Intelligent exposure control system and method
Номер патента: NL2032429B1
Опубликовано: 10-11-2023
Автор(ы): Bao Zhongkun, Wang Hongzhu, Wang Xinhong, Xu Mengxi, Zhang Jucheng, Zhang Zhe
Принадлежит: Univ Zhejiang
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 10-11-2023
Автор(ы): Bao Zhongkun, Wang Hongzhu, Wang Xinhong, Xu Mengxi, Zhang Jucheng, Zhang Zhe
Принадлежит: Univ Zhejiang
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
X-ray examination apparatus with exposure control
Номер патента: US20040013229A1. Автор: Peter Alving,Albert Faber. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-01-22.