Semiconductor package including underfill material layer and method of forming the same
Номер патента: US11764192B2
Опубликовано: 19-09-2023
Автор(ы): Hyuekjae Lee, Jihwan HWANG, JiHwan SUH, Jiseok Hong, Soyoun LEE, Taehun Kim
Принадлежит: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 19-09-2023
Автор(ы): Hyuekjae Lee, Jihwan HWANG, JiHwan SUH, Jiseok Hong, Soyoun LEE, Taehun Kim
Принадлежит: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Semiconductor package including a surface with a plurality of roughness values and methods of forming the same
Номер патента: US20240071890A1. Автор: Wei-Hung Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.