Apparatus and methods for controlling concentration of precursors to processing chamber
Номер патента: US11753715B2
Опубликовано: 12-09-2023
Автор(ы): Kenric Choi, William J. Durand
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 12-09-2023
Автор(ы): Kenric Choi, William J. Durand
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Vaporization apparatus and method for controlling the same
Номер патента: EP2519656A2. Автор: Jong Ha Lee,Kyung Bum Lee,Sung Jae Jung,Doo Won Gong,Whang Sin Cho,Seung Cheol Seo. Владелец: SNU PRECISION CO LTD. Дата публикации: 2012-11-07.