Apparatus And Method For Improved Darkspace Gap Design In RF Sputtering Chamber
Номер патента: US20150155143A1
Опубликовано: 04-06-2015
Автор(ы): FORSTER John C., TANG XIANMIN
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 04-06-2015
Автор(ы): FORSTER John C., TANG XIANMIN
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Electrode plate supporting device, laser cutting apparatus, and laser cutting method for electrode plate
Номер патента: EP4406691A1. Автор: Yong Wang,Shisong LI,Hongwu SHANG,Kaiwei ZHAO,Yuantian ZHENG. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.