Diagnosis method, charged particle beam lithography apparatus, and recording medium
Номер патента: US20170243714A1
Опубликовано: 24-08-2017
Автор(ы): Hayato Kimura, Kei Hasegawa
Принадлежит: Nuflare Technology Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 24-08-2017
Автор(ы): Hayato Kimura, Kei Hasegawa
Принадлежит: Nuflare Technology Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Modulator and charged particle multi-small beam lithography system using it
Номер патента: JP6861683B2. Автор: マルコ・ヤン−ヤコ・ビエランド,テウニス・ファン・デ・ペート,アレキサンダー・ヘンドリク・ビンセント・ファン・ベーン,レムコ・ヤゲル,スティーン・ウィレム・ヘルマン・カレル・スティーンブリンク. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2021-04-21.