Quality control method for imprint lithography
Номер патента: WO2023180135A1
Опубликовано: 28-09-2023
Автор(ы): Marcus Antonius Verschuuren, Remco VAN BRAKEL
Принадлежит: KONINKLIJKE PHILIPS N.V.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 28-09-2023
Автор(ы): Marcus Antonius Verschuuren, Remco VAN BRAKEL
Принадлежит: KONINKLIJKE PHILIPS N.V.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Quality control method for imprint lithography
Номер патента: EP4250006A1. Автор: Marcus Antonius Verschuuren,Remco VAN BRAKEL. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2023-09-27.