Methods and Apparatus for Predicting Performance of a Measurement Method, Measurement Method and Apparatus
Номер патента: US20180348145A1
Опубликовано: 06-12-2018
Автор(ы): EIKEMA Kjeld Sijbrand Eduard, FREISEM Lars Christian, JANSEN Gijsbert Simon Matthijs, MATHIJSSEN Simon Gijsbert Josephus, WITTE Stefan Michiel
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 06-12-2018
Автор(ы): EIKEMA Kjeld Sijbrand Eduard, FREISEM Lars Christian, JANSEN Gijsbert Simon Matthijs, MATHIJSSEN Simon Gijsbert Josephus, WITTE Stefan Michiel
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method and apparatus for processing the image of the surface of a wafer recorded by at least one camera
Номер патента: US20090153657A1. Автор: Detlef Michelsson. Владелец: VISTEC SEMICONDUCTOR SYSTEMS GMBH. Дата публикации: 2009-06-18.