INTEGRATED PLATFORM FOR TIN PVD AND HIGH-K ALD FOR BEOL MIM CAPACITOR
Номер патента: US20220310776A1
Опубликовано: 29-09-2022
Автор(ы): Chiang Tony P., Nemani Srinivas D., WONG Keith Tatseun, Yieh Ellie
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 29-09-2022
Автор(ы): Chiang Tony P., Nemani Srinivas D., WONG Keith Tatseun, Yieh Ellie
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Transparent and high-k thin film prepared by pulsed laser deposition
Номер патента: US20230420247A1. Автор: Dong Huang,Chi Chung Francis LING. Владелец: University of Hong Kong HKU. Дата публикации: 2023-12-28.