Method for computer modeling and simulation of negative-tone-developable photoresists
Номер патента: US20180017873A1
Опубликовано: 18-01-2018
Автор(ы): Alessandro Vaglio Pret, David A. Blankenship, John J. Biafore, John S. Graves, Mark D. Smith
Принадлежит: KLA Tencor Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 18-01-2018
Автор(ы): Alessandro Vaglio Pret, David A. Blankenship, John J. Biafore, John S. Graves, Mark D. Smith
Принадлежит: KLA Tencor Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Improved method for computer modeling and simulation of negative-tone-developable photoresists
Номер патента: EP3465349A1. Автор: Mark D. Smith,John J. Biafore,Alessandro Vaglio Pret,David A. Blankenship,Trey GRAVES (John) S.. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2019-04-10.