• Главная
  • Substrate processing apparatus and substrate processing method

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Substrate transferring apparatus and high speed substrate processing system using the same

Номер патента: TWI476855B. Автор: Soon-Im Wi. Владелец: Gen Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-11.

Substrate processing apparatus and substrate conveying apparatus for use in the same

Номер патента: US09624046B2. Автор: Ichiro Mitsuyoshi,Ryo Muramoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Substrate transfer device, substrate processing device equipped with it, and substrate transfer method

Номер патента: JP6802726B2. Автор: 丈二 ▲桑▼原. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-16.

Scheduler, substrate processing apparatus, and substrate conveyance method

Номер патента: US20180203434A1. Автор: Takashi Mitsuya,Kunio Oishi,Koji Nonobe,Ryuya KOIZUMI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-07-19.

Scheduler, substrate processing apparatus, and substrate conveyance method

Номер патента: US20210011462A1. Автор: Takashi Mitsuya,Kunio Oishi,Koji Nonobe,Ryuya KOIZUMI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-01-14.

Substrate processing system, aligning apparatus, and substrate shape monitoring method

Номер патента: US20230294932A1. Автор: Kento TOKAIRIN. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Control apparatus, substrate processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US09772624B2. Автор: Takanori Saito,Yuichi Takenaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Substrate processing apparatus and process control method thereof

Номер патента: US20230163003A1. Автор: Young Hwan YANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-25.

Substrate processing apparatus, substrate detection method of substrate processing apparatus and storage medium

Номер патента: US09691646B2. Автор: Kohei Mori,Kento Kurusu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Substrate processing apparatus and method of substrate processing

Номер патента: US20230307261A1. Автор: Kenji Masui,Masatoshi Terayama. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus, polishing head, and substrate processing method

Номер патента: US20210362285A1. Автор: Toshimitsu IGATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-11-25.

Substrate processing apparatus, polishing head, and substrate processing method

Номер патента: US11787006B2. Автор: Toshimitsu IGATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Board processing apparatus, board processing method, and board processing system

Номер патента: US20160161941A1. Автор: Takashi Koshida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Substrate processing system

Номер патента: US20200257269A1. Автор: Masanori Nakayama,Tsukasa Kamakura. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-08-13.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09766617B2. Автор: Keiji Osada,Junichi Ogawa,Youichi Nakayama,Hiroaki DEWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing device

Номер патента: US20190198356A1. Автор: Ayumi Higuchi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-27.

Apparatus and method of substrate processing

Номер патента: KR20230050871A. Автор: 홍윤화. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2023-04-17.

Transfer robot and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: US11769681B2. Автор: Kyung Hee JEON,Dong Sun KO,Hun Hee NA. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Alignment apparatus, substrate processing apparatus, alignment method, and substrate processing method

Номер патента: JP7259476B2. Автор: 秀樹 駒田,孝徳 若林. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-04-18.

Substrate processing apparatus, conveyance mechanism and substrate processing method

Номер патента: WO2022070952A1. Автор: 真士 若林. Владелец: 東京エレクトロン株式会社. Дата публикации: 2022-04-07.

Substrate processing apparatus control method and substrate processing apparatus

Номер патента: JP4342921B2. Автор: 剛秀 山下,真一 篠塚,栄希 和田. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-10-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09870914B2. Автор: Yuki Yoshida,Koji Kagawa,Meitoku Aibara,Hisashi Kawano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12057326B2. Автор: Hiroaki Inadomi,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240339339A1. Автор: Hiroaki Inadomi,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4432335A2. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240312849A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing system

Номер патента: EP4407665A3. Автор: Shinichi Taniguchi,Akihiro Iwasaki,Tsuyoshi Tomita,Kenji Amahisa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-06.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20150243536A1. Автор: Yoshifumi Okada. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US10186418B2. Автор: Yoshifumi Okada. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240201602A1. Автор: Cheng Cheng,HUI Wang,Jun Wang,Jun Wu,Mark Lee,Andrew Jung,Bruce SOHN,Yy KIM. Владелец: Cleanchip Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20190103291A1. Автор: Tooru Nakamura,Kouji Kimoto,Hiroaki Inadomi,Yoshihisa Aoyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-04-04.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20110065288A1. Автор: Toru Harada,Masayoshi Minami. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-03-17.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12080572B2. Автор: Masahiro DOGOME,Masatomo KITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230282453A1. Автор: Hakyoung Kim,Daehyun Lee,Sumin Park,Minyoung HUR. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-09-07.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180096866A1. Автор: Yohei Midorikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-05.

Substrate processing apparatus including improved exhaust structure

Номер патента: US20230407477A1. Автор: wei chen Liao. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-12-21.

Substrate processing apparatus including gas diffusion nozzle

Номер патента: US20230383410A1. Автор: Daiki Nojiri. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-11-30.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE DETECTION METHOD OF SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20150318194A1. Автор: MORI Kohei,KURUSU Kento. Владелец: . Дата публикации: 2015-11-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND PROGRAM FOR SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20190333737A1. Автор: Hayashi Daisuke,MINAMI Masakazu. Владелец: HORIBA STEC, CO., LTD.. Дата публикации: 2019-10-31.

ETCHING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, ETCHING METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20180076056A1. Автор: Tanaka Yuji,HARUMOTO Masahiko,ASAI Masaya,KANEYAMA Koji. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-15.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, MIXING METHOD, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20220139734A1. Автор: YOSHIDA Hiroshi,Ogura Kouji,NONAKA Jun,INADA Takao,NISHIWAKI Yoshinori. Владелец: . Дата публикации: 2022-05-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, MIXING METHOD, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20200294823A1. Автор: YOSHIDA Hiroshi,Ogura Kouji,NONAKA Jun,INADA Takao,NISHIWAKI Yoshinori. Владелец: . Дата публикации: 2020-09-17.

SUBSTRATE HOLDING AND ROTATING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE EQUIPPED WITH SAME, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20160096205A1. Автор: Kato Hiroshi. Владелец: . Дата публикации: 2016-04-07.

Damaged substrate handling apparatus and method for substrate processing systems

Номер патента: US20120136476A1. Автор: Andrea BACCINI,Marco Galiazzo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2012-05-31.

SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND COMPONENT INSPECTION METHOD FOR SUBSTRATE PROCESSING DEVICE

Номер патента: US20200234985A1. Автор: HASHIZUME Akio. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-23.

Substrate heating apparatus and multi-chamber substrate processing system

Номер патента: TWI288947B. Автор: Masahito Ishihara. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 2007-10-21.

Damaged substrate handling apparatus and method for substrate processing systems

Номер патента: TW201104910A. Автор: Andrea BACCINI,Marco Galiazzo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-02-01.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: EP4404242A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake,Yuta Mitsuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-24.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240299971A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4447096A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234173A1. Автор: Hiroki Koyama. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09972515B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09640382B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi,Toru Endo,Hirofumi MASUHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09859136B2. Автор: Yoshifumi Amano,Yoichi Tokunaga,Hiromitsu Namba,. Fitrianto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09472441B2. Автор: Takahiro Ogawa,Hisajiro NAKANO. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Substrate processing apparatus and method thereof

Номер патента: US20240326406A1. Автор: Seong Soo JEONG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09795999B2. Автор: Takashi Ootagaki,Konosuke Hayashi,Yosuke Himori. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09768042B2. Автор: Ayumi Higuchi,Asuka WAKITA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Liquid processing apparatus and liquid processing method

Номер патента: US20180032092A1. Автор: Hiroshi Komiya,Keigo Satake,Kouji Ogura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-01.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20190206695A1. Автор: Kazuya Koyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-07-04.

Substrate processing apparatus, operating method thereof, and photo spinner equipment

Номер патента: US20240178011A1. Автор: Ho Jin Jang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Liquid treatment method, substrate processing apparatus and non-transitory storage medium

Номер патента: US09766543B2. Автор: Izumi Hasegawa,Yuichiro KUNUGIMOTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240249964A1. Автор: Seiji Nakashima,Shinsuke TAKAKI,Akihiro TERAMOTO,Ryo SHOBU. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240128111A1. Автор: Tae Yong Kim,Byungin AN. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09449857B2. Автор: Hiroaki Inadomi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240231232A1. Автор: Tsuyoshi Watanabe,Yoji SAKATA,Masashi Tsuchiyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US09601357B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Mitsukazu Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240242977A1. Автор: Mikio Nakashima,Takahiro Hayashida,Shota Umezaki,Takafumi YASUNAGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230101475A1. Автор: Hiroki Tajiri,Masayuki ORISAKA,Takashi Izuta. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing apparatus, method of operating substrate processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US09696262B2. Автор: Katsuhiro Morikawa,Ikuo Sunaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Substrate processing system

Номер патента: EP4407665A2. Автор: Shinichi Taniguchi,Akihiro Iwasaki,Tsuyoshi Tomita,Kenji Amahisa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.

Substrate processing apparatus and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US09530677B2. Автор: Akinori Tanaka,Daisuke Hara,Takatomo Yamaguchi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-12-27.

Substrate processing system

Номер патента: US20240258147A1. Автор: Shinichi Taniguchi,Akihiro Iwasaki,Tsuyoshi Tomita,Kenji Amahisa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09666464B2. Автор: Hiroshi Kikuchi,Naoto Saito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Batch-type vertical substrate processing apparatus and substrate holder

Номер патента: US09613838B2. Автор: Mitsuhiro Okada,Kazuhide Hasebe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20120160805A1. Автор: Mitsuo Suzuki,Kiyoshi Ehara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2012-06-28.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US09396978B2. Автор: Takeshi Matsumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-07-19.

Substrate processing apparatus and maintenance method thereof

Номер патента: US09613837B2. Автор: Ken Horiuchi,Koji Ando,Shigeru Senzaki,Michishige Saito,Shingo Koiwa,Daiki Satoh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US09978619B2. Автор: Naoki Tajima,Koji Motoi,Terutaka YAMAOKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230207376A1. Автор: Kiyoshi Mori,Haruhiko Furuya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing apparatus and control position setting method

Номер патента: US20240297061A1. Автор: Hiroyuki Wada,Gaku Watanabe,Ryoya TOMINAGA,Akashi FUJIO,Masami DODO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12116666B2. Автор: Takeshi Ito,Tomoshi Taniyama,Daigi KAMIMURA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-15.

Substrate processing method for transferring a substrate

Номер патента: US09643220B2. Автор: Hiroshi Kato. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09330950B2. Автор: Shinji Wakabayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US10186422B2. Автор: Keiji Osada,Daisuke Morisawa,Naohide Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-01-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230253221A1. Автор: Kaoru Sato,Hiromi Nitadori,Kiyohiko Gokon,Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230253230A1. Автор: Kaoru Sato,Hiromi Nitadori,Kiyohiko Gokon,Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate processing method

Номер патента: SG177250A1. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii,Hideto Nagashima. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-02-28.

Substrate processing method

Номер патента: US20240234189A1. Автор: Tomohiro Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20070065760A1. Автор: Yoshitake Ito. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-03-22.

Substrate Treating Apparatus And Substrate Treating Method

Номер патента: US20130199578A1. Автор: Hiroyuki Araki,Kentaro Tokuri. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2013-08-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240100647A1. Автор: Boun Yoon,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240301555A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4456119A1. Автор: Ju Young Park,So Jin Jeong,Seong Min Nam,Da In Kim. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-10-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09449807B2. Автор: Toshimitsu Namba. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12033872B2. Автор: Hiroshi Yoshida,Takashi Nagai,Koji Ogura,Takumi Honda,Jun Nonaka,Keita Hirase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230311170A1. Автор: Toru Hirata,Yoshinori Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240240321A1. Автор: Jin An JUNG,Da Un Jung,In Woo BACK. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240274451A1. Автор: Masanobu Sato,Hiroshi Horiguchi,Saki Miyagawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234100A9. Автор: Je Ho Kim,Tae Suk Jung. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12020936B2. Автор: Takeshi Tamura,Hirotoshi Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20130084709A1. Автор: Masahiro Miyagi,Kazunori Fujikawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-04-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230241636A1. Автор: Yoko TAKAKITA. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240332041A1. Автор: Yoshifumi Amano,Kazuhiro Aiura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09997382B2. Автор: Kenji Kobayashi,Kazuhide Saito,Kenji Izumoto,Akihisa Iwasaki,Takemitsu Miura. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230307262A1. Автор: Koichi Higuchi,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12094694B2. Автор: Sumi Tanaka,Tamihiro Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180185885A1. Автор: Akio Hashizume,Junichi Ishii,Takayuki Nishida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12036662B2. Автор: Yoshifumi Okada,Tomoyuki Shinohara,Nobuaki Okita. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240282598A1. Автор: Hiroshi Marumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210237221A1. Автор: Hozumi Yasuda,Nobuyuki Takada. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-08-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240178047A1. Автор: Yungi Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230084826A1. Автор: Jung Hwan Lee,Young Jun Kim,Sung Ho ROH,Cheong Hwan Jeong,Tae Dong Kim. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09728443B2. Автор: Kenji Kobayashi,Manabu Okutani,Naohiko YOSHIHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09721815B2. Автор: Hiroaki Takahashi,Kentaro Tokuri. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12044973B2. Автор: Hiroki Sakurai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220334491A1. Автор: Hiroki Sakurai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09966282B2. Автор: Kunihiro Miyazaki,Kenji Minami,Yuji Nagashima,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230257877A1. Автор: Yasushi Takeuchi,Manabu Honma,Junnosuke Taguchi,Ibuki HAYASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20170278726A1. Автор: Katsuhiko Miya. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12076820B2. Автор: Hirotoshi Mori,Hayato TANOUE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and computer-readable medium storing program

Номер патента: US09859109B2. Автор: Hideaki Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Substrate processing apparatus and method thereof

Номер патента: US20240210836A1. Автор: Young Seop CHOI,Joo Sung Lee,Bok Kyu Lee,Je Myung Cha,Myung A Jeon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20240253093A1. Автор: Koji Ando,Noritake SUMI,Tomohiro Motono. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20090192652A1. Автор: Tomoyuki Yamada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2009-07-30.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: US20240213059A1. Автор: Gyeong Won SONG,Hee Man AHN,Sung Hun Eom,Jae Seung YU. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus and manufacturing method of substrate holding unit

Номер патента: US20180342479A1. Автор: Takashi Terada,Yoshitaka Otsuka,Munehisa Kodama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-11-29.

Substrate processing apparatus and manufacturing method of substrate holding unit

Номер патента: US10833045B2. Автор: Takashi Terada,Yoshitaka Otsuka,Munehisa Kodama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-11-10.

Substrate processing apparatus and methods

Номер патента: US09972511B2. Автор: Takashi KURATOMI,Brent Biggs. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and substrate

Номер патента: US20240162052A1. Автор: Nobuhiko MOURI,Takanori Obaru. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate processing apparatus and method of cleaning the same

Номер патента: US20190055647A1. Автор: Kook Tae Kim,Bongjin Kuh,In-Sun Yi,Soojin HONG,Sukjin CHUNG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-02-21.

Substrate processing apparatus and method of processing substrate

Номер патента: US20190091733A1. Автор: Michinori IWAO. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-28.

Substrate processing apparatus and apparatus cleaning method

Номер патента: US12087599B2. Автор: Osamu Kuroda,Hidemasa ARATAKE,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing apparatus and method of driving relay member

Номер патента: US20220037125A1. Автор: Shin Matsuura,Nobutaka Sasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-02-03.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09970112B2. Автор: Kenichi Suzaki,Yasunobu Koshi,Akihito Yoshino. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US9337070B2. Автор: Hideaki Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-10.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240304452A1. Автор: Hiroshi Marumoto,Tsunemoto OGATA,Suguen Lee. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240312800A1. Автор: Hakuba KITAGAWA. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and recording medium

Номер патента: US09852933B2. Автор: Norihiro Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Substrate processing apparatus and method of manufacture using the same

Номер патента: US20180114714A1. Автор: Taewoo Kang,Byung Lyul Park,Kyoung Hwan Kim,Hyungjun Jeon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-04-26.

Substrate processing apparatus and shutter

Номер патента: US20240128058A1. Автор: Takashi Aramaki,Atsushi Ogata,Gyeong Min Park,Lifu Li,Kojiro MATSUZAKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Substrate Processing Apparatus and Substrate Rotating Device

Номер патента: US20080042328A1. Автор: Sumi Tanaka,Kouki Suzuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-02-21.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240321650A1. Автор: Yuji Otsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12033864B2. Автор: Hiromi Miyashita,Rei Shoji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20190153602A1. Автор: Shinichiro Misaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-05-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180197748A1. Автор: Kazuaki Nishimura,Koji Takeya,Jun Lin. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-07-12.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US09790597B2. Автор: Kenichi Yamaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09595433B2. Автор: Hiroaki Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12054828B2. Автор: Kohei Fukushima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4420831A1. Автор: Kenichi Kobayashi,Makoto Kashiwagi,Mao Fujisawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-28.

Ejection inspection apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US09887106B2. Автор: Hiroshi Sano,Itaru Furukawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US09308559B2. Автор: Yoshifumi Amano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-04-12.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and program

Номер патента: US9153430B2. Автор: Jie Wang,Takaaki Noda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2015-10-06.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09865452B2. Автор: Keisuke Egashira,Kouzou Tachibana,Kotaro Oishi,Hideaki Udou. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09852931B2. Автор: Masanobu Sato,Masahiro Miyagi,Hiroyuki Araki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09703199B2. Автор: Takashi Taguchi,Toru Asano,Tsuyoshi Mitsuhashi,Yukio Toriyama. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-11.

Substrate processing apparatus and abnormality detection method

Номер патента: US20220285197A1. Автор: Yasuhiko Kojima,Tetsuya Miyashita,Einstein Noel Abarra,Hiroaki Chihaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Inner wall and substrate processing apparatus

Номер патента: US12040198B2. Автор: Atsushi Tanaka,Hiroyuki Ogawa,Yuji Asakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Inner Wall and substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20240321602A1. Автор: Atsushi Tanaka,Hiroyuki Ogawa,Yuji Asakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and memory medium

Номер патента: US09601394B2. Автор: Teruhiko Kodama,Masashi Enomoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Substrate processing apparatus and abnormality detection method

Номер патента: US20220285182A1. Автор: Yasuhiko Kojima,Tetsuya Miyashita,Einstein Noel Abarra,Hiroaki Chihaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12080526B2. Автор: Do Hyung Kim,Young Woon Kim,Woong Kyo Oh,Kwang Su YOO,Yun Gyu HA. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Cooled pin lifter paddle for semiconductor substrate processing apparatus

Номер патента: US09859145B2. Автор: Andreas Fischer,Dean Larson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09630296B2. Автор: Tomoatsu Ishibashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-04-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240213077A1. Автор: Woojin Chung,Kyungmo Kim,Jeongcheol LEE,Jungheum NAM,Myunggeun MIN. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing system and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240112933A1. Автор: Bongcheol Kim,Jeonghee Choi,Hyungwan Do. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20190057890A1. Автор: Yoshitomo Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-02-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09687887B2. Автор: Atsuyasu Miura. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09373528B2. Автор: Mitsunori Komatsu,Toru Maruyama. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-06-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US11742223B2. Автор: Yuji Kimura,Yoshihiro Kai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-29.

Upper electrode unit and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240297023A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Seong Min Nam. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-09-05.

Upper electrode unit and substrate processing apparatus comprising same

Номер патента: EP4428897A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Seong Min Nam. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-09-11.

Method of processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US09530657B2. Автор: Masahiro Ogasawara,Rui Takahashi,Masafumi Urakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Substrate processing apparatus and heating equipment

Номер патента: US09460946B2. Автор: Hitoshi Murata,Tetsuya Kosugi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-10-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20090178762A1. Автор: Hironobu Shimizu,Nobuo Ishimaru. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2009-07-16.

Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20170062245A1. Автор: Sang-Dong Kwon,Sang-Rok Oh,Jong-Woo Sun,Kwang-Nam Kim,Jung-pyo HONG,Yong-Moon Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-03-02.

Substrate lift mechanism and substrate processing apparatus including same

Номер патента: US20220415701A1. Автор: Kazuhiro Nishiwaki. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-12-29.

Substrate processing apparatus, bevel cover, and substrate processing method

Номер патента: CN112928011A. Автор: 石川大,高桥祐树. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2021-06-08.

Injector and substrate processing appartatus using the same, and substrate processing method

Номер патента: US20200102652A1. Автор: Tomoyuki NAGATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Injector and substrate processing appartatus using the same, and substrate processing method

Номер патента: US20200102652A1. Автор: Tomoyuki NAGATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Pumping apparatus and method for substrate processing chamber

Номер патента: CN113169101B. Автор: K·高希,D·伯拉尼克,A·K·班塞尔,T·A·恩古耶. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-09-30.

Apparatus and method for substrate processing

Номер патента: EP0688888B1. Автор: Lawrence Chung-Lai Lei,Ashok K. Sinha,Eric A. Englhardt,Cissy S. Leung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-09-18.

Substrate processing device, substrate transfer device, and substrate replacement method

Номер патента: JP2598353B2. Автор: 信行 高橋,実 並木. Владелец: アネルバ株式会社. Дата публикации: 1997-04-09.

Substrate processing system, management apparatus, and display method

Номер патента: JP6204344B2. Автор: 一良 山本. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-09-27.

Processing substrate apparatus and method

Номер патента: US20240165758A1. Автор: Seong Soo Lee,Jeong Yeong PARK. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Processing system, processing method, measurement apparatus, substrate processing apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US12140878B2. Автор: Shinichi Egashira. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-11-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09490151B2. Автор: Hiroyuki Takahashi,Satoshi TODA,Yuji Asakawa,Yohei Midorikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

Substrate processing apparatus, information processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20210020487A1. Автор: Yuichi Takenaga,Youngtai KANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-01-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220152780A1. Автор: Junichi Kitano,Yuichi Douki,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-19.

Electrostatic chuck, vacuum processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US12014946B2. Автор: Genji Sakata,Hidekazu Yokoo. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20200126822A1. Автор: Hitoshi Nakai,Manabu Okutani,Yasunori KANEMATSU. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240274450A1. Автор: Masanobu Sato,Hiroshi Horiguchi,Saki Miyagawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200105574A1. Автор: Satoshi Morita,Katsuhiro Morikawa,Masami Akimoto,Kouichi Mizunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200083064A1. Автор: Nobuhiko MOURI,Kento Kurusu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-03-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11482428B2. Автор: Nobuhiko MOURI,Kento Kurusu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09576808B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi,Toru Endo,Hirofumi MASUHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240157408A1. Автор: Jiro Higashijima,Yusuke Hashimoto,Daisuke Goto,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230207344A1. Автор: Seiji Nakano,Tokutarou Hayashi,Yohei Yamawaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Control method of substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240153748A1. Автор: Morihito Inagaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11735457B2. Автор: Hozumi Yasuda,Nobuyuki Takada. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-08-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09964358B2. Автор: Takashi Miyamoto,Osamu Yamazaki,Konosuke Hayashi,Jun Matsushita. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Substrate processing apparatus and method of cleaning substrate processing apparatus

Номер патента: US12046485B2. Автор: Shusei TAKEBAYASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Gas injection apparatus and substrate processing apparatus using same

Номер патента: US09732424B2. Автор: Jung-Hwan Lee,Woo-young Park,Tae-Ho Hahm. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Substrate processing apparatus and method of detecting indentation formed in substrate

Номер патента: SG10201806154TA. Автор: Takahashi Nobuyuki,Wen Zhongxin,Sakugawa Suguru. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-02-27.

Substrate processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220068658A1. Автор: Yasutaka HAMA,Shu Kino,Motoki NORO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09815093B2. Автор: Takayoshi Tanaka. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing apparatus, processing apparatus, and method for manufacturing device

Номер патента: US09651868B2. Автор: Masaki Kato,Tohru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Apparatus and method for processing substrate

Номер патента: US20220206399A1. Автор: Sun Mi Kim,Oh Jin Kwon,Ji Su Hong. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-30.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20190393031A1. Автор: Toru Hisamatsu,Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-26.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230395390A1. Автор: Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240355669A1. Автор: Yasutaka Mizomoto,Yohei Yamashita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: WO2022238622A1. Автор: Tom Blomberg,Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2022-11-17.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: EP4338191A1. Автор: Tom Blomberg,Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2024-03-20.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US10867817B2. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-15.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20180218929A1. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-08-02.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20200168487A1. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-28.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US10615062B2. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-07.

Substrate processing apparatus, alignment device, substrate processing method and alignment method

Номер патента: US20190049865A1. Автор: Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-14.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09929008B2. Автор: Yu Sasaki,Kosuke Takahashi,Masahiko Kaminishi,Yu WAMURA,Fumiaki Hayase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Substrate processing apparatus and monitoring method

Номер патента: US11765879B2. Автор: Junnosuke Taguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240242972A1. Автор: Kei Suzuki,Masaki Inaba. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Plasma processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230402256A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Jun Sato,Takashi Chiba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: FI20205023A1. Автор: Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2021-07-11.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: CA3165295A1. Автор: Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2021-07-15.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: EP4087955A1. Автор: Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2022-11-16.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: WO2021140270A1. Автор: Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2021-07-15.

Substrate processing apparatus and method of fabricating the same

Номер патента: US20230323558A1. Автор: Shinya Ueda,SungHoon Jun,Byeongpil Park. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-10-12.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09555437B2. Автор: Hitoshi Nakai,Yasuhiko Ohashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09816183B2. Автор: HIROSHI Ashihara,Motoshi Sawada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240269862A1. Автор: Takayuki Hatanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing method

Номер патента: US09477162B2. Автор: Tetsuya Hamada,Shuichi Yasuda,Tadashi Miyagi,Koji Kaneyama,Kazuhito Shigemori,Masashi Kanaoka. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-25.

Substrate processing method including reprocessing rejected wafers

Номер патента: US09847263B2. Автор: Tsuneo Torikoshi,Hirofumi OTAKI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-12-19.

Component of substrate processing apparatus and method for forming a film thereon

Номер патента: US09828690B2. Автор: Koji Mitsuhashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180305816A1. Автор: Akira Takahashi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-10-25.

Substrate processing device, polishing device, and substrate processing method

Номер патента: US20240139782A1. Автор: Kohei Sato,Hiroki Takahashi,Koichi Fukaya,Daichi Kondo. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Substrate processing system, gas supply unit, method of substrate processing, computer program, and storage medium

Номер патента: US09466506B2. Автор: Noriiki Masuda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-11.

Plasma Processing Method and Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20230420223A1. Автор: Soya Todo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Substrate processing apparatus, storage medium and substrate processing method

Номер патента: US20190013181A1. Автор: Kazuhiro Nishiwaki. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2019-01-10.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, BEVEL MASK AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20210175052A1. Автор: Takahashi Yuki,ISHIKAWA Dai. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-10.

Nozzle, substrate processing apparatus including same, and substrate processing method

Номер патента: KR102404528B1. Автор: 김선미,권오진,최세형. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2022-06-02.

Substrate processing device, semiconductor manufacturing device, and substrate processing method

Номер патента: WO2020174874A1. Автор: 及川 文利. Владелец: 株式会社荏原製作所. Дата публикации: 2020-09-03.

Processing apparatus with an invertible collimator and a processing method therefor

Номер патента: US5584973A. Автор: Hiroshi Kobayashi,Yuichi Wada,Jiro Katsuki. Владелец: Tel Varian Ltd. Дата публикации: 1996-12-17.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: EP3904979A2. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-11-03.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20210333722A1. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-10-28.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20230161270A1. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-05-25.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: EP3904979A3. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-01-12.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20240288780A1. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing system and its control method

Номер патента: US20240055283A1. Автор: Kenji Ikeda,Tasuku Suzuki,Nobuyuki Kawabata,Jun Kitagawa,Masato Anzai,Taichi YOSHIOKA. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-02-15.

Substrate processing system and group management device

Номер патента: US20230101147A1. Автор: Ryuichi Kimura,Hiroakira MATSUI,Naruhisa MIYAZAKI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing apparatus, storage medium, and substrate processing method

Номер патента: CN110634758A. Автор: 村松大輔,和田隆,野口哲,安達渉. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2019-12-31.

Substrate processing apparatus, storage medium and substrate processing method

Номер патента: US11685998B2. Автор: Takashi Wada,Wataru Adachi,Satoru Noguchi,Daisuke Muramatsu. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-06-27.

Substrate processing system, inspection apparatus and inspection method

Номер патента: TW200949237A. Автор: Kazutaka Taniguchi,Akio Sanda,Kichiji Azai. Владелец: Dainippon Screen Mfg. Дата публикации: 2009-12-01.

Substrate processing method and control apparatus

Номер патента: US09798317B2. Автор: Katsuhiko Komori,Yuichi Takenaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20130340796A1. Автор: Itaru Kanno,Norihiro Ito,Yosuke Hachiya,Kotaro Ooishi,Hisashi Kawano,Jun Nogami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-12-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240189856A1. Автор: Koichi Matsunaga,Teruhiko Kodama,Hideaki Iwasaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234170A9. Автор: Kenji Fukushima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180033618A1. Автор: Kazuo Yabe,Jun Ogawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210159095A1. Автор: Masami Yamashita,Gentaro Goshi,Toru Ihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230207339A1. Автор: Kohei Sato,Hiroki Takahashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09865454B2. Автор: Hitoshi Kato,Jun Sato,Masato Yonezawa,Hiroyuki Kikuchi,Shigehiro Miura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220134375A1. Автор: Tomohiro Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12027393B2. Автор: Takuya Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210335636A1. Автор: Takuya Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-10-28.

Substrate processing method, substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20240288775A1. Автор: Soichiro Okada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240014011A1. Автор: Hyun Kim,Kang Hee KIM,Yong Taek Eom. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09818600B2. Автор: Takayuki Sato. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240261932A1. Автор: Yuichi Sato,Kohei Ohshima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-08.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: EP4428898A2. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09805938B2. Автор: Naozumi Fujiwara,Yuji Sugahara,Toru EDO,Seiji Ano,Jun SAWASHIMA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09583360B2. Автор: Akio Ui,Hisataka Hayashi,Keisuke Kikutani. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Precoat method for substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240191349A1. Автор: Atsushi Tanaka,Taichi Monden. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220189779A1. Автор: Tsuyoshi Takahashi,Yu Nunoshige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-06-16.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230057538A1. Автор: Chul-Joo Hwang,Duck Ho Kim,Il Hyong CHO. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-23.

Substrate processing apparatus and semiconductor device producing method

Номер патента: US8901011B2. Автор: Masanori Sakai,Tomohiro Yoshimura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2014-12-02.

Substrate processing apparatus and semiconductor device producing method

Номер патента: US20110212626A1. Автор: Masanori Sakai,Tomohiro Yoshimura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-09-01.

Substrate Processing Apparatus and Semiconductor Device Producing Method

Номер патента: US20080153309A1. Автор: Masanori Sakai,Tomohiro Yoshimura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2008-06-26.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US09748077B2. Автор: Sang Don Lee,Jeung Hoon Han,Seung Hoon Seo,Chul Joo Hwang. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-29.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220285166A1. Автор: Takumi Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Substrate Processing Apparatus and Method of Manufacturing Semiconductor Device

Номер патента: US20220145464A1. Автор: Shuhei SAIDO,Hiroaki Hiramatsu,Takuro Ushida. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-05-12.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220251709A1. Автор: Takafumi Niwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-11.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20200144052A1. Автор: Gentaro Goshi,Keisuke Egashira. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-07.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium

Номер патента: US20190139791A1. Автор: Hiromi Kiyose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-05-09.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12065746B2. Автор: Masaki Inaba,Yasutoshi Okuno,Akihisa Iwasaki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate processing apparatus including nozzle unit and substrate processing method

Номер патента: US20240091819A1. Автор: Hyeon Jun Lee,So Young PARK,Ju Hwan Lee,Myung A Jeon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20070277856A1. Автор: Akio Hashizume. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-12-06.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20040060574A1. Автор: Kiyofumi Sakaguchi,Hiroshi Watanabe,Shigeru Kido,Tamotsu Mezaki. Владелец: CHEMICAL ART Tech Inc. Дата публикации: 2004-04-01.

Method of manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US09966268B2. Автор: Arito Ogawa,Atsuro Seino. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-08.

Method for cleaning chamber or component, substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: EP4383314A1. Автор: Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-12.

Substrate processing apparatus and method of processing substrate

Номер патента: US11733612B2. Автор: Kazuya Iwata,Norihisa Koga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220384151A1. Автор: Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240290609A1. Автор: Tadahiro Ishizaka,Takashi Sakuma,Yoshiyuki Hanada,Kunihiro Tada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing apparatus and processing liquid supply method

Номер патента: US20180090306A1. Автор: Jiro Higashijima,Yusuke Hashimoto,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-29.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20210063882A1. Автор: Keiichi Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Apparatus and method for processing substrate using supercritical fluid

Номер патента: US20240186135A1. Автор: Thomas Jongwan Kwon,Hae Won Choi,Chengyeh Hsu. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Prediction method and apparatus for substrate processing apparatus

Номер патента: US20070215574A1. Автор: Hideki Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-09-20.

Method for processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US09768012B2. Автор: Masanori Sakai,Tsutomu Kato,Yuji Takebayashi,Hirohisa Yamazaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20210063883A1. Автор: Keiichi Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12054824B2. Автор: Nobuhiro Takahashi,Kiyotaka Horikawa,Junichiro Matsunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09970109B2. Автор: Jun Yoshikawa,Motoshi Fukudome. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus and method of processing substrate

Номер патента: US11761084B2. Автор: Hiroki ARAI,Yukihiro Mori,Yuya Nonaka. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-09-19.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180195178A1. Автор: Masayuki Otsuji. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-12.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12094732B2. Автор: Takashi Katayama,Keisuke Miyajima,Keiji Magara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus including processing unit

Номер патента: US09869019B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Substrate-processing method and substrate-processing apparatus

Номер патента: US20240234162A9. Автор: Rui KANEMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240274433A1. Автор: Takayuki Komiya,Tsuyoshi Tsunatori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing tool with integrated metrology and method of using

Номер патента: US20190295870A1. Автор: Robert Clark,Kandabara Tapily. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-09-26.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US8034720B2. Автор: Eiichi Nishimura,Jun Yamawaku,Chie Kato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-10-11.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240379377A1. Автор: Tadahiro Ishizaka,Hideaki Yamasaki,Shinya Okabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-14.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240071772A1. Автор: Masanobu Honda,Shinya Ishikawa,Kenta Ono. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12125710B2. Автор: Sho Kumakura,Yusuke Takino. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Etching processing method

Номер патента: US20150170933A1. Автор: Shin Okamoto,Fumio Yamazaki,Takashi Nishijima,Hiromasa Mochiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-06-18.

Etching processing method

Номер патента: US09496150B2. Автор: Shin Okamoto,Fumio Yamazaki,Takashi Nishijima,Hiromasa Mochiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230085592A1. Автор: Jong Sik Kim,Ji Hun Lee. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, STORAGE MEDIUM AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20190013181A1. Автор: Nishiwaki Kazuhiro. Владелец: ASM IP HOLDING B.V.. Дата публикации: 2019-01-10.

Substrate processing apparatus for using neutral beam and its processing methods

Номер патента: KR100714898B1. Автор: 황성욱,박성찬. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2007-05-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20140363587A1. Автор: Jeung Hoon Han,Song Whe Huh. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09960073B2. Автор: Jeung Hoon Han,Song Whe Huh. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11587805B2. Автор: Masanobu Watanabe,Katsunori Ichino,Tomoki Okazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-02-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US8883030B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Toru Endo. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4421856A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240286168A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240258107A1. Автор: kana Tahara,Masaki Inaba,Ryo Muramoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12087588B2. Автор: Yoshihiro Kawaguchi,Hirotoshi Mori,Hayato TANOUE,Kazuya HISANO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Support stand apparatus and method for substrate processing

Номер патента: CN114514337A. Автор: 古田学,苏海尔·安瓦尔,兰吉特·英德拉吉特·辛德. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-05-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240361072A1. Автор: Kazuhiro Shoji,Tomohiro Uemura,Shuhei NEMOTO,Ryotaro SHINOHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate processing apparatus and display device using the same

Номер патента: US20180097018A1. Автор: Jeong Kweon Park,Jinwook KWAK,Jangcheol KIM,Ik Hyun KUON,Ju Ik HONG. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-05.

Substrate processing apparatus and display device using the same

Номер патента: US10825837B2. Автор: Jeong Kweon Park,Jinwook KWAK,Jangcheol KIM,Ik Hyun KUON,Ju Ik HONG. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-03.

Semiconductor substrate processing apparatus and the method thereof

Номер патента: US20230203654A1. Автор: Todd Dunn,Taku Omori,Cheuk Li,Aadil Vora,Paridhi GUPTA. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing apparatus and fluid heating device

Номер патента: US20240234172A9. Автор: Takahiro Hayashida,Shigeru Moriyama,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and fluid heating device

Номер патента: US20240136206A1. Автор: Takahiro Hayashida,Shigeru Moriyama,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4394847A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake,Yuta Mitsuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-03.

Substrate processing method, recording medium, and substrate processing apparatus

Номер патента: US12083553B2. Автор: Yusuke MIYAKUBO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

A substrate processing apparatus and a method

Номер патента: EP4402301A1. Автор: Jani KIVIOJA,Tom Blomberg,Juho Poutiainen,Antti KUITUNEN,Heikki Alakoski. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2024-07-24.

A substrate processing apparatus and a method

Номер патента: WO2023041844A1. Автор: Jani KIVIOJA,Tom Blomberg,Juho Poutiainen,Antti KUITUNEN,Heikki Alakoski. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2023-03-23.

Part for substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20210178523A1. Автор: Michishige Saito,Sho Yamahira. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-06-17.

Substrate Processing Apparatus and Furnace Opening Assembly Thereof

Номер патента: US20200187305A1. Автор: Shuhei SAIDO. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-06-11.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230241634A1. Автор: Yuji Okita,Hiroaki Kakuma,Hideji NAOHARA,Tatsuya Masui,Yuichi DEBA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: US20210189560A1. Автор: Marko Pudas,Vaino Kilpi,Timo Malinen. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2021-06-24.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: EP3642386A1. Автор: Marko Pudas,Timo Malinen,V in KILPI. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2020-04-29.

Substrate processing module and laser beam providing method

Номер патента: US20240006167A1. Автор: Yunsang Kim,Kwang Ryul Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20150059645A1. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Toru Endo. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-05.

Substrate processing apparatus, and temperature control method

Номер патента: US11626818B2. Автор: Hideto Saito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-04-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09713822B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Toru Endo. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-25.

Substrate processing apparatus and noise impact reducing method

Номер патента: US20220070977A1. Автор: Kazuhito Yamada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180164702A1. Автор: Naofumi Ohashi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-06-14.

Information processing apparatus, program, information processing system, and information processing method

Номер патента: US09898243B2. Автор: Morio Miki. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Medical image processing apparatus, medical image processing system, medical image processing method, and program

Номер патента: US11991478B2. Автор: Shumpei KAMON. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-05-21.

Data Processing Apparatus, Storage Medium Storing Program, and Data Processing Method

Номер патента: US20180032810A1. Автор: Yuki Oguro. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2018-02-01.

Data processing apparatus, computer readable storage medium, and data processing method

Номер патента: US20230360541A1. Автор: Eiji Nakazawa. Владелец: SoftBank Corp. Дата публикации: 2023-11-09.

Information processing apparatus, movable body control system, and information processing method

Номер патента: US20240147087A1. Автор: Makoto Oigawa,Kazuya Nobayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Substrate Processing Apparatus and Substrate Processing Method

Номер патента: US20180037995A1. Автор: Takayuki Karakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using same

Номер патента: US09564287B2. Автор: Jun Abe,Takeshi Ohse,Norikazu Yamada,Shinji Himori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-07.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240282557A1. Автор: Jinuk Park,Euijin Park,Dongyup Choo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Module for measuring current/voltage/power of plasma apparatus and plasma apparatus including the same

Номер патента: US20240266156A1. Автор: Jongsik Kim. Владелец: KOREA INSTITUTE OF FUSION ENERGY. Дата публикации: 2024-08-08.

Module for measuring current/voltage/power of plasma apparatus and plasma apparatus including the same

Номер патента: EP4411785A1. Автор: Jongsik Kim. Владелец: KOREA INSTITUTE OF FUSION ENERGY. Дата публикации: 2024-08-07.

Substrate processing apparatus and method for processing substrate

Номер патента: US20230245858A1. Автор: Hitoshi Kato,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate Processing Apparatus, Method of Manufacturing Semiconductor Device and Substrate Processing Method

Номер патента: US20220090260A1. Автор: Hirohisa Yamazaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-03-24.

Substrate processing apparatus and substrate support

Номер патента: US20240258083A1. Автор: Makoto Kato,Ryoma Muto,Kaisei SUGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Plasma processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US9237638B2. Автор: Osamu Morita,Kiyotaka Ishibashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-01-12.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: US12112927B2. Автор: Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2024-10-08.

Substrate processing method and apparatus

Номер патента: US11189461B2. Автор: Yoshinori Yamamoto,Naoki Takahashi,Hideomi Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-11-30.

Substrate processing method and apparatus

Номер патента: US20200294767A1. Автор: Yoshinori Yamamoto,Naoki Takahashi,Hideomi Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-09-17.

Mobile storage device, apparatus and data encryption and decryption processing method

Номер патента: CN110912677A. Автор: 曾德智,徐华军,张俏鹏,朱海钫. Владелец: Zhuhai Jieli Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-24.

Information processing apparatus, display control method, program, substrate processing system, and method for manufacturing article

Номер патента: EP3940466A3. Автор: Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-04-20.

Information processing apparatus, non-transitory storage medium, and information processing method

Номер патента: US20210158255A1. Автор: Daiki KANEICHI. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2021-05-27.

Image processing apparatus and method for correcting image based on edge detection

Номер патента: US09699358B2. Автор: Yun-Tae Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-07-04.

SUBSTRATE-PROCESSING SYSTEM AND METHOD OF AGING A SUBSTRATE-PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20160128203A1. Автор: Lim Sung Min. Владелец: . Дата публикации: 2016-05-05.

Storage medium, information processing apparatus, and line-of-sight information processing method

Номер патента: US20210081697A1. Автор: Kiyonori Morioka,Shanshan Yu. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2021-03-18.

Information processing apparatus, network node, and information processing method

Номер патента: US09912508B2. Автор: Lei Wang,YE Wu,Deli Qiao. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-06.

Image processing apparatus, image capturing apparatus, lens apparatus, image processing method, and program

Номер патента: EP3236651B1. Автор: Yoshiaki Ida,Shigenobu Sugita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-06-10.

Cho resource processing method, apparatus and system

Номер патента: US20220264390A1. Автор: LI YANG,Zijiang Ma,Yin Gao. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2022-08-18.

CHO resource processing method, apparatus and system

Номер патента: US12126990B2. Автор: LI YANG,Zijiang Ma,Yin Gao. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2024-10-22.

Image processing apparatus for time-lapse moving image, image processing method, and storage medium

Номер патента: US09489979B2. Автор: Nobuyoshi NISHIZAKA. Владелец: Casio Computer Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

Information processing device, information processing system, information processing method, and program

Номер патента: EP3833044A1. Автор: Yuhki Mitsufuji,Keiichi Osako. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2021-06-09.

Information processing apparatus and method of detecting malfunction in data communication

Номер патента: US11909925B2. Автор: Ryuuichi Satoh,Nobuyuki Nitta. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Image processing apparatus, computer-readable recording medium, and image processing method

Номер патента: US09417712B2. Автор: Takahiro Yagishita. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-16.

Information processing device, information processing system, information processing method, and program

Номер патента: US7873037B2. Автор: Hajime Maekawa,Kunio Gobara. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2011-01-18.

information processing apparatus and method, server apparatus, server processing method, and, program

Номер патента: BR112014014585A2. Автор: KITAZATO Naohisa,Kitahara Jun. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2017-06-13.

SIGNAL PROCESSING APPARATUS, IMAGE CAPTURING APPARATUS, CONTROL APPARATUS, SIGNAL PROCESSING METHOD, AND CONTROL METHOD

Номер патента: US20170257591A1. Автор: Kobuse Takenori. Владелец: . Дата публикации: 2017-09-07.

Medical image processing apparatus, medical image processing system, medical image processing method, and program

Номер патента: US20240205374A1. Автор: Shumpei KAMON. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Image processing apparatus, imaging apparatus, moveable body, and image processing method

Номер патента: US20220024452A1. Автор: Yoshitake OHWADA,Hisanori Fukushima,Ryosuke MOTEKI. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2022-01-27.

Image processing apparatus, multi-lens image capture apparatus, image processing method and program

Номер патента: US20140104382A1. Автор: Koji Mori. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-04-17.

STORAGE MEDIUM, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND LINE-OF-SIGHT INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20210081697A1. Автор: MORIOKA Kiyonori,YU Shanshan. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2021-03-18.

Out-of-head localization processing apparatus and out-of-head localization processing method

Номер патента: US20180206058A1. Автор: Masaya Konishi,Hisako Murata,Yumi Fujii. Владелец: JVCKenwood Corp. Дата публикации: 2018-07-19.

SIGNAL PROCESSING APPARATUS, APPARATUS AND METHOD FOR MONITORING CHANNEL SPACING AND SYSTEM

Номер патента: US20170310440A1. Автор: Tao Zhenning,DOU Liang,ZHAO Ying,Li Huihui. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2017-10-26.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, IMAGE CAPTURING APPARATUS, MOBILE BODY, IMAGE PROCESSING METHOD, AND PROGRAM

Номер патента: US20200412945A1. Автор: Shao Ming. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-31.

Image processing apparatus, imaging apparatus, image processing system, image processing method, and image processing program

Номер патента: JP6468791B2. Автор: 法人 日浅. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-02-13.

Image processing apparatus, imaging apparatus including the same, image processing method, and image processing program

Номер патента: JP6460653B2. Автор: 淳郎 岡澤. Владелец: Olympus Corp. Дата публикации: 2019-01-30.

Image processing apparatus, imaging apparatus, imaging system, and data processing method

Номер патента: JP5803402B2. Автор: 祐司 渡会. Владелец: Socionext Inc. Дата публикации: 2015-11-04.

Substrate processing apparatus control system and substrate processing apparatus control method

Номер патента: US20240149599A1. Автор: Beomjeong OH,Jong Nam NA. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Image processing apparatus, computer-readable storage medium, and image processing method

Номер патента: US20130039602A1. Автор: Fumihiro Sasaki. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2013-02-14.

Data Processing Apparatus, Storage Medium Storing Program, and Data Processing Method

Номер патента: US20180032810A1. Автор: Yuki Oguro. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2018-02-01.

IMAGE PROCESSING APPARATUS FOR TIME-LAPSE MOVING IMAGE, IMAGE PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20150043893A1. Автор: NISHIZAKA Nobuyoshi. Владелец: . Дата публикации: 2015-02-12.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, IMAGING SYSTEM, MOBILE BODY, AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20210073971A1. Автор: YOKOTA Tadashi. Владелец: KYOCERA CORPORATION. Дата публикации: 2021-03-11.

MEDICAL IMAGE PROCESSING APPARATUS, MEDICAL IMAGE PROCESSING SYSTEM, MEDICAL IMAGE PROCESSING METHOD, AND PROGRAM

Номер патента: US20210097331A1. Автор: KAMON Shumpei. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2021-04-01.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, TERMINAL, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20160105407A1. Автор: OHBITSU Toshiro. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2016-04-14.

Information processing apparatus, program, information processing system, and information processing method

Номер патента: US20150153996A1. Автор: Morio Miki. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2015-06-04.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, PROGRAM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20210210107A1. Автор: Hayakawa Tomonobu,Ishiwata Takaaki. Владелец: . Дата публикации: 2021-07-08.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS FOR SERVICE REQUEST PROCESSING AND INFORMATION PROCESSING METHOD FOR SERVICE REQUEST PROCESSING

Номер патента: US20200226654A1. Автор: Okamura Atsushi. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-16.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, NON-TRANSITORY COMPUTER READABLE MEDIUM, INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20170277370A1. Автор: FUJII Hideo. Владелец: FUJI XEROX CO., LTD.. Дата публикации: 2017-09-28.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, NON-TRANSITORY STORAGE MEDIUM, AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20190354320A1. Автор: Ito Naoki,Miyauchi Takashi,Kamata Yutaro. Владелец: . Дата публикации: 2019-11-21.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, NON-TRANSITORY STORAGE MEDIUM, AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20190356790A1. Автор: Ito Naoki,Miyauchi Takashi,Kamata Yutaro. Владелец: . Дата публикации: 2019-11-21.

The signal processing apparatus of solid-state imager and signal processing method and camera head

Номер патента: CN100546392C. Автор: 木下雅也,田中正人,宇根英辅. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2009-09-30.

Image processing apparatus, image pick-up device and image processing method

Номер патента: CN103426147B. Автор: 田中伸. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-06-15.

Image processing apparatus, three-dimensional measurement system, and image processing method

Номер патента: CN114341940A. Автор: 松本慎也. Владелец: Omron Corp. Дата публикации: 2022-04-12.

Video signal processing apparatus, color video camera, and video signal processing method

Номер патента: JP3709566B2. Автор: 文彦 須藤,斉 中村,誠司 河. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2005-10-26.

There is the image processing apparatus of image compensation and its image processing method

Номер патента: CN106128373B. Автор: 黄国松,王世邦. Владелец: DIVA LABORATORIES Ltd. Дата публикации: 2018-07-10.

Video signal processing apparatus, information processing system, and video signal processing method

Номер патента: JP3622270B2. Автор: 聡史 平島. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2005-02-23.

Information processing apparatus, mobile-body control system, and information processing method

Номер патента: US20230251098A1. Автор: Yuichi Yano. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2023-08-10.

Call processing method, apparatus, and system

Номер патента: EP4351103A1. Автор: Tuo Li,Kai Huang,Hongda LIN,Wenjun Ou. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-10.

Data exchange processing method, apparatus, and system

Номер патента: CA2997998C. Автор: Yi Zhang. Владелец: 10353744 Canada Ltd. Дата публикации: 2024-02-06.

Data processing method, apparatus, and device

Номер патента: US20230030044A1. Автор: BIN Li,Jiaqi GU. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-02.

Cho resource processing method, apparatus and system

Номер патента: EP4007362A1. Автор: LI YANG,Zijiang Ma,Yin Gao. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2022-06-01.

Data processing method, apparatus, and device

Номер патента: US11936476B2. Автор: BIN Li,Jiaqi GU. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-19.

Printing apparatus and its control method, job processing method, and printing system

Номер патента: CN1766762A. Автор: 冈田英之,牛山和彦. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-05-03.

Printing apparatus and its control method, job processing method, and printing system

Номер патента: US20110249283A1. Автор: Hideyuki Okada,Kazuhiko Ushiyama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-10-13.

Dimensional video processor, stereoscopic imaging apparatus and three-dimensional video-frequency processing method

Номер патента: CN103329549B. Автор: 中村敏. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-03-09.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4104941A1. Автор: Hiroyoshi Mori. Владелец: M Dia & Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-21.

Information processing apparatus, non-transitory storage medium, and information processing method

Номер патента: US20170052833A1. Автор: Takaharu Osawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-02-23.

Information processing apparatus including NAND flash memory, and information processing method for the same

Номер патента: US20050157554A1. Автор: Katsuhiko Yanagawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-07-21.

Image processing apparatus for endoscope, endoscope system and image processing method for endoscope

Номер патента: US09651767B2. Автор: Mitsunobu Ono. Владелец: Olympus Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Image processing apparatus, neural network training method, and image processing method

Номер патента: US12093831B2. Автор: Fukashi Yamazaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Information processing apparatus, server, information processing system and information processing method

Номер патента: EP2745255A1. Автор: Masahiro Sueyoshi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2014-06-25.

Image Processing Apparatus, Printer Including the Same, and Image Processing Method

Номер патента: US20090073497A1. Автор: Kosuke Shingai. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2009-03-19.

Image processing apparatus for generating virtual viewpoint image, image processing method, and storage medium

Номер патента: US20240296615A1. Автор: Ryuta Suzuki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-09-05.

Image processing apparatus that identifies image area, and image processing method

Номер патента: US09652855B2. Автор: Xiaoyan Dai. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-05-16.

Image processing apparatus, microscope system, endoscope system, and image processing method

Номер патента: US09517013B2. Автор: Yoshioki Kaneko. Владелец: Olympus Corp. Дата публикации: 2016-12-13.

X-ray CT apparatus and X-ray CT image processing method

Номер патента: US09420986B2. Автор: Shinichi Kojima,Keisuke Yamakawa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2016-08-23.

Information processing apparatus, medical information management system, and information processing method

Номер патента: US11869653B2. Автор: Seiji Nomura. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2024-01-09.

Image processing apparatus, image processing system, imaging apparatus, image processing method

Номер патента: EP4354383A1. Автор: Kenichiroh Nomura. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-17.

Information processing apparatus, control system for mobile object, information processing method, and storage medium

Номер патента: US20230023651A1. Автор: Hitoshi Fukamachi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-01-26.

Information processing apparatus evaluating similarity between medical data, information processing method, and storage medium

Номер патента: US20210020310A1. Автор: Toru Kikuchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-01-21.

Information processing apparatus, computer-readable storage medium, and information processing method

Номер патента: US20230316826A1. Автор: Shunji Kamo,Kazuhiro Kodaira. Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Image processing apparatus for search of an image, image processing method and storage medium

Номер патента: US20240152549A1. Автор: Yasuo Bamba. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Information processing apparatus, nonverbal information conversion system, and information processing method

Номер патента: US12026979B2. Автор: Satomi Tanaka. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Dual substrate processing

Номер патента: WO2023192773A3. Автор: Alexander Sou-Kang Ko. Владелец: KATEEVA, INC.. Дата публикации: 2023-12-07.

Information processing apparatus, device manufacturing processing system, device manufacturing processing method, program

Номер патента: JP5128065B2. Автор: 晋一 沖田. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2013-01-23.

Exhaust flow rate control apparatus and substrate processing apparatus provided therewith

Номер патента: US09616545B2. Автор: Hiroyuki Shinozaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-04-11.

Substrate processing device and control method for substrate processing device

Номер патента: US20230201860A1. Автор: Jae Hong Kim,Young-Joo Seo,Sang Hyun Son,Sang Min HA,Hyeong Jun CHO. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Magnetic domain image processing apparatus and magnetic domain image processing method

Номер патента: US11587226B2. Автор: Ryoko Araki,Teruo Kohashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2023-02-21.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, ALARM MANAGEMENT METHOD OF SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20140203941A1. Автор: KANEKO Tomohiro. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2014-07-24.

Substrate processing apparatus and method of substrate processing

Номер патента: KR20220034991A. Автор: 김경민,윤두현,엄소연,임용길. Владелец: 주식회사 원익아이피에스. Дата публикации: 2022-03-21.

Can roll, long-substrate processing device, and method for managing long-substrate processing device

Номер патента: EP3699318B1. Автор: Hideharu Okami. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2024-09-04.

Medical image processing apparatus, medical image processing method, endoscope system, and medical image processing program

Номер патента: EP4201301A1. Автор: Misaki MEGURO. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-06-28.

Can roll, long-substrate processing device, and method for managing long-substrate processing device

Номер патента: EP3699318A4. Автор: Hideharu Okami. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2021-06-23.

Sheet binding processing apparatus, image forming system, and sheet binding processing method

Номер патента: US20180229531A1. Автор: Yousuke KOZIMA. Владелец: Canon Finetech Nisca Inc. Дата публикации: 2018-08-16.

Imaging apparatus and imaging method

Номер патента: US9996967B2. Автор: Yun-Tae Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-06-12.

APPARATUS AND METHODS FOR SUBSTRATE PROCESSING AND MANUFACTURING INTEGRATED CIRCUIT DEVICES

Номер патента: US20160059277A1. Автор: Hong Dong-kwan,Jang Won-ho,Kong Sung-bae. Владелец: . Дата публикации: 2016-03-03.

PUMPING APPARATUS AND METHOD FOR SUBSTRATE PROCESSING CHAMBERS

Номер патента: US20200216952A1. Автор: Nguyen Tuan Anh,BLAHNIK David,BANSAL Amit Kumar,GHOSH KALYANJIT. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-09.

Magnetic Domain Image Processing Apparatus and Magnetic Domain Image Processing Method

Номер патента: US20220309636A1. Автор: Ryoko Araki,Teruo Kohashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2022-09-29.

Information processing apparatus, information processing system, information processing method, and program

Номер патента: US11875334B2. Автор: Atsushi Yamada. Владелец: Gurunavi Inc. Дата публикации: 2024-01-16.

Signal processing apparatus, control circuit, storage medium, and signal processing method

Номер патента: EP4286809A1. Автор: Yuji Akiyama. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2023-12-06.

Medical image processing device, endoscope system, medical image processing method, and medical image processing program

Номер патента: EP4302680A1. Автор: Shumpei KAMON. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-01-10.

Medical image processing apparatus, endoscope system, medical image processing method, and program

Номер патента: US20220151467A1. Автор: Misaki MEGURO. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-05-19.

Medical image processing device, endoscope system, medical image processing method, and medical image processing program

Номер патента: EP4306059A1. Автор: Misaki GOTO. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-01-17.

Information processing apparatus, information processing system, information processing method, and program

Номер патента: US20230238118A1. Автор: Keigo Nakamura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-07-27.

Medical image processing device, endoscope system, medical image processing method, and medical image processing program

Номер патента: EP4316384A1. Автор: Toshihiro USUDA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-02-07.

Image processing device, image processing system, image processing method, and image processing program

Номер патента: EP4338683A1. Автор: Seiya TAKENOUCHI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-03-20.

Information processing apparatus, information processing method, and non-transitory computer readable medium storing program

Номер патента: US20210012437A1. Автор: Michihiko YUSA. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2021-01-14.

MEDICAL IMAGE PROCESSING APPARATUS, X-RAY DIAGNOSTIC APPARATUS, MEDICAL IMAGE PROCESSING METHOD AND X-RAY DIAGNOSTIC METHOD

Номер патента: US20150010221A1. Автор: Abe Shingo. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-08.

MEDICAL IMAGE PROCESSING APPARATUS, X-RAY DIAGNOSTIC APPARATUS, MEDICAL IMAGE PROCESSING METHOD AND X-RAY DIAGNOSTIC METHOD

Номер патента: US20160015348A1. Автор: OHISHI Satoru. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-21.

MEDICAL IMAGE PROCESSING APPARATUS, X-RAY DIAGNOSTIC APPARATUS, MEDICAL IMAGE PROCESSING METHOD AND X-RAY DIAGNOSTIC METHOD

Номер патента: US20160022236A1. Автор: OHISHI Satoru. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-28.

Image Processing Apparatus, Image Forming Apparatus, Display Apparatus, Image Processing Method, and Storage Medium

Номер патента: US20200387730A1. Автор: Misaki FUNATO. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2020-12-10.

Medical image processing device, processor device, medical image processing method, and program

Номер патента: EP3854295A1. Автор: Maiko Endo. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-07-28.

Image processing apparatus, image display system, image processing method, and program

Номер патента: US20230005222A1. Автор: Masaki Miyamoto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-01-05.

Image processing apparatus, image display system, image processing method, and program

Номер патента: US20220415484A1. Автор: Kenta Yamada. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-12-29.

Image processing apparatus, image processing system, image processing method, and storage medium

Номер патента: US20220050648A1. Автор: Soichiro Katayama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-02-17.

Image processing device, endoscope system, and image processing method

Номер патента: EP3804605A1. Автор: Shumpei KAMON. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-04-14.

VOICE PROCESSING APPARATUS, WEARABLE APPARATUS, MOBILE TERMINAL, AND VOICE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20180108356A1. Автор: NAKADAI Kazuhiro,Mizumoto Takeshi. Владелец: . Дата публикации: 2018-04-19.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, IMAGE PROCESSING SYSTEM, IMAGING APPARATUS, IMAGE PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20200167885A1. Автор: Kimura Yoshinori. Владелец: . Дата публикации: 2020-05-28.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, STEREO CAMERA APPARATUS, VEHICLE, AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20180285660A1. Автор: OHARA Naoto,INOUE Shushin. Владелец: KYOCERA CORPORATION. Дата публикации: 2018-10-04.

Glass rod-shaped body processing apparatus and glass rod-shaped body processing method using the same

Номер патента: JP4593240B2. Автор: 富夫 畔蒜,克之 水田. Владелец: Fujikura Ltd. Дата публикации: 2010-12-08.

Information processing apparatus selecting highlight section from video, information processing method, and program

Номер патента: US20190384988A1. Автор: Tatsuya Yamamoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-12-19.

Bio signal processing apparatus, apparatus and method for living body information detecting

Номер патента: KR20180060724A. Автор: 권의근,윤승근. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2018-06-07.

DATA PROCESSING APPARATUS, NON-TEMPORARY RECORDING MEDIUM, AND DATA PROCESSING METHOD

Номер патента: US20130159844A1. Автор: Tamura Takashi. Владелец: KYOCERA Document Solutions Inc.. Дата публикации: 2013-06-20.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM, AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20130307773A1. Автор: YAGISHITA Takahiro. Владелец: . Дата публикации: 2013-11-21.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, SERVER, INFORMATION PROCESSING SYSTEM AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20140081970A1. Автор: Sueyoshi Masahiro. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2014-03-20.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS EVALUATING SIMILARITY BETWEEN MEDICAL DATA, INFORMATION PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20210020310A1. Автор: Kikuchi Toru. Владелец: . Дата публикации: 2021-01-21.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, NON-TRANSITORY STORAGE MEDIUM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20170052833A1. Автор: Osawa Takaharu. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-23.

Information processing apparatus, medical information management system, and information processing method

Номер патента: US20210065883A1. Автор: Seiji Nomura. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2021-03-04.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20190065098A1. Автор: IMAMURA Satoshi. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2019-02-28.

Image Processing Apparatus That Performs Color Conversion and Image Processing Method

Номер патента: US20140153824A1. Автор: Nishizawa Akira. Владелец: KYOCERA Document Solutions Inc.. Дата публикации: 2014-06-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS FOR IDENTIFYING REGION WITHIN IMAGE, INFORMATION PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20180089835A1. Автор: Honda Kinya. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-29.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, MICROSCOPE SYSTEM, ENDOSCOPE SYSTEM, AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20150119722A1. Автор: KANEKO Yoshioki. Владелец: OLYMPUS CORPORATION. Дата публикации: 2015-04-30.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, NON-TRANSITORY STORAGE MEDIUM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20210158255A1. Автор: KANEICHI Daiki. Владелец: TOYOTA JIDOSHA KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2021-05-27.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, NONVERBAL INFORMATION CONVERSION SYSTEM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20220301347A1. Автор: TANAKA Satomi. Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2022-09-22.

Image processing apparatus that identifies image area, and image processing method

Номер патента: US20150213611A1. Автор: Xiaoyan Dai. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-07-30.

PROCESSING APPARATUS, RECORDING MEDIUM STORING PROCESSING PROGRAM, AND PROCESSING METHOD

Номер патента: US20140298076A1. Автор: Kanayama Tomoyuki. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2014-10-02.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20190205487A1. Автор: TAMIYA Yutaka. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2019-07-04.

MEDICAL PROCESSING APPARATUS, X-RAY DIAGNOSIS SYSTEM, AND MEDICAL PROCESSING METHOD

Номер патента: US20200205751A1. Автор: Taguchi Hiroki. Владелец: Canon Medical Systems Corporation. Дата публикации: 2020-07-02.

SHEET BINDING PROCESSING APPARATUS, IMAGE FORMING SYSTEM, AND SHEET BINDING PROCESSING METHOD

Номер патента: US20180229531A1. Автор: Kozima Yousuke. Владелец: . Дата публикации: 2018-08-16.

Image processing apparatus, computer-readable recording medium, and image processing method

Номер патента: US20150242726A1. Автор: Shinichi Hatanaka,Norimasa SOHGAWA. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-27.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20170255346A1. Автор: Hatada Koki. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2017-09-07.

Information processing apparatus, computer-readable storage medium, and information processing method

Номер патента: US20170263000A1. Автор: Katsuhiro Wada. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-09-14.

SHEET POST-PROCESSING APPARATUS, IMAGE FORMING SYSTEM AND SHEET POST-PROCESSING METHOD

Номер патента: US20170269534A1. Автор: Yamamoto Mikio. Владелец: . Дата публикации: 2017-09-21.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS THAT CONTROLS STORAGE UNIT AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20190265892A1. Автор: Hikichi Atsushi. Владелец: . Дата публикации: 2019-08-29.

IMAGE PROCESSING APPARATUS FOR ENDOSCOPE, ENDOSCOPE SYSTEM AND IMAGE PROCESSING METHOD FOR ENDOSCOPE

Номер патента: US20140375781A1. Автор: ONO Mitsunobu. Владелец: OLYMPUS CORPORATION. Дата публикации: 2014-12-25.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, NON-TRANSITORY RECORDING MEDIUM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20190286385A1. Автор: MINEGISHI Youichi. Владелец: . Дата публикации: 2019-09-19.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, MACHINING SYSTEM, DATA STRUCTURE, AND DATA PROCESSING METHOD

Номер патента: US20180299867A1. Автор: Hashimoto Tatsuki. Владелец: MURATA MACHINERY, LTD.. Дата публикации: 2018-10-18.

Information processing apparatus selecting highlight section from video, information processing method, and program

Номер патента: US20190384988A1. Автор: Tatsuya Yamamoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-12-19.

Image processing apparatus, in-vehicle camera system, and image processing method

Номер патента: CN111572450A. Автор: 秦野敏信. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-25.

Image processing apparatus, program, information storage medium and image processing method

Номер патента: CN105612249B. Автор: 尾崎良太,织田英人,加藤典司. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-19.

Information processing apparatus including print job retrieval function, information processing method

Номер патента: CN101206558B. Автор: 成川智子. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-08-24.

Information processing apparatus capable of customizing device driver, information processing method, and control program

Номер патента: CN1841307A. Автор: 饭田光则. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-10-04.

Medical Image Processing Apparatus Using Augmented Reality and Medical Image Processing Method Using The Same

Номер патента: KR101977650B1. Автор: 박종현,설동표. Владелец: (주)레벨소프트. Дата публикации: 2019-05-13.

Tag information processing apparatus, tag information processing system, tag information processing method, and program

Номер патента: JP5182564B2. Автор: 直正 岩橋. Владелец: Omron Corp. Дата публикации: 2013-04-17.

Tag information processing apparatus, tag information processing system, tag information processing method, and program

Номер патента: JP5256793B2. Автор: 直正 岩橋. Владелец: Omron Corp. Дата публикации: 2013-08-07.

Laser processing apparatus having focus measurement function and laser processing method

Номер патента: WO2015016624A1. Автор: 손현기,노지환,강희신. Владелец: 한국기계연구원. Дата публикации: 2015-02-05.

Information processing apparatus, storage medium provided therewith, and information processing method

Номер патента: US20010014869A1. Автор: Katsumi Yoshizawa. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2001-08-16.

Image processing apparatus, evaluation system, recording medium and image processing method

Номер патента: EP3992609B1. Автор: Sho Onozawa,Sohichiro Nakamura,Ryusuke Osaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-04-17.

Signal processing apparatus, control circuit, storage medium, and signal processing method

Номер патента: EP4286809A4. Автор: Yuji Akiyama. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2024-01-10.

Data processing methods, apparatuses and storage media

Номер патента: US20210097296A1. Автор: CHEN CHEN,Xuecheng Wang,Lingfeng PAN. Владелец: Beijing Sensetime Technology Development Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-01.

Task processing method, apparatus, and system

Номер патента: WO2019204572A1. Автор: Jiaguo MIAO. Владелец: Alibaba Group Holding Linited. Дата публикации: 2019-10-24.

Task processing method, apparatus, and system

Номер патента: EP3782098A1. Автор: Jiaguo MIAO. Владелец: Alibaba Group Holding Ltd. Дата публикации: 2021-02-24.

Data processing methods, apparatuses and storage media

Номер патента: US11335098B2. Автор: CHEN CHEN,Xuecheng Wang,Lingfeng PAN. Владелец: Beijing Sensetime Technology Development Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-17.

Task processing method, apparatus, and system

Номер патента: US20190324797A1. Автор: Jiaguo MIAO. Владелец: Alibaba Group Holding Ltd. Дата публикации: 2019-10-24.

ULTRASOUND DIAGNOSTIC APPARATUS AND ULTRASOUND DIAGNOSTIC IMAGE DATA PROCESSING METHOD

Номер патента: US20150080733A1. Автор: YAMAMOTO Hiroaki. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2015-03-19.

X-ray ct apparatus and x-ray ct image processing method

Номер патента: US20150190106A1. Автор: Shinichi Kojima,Keisuke Yamakawa. Владелец: Hitachi Medical Corp. Дата публикации: 2015-07-09.

Magnetic resonance imaging apparatus and magnetic resonance imaging data processing method

Номер патента: US7358728B2. Автор: Seiji Nozaki,Yoshimori Kassai. Владелец: Toshiba Medical Systems Corp. Дата публикации: 2008-04-15.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: EP4393607A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240309506A1. Автор: Sung Hwan Lee,Kun Woo Park,Woo Young Park,Jae Jin Han. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240329547A1. Автор: Shinichi Machidori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus and method for detecting an abnormality of an ozone gas concentration

Номер патента: US09618493B2. Автор: Masaki Kondo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Substrate processing apparatus, lithography apparatus, and method of manufacturing article

Номер патента: US09459541B2. Автор: Shinichi Hirano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US09606454B2. Автор: Takashi Taguchi,Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-28.

Substrate processing apparatus, simulation apparatus, storage medium and simulation method

Номер патента: US09558304B2. Автор: Satoko Yamamoto,Kimitoshi MIURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230085449A1. Автор: Takafumi Niwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Data acquisition method of substrate processing apparatus and sensing substrate

Номер патента: US09915677B2. Автор: Hikaru AKADA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-13.

Apparatus and method for processing substrate using supercritical fluid

Номер патента: US20240183037A1. Автор: Thomas Jongwan Kwon,Hae Won Choi,Chengyeh Hsu. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Surface treatment method and substrate treatment device

Номер патента: US20240191344A1. Автор: Yumiko Kawano,Hiroki Murakami,Shuji Azumo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09732421B2. Автор: Tsukasa Kamakura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-08-15.

Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20240219837A1. Автор: Ki Won Han,Jun Ho Seo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09822450B2. Автор: Eiji Ozaki,Keisuke Ueda,Toshikazu Nakazawa,Norihito Tsukamoto. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09464353B2. Автор: Won Jun Yoon,Young Hoon Park,Dong Ho Ryu. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-11.

SUBSTRATE STAGE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120000612A1. Автор: Muraki Yusuke,ODAGIRI Masaya,FUJIHARA Jin. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

Information Processing Apparatus Performing Various Bit Operation and Information Processing Method Thereof

Номер патента: US20120047355A1. Автор: Okada Ryohei,Iwata Eiji. Владелец: . Дата публикации: 2012-02-23.

Video processing apparatus, display device, television receiver, and video processing method

Номер патента: JP2014175793A. Автор: 欣也 藤本,Kinya Fujimoto. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2014-09-22.

Information processing apparatus, information processing system, program, and information processing method

Номер патента: JP6281249B2. Автор: 律子 田中,芳孝 向山. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2018-02-21.

Information processing apparatus, storage device used therefor, and information processing method

Номер патента: JP5049431B2. Автор: 智 岡田,隆二 梅津,高伸 中島. Владелец: Nintendo Co Ltd. Дата публикации: 2012-10-17.

Ruled line processing apparatus, corrugated cardboard box, and ruled line processing method

Номер патента: JP2023086156A. Автор: Yoshiro Ito,善郎 伊藤. Владелец: Oji Holdings Corp. Дата публикации: 2023-06-22.

MEDICAL IMAGE DIAGNOSTIC APPARATUS AND MEDICAL IMAGE CONTOUR EXTRACTION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120281895A1. Автор: Chono Tomoaki,Kashiyama Takahiro. Владелец: HITACHI MEDICAL CORPORATION. Дата публикации: 2012-11-08.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE TRANSFER METHOD ADOPTED IN SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120004753A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120000886A1. Автор: NISHINO Masaru,HONDA Masanobu,Kubota Kazuhiro,Ooya Yoshinobu. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120000629A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.