METHOD OF MANUFACTURING AN InGaNAs COMPOUND SEMICONDUCTOR THIN FILM AND THE THIN FILM MANUFACTURED BY THE SAME
Номер патента: WO2003041137A1
Опубликовано: 15-05-2003
Автор(ы): Sang-Kyu Kang
Принадлежит: Vichel Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 15-05-2003
Автор(ы): Sang-Kyu Kang
Принадлежит: Vichel Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for producing semiconductor thin films on foreign substrates
Номер патента: US20150140795A1. Автор: Jean-Paul Theis. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-05-21.