Substrate processing apparatus and substrate processing method
Номер патента: US20020197746A1
Опубликовано: 26-12-2002
Автор(ы): Akira Miyata, Masataka Matsunaga, Yuichi Douki
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 26-12-2002
Автор(ы): Akira Miyata, Masataka Matsunaga, Yuichi Douki
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Substrate cartridge, substrate processing apparatus, substrate processing system, control apparatus, and method of manufacturing display element
Номер патента: US8801307B2. Автор: Tohru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2014-08-12.