Method of determining information about a patterning process, method of reducing error in measurement data, method of calibrating a metrology process, method of selecting metrology targets
Номер патента: US20210255552A1
Опубликовано: 19-08-2021
Автор(ы): Anagnostis Tsiatmas, Gonzalo Roberto SANGUINETTI, Jean-Pierre Agnes Henricus Marie VAESSEN, Joannes Jitse VENSELAAR, Martijn Maria ZAAL, Nicolas Mauricio WEISS, Paul Christiaan Hinnen, Samee Ur REHMAN, Thomai Zacharopoulou
Принадлежит: ASML Netherlands BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 19-08-2021
Автор(ы): Anagnostis Tsiatmas, Gonzalo Roberto SANGUINETTI, Jean-Pierre Agnes Henricus Marie VAESSEN, Joannes Jitse VENSELAAR, Martijn Maria ZAAL, Nicolas Mauricio WEISS, Paul Christiaan Hinnen, Samee Ur REHMAN, Thomai Zacharopoulou
Принадлежит: ASML Netherlands BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of decomposing layout design for preparing photomask set printed onto wafer by photolithography, method of forming photomask set and method of fabricating integrated circuit
Номер патента: US20160132626A1. Автор: Yu-Cheng Tung. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-05-12.