Valve structure and substrate processing apparatus including the same
Номер патента: US20240213053A1
Опубликовано: 27-06-2024
Автор(ы): Dongwoo Wi, Hyungho Kim, Hyunsoo Chun, Jiho Uh, Kangmin Park
Принадлежит: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 27-06-2024
Автор(ы): Dongwoo Wi, Hyungho Kim, Hyunsoo Chun, Jiho Uh, Kangmin Park
Принадлежит: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Substrate processing apparatus and method of controlling the same
Номер патента: US20240222153A1. Автор: Joonhwan Jang,Soonkab Kwon,Hyoju Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.