Deposition mask, method of fabricating the same, and method of manufacturing display device using the same
Номер патента: US20240040921A1
Опубликовано: 01-02-2024
Автор(ы): Duck Jung Lee, Jin Oh KWAG, Min Ho MOON, Seul LEE, Seung Yong Song, Sung Soon Im
Принадлежит: Samsung Display Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 01-02-2024
Автор(ы): Duck Jung Lee, Jin Oh KWAG, Min Ho MOON, Seul LEE, Seung Yong Song, Sung Soon Im
Принадлежит: Samsung Display Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of forming ferroelectric film, ferroelectric memory, method of manufacturing the same, semiconductor device, and method of manufacturing the same
Номер патента: US6787371B2. Автор: Tatsuo Sawasaki. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2004-09-07.