Method of fabricating the non-volatile memory device having charge trapping layer
Номер патента: KR101033222B1
Опубликовано: 06-05-2011
Автор(ы): 김용탑, 박기선, 조흥재, 주문식, 피승호
Принадлежит: 주식회사 하이닉스반도체
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 06-05-2011
Автор(ы): 김용탑, 박기선, 조흥재, 주문식, 피승호
Принадлежит: 주식회사 하이닉스반도체
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Non-volatile memory capable of preventing antenna effect and fabrication thereof
Номер патента: US20040026732A1. Автор: Chien-Hung Liu,Tung-Cheng Kuo,Shyi-Shuh Pan,Shou-Wei Huang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-02-12.