Plasma systems and processes with pulsed magnetic field
Номер патента: US20230377853A1
Опубликовано: 23-11-2023
Автор(ы): Alok Ranjan, Mitsunori Ohata, Peter Lowell George Ventzek, Shyam Sridhar, Ya-Ming Chen
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 23-11-2023
Автор(ы): Alok Ranjan, Mitsunori Ohata, Peter Lowell George Ventzek, Shyam Sridhar, Ya-Ming Chen
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Plasma processing system and method of processing substrate
Номер патента: US12020898B2. Автор: Akihiro Yokota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.