Annealing apparatus and method of operating the same
Номер патента: US20230377914A1
Опубликовано: 23-11-2023
Автор(ы): Huicheng Chang, Sen-Hong Syue, Yee-Chia Yeo, Yi-Fan Chen
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 23-11-2023
Автор(ы): Huicheng Chang, Sen-Hong Syue, Yee-Chia Yeo, Yi-Fan Chen
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Batch type substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same
Номер патента: US20230054580A1. Автор: Minju Lee,Hyungjoon Kim,Sangyub IE,Eunyeoung CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-23.