Monomer for hardmask composition, hardmask composition including said monomer, and method for forming pattern using said hardmask composition
Номер патента: US09671688B2
Опубликовано: 06-06-2017
Автор(ы): Hea-Jung KIM, Seung-Wook Shin, Yoo-Jeong Choi, Youn-Jin Cho, Yun-Jun KIM
Принадлежит: Cheil Industries Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 06-06-2017
Автор(ы): Hea-Jung KIM, Seung-Wook Shin, Yoo-Jeong Choi, Youn-Jin Cho, Yun-Jun KIM
Принадлежит: Cheil Industries Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Active light ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, active light ray-sensitive or radiation-sensitive film, method for forming pattern, and method for producing electronic device
Номер патента: EP4023635A1. Автор: Takamitsu Tomiga,Yasunori Yonekuta,Kohei Higashi,Fumihiro Yoshino,Naoya HATAKEYAMA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-07-06.