Substrate processing apparatus, substrate processing method, and recording medium
Номер патента: US20240027923A1
Опубликовано: 25-01-2024
Автор(ы): Hisashi Genjima, Shinichiro KAWAKAMI, Tomoya ONITSUKA
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 25-01-2024
Автор(ы): Hisashi Genjima, Shinichiro KAWAKAMI, Tomoya ONITSUKA
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Substrate processing system, liquid amount measuring method, and computer-readable recording medium
Номер патента: US20220171294A1. Автор: Shinichi Hatakeyama,Akihiro TERAMOTO,Yuichiro KUNUGIMOTO,Yuta Nishiyama,Shota Ueyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-06-02.