Method for producing film forming novolak resin and method for producing positive photoresist composition or semiconductor device using the same
Номер патента: TW486606B
Опубликовано: 11-05-2002
Автор(ы): Douglas S Mckenzie, M Dalil Rahman, Michelle M Cook, Stanley F Wanat, Sunit S Dixit
Принадлежит: Clariant Int Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 11-05-2002
Автор(ы): Douglas S Mckenzie, M Dalil Rahman, Michelle M Cook, Stanley F Wanat, Sunit S Dixit
Принадлежит: Clariant Int Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for producing polyimide precursor, method for producing photosensitive resin composition, method for producing pattern cured product, method for producing interlayer insulating film, cover coat layer or surface protective film, and method for producing electronic component
Номер патента: US11807721B2. Автор: Satoshi Yoneda,Tetsuya Enomoto. Владелец: HD MicroSystems Ltd. Дата публикации: 2023-11-07.