System for controlling radicals using a radical filter
Номер патента: US20210265139A1
Опубликовано: 26-08-2021
Автор(ы): Christopher R. HATEM
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 26-08-2021
Автор(ы): Christopher R. HATEM
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Electron density measurement and plasma process control system using a microwave oscillator locked to an open resonator containing the plasma
Номер патента: EP1212692A4. Автор: Wayne L Johnson,Joseph T Verdeyen,Murray D Sirkis. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2002-11-27.