Method for producing at least one recess in a material by means of electromagnetic radiation and subsequent etching process
Номер патента: US11478880B2
Опубликовано: 25-10-2022
Автор(ы): Arne Schnoor, Daniel Dunker, Norbert Ambrosius, Roman Ostholt
Принадлежит: LPKF Laser and Electronics AG
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 25-10-2022
Автор(ы): Arne Schnoor, Daniel Dunker, Norbert Ambrosius, Roman Ostholt
Принадлежит: LPKF Laser and Electronics AG
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for Producing a Series of Through Holes in a Layer of Material By Means of a Laser Beam
Номер патента: US20100059489A1. Автор: Martin Griebel,Michael Nittner,Walter Lutze. Владелец: JENOPTIK Automatisierungstechnik GmbH. Дата публикации: 2010-03-11.