-27.

Cart for large-size products transportation

Номер патента: RU2463190C2. Автор: Сергей Николаевич Силенков. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие Ордена Трудового Красного Знамени научно-исследовательский институт радио. Дата публикации: 2012-10-10.

Porous showerheads for substrate processing systems

Номер патента: WO2024191656A1. Автор: Yi Song,Jihong Chen,Rong Wang,Vijay Nithiananthan. Владелец: Silfex, Inc.. Дата публикации: 2024-09-19.

Vibration damper system for large jacket platform and large jacket platform

Номер патента: IE20240150U1. Автор: HAO LIU,YONG Xiao,Le Chen,Yonggan Sun,Xiaonan YAN. Владелец: Univ Chongqing Jiaotong. Дата публикации: 2024-09-25.

Vibration damper system for large jacket platform and large jacket platform

Номер патента: IES87540Y1. Автор: HAO LIU,YONG Xiao,Le Chen,Yonggan Sun,Xiaonan YAN. Владелец: Univ Chongqing Jiaotong. Дата публикации: 2024-09-25.

Connecting press for large-format matrices

Номер патента: RU2586088C1. Автор: Валерий Михайлович Ефимов,Александр Александрович Гузев,Александр Сергеевич Строганов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук (ИФП СО РАН). Дата публикации: 2016-06-10.

Vibratory plant for large-diameter shell-type pile provided with central orifice driving in ground

Номер патента: RU2285088C1. Автор: Иван Николаевич Яковлев. Владелец: Иван Николаевич Яковлев. Дата публикации: 2006-10-10.

Method of fabricating panels for large-block construction and device to this end

Номер патента: RU2454321C2. Автор: Владимир Александрович Парамошко. Владелец: Владимир Александрович Парамошко. Дата публикации: 2012-06-27.

Cement lining composition for large aggregate

Номер патента: RU2394783C1. Автор: Юлия Алексеевна Щепочкина. Владелец: Юлия Алексеевна Щепочкина. Дата публикации: 2010-07-20.

Drilling rig for large-size hole drilling

Номер патента: RU2316638C1. Автор: Владимир Николаевич Воробьев,Вячеслав Федорович Роженцов,Валентин Яковлевич Заслов,Сергей Николаевич Трофимов,Владимир Николаевич Воробьев (RU),В чеслав Федорович Роженцов (RU),Валентин Яковлевич Заслов (RU),Сергей Николаевич Трофимов (RU). Владелец: Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский проектно-конструкторский институт горного и обогатительного машиностроения" (ОАО "НИПИГОРМАШ"). Дата публикации: 2008-02-10.

Improvements in Cars for Large Wheels used for Recreative Purposes.

Номер патента: GB189711580A. Автор: Moritz Lieske. Владелец: Individual. Дата публикации: 1898-04-09.

POWER SUPPLYING MEANS HAVING SHIELDING MEANS FOR FEEDING LINE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20120000609A1. Автор: DO Jae-Chul,JEON Bu-Il,SONG Myung-Gon,LEE Jung-Rak. Владелец: JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Railway long-wheelbase platform for large-capacity containers

Номер патента: RU2475389C1. Автор: Юрий Васильевич Мещерин,Вадим Юрьевич Гусев,Эдуард Сергеевич Оганьян,Николай Федорович Красюков,Виктор Анатольевич Чаркин. Владелец: Открытое Акционерное Общество "Российские Железные Дороги". Дата публикации: 2013-02-20.

Cast wear-resistant steel for large parts of mining and smelting processes

Номер патента: RU2288294C2. Автор: Виктор Иванович Стадничук,Эдуард Эдгарович Меркер,Александр Викторович Стадничук. Владелец: Александр Викторович Стадничук. Дата публикации: 2006-11-27.

Pedestal and showerhead for substrate processing

Номер патента: WO2024173095A1. Автор: Shoudho DAS,Subashchandra Gangadhar RAI,Pavan Gururaj KOTY. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-08-22.

Electroslag melting plant for large hollow and solid ingots

Номер патента: RU2456355C1. Автор: Виктор Владимирович Семенов,Владимир Семенович Дуб,Леонид Яковлевич Левков,Игорь Александрович Свитенко,Юрий Николаевич Кригер,Алексей Владимирович Дуб,Сергей Олегович Соколов,Сергей Владимирович Каманцев,Жания Казбековна Каширина,Анатолий Владимирович Красовский,Александр Васильевич Бессонов,Леонид Исаевич Берман,Николай Федотович Матыцин,Андрей Владимирович Дементьев. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство промышленности и торговли Российской Федерации (Минпромторг РФ). Дата публикации: 2012-07-20.

Method for large chamber cutting in horizontal layers

Номер патента: RU2309252C1. Автор: Сергей Петрович Мозер. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Санкт-Петербургский государственный горный институт имени Г.В. Плеханова (технический университет)". Дата публикации: 2007-10-27.

Method of blanks cutting for large-sized panels forging from roll of thin-sheet low-carbon steel (versions)

Номер патента: RU2603760C2. Автор: Игорь Юрьевич Ананченко,Валерий Алексеевич Жарков. Владелец: Открытое акционерное общество "АВТОВАЗ". Дата публикации: 2016-11-27.

Composite mandrel for large- and medium-diameter pipe pilger rolling

Номер патента: RU2527589C2. Автор: Александр Анатольевич Федоров,Виктор Николаевич Еремин,Анатолий Васильевич Сафьянов,Валентин Иреклеевич Тазетдинов,Владимир Яковлевич Осадчий,Александр Юрьевич Матюшин,Николай Петрович Климов,Константин Эдуардович Бубнов,Анатолий Андреевич Воронин,Валерий Александрович Головинов,Александр Анатольевич Сафьянов,Владимир Сергеевич Баричко,Владимир Петрович Пашнин,Павел Михайлович Федоров. Владелец: Открытое акционерное общество "Челябинский трубопрокатный завод". Дата публикации: 2014-09-10.

Assembly of cylindrical inserts for large-capacity vessels from semi-blocks and turn-table to this end

Номер патента: RU2547943C1. Автор: Виктор Андреевич Медведев,Валерий Григорьевич Гендельман,Александр Николаевич Пристроев,Игорь Юрьевич Камендо,Александр Семенович Козлов. Владелец: Открытое акционерное общество "Центр технологии судостроения и судоремонта" (ОАО "ЦТСС"). Дата публикации: 2015-04-10.

Method and device for determining error of measuring bridge for large values of direct current

Номер патента: RU2271018C1. Автор: Илья Борисович Болотин,Иль Борисович Болотин,Марк Даниилович Клионский,Ирина Алексеевна Пузырева. Владелец: Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский и проектно-конструкторский институт высоковольтного аппаратостроения" (ОАО "НИВА"). Дата публикации: 2006-02-27.

Method for large-scale production, separation and purification of recombinant human granulocyte colony-stimulating factor

Номер патента: RU2487885C2. Автор: Дмитрий Валентинович Морозов,Татьяна Вениаминовна Черновская,Лев Александрович Денисов,Ольга Владимировна Гончарова,Елена Леонидовна Морозова,Александр Михайлович Чугунов,Юрий Георгиевич Ефанов,Галина Евгеньевна Скатова. Владелец: Зао "Биокад". Дата публикации: 2013-07-20.

Method of control over current of plasma emitter of large area

Номер патента: RU2012945C1. Автор: В.С. Будишевский,В.Я. Мартенс,Н.Г. Ремпе. Владелец: Томский Институт Автоматизированных Систем Управления И Радиоэлектроники. Дата публикации: 1994-05-15.

Real time image rendering for large scenes

Номер патента: WO2024182905A1. Автор: Yun Chen,Raquel Urtasun,Sivabalan Manivasagam,Jingkang Wang,Ze YANG,Jeffrey Liu. Владелец: Waabi Innovation Inc.. Дата публикации: 2024-09-12.

OVER-ACCELERATION AND OVER-SPEED DETECTION AND PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120000729A1. Автор: Marvin Daryl J.,Schienda Greg A.,Terry Harold,Draper James M.,Cooney Anthony,Carballo Jose M.. Владелец: OTIS ELEVATOR COMPANY. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM HAVING INFORMATION PROCESSING PROGRAM STORED THEREIN, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120001944A1. Автор: SAKURAI Masahiro,Machino Taichi,Ikeda Teppei. Владелец: NINTENDO CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING SYSTEM, IMAGE PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002238A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

SIGNAL PROCESSING SYSTEM AND SIGNAL PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002827A1. Автор: . Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING SYSTEM AND STORAGE MEDIUM IN WHICH IMAGE PROCESSING PROGRAM IS STORED

Номер патента: US20120002936A1. Автор: TAKASUGI Atsushi. Владелец: OKI SEMICONDUCTOR CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM HAVING INFORMATION PROCESSING PROGRAM STORED THEREIN, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120004017A1. Автор: . Владелец: NINTENDO CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Pneumatic tire for large-size trucks

Номер патента: RU2320496C1. Автор: Леонид Романович Гальперин,Александр Борисович Ненахов,Роман Александрович Скороход,Сергей Леонидович Соколов,Евгений Павлович Кудрявцев,Николай Дмитриевич Кавторев,Артур Алиевич Будагов,вцев Евгений Павлович Кудр (RU),Николай Дмитриевич Кавторев (RU),Александр Борисович Ненахов (RU),Сергей Леонидович Соколов (RU),Артур Алиевич Будагов (UA),Леонид Романович Гальперин (RU),Роман Александрович Скороход (RU). Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Холдинговая Компания ЛОйл НЕФТЕХИМ". Дата публикации: 2008-03-27.

Deformation prevention component for large reels

Номер патента: CA1262343A. Автор: Edmund Munk,Henner Nulle. Владелец: FORMWOOD Ltd. Дата публикации: 1989-10-17.

METHOD OF ARRANGING PADS IN SEMICONDUCTOR DEVICE, SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE USING THE METHOD, AND PROCESSING SYSTEM HAVING MOUNTED THEREIN THE SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE

Номер патента: US20120002456A1. Автор: OH Chi-sung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Signal processing system

Номер патента: RU2498258C2. Автор: Олег Владимирович Соколов,Владимир Александрович Окладнов,Екатерина Олеговна Киселева. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Государственный научно-исследовательский институт авиационных систем". Дата публикации: 2013-11-10.

System for exploration of oil and gas in complex-structure areas with developed salt-dome tectonics with mapping of roof of salt and subsalt deposits and computer-process system therefor

Номер патента: RU2594112C2. Автор: Анатолий Александрович Громов,Сергей Александрович Чернышов,Наталия Павловна Смилевец,Илья Александрович Мищенко,Александра Ивановна Волгина. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Сервисная Компания "Геовизор". Дата публикации: 2016-08-10.

Method of producing ultra-hydrophobic coatings against icing of large areas

Номер патента: RU2525292C1. Автор: Павел Геннадьевич Филиппов,Сергей Михайлович Алдошин,Виктор Адольфович Бендерский,Ида Павловна Ким. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт проблем химической физики Российской Академии наук (ИПХФ РАН). Дата публикации: 2014-08-10.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.